3) A figura a seguir refere-se a um sistema de fornecimento de égna mora para um processo de lavagem e desengorduramento de superficies metilicas para posterior pintura. A Agua é admitida a uma temperatura Ti e, mediante a ago de um banco de resistores elétricos contido no reservat6rio 1, € aquecida até atingir a temperatura TI. A dgua aquecida é continuamente transferida ao reservat6rio 2, no qual hd a admissio continua de Agua (Ti) para que a temperatura do reservatério 2, bem como da agua fornecida a0 processo de lavagem, apresente temperatura T2. Ambos os reservatérios so envoltos em material isolante térmico cuja resisténcia térmica é dada por RO. Org q a tat D4 Reservatorio | Reservatério 2SISTEMA HibaAuuTco ~ke " = 0) = A dll Ka) - be) i" 0 x fe! ) gf) hi + R, ~ geAlegill + gs Qh) = Ap les he) —®&) it g Wh gett) LA) 4) J (ga -yial hal = (ss ul gall YQ] | + ay Mt jo) ht) b WW pe) a SisTeMs TEeHico s Reser vardrio | U0) + 8p 88) = ? ‘ me - —_ L gb) welt) + puphin ~c 2 i - hi a) pha) + Ba 3 ; Hl Re [wal ae - dl “yp! hal]Sisteny TERHicos Lesseveronio 2 a - gid)phe) + gatehB) = cdi fp bill « x alee + gop nod cal. yop 4.0: he A gil A Hyp hl) 3! a a gt Ip ) + pip a) ~ ae ~ gel 7 : 48)