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Repblica Bolivariana de Venezuela

Ministerio del Poder Popular para la Educacin


Universidad Nacional Experimental Politcnica Antonio Jos de
Sucre
Vice-rectorado Barquisimeto
Dpto. Ingeniera Mecnica

Estudiantes:

Snchez Jess C.I.22670312


Rodrguez Adibrahim C.I. 20468268
Seccin 1
Prof. Eltn Zambrano
Barquisimeto, Diciembre de 2014

La fotoelasticidad es una tcnica para el anlisis de esfuerzos, resulta


particularmente til en estructuras o mquinas que posean geometra
complicada, condiciones de cargas complejas o en ambos casos, en los cuales
los mtodos analticos resultan muy engorrosos.
El principio bsico de la fotoelasticidad de debe al descubrimiento
efectuados por David Brewster en 1816. Utilizando una pieza de vidrio cargada
y haciendo pasar a travs del vidrio luz polarizada, l observ que apareca un
contorno coloreado causado por las tensiones presentes en la pieza.
El nombre de fotoelasticidad refleja la naturaleza de este mtodo
experimental, el cual implica la utilizacin de rayos luminosos y tcnicas
pticas para el estudio de los esfuerzos y deformaciones en los cuerpos
elsticos.
La concentracin de esfuerzos es un obstculo que los ingenieros
deben de enfrentar al disear un elemento que requiera cambios sbitos de
geometra debido a su aplicacin como son barrenos, cuas, etc., que tengan
concentradores de esfuerzos.
Las frmulas elementales usadas se basan en elementos que tienen
una seccin transversal constante o que el cambio en esta es gradual.

Imagen de un plstico sometido a tensin en un ensayo de fotoelasticidad.

Fotoelasticidad es un mtodo experimental para determinar la


distribucin de tensiones en un material. El mtodo se utiliza sobre todo en los
casos en que los mtodos matemticos se vuelven bastante engorroso. A
diferencia de los mtodos analticos de determinacin de la tensin,
fotoelasticidad da una idea bastante exacta de la distribucin de la tensin,
incluso alrededor de discontinuidades bruscas en un material. El mtodo es
una herramienta importante para la determinacin de los puntos de tensin
crticos en un material, y se utiliza para la determinacin de la concentracin
de tensin en geometras irregulares.
El mtodo se basa en la propiedad de la birrefringencia exhibida por ciertos
materiales transparentes. Birrefringencia es una propiedad que un rayo de luz que
pasa a travs de un material birrefringente experimenta dos ndices de refraccin. La
propiedad de la birrefringencia se observa en muchos cristales pticos. Tras la
aplicacin de tensiones, materiales fotoelsticos exhiben la propiedad de
birrefringencia, y la magnitud de los ndices de refraccin en cada punto en el material
est directamente relacionada con el estado de tensiones en ese punto. La
informacin tal como esfuerzo cortante mximo y su orientacin estn disponibles
mediante el anlisis de la birrefringencia con un instrumento llamado polariscopio.

Cuando un rayo de luz pasa a travs de un material fotoelstico, sus


componentes de ondas electromagnticas se resuelve a lo largo de las dos
direcciones de los esfuerzos principales y cada uno de estos componentes
experimenta diferentes ndices de refraccin debido a la birrefringencia. La
diferencia en los ndices de refraccin conduce a un retraso de fase relativo
entre los dos componentes. Suponiendo una muestra delgada hecha de
materiales isotrpicos, donde fotoelasticidad bidimensional es aplicable. La
magnitud del retraso relativa viene dada por la ley de estrs ptica: donde es
el retraso inducido, C es el coeficiente de esfuerzo-ptica, t es el espesor de
la muestra, s1 y s2 son las primera y segunda tensiones principales,
respectivamente. El retraso cambia la polarizacin de la luz transmitida. El
polariscopio combina los diferentes estados de polarizacin de las ondas de
luz antes y despus de pasar la muestra. Debido a la interferencia ptica de

las dos ondas, un patrn de franjas se revela. El nmero de orden de franja N


se denota como que depende de retraso relativo. Al estudiar el patrn de
franjas se puede determinar el estado de estrs en varios puntos en el material.
Para materiales que no muestran comportamiento fotoelstico, todava
es posible para estudiar la distribucin de la tensin en dichos materiales. La
primera etapa es la construccin de un modelo utilizando materiales
fotoelsticos, que tiene una geometra similar a la estructura real a ser
investigado. La carga se aplica a continuacin, de la misma manera para
asegurar que la distribucin de tensiones en el modelo es similar a la tensin
en la estructura real.
Fotoelasticidad se puede aplicar tanto a tres dimensiones estado
dimensional y dos de estrs. Pero la aplicacin de photoelasticty a los tres
dimensiones estado de estrs es ms complicado en comparacin con el
estado de sistema bidimensional o plano-estrs. Por lo tanto la presente
seccin se ocupa de la aplicacin de la fotoelasticidad en la investigacin de
un sistema de tensin plana. Esta condicin se consigue cuando el espesor
del prototipo es mucho ms pequea en comparacin con las dimensiones en
el plano. As, uno slo se ocupa de tensiones que actan en paralelo al plano
del modelo, como otros componentes de la tensin son cero. El montaje
experimental vara de un experimento a otro. Los dos tipos bsicos de
configuracin utilizados son planas polariscopio y polariscopio circular.
El principio de funcionamiento de la fotoelasticidad bidimensional
permite la medicin de retraso, que puede ser convertido a la diferencia entre
la primera y segunda tensin principal y su orientacin. Para obtener ms
valores de cada componente de la tensin, se requiere una tcnica llamada de
estrs separacin. Se utilizan varios mtodos tericos y experimentales para
proporcionar informacin adicional para resolver componentes de esfuerzo
individual.
Fotoelasticidad se ha usado para una variedad de anlisis de estrs e
incluso para el uso rutinario en el diseo, en particular antes del advenimiento

de los mtodos numricos, tales como, por ejemplo, elementos finitos o


elementos de contorno. Digitalizacin de polariscopy permite la adquisicin
rpida de imgenes y procesamiento de datos, que permite a sus aplicaciones
industriales para el control de calidad del proceso de fabricacin de materiales
como el vidrio y polmero. Odontologa fotoelasticidad utiliza para analizar la
tensin en materiales para dentaduras postizas.
Fotoelasticidad con xito se puede utilizar para investigar el estado de
tensin muy localizada dentro de la albailera o en la proximidad de una lnea
de inclusin rgida incrustada en un medio elstico. En el primer caso, el
problema es no lineal debido a los contactos entre ladrillos, mientras que en el
ltimo caso la solucin elstica es singular, por lo que los mtodos numricos
pueden fallar para proporcionar resultados correctos. Estos pueden ser
obtenidos a travs de tcnicas fotoelsticos. Fotoelasticidad dinmica
integrada con fotografa de alta velocidad se utiliza para investigar el
comportamiento de fractura de materiales.

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