18.2 « 10° diomos de Them? <= 164 4 10" cme = 0.666 5 10°9-6.3 x 10") = 10.3 « 10" somos de Thier == 3. Difusicn en superficies p= 0.47 exp (56400 aot ex (Ggeniar == 4.94% 10°) 6.3 x 10") = 12.2 10” dtomos de Thien 5-6 Perfil de composicién (segunda ley de Fick) La segunda ley de Fick, que describe ef estado dinamico de ta dfusion de los étomos, ex La ‘ecuacin diferencial de/dt = D(d'e/de), cuya solucion depende de las condiciones a la fronte- ‘a para una situaciGn en particular, Una solvucidn de esta ecuuctén ex: (aor donde ¢, Ia concentracion constante de los stomos a difundir en la superficie del material, ¢ fs Ia concentracion inicial en el material de low somos a difundir yo. es la concentracidn del ‘Slomo en difusiGn en una posiciGn + por debajo de la superficie despues de wn tiempo © Extn ‘concentrecioner se ilustran en la figura S-13. A la funciGn erf se le conace como la funcion error ¥ ‘Se puede evaluar a partir dela tabla 5-3. ‘La solucion a ta segunda ley de Fick nos permite calcularla concentracion de un de las ex pecies endifusion cerca de la superficie del material en funcidn del tempo y la distancia, siempre Y cuando el coeficiente de difusisn D permanezea constante y Ins concentraciones del Atom cn Gifusidn on ta superficie c, y dentro del material ¢ se mantengan sin modificacién. La segunda ley de Fick ambien puede ayudurnos a diseRar una diversidad de tenicas de procesamiento de materiales, incluyendo el wataniemo lérmics del acero deserito en el ejemplo 5-6, 5-6 Peril de composicion (segunda ley de Fick) 19 TABLA 5-3 Funcién error correspon- dionte a la eegunda ley de Fick ‘ons 02277 ae EHH oa 04288 T 05205 0.6039 TT oo7Ts 07421 07970 25 0427 09661 0.9053 Compose. >. Lespues de cierto temnpo = a ° Composicion iniial Distancia FIGURA 5-13 Difusién de dtomos en Ia superticie de un material, lustrando el use de la Seaunda lev de FickrE Disefo de un tratamiento de carburizacisn Wuperticie de Un acero que Contiene 0.1% de carbone debe endurecerse ppor carburizacién, a carburizacion, el acer se coloea en una deCen la perficie a temperatura clevada. Elcarbén se hacia el interior del fro. Para conseguir propicdades Gptimas, el avero debe contener 0.45% de © 2 una protundt do 0-2 cm por debajo de Is superficie. Disene cl tratamiento termsco de carburtzacion para Oducis estas propiedades. Suponga que la temperatura es lo sufickentemente ‘lta (por {ome 900°C) de manera que el Hierro tenga una estructura CCC. oLUCcION hemes quae 6, =! 1.256-€ Fick: 0.2 em, Partionde de la segunda ley rapitlo 5 Movimiento de los étomos en los materiales De ta tabla 5 071 ae ve=( Cuaiquicr combinacién de D y r cuyo producto sea 0.0198 functonard. Fn el caso de dit: ion de carbono en hierro CCC, el cochiciente de difusion esta felacionado con la temperate a segun. D = 0.23 exp (FEST) = 0-23 exp (=12F° ‘or tanto, ta temperatura y el tiempo del tratamiento térmico estén relacionados mediante: UNDA LEY DE FICK a he fide dt al 5) coeficiente de difusién D no varia con la distancia de difusién “x”, ni de le ntracién "c” del elemento que se esté difundiendo, se puede escribir una versior ficada de la segunda leyde Fick: dc_y d?c dt \dx? n depende de las condiciones de contorno. Se puede tener una solucién como a pote x cg Concentracién constante de lositomos.a difundir en Is superficie del material. ace 2vD t, ‘Concentracién inicial en el material de losatomos a difundir. c, Concentracién del étomo en difusiénen ‘* unaposicién x por debajodelasuperficie despuésde untiempot.Algunas consideraciones paralasolucin dela Segunda Ley de Fick Una solucién importante y practica es la de un sélido se miinfinito cuya concenracién superficialse mantiene constante. Se tienen como hipétesis: a) Antes de la difusién, todos los dtomos de soluto estén uniformemente distribuides en el sdlide aconcentracién Co. b) El valor de x en Ia superficie es cero y auments con la distancia dentro del sélido. ¢) El tiempo se toms igual s cero enel instante inmediatsmente antes de comenzar la difusion, 2méticamente estas consideraciones las escribiriamos como; rarat=0s, C=C) en OSxOs, en x = _ (la concentracién superficial se considera cte) x=@ % Composiciéa despots de cierto tiempo seabtiene: Os ~ Cx _ 9, ¢(_* €s— Co 2VDt. Le funcién error, erf, es uns funcién matemética qui =e x = erf |—— existe por definicién. La funcién error pued — ly 2VD tC} — encontrarse en tablas esténdar de la misma forma qu lossenosy cosenos. A DE LA FUNCION ERROR ete Eafe = ete 0 ass a7I07 eae on 900770 1 noe onset 93 Osa 13 ogi ons ox? box 0.1480, ‘oso Doss ostos 22 oye om 23 ome ‘99823 26 age ee 24