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Opération N° 1 : Nanophysique et Microscopies en champ proche

Opération n° 1

NANOPHYSIQUE ET MICROSCOPIES EN CHAMP PROCHE

Responsables :

Jacques Joseph, Professeur

Yves Robach, Maître de conférences

 

Permanents

   

Doctorants

Ségolène

CALLARD

MdC

90 %

Matthieu

ABEL

Thèse en 2001 Thèse en 2002 Thèse en 1999 Thèse en 2004

Alain

GAGNAIRE

MdC

100%

David

AMANS

Jacques

JOSEPH

Pr

100%

Bruno

MASENELLI

Magali

PHANER-

MdC

100%

Marie-Hélène

ROUILLAT

GOUTORBE

 

Yves

ROBACH

MdC

80%

Alexis

SOLERE

Thèse en 1999

Mots clés : microscopie champ proche, microcavités, nanooptique, nanocristaux, croissance hétéroépitaxique, , biopuces

Contexte et objectifs

Cette nouvelle opération, créée en 2002, s’inscrit dans le cadre de la restructuration de l’équipe de Physique, suite au départ de Louis Porte à Marseille. Elle résulte de la fusion des anciennes opérations « films minces pour l’électronique et l’optique » et « croissance cristalline » et marque une orientation délibérée vers la nanophysique et les microscopies en champ proche.

L’activité optique a progressivement évolué depuis 1999. Partant de la fabrication et de la caractérisation des couches minces, elle s’est orientée vers la fabrication et l’étude de microcavités. Cette évolution nous a amené a utiliser des méthodes de caractérisation de plus en plus fines comme la microscopie optique en champ proche. Ce besoin croissant de caractérisation nanométrique se retrouvant dans plusieurs équipes du laboratoire, cela nous a conduit à développer, à partir de l’année 2000, une installation SNOM. Ce dispositif est maintenant opérationnel. Il est complémentaire des installations du Centre de Nano-optique de Villeurbanne (UCB/Lyon 1) soutenu dans le cadre du CPER (Pôle lyonnais de nano-opto-technologies » dont le LEOM est un des laboratoires fondateurs. La microscopie optique en champ proche sera donc un axe de développement important de cette opération et du LEOM dans les prochaines années. Il sera coordonné par Ségolène Callard.

Dans le domaine de la caractérisation de surfaces ou d’interfaces par microscopies à champ proche, nous avons poursuivi l’activité menée sur la croissance épitaxique de couches contraintes semiconductrices ou métalliques. Notre travail a porté sur l’étude par microscopie à effet tunnel (STM) des nanostructurations de surface induites par la contrainte et leur influence sur les propriétés superficielles (propriétés catalytiques de surfaces bimétalliques) ou l’organisation contrôlée de nanostructures. Cette activité est maintenant coordonnée par Yves Robach.

Depuis 2000, nous développons un nouvel axe de recherche portant sur l’utilisation des outils de la nanophysique pour les biotechnologies. Plus particulièrement, nous travaillons sur l’utilisation de la microscopie à force atomique (AFM) pour optimiser chaque étape d’élaboration d’une puce à ADN (de la fonctionnalisation de la surface pour le dépôt des brins-sonde jusqu’à la lecture de la puce après hybridation. Cette étude est réalisée en collaboration avec l’équipe « biopuces » de JR Martin, du laboratoire IFOS / ECL. Elle est animée par Magali Phaner.

Rapport d’activité 2002 du LEOM

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Microcavités photoniques

D.Amans S.Callard, A.Gagnaire, B.Masenelli, J.Joseph

Collaboration : Equipe du professeur F.Huisken . Institut Max Planck, Göttingen.

L’objectif est d’étudier les modifications d’émission spontanée apportée par les micro cavités. Ces modifications étant dues principalement au changement du champ électrique sur le site de l’émetteur. nous avons développé des méthodes de modélisation qui nous permettent de calculer le champ dans des structures planaires à une dimension. En utilisant ces outils nous pouvons concevoir des structures de microcavités que nous réalisons par des empilements de films diélectriques. Ces empilements sont constitués de d’oxydes de titane et de silicium. L’utilisation d’un système d’ellipsométrie in situ nous permet de contrôler l’épaisseur et les indices optiques des couches. Pour caractériser ces cavités nous utilisons un banc de photoluminescence qui permet de mesurer les distributions angulaires et les spectres d’émission. La première étude, menée en relation avec l’opération N°4, a porté sur des microcavités dont le matériau émetteur était organique :

l’AlQ. Les propriétés optiques (spectres d’émission et fonction diélectrique) de ce matériau ont été mesurées. Nous avons montré que les méthodes de dépôt par plasma permettaient d’enfermer ce matériau dans une microcavité sans en altérer les propriétés émissives. Les spectres d’émission et les distributions angulaire d’émission ont montré que ces microcavités permettaient de contrôler l’émission spontanée : il est possible de privilégier l’émission dans des directions et pour des longueurs d’ondes définies. Nous avons mis en évidence l’influence de la position de la couche émettrice sur l’intensité émise. Un gain dans l’angle d’émission normal de 20 a été obtenu sur ces structures. Ce gain traduit la concentration de l’émission dans les directions des modes. Ces travaux constituent la thèse de

B.Masenelli.

Nous avons poursuivi ces études de micro cavités en utilisant comme matériau émetteur des nanocristaux de silicium. En effet sous forme nano structuré le silicium devient un matériau potentiellement envisageable pour l’optoélectronique. De nombreux résultats, notamment sur le silicium poreux, montrent que le silicium nano cristallin peut émettre des photons avec des rendements très supérieurs a celui du silicium massique. Les nanocristaux de silicium utilisés dans nos études sont synthétisés par pyrolyse de silane à Gottingen (F. Huisken et al). Les diamètres des nano

cristaux sont compris entre 3 et 7.5 nm et conduisent à des spectres de photoluminescence compris entre 550 et 900 nm avec de très grands rendements. Les couches de nanocristaux ont une émission isotrope et non Lambertienne . L’augmentation de taille des nano cristaux entraîne un déplacement du spectre d’émission vers les grande longueurs d’onde. Cet effet s’explique simplement par le confinement quantique des excitons. Nous avons mesuré la fonction diélectrique des couches des nanocristaux qui est très différente de celle du silicium massique. Nous avons réalisé des micro cavités et mesuré les spectres d’émission de photoluminescence, centrés dans notre cas sur 680 nm. Ces résultats montrent qu’il est possible de réaliser des émetteurs à base de silicium. Cette étude est menée dans le cadre de la thèse de D. Amans .

nc-Si (10 -15 nm) SiO 2 TiO 2 Al O 2 3 Ag
nc-Si
(10 -15 nm)
SiO 2
TiO 2
Al O
2
3
Ag
D. Amans . nc-Si (10 -15 nm) SiO 2 TiO 2 Al O 2 3 Ag
D. Amans . nc-Si (10 -15 nm) SiO 2 TiO 2 Al O 2 3 Ag
D. Amans . nc-Si (10 -15 nm) SiO 2 TiO 2 Al O 2 3 Ag
D. Amans . nc-Si (10 -15 nm) SiO 2 TiO 2 Al O 2 3 Ag
D. Amans . nc-Si (10 -15 nm) SiO 2 TiO 2 Al O 2 3 Ag
D. Amans . nc-Si (10 -15 nm) SiO 2 TiO 2 Al O 2 3 Ag
D. Amans . nc-Si (10 -15 nm) SiO 2 TiO 2 Al O 2 3 Ag
D. Amans . nc-Si (10 -15 nm) SiO 2 TiO 2 Al O 2 3 Ag
D. Amans . nc-Si (10 -15 nm) SiO 2 TiO 2 Al O 2 3 Ag
D. Amans . nc-Si (10 -15 nm) SiO 2 TiO 2 Al O 2 3 Ag
D. Amans . nc-Si (10 -15 nm) SiO 2 TiO 2 Al O 2 3 Ag
D. Amans . nc-Si (10 -15 nm) SiO 2 TiO 2 Al O 2 3 Ag
D. Amans . nc-Si (10 -15 nm) SiO 2 TiO 2 Al O 2 3 Ag

Structure d’une microcavité à base de nanocristaux de silicium

10° 10° 40° 40° >70° >70° Distribution angulaire de photoluminescence à la longueur d’onde de
10°
10°
40°
40°
>70°
>70°
Distribution angulaire de photoluminescence à la
longueur d’onde de résonance. L’émission des nc-Si
libres est représentée par les triangles, et celle de la
microcavité par des points

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Microscopie en champ proche optique pour la microphotonique

S.Callard

Collaboration : Centre de Nano-optique de Lyon (B. Jacquier et al)

Depuis octobre 2000, le LEOM développe une installation de microscopie optique en champ proche à balayage (SNOM). La tête est fournie par la société NTMDT. Le reste de l’installation est assemblé au laboratoire. Ce microscope, dont la sonde est constituée par une fibre optique effilée, utilise un système d’asservissement qui repose sur la force de cisaillement qui existe entre la sonde, que l’on fait osciller latéralement et l’échantillon. Ce mode de fonctionnement permet d’obtenir une image topographique de la surface de l’échantillon en plus du signal optique. Lorsque la sonde est placée dans le champ proche d’un objet, elle interagit avec le champ évanescent et permet ainsi d’explorer localement les propriétés optiques de l'objet. L’analyse peut être spectroscopique.

Objectifs Comme l'ont démontré plusieurs études récentes, les techniques de champ proche, en général, et la configuration d'effet tunnel photonique en particulier, s'avèrent bien adaptées à la caractérisation de microcomposants optiques, qu'il s'agissent de guides planaires, de structures à cristaux photoniques (BIP) ou de microrésonateurs.

Caractérisation dispositifs passifs Pour des éléments passifs tels que des microguides, l’objectif est d’utiliser le SNOM pour frustrer la partie évanescente des modes guidés et réaliser une cartographie locale du champ en surface Ce type de mesure permettra également de détecter les fuites de lumière volontaires/involontaires des dispositifs (pertes linéiques des guides, virages, défauts liés à la rugosité, pertes par rayonnement des micro- résonateurs…) ainsi que dans les zones de couplage (par ex : guide BIP / Guide standard… ). De plus, l'analyse des propriétés du champ évanescent au voisinage de microguides, ou à la surface d’un microrésonateur dans lequel un mode de galerie est excité, permettra une meilleure caractérisation des systèmes à couplage par onde évanescente tels que les filtres add drop . Afin d’exploiter le plus efficacement possible ces études expérimentales, des calculs d’électrodynamique en champ proche seront entrepris, basés notamment sur la méthode des dipôles couplés et la théorie de la réponse linéaire. Il sera ainsi possible de modéliser les

interactions entre la pointe du SNOM et les microstructures. Ces techniques de champ proches, de part leur résolution nanométrique dans l’espace réel et leur caractère faiblement perturbatif (champ évanescent), permettront une caractérisation fine des composants microphotoniques (guides, microcavités, filtres …) réalisés en technologie III-V au LEOM ou en technologie silicium sur PLATO.

Caractérisation de micro-sources photoniques Dans le cas de composants émetteurs, les performances dépendent à la fois des propriétés modales des microcavités optiques (facteur de qualité, confinement), et de l’interaction de ces modes avec le milieu actif. Pour ces microsources la sonde SNOM pourra être utilisée non seulement pour analyser, mais également pour façonner et contrôler la dynamique de la source. Les microsources seront réalisées à partir de m icro-disques ou de microcavités BIP et le milieu actif sera constitué de puits quantiques en GaInAs ou de boîtes quantiques en InAs. Ces structures seront soit suspendues sous forme de membranes, soit reportées sur substrat hôte silicium. Nous étudierons également le confinement de la lumière dans des micro-disques ou dans des microcavités 2D créées au sein d'une structure BIP. Le SNOM permettra d’évaluer le confinement optique dans la microcavité mais aussi les sources de pertes de photons qui dégradent le facteur de qualité. Ces informations seront particulièrement précieuses pour imaginer les stratégies permettant le couplage de cette source avec des guides BIP par exemple.

Résultats préliminaires La pointe du microscope est pour l’instant constituée en fibre optique (monomode ou multimode). Les pointes sont réalisées au laboratoire et contrôlées régulièrement par microscopie électronique à balayage. La préparation consiste à échauffer localement une fibre optique puis à l’étirer mécaniquement. Les meilleures pointes sont obtenues avec des fibres monomodes et elles présentent des rayons de courbures inférieurs à 100nm.

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Opération N° 1 : Nanophysique et Microscopies en champ proche

r=35 nm
r=35 nm

Image MEB d’une fibre monomode étirée

Pour l’instant, le SNOM est utilisé en mode collection et un montage optique est en cours d’installation pour pouvoir caractériser des microcavités à base de cristaux photoniques émettant à 1.55µm. Ce sont des microcavités dont le matériau émetteur est un film mince d’îlots quantiques d’InAs entouré de deux couches d’InP. La cavité est constituée d’un cristal photonique à deux dimensions dans lequel on a introduit un défaut (absence d’un ou de plusieurs trous) qui forme la cavité. La forme de la cavité peut varier. Le confinement vertical de la lumière est réalisé grâce aux interfaces air/cavité qui présentent un écart d’indice élevé.

Jusqu’à présent , nous avons essentiellement obtenu des images topographiques en shear force. Elles ont permis de valider notre système de fabrication de pointes et de montrer que la pointe nous permettait de visualiser les structures.

que la pointe nous permettait de visualiser les structures. Image du signal d’erreur en shear-force. On

Image du signal d’erreur en shear-force. On visualise la cavité hexagonale en anneau dans le cristal photonique

Nous avons également obtenues des images optiques en réflexion dans le visible, permettant de vérifier que la lumière était bien couplée dans la fibre jusqu’au détecteur. A présent (avril 2002), nous avons implémenté un détecteur infrarouge (photodiode InGaAs) pour capter le signal de photoluminescence des cavités. L’observation directe des modes des cavités s’avère encore difficile. Les principaux problèmes sont les suivants :

- premièrement, la faiblesse du signal : ces structures sont fortement confinantes dans le plan de propagation et la distribution d’intensité du mode dans l’objet n’est traduite, à la surface, que par un faible champ évanescent. Le montage optique est en cours pour optimiser le signal. - deuxièmement, la nécessité d’avoir un échantillon présentant un minimum d’imperfections pouvant engendrer des pertes par diffraction qui masquent le signal évanescent.

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Opération N° 1 : Nanophysique et Microscopies en champ proche

Caractérisation nanoscopique de puces à ADN

M. H. Rouillat, M. Phaner-Goutorbe

Collaboration: J. P. Cloarec (IFOS) , V. Degas (ROSATECH) Soutien: Programmes CNRS « Physique et Chimie du vivant » et « Génome » (ROSA 2 )

Depuis octobre 2000, nous développons un nouvel axe de recherche portant sur l'utilisation des outils de la microscopie de proximité pour les biotechnologies. Plus particulièrement, nous utilisons les possibilités offertes par la microscopie à force atomique pour caractériser des matériaux biologiques déposés sur substrat solide. Cette technique a prouvé depuis plusieurs années qu’elle était adaptée à l’étude des molécules biologiques et ceci grâce à sa grande versatilité. Du point de vue de l’imagerie, L'AFM offre une alternative au microscope électronique en transmission. En effet, elle permet aussi l’observation à l'échelle nanométrique de molécules biologiques mais avec l’avantage supplémentaire d’une caractérisation possible en milieu liquide et plus particulièrement dans les solutions physiologiques. D'autre part, la mesure des forces d'interaction entre sonde et surface peut apporter des informations sur les propriétés chimiques et mécaniques des surfaces (adhésion, élasticité). Dans le domaine des applications biologiques, les forces de liaisons intermoléculaires sont de plus en plus étudiées.

1- Optimisation de la fabrication de puces à ADN Nous nous intéressons à la caractérisation de puces à ADN et plus particulièrement au problème spécifique de l'hybridation. Sur une puce, les oligonucléotides-sondes sont fixées sur un support solide et possèdent donc moins de degrés de liberté que des monobrins libres en solution. Le processus d'hybridation entre sonde et cible s'en trouve alors perturbés. Aussi afin d'améliorer le rendement d'hybridation des puces, il est important de connaître l'influence des conditions de préparation de la puce, de la fonctionnalisation du substrat jusqu'au greffage des oligonucléotides. Le souci d'intégration des puces et de diversification des oligonucléotides suppose une analyse approfondie des différentes étapes d'élaboration à l’échelle du nanomètre. Parce qu'elle permet une étude locale et à l'échelle nanométrique de l'état de surface, l'AFM est une technique bien adaptée à ce problème. L'originalité de notre démarche réside dans l'observation des surfaces à l'air mais aussi directement en solution. Il est possible alors de caractériser la puce dans un environnement proche de son milieu naturel.

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Etude de faisabilité : une puce modèle Une première étude a été réalisée dans le but de tester un des protocoles de fabrication déjà utilisé pour réaliser des puces de faible intégration. L'idée sous-jacente consiste à faire évoluer ce protocole pour l'adapter à la réalisation de plots de petite taille où une homogénéité de la surface à l'échelle du nanomètre est recherchée. Une puce "modèle" a été réalisée avec 2 plots différents. Le substrat utilisé est une lame en verre sur lequel une couche de molécules organiques (silanes) est déposée par voie chimique. Cette couche dite "d’accrochage" est indispensable pour assurer une bonne fixation et une répartition contrôlée des oligonucléotides- sondes. Sur cette surface silanisée, deux plots "sondes" A et B ont été réalisés par immobilisation de deux types d' oligonucléotides de 12 bases chacun (une base différente au centre). La puce ainsi créée est immergée dans une solution contenant des oligonucleotides- cibles de 84 bases. Les brins-cibles disposent à une extrémité des 12 bases complémentaires du monobrin de la sonde A et à l'autre extrémité une molécule fluorescente. Une analyse par fluorescence a permis de confirmer que l'hybridation s'est bien produite sur le plot A et n'a pas eu lieu sur le plot B. L'analyse AFM réalisée à l'air mais aussi en solution (eau pure) montre un recouvrement total du verre par le silane. Les molécules se regroupent pour former des plateaux de 2 à 3 nm de haut s'étalant sur quelques dizaines de nanomètre de large, répartis de façon régulière sur la surface. Cette structure est aussi observée lorsqu'on analyse les régions A et B avant hybridation. Après hybridation, les plots A et B ont été observés dans la solution saline d'hybridation fortement diluée. Une évolution morphologique importante est alors mise en évidence sur le plot hybridé (A). Des structures filaires de 2 à 3nm de large pour une hauteur de 0,3nm apparaissent alors orientées de façon préférentielle (figure 1). Ces fils ne sont pas observés sur le plot B et sont donc attribués à l'hybridation des brins de 84 bases. On montre ainsi que l'AFM est appropriée à la lecture de la puce après hybridation.

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N° 1 : Nanophysique et Microscopies en champ proche Fig.1 : Structures filaires après hybridation sur

Fig.1 : Structures filaires après hybridation sur zone A AFM mode contact intermittent en solution saline

Analyse

préparation de la puce

Depuis octobre 2001 (thèse de M. H. Rouillat 2004),

nous étudions en détail différents systèmes afin de mieux cerner le rôle joué par les premières étapes de fabrication de la puce et plus précisément sur la relation entre structuration des couches et rendement d'hybridation. Nous avons caractérisé plus particulièrement la phase de silanisation sur deux substrats, verre et silice, avec deux types de silanes (octodécyltrichlorosilane OTS 18 carbones et 10-(carbomethoxy) décyldimethyl-chlorosilane MCS 10 carbones). Même si l'imprégnation reste le mode de dépôt plusieurs protocoles ont été testés (temps de dépôt , choix du solvant). Ces premiers résultats mettent en évidence l'influence du substrat et de la longueur des chaînes carbonées sur la rugosité (RMS) des couches déposées. La rugosité la plus faible (RMS=0,1nm pour une surface de 700nm 2 ) est obtenue avec des silanes courts (10 carbones) déposés sur silice (figure 2b).

de

détaillée

de

chaque

étape

(a)

(b)

silice (figure 2b). de détaillée de chaque étape (a) (b) Fig.2 : ( a) la surface
silice (figure 2b). de détaillée de chaque étape (a) (b) Fig.2 : ( a) la surface

Fig.2 :(a) la surface de silice nue, (b) silanes (MCS) déposés sur silice

2 - Interaction pointe-surface Parallèlement à l'étude morphologique de la puce, nous développons un axe concernant les interactions pointe-surface. La conformation de la puce : couches moléculaires "molles" déposées sur substrat "dur", s'adapte bien à cette étude. Des mesures de forces sont réalisées avec l'AFM en mode dynamique. Notre objectif est d'accéder à des informations supplémentaires sur les couches (adhésion, élasticité, épaisseur) mais aussi d'étudier le rôle joué par la pointe et par l'environnement (air, liquide) dans l'interprétation des images.

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Croissance hétéroépitaxique de couches contraintes

M. Abel, A. Solère, M. Phaner, L. Porte 1 et Y. Robach

Collaborations: IRC (Bertolini et al), ENS Lyon (Simon et al), Lab. de Cristallographie – CNRS Grenoble (R. Baudoing et al) Soutien: Programme thématique Nanotechnologies de la Région Rhône-Alpes

Ce travail a concerné l’étude de la nanostructuration superficielle de couches contraintes épitaxiées semiconductrices ou

métalliques. Il a été motivé par l’intérêt suscité

par la formation de nanostructures contrôlées

dans des secteurs aussi divers que la microélectronique ou la catalyse. Cette activité est maintenant achevée. Voir perspectives.

Un premier axe a porté sur la croissance hétéroépitaxique de films semiconducteurs contraints dans le système InGaAs / InP. Initié en 94 et mené en collaboration avec M. Gendry, il s’est achevé par l’étude et la compréhension de la stabilisation d’un mode de croissance 2D, lors d’une croissance sous flux excédentaire d’éléments III. Ceci a été relié à une augmentation significative de l’énergie de création de bords de marches d’une surface sous stabilisation cationique (thèse d’ A. Solère soutenue en décembre 99). Les travaux ont été décrits dans le rapport 1998.

Un deuxième axe de recherche a porté sur la

relation entre la nanostructuration induite par l'état de contrainte et la réactivité catalytique de surfaces d’alliages bimétalliques ou d’alliages de surface formés par dépôt d’un métal sur un autre métal. L'enjeu était de développer une nouvelle voie pour l'élaboration de matériaux catalytiquement actifs. Dans ce cadre, nous avons étudié des dépôts de couches ultraminces ( taux de couverture compris entre 0 et 10 monocouches) d'un métal catalytiquement actif, le palladium, sur la face

(110) de monocristaux de nickel, cuivre et or, de paramètres de maille différents: Ceci permet de réaliser des dépôts subissant soit une contrainte en compression, d'amplitude variable (cas des dépôts Pd / Cu et Pd / Ni), soit une contrainte en tension (cas du dépôt Pd / Au). Ces systèmes se différencient aussi par la force

de

l'interaction Pd-métal, plus grande dans le

cas

de Cu et Au que dans le cas de Ni. L'étude

a

été étendue aux surfaces d'alliages

conduisent

par ségrégation en surface de l'un des composants à des phénomènes similaires de

bimétalliques Pd 50 Cu 50 et Pd 8 Ni 92 , qui

1 Muté au L2MP Marseille depuis octobre 2000

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nanostructuration. Ces études ont été effectuées dans un système en ultra haut vide réunissant plusieurs techniques de caractérisation de surfaces ( microscopie à effet tunnel, diffraction d’électrons lents, spectroscopie Auger). Elles ont permis de décrire précisément les différentes morphologies de surface et leur évolution en fonction du taux de couverture, ainsi que les modes associés de relaxation de la contrainte épitaxique (formation d'alliages de surface ou d'interface, croissance d'îlots 3D,…). Le résultat principal a été la mise en évidence pour les systèmes contraints en compression (Pd / Ni, Pd / Cu) d'un mode particulier de relaxation, suivant la direction [1-10], des rangées denses atomiques de la surface (110), associé à l'apparition pour des dépôts entre 2 et 4 monocouches, d'une

25 Å

[001] a) 50 Å b) [001] 130 Å
[001]
a)
50 Å
b)
[001]
130 Å

50Å

Images STM a) d’un dépôt de 1MC de Pd sur Ni(110) recuit à 200°C et b) d’un dépôt de 3 MC de Pd sur Cu(110) recuit à 200°C.Observation de surstructures (Nx-)dans la direction [1-10], de périodicités respectives 2,5 et 5 nm.

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ondulation de surface de faible amplitude (0,03 nm) et de période variable entre 2 et 6 nm en fonction de la contrainte. Ce mode de relaxation, aussi observé dans le cas de la surface (110) de l'alliage Pd 8 Ni 92 , peut être interprété en terme d'une instabilité de Grinfeld, résultant d'une compétition entre énergie de surface et énergie de relaxation élastique.

Des images à l'échelle atomique, réalisées sur le système Pd/Ni ont permis de préciser dans ce cas l'organisation des sites atomiques qui évoluent d'une position en stricte épitaxie sur la surface initiale (110) vers une structure distordue de type hexagonale (proche d'une face

(111)).

[1-10] 4 Å
[1-10]
4 Å
type hexagonale (proche d'une face (111)). [1-10] 4 Å 3,5 Å Images STM d’un dépôt de

3,5 Å

Images STM d’un dépôt de 2 MC de Pd sur Ni(110) recuit à 200°C. Observation d’une structure pseudo hexagonale.

La réactivité catalytique des différents systèmes ainsi élaborés a été mesurée, en parallèle à l'IRC, pour la réaction test d'hydrogénation du butadiène. La comparaison entre les propriétés catalytiques et les topographies de surfaces des dépôts ont permis d'établir une corrélation forte entre l'apparition de l'ondulation ou structuration (Nx-) et une augmentation notable de l'activité catalytique qui peut être multipliée par 20 par rapport à celle d'une surface de référence Pd(110). Nos résultats montrent que les processus de relaxation engendrés par la contrainte peuvent générer de nouvelles structures superficielles favorables à l’accroissement de la réactivité catalytique. Ce travail s'est poursuivi par quelques études préliminaires de reconnaissance in situ des sites catalytiques de surface et l'établissement de corrélations entre structuration de surface et propriétés de chimisorption, suite à l'adsorption spécifique de monoxyde de carbone ou de butadiène. Ce travail a fait l’objet de la thèse de M. Abel soutenue en septembre 2001.

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k

n

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Fabrication et caractérisation optique de films minces

S.Callard, B.Devif, R. Dubent, A. Gagnaire, J.Joseph

Collaborations : IFOS ECL, DPM Lyon 1

L’activité de caractérisation optique qui était à l’origine basée sur l’ellipsometrie spectroscopique s’est poursuivie en s’étendant aux mesures spectrophotométriques (transmittance et réflectance). Le couplage de ces méthodes a permis de mesurer les fonctions diélectriques de films très minces, comme ceux à base de nanocristaux de silicium, à base d’ AlQ, à base de silicium amorphe hydrogéné ou même de films intervenant dans des systèmes multicouches, plus complexes. Cette activité qui repose sur un savoir faire reconnu a génèré de nombreuses collaborations.

Pour la fabrication, un réacteur de dépôt CVD assisté par plasma micro ondes permet, à partir de deux précurseurs liquides (le TEOS et le TIPT), de déposer des couches d’oxyde de silicium et d’oxyde de titane. Ce couple d’oxydes présente une différence d’indice optique favorable à la fabrication de couches anti-reflets ou, à l’opposé, de miroirs de Bragg. Le spectroellipsomètre in situ installé sur ce réacteur et le développement d’un logiciel spécifique permettent, à partir de la méthode AWE (Ajusted Wavelength Ellipsometry), de contrôler les épaisseurs et les indices des couches des miroirs avec une grande précision. Ce dispositif nous a permis d’optimiser les paramètres de dépôt du TiO 2 (puissance micro onde, contrôle des flux, de la température) afin d’obtenir des couches homogènes et reproductibles. L’empilement de ces couches permet de réaliser les miroirs de Bragg, de très bonne qualité optique, qui rentrent dans la fabrication des microcavités.

110 100 90 SiO2 80 TiO2 70 Al2O3 A 60 300 400 500 600 700
110
100
90
SiO2
80
TiO2
70
Al2O3
A
60
300
400
500
600
700
800
900
1000
Coeff. de réflexion (%)

Réflectance d’un miroir de Bragg optimisé (5 alternances TiO 2 /SiO 2 )

Dans le cadre de l’activité couches minces (caractérisation / modélisation), nous avons étudié les propriétés optiques de différents films préparés par la technique de sol- gel :

- des films de ZrO 2 , utilisés comme guides d’ondes , - des films de TiO 2 , utilisés pour leurs propriétés photocatalytiques. L’étude de l’influence des conditions de préparations de ces films est essentielle pour optimiser leurs propriétés optiques. En particulier, pour rendre photo-catalytiquement actifs, les films de TiO 2 subissent un recuit ; nous commençons une analyse couplée spectroellipsomérie - diffraction X pour étudier les variations des propriétés optiques de ces films avec les changements de structure en fonction de la température de recuit.

3

2.8

2.6

2.4

2.2

2

1.8

1 0.8 0.6 0.4 0.2 0 200 400 600 800 1000
1
0.8
0.6
0.4
0.2
0
200
400
600
800
1000

longueur d'onde (nm)

Modélisation des indices optiques de couches minces d’oxyde de titane utilisées pour leurs propriétés photocatalytiques

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Opération N° 1 : Nanophysique et Microscopies en champ proche

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Opération N° 1 : Nanophysique et Microscopies en champ proche

Perspectives

Microscopie en champ proche optique Nanocristaux de silicium L’objectif est de réaliser des mesures de photoluminescence locale sur des nanocristaux de silicium à l’aide du microscope optique en champ proche dans le but d’étudier les mécanismes mis en jeu lors du processus de photoluminescence dans les nanocristaux uniques

Microcavités et cristaux photoniques En ce qui concerne les cristaux photoniques, seule la microscopie à champ proche optique permet d’espérer observer la cartographie, prédite par les calculs, des modes propres du champ électromagnétique dans une cavité ou un guide. Pour optimiser le signal capté par la pointe SNOM, une des solutions envisagée est d’améliorer le couplage pointe/échantillon en jouant par exemple sur l’indice optique du matériau constituant la pointe.

Nano-opto-electro-microsystème (NOEMS) Ce sujet Le LEOM s’engage dans une nouvelle voie qui associe les structures à base de cristaux photoniques 2D (BIP 2D) avec les possibilités de l’optique champ proche. Il s’agit de venir perturber le champ proche des microstructures par le biais d’une pointe SNOM, par exemple pour modifier temporairement la structure de bande du cristal et ainsi modifier le parcours des photons dans ces microstructures. Cette activité regroupera les compétences de deux opérations de recherche : celle-ci « Nanophysique et Microscopies en champ proche » et l’opération N°6 « Microphotonique ». Adel Rahmani, recruté cette année en 2002, sera au cœur du projet.

Matériaux biologiques Les perspectives s'inscrivent dans la continuité des travaux déjà engagés, sur l'optimisation des puces à ADN. Après l'étape de silanisation, nous allons nous pencher sur la densité des sondes fixées, plus précisément sur le rôle de la dilution. Un intérêt plus particulier sera porté aussi sur l'observation en solution de la phase d'hybridation. Parallèlement, nous comptons poursuivre l'étude des interactions pointe-surface sur substrats biologiques. En particulier, en utilisant des pointes conductrices ou fonctionnalisées, il est possible d'identifier des domaines de charges ou de potentiels de surfaces différents ou des régions de différentes sensibilités biochimiques.

Oxydes high K sur silicium Les études sur la croissance épitaxique basées sur l’exploitation de mesures STM, consacrées ces dernières années aux couches contraintes, s’inscriront à l’avenir dans le développement d’une nouvelle thématique du LEOM sur les oxydes « high k ». Les travaux seront menés en relation avec l’opération 3 « Nouveaux matériaux et procédés ». On cherchera essentiellement à trouver les configurations permettant de maîtriser la formation des premières couches d’interface entre le substrat silicium (100) et des films épitaxiés d’oxydes « high k » artificiels, préparés à partir des familles (CaBaSr)TiO 3 et LaAlO 3 . On visera une bonne qualité structurale et une stabilité thermodynamique avec Si.

Couches à gradient d’indice Nous poursuivons notre effort dans la maîtrise des films diélectrique pour l’optique, qui sont souvent des composants indispensables de structures plus complexes. Nous allons étendre la fabrication à d’autres matériaux, par exemple l’oxyde de tantale .Nous pensons aussi réaliser des couches à gradient d’indice de profil contrôlé à partir d’un plasma mixte TEOS/TIPT. L’un des objectifs serait d’optimiser la couche anti reflet des cellules solaires pour améliorer leur rendement.

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