INVENTRIO DE RESDUOS SLIDOS (Verso maio de 2012)

INFORMAES GERAIS DA INDSTRIA

I - RAZO SOCIAL DA INDSTRIA:

II - ENDEREO DA UNIDADE INDUSTRIAL: Logradouro/n. : Bairro/Distrito : Municpio : contato: CEP: CEP: telefone para CNPJ:

Inscrio Estadual: CGC/MF: III - ENDEREO PARA CORRESPONDNCIA: Logradouro/n. : Bairro/Distrito : CEP: Municpio : telefone para contato: IV CONTATO TCNICO: Nome: Cargo : E-mail: Telefone de Contato: ( ) CEP: Telefone: ( )

E-mail

Cargo:

Fax:

V CARACTERSTICAS DA ATIVIDADE INDUSTRIAL: 1. Atividade principal da indstria: 2. Perodo de produo: Horas por dia: Dias por ms:

Cdigo CNAE:

Meses por ano:

3. Nmero total de funcionrios nas seguintes reas da indstria: Produo: 4. rea til total (m2): 5. Coordenadas Geogrficas da unidade industrial: Latitude Graus Min Seg Graus Cargo: Longitude Min Seg Administrao: Outras reas:

VI RESPONSVEL PELA EMPRESA: Nome: Cargo :

Declaro, sob as penas da Lei, a veracidade das informaes prestadas no presente formulrio. Em ____/____/______ Nome do Responsvel:

INFORMAES SOBRE O PROCESSO DE PRODUO DESENVOLVIDO PELA INDSTRIA

VII. Liste as matrias-primas e insumos utilizados. Matrias-primas e Insumos Quantidade Atual (por ano) Capacidade Mxima (por ano) Unidade de Medida

VIII. Identifique qual a produo anual da indstria. Quantidade Atual Produtos (por ano)

Capacidade Mxima (por ano)

Unidade de Medida

ETAPAS DO PROCESSO DE PRODUO DA INDSTRIA

IX. Relacione todas as etapas do processo de Produo e os resduos gerados em cada etapa, se for o caso. Nome da Etapa 1. 2. 3. 4. 5. 6. 7. 8. 9. 10. 11. 12. 13. 14. 15. 16. 17. 18. 19. 20. 21. 22. 23. 24. 25. 26. 27. 28. 29. 30. 31. 32. 33. 34. Descrio Resduos gerados

Para quem no apresentou o inventrio referente a todos os anos, informamos que a obrigatoriedade de apresentao no Paran inicia em 2002. (podendo entreg-lo, no mximo a cada 2 anos, porem as informaes devem ser divididas para cada ano).
Item 1 - No escrever intervalo de anos. Item 2,3,6 e 7 -Cdigos em anexo. Item 2 Incluir cdigo do resduo. Para os cdigos A099 e D099, descrever o resduo. Exemplo: D099, Sucata de eletrnicos. Item 3, 4 e 5 -Caso no possua dados reais de quantidades de resduos geradas em anos mais antigos, possvel estim-las, por uma simples regra de trs, em funo dos critrios: faturamento, nmero de funcionrios da rea fabril, quantidades de produtos elaborados, matria-prima, custo de destinao, dentre outro. Item 5 - Para valores estimados, informar o critrio utilizado. Caso o valor seja real mantenha a coluna 5 em branco. Item 7 - Informar o tipo do armazenamento: ( I ) Impermevel/ ( NI ) No Impermevel, (CBC) Com Bacia de Conteno/ (SBC) Sem Bacia de Conteno, (S) Sinalizado/ (NS) No Sinalizado, ( C ) Coberto/ ( D ) Descoberto, (F) Fechado/ (A) Aberto. Exemplo: NI; CBC; S; C; F Item 8-14 - Caso os resduos encontrem-se armazenados na rea industrial, mantenha estas colunas em branco. No entanto informamos que os resduos no podem permanecer por mais de um ano armazenados (Portaria IAP 224/07).
10Endereo do Destino

1 Ano

2Cdigo do Resduo

3Cdigo do Estado Fsico

4Quantida de total (tonelada /ano)

5Critrio utilizado para estimar a Quantida de

6Cdigo do Armazen amento

7Cdigo do tipo de Armazen amento

8Cdigo Destino

9Razo Social/Nome do Destino

11Municpio

12UF

13N da Licena Ambiental de Operao do Destino

14Validade da Licena Ambiental de Operao do Destino

Aps preenchimento completo 1. 2. 3. 4. 5. 6. 7. 8. Apagar as pginas posteriores a esta pgina (pginas contendo anexo) Nomear este arquivo para o CNPJ da Indstria, ex: 123456789.doc (sem pontos, barras ou traos) Encaminh-lo , para o e-mail camaratecnicaresiduos@iap.pr.gov.br , solicitar confirmao de recebimento. Imprimir o e-mail que confirma o recebimento pelo IAP. Imprimir este arquivo do inventrio preenchido. Arquivar ambos documentos na indstria Quando solicitar Renovao de Licena de Operao, anexe dentre os documentos necessrios, os e-mails de confirmao de recebimento. Dvidas entrem em contato com o Departamento de Licenciamento de Atividades Poluidoras Tel (41) 3213-3820 // 3213-3835 // 3213-3831
4

ANEXO Item 2 CODIGO DE RESDUOS

CDIGO DO RESDUO A001 A002 A003 A004 A104 A204 A005 A105 A006 A007 A107 A207 A008 A108 A208 A308 A009 A010 A011 A111 A012 A013 A014 A015 A016 A017 A117 A018 A019 A021 A022 A023 A024 A025 A099 A199 A299 A399 A499 A599 A699 A799 A899 A999 A026 A027 A028 A029 CLASSE II OU CLASSE III DESCRIO DO RESDUO Resduos de restaurante (restos de alimentos) Resduos gerados fora do processo industrial (escritrio, embalagens, etc.) Resduos de varrio de fbrica Sucata de metais ferrosos Embalagens metlicas (latas vazias) Tambores metlicos Sucata de metais no ferrosos (lato, etc.) Embalagens de metais no ferrosos (latas vazias) Resduos de papel e papelo Resduos de plsticos polimerizados de processo Bombonas de plstico no contaminadas Filmes e pequenas embalagens de plstico Resduos de borracha Resduos de acetato de etil vinila (EVA) Resduos de poliuretano (PU) Espumas Resduos de madeira contendo substncias no txicas Resduos de materiais txteis Resduos de minerais no metlicos Cinzas de caldeira Escria de fundio de alumnio Escria de produo de ferro e ao Escria de fundio de lato Escria de fundio de zinco Areia de fundio Resduos de refratrios e materiais cermicos Resduos de vidros Resduos slido composto de metais no txicos Resduos slido de estaes de tratamento de efluentes contendo material biolgico no txico Resduos slido de estaes de tratamento de efluentes contendo substncias no txicas Resduos pastosos de estaes de tratamento de efluentes contendo substncias no txicas Resduos pastoso contendo calcrio Bagao de cana Fibra de vidro Outros resduos no perigosos Aparas salgadas Aparas de peles caleadas Aparas, retalhos de couro atanado Carnaa Resduos orgnico de processo (sebo, soro, ossos, sangue, outros da indstria alimentcia, etc) Casca de arroz Serragem, farelo e p de couro atanado Lodo do caleiro Resduos de frutas (bagao, mosto, casca, etc.) Escria de jateamento contendo substncias no txicas Catalisadores usados contendo substncias no txicas Resduos de sistema de controle de emisso gasosa contendo substncia no txicas (precipitadores, filtros de manga entre outros Produtos fora da especificao ou fora do prazo de validade contendo substncias no perigosas

Observaes: 1. Esses cdigos s devem ser utilizados se o resduo no for previamente classificado como perigoso. Ex. resduo de varrio de unidade de embalagem de Parathion deve ser codificado como D099 ou P089 e no como A003. 2. Embalagens vazias contaminadas com substncias das Listagens n os 5 e 6 da NBR 10004 so classificadas como resduos perigosos.

C001 a C009 D001 D002 D003 D004 D005 a D029 K193 K194 K195 F102 F103 F104 F105 D099 F001 a F0301 F100 P001 a P123

K001 a K209 K053 K078 K081 K203 K207 U001 a U246

CLASSE I Listagem 10 resduos perigosos por conterem componentes volteis, nos quais no se aplicam testes de lixiviao e/ou de solubilizao, apresentando concentraes superiores aos indicados na listagem 10 da Norma NBR 10004 Resduos perigosos por apresentarem inflamabilidade Resduos perigosos por apresentarem corrosividade Resduos perigosos por apresentarem reatividade Resduos perigosos por apresentarem patogenicidade Listagem 7 da Norma NBR 10004 resduos perigosos caracterizados pelo teste de lixiviao Aparas de couro curtido ao cromo Serragem e p de couro contendo cromo Lodo de estaes de tratamento de efluentes de curtimento ao cromo Resduo de catalisadores no especificados na Norma NBR 10.004 Resduo oriundo de laboratrios industriais (produtos qumicos) no especificados na Norma NBR 10.004 Embalagens vazias contaminadas no especificados na Norma NBR 10.004 Solventes contaminados (especificar o solvente e o principal contaminante) Outros resduos perigosos especificar Listagem 1 da Norma NBR 10004 resduos reconhecidamente perigosos Classe 1, de fontes no-especficas Bifenilas Policloradas - PCB's. Embalagens contaminadas com PCBs inclusive transformadores e capacitores Listagem 5 da Norma NBR 10004 resduos perigosos por conterem substncias agudamente txicas (restos de embalagens contaminadas com substncias da listagem 5; resduos de derramamento ou solos contaminados, e produtos fora de especificao ou produtos de comercializao proibida de qualquer substncia constante na listagem 5 da Norma NBR 10.004 Listagem 2 da Norma NBR 10004 resduos reconhecidamente perigosos de fontes especficas Restos e borras de tintas e pigmentos Resduo de limpeza com solvente na fabricao de tintas Lodo de ETE da produo de tintas Resduos de laboratrios de pesquisa de doenas Borra do re-refino de leos usados (borra cida) Listagem 6 da Norma NBR 10004 resduos perigosos por conterem substncias txicas (resduos de derramamento ou solos contaminados; produtos fora de especificao ou produtos de comercializao proibida de qualquer substncia constante na listagem 6 da Norma NBR 10.004

LISTAGEM N 1 - RESDUOS PERIGOSOS DE FONTES NO ESPECFICAS CDIGO DO RESDUO DESCRIO DO RESDUO F001 F002 F003 F004 F005 F006 Os seguintes solventes halogenados gastos, utilizados em desengraxe: tetracloroetileno; tricloroetileno; cloreto de metileno; 1,1,1-tricloroetano; tetracloreto de carbono e fluorocarbonetos clorados, alm de lamas provenientes da recuperao destes solventes. Os seguintes solventes halogenados gastos: tetracloroetileno; 1,1,1-tricloroetano; cloreto de metileno; tricloroetileno; 1,1,1-tricloroetano, clorobenzeno; 1,1,2-tricloro; 1,2,2-trifluoretano; ortodiclorobenzeno; triclorofluormetano e resduo de fundo da recuperao destes solventes. Os seguintes solventes no halogenados gastos: xileno, acetona, acetato de etila, etilbenzeno, ter etlico, metilisobutilcetona, n-butillcool, ciclohexanona e metanol alm de resduo de fundo de coluna da recuperao destes solventes Os seguintes solvents no halogenados gastos: cresis e cido creslico; nitrobenzeno e resduo de fundo de coluna da recuperao destes solventes Os seguintes solventes no halogenados gastos: tolueno, metiletilcetona, dissulfeto de carbono, isobutanol, piridina, benzeno, 2-etoxietanol e 2-noitropropano e resduo de fundo de coluna proveniente da recuperao destes solventes. Lodos de tratamento de guas residurias provenientes de operaes de eletrodeposio, exceto os originrios dos seguintes processos: (1) anodizao do alumnio com cido sulfrico; (2) estanhagem do ao carbono; (3) zincagem (bases agregadas) do ao carbono; (4) revestimento de alumnio ou zinco-alumnio no ao carbono; (5) operaes de limpeza/extrao associadas com revestimentos de estanho, zinco e alumnio do ao carbono e (6) fresagem e estampagem qumica de alumnio. Solues exauridas de banho de tratamento superficial com cianeto provenientes de operaes de eletrodeposio (exceto solues exauridas que contm cianetos provenientes da eletrodeposio de metais preciosos) Lodos de fundo de tanque de banhos de tratamento superficial provenientes de operaes de eletrodeposio onde os cianetos so utilizados no processo (exceto lodos de banho de tratamento superficial com metais preciosos por eletrodeposio). Solues exauridas de banhos de extrao e limpeza provenientes de operaes de eletrodeposio onde os cianetos so utilizados no processo (exceto solues exauridas dos banhos de extrao e limpeza da eletrodeposio com metais preciosos). Lodos de banho de tmpera provenientes de banhos de leo das operaes de tratamento trmico de metais dos processos, onde so utilizados cianetos (exceto lodos de banho de tmpera no tratamento trmico de metais preciosos). Solues de cianeto exauridas provenientes da limpeza do cadinho de banho salino das operaes de tratamento trmico de metais (exceto solues exauridas do tratamento trmico de metais preciosos provenientes da limpeza de cadinhos de banhos salinos). Lodos de tratamento de guas residurias provenientes de banhos de Tmpera das operaes de tratamento trmico de metais dos processos onde os cianetos so utilizados (exceto lodos de tratamento de guas residurias provenientes de banhos de Tmpera no tratamento trmico de metais preciosos). Sedimentos de fundo de lagoa de descarga do tratamento de guas residurias da cianetao das operaes de extrao de metais de minrios Solues exauridas de banhos, que contm cianeto provenientes das operaes de extrao de metais e minrios. Resduos e lodos de tinta da pintura industrial. Lodos de sistema de tratamento de guas residurias da pintura industrial. Lodos de tratamento de guas residurias do revestimento do alumnio por converso qumica Resduos (exceto guas residurias e carvo gasto na purificao do cido clordrico) da produo ou uso (como reagente, intermedirio ou componente) de tri ou tetraclorofenol, ou de intermedirios usados para produzir seus biocidas derivados, exceto os resduos da produo de hexacloropreno a partir de 2,4,5-triclorofenol. Resduos da produo ou uso (como reagente, intermedirio ou componente) do pentaclorofenol ou de intermedirios usados para produzir seus derivados, exceto guas residurias e carvo gasto na purificao do cido clordrico. F022 Resduos do uso (como reagente, intermedirio ou componente) do tetra, penta ou hexaclorobenzeno sob condies alcalinas, exceto guas residurias e carvo gasto na purificao do cido clordrico. F023 Resduos (exceto guas residurias e carvo gasto na purificao do cido clordrico) da produo de materiais em equipamentos usados previamente para a produo ou uso (como reagente, intermedirio ou componente) do tri e tetraclorofenol, exceto resduos de equipamento usado somente para a produo ou uso de hexacloropreno quando feito a partir de 2,4,5-triclorofenol. Resduos da produo de hidrocarbonetos alifticos clorados que possuam de um a cinco

CDIGO DE PERICULOSIDADE (T) (T) (I) (T) (I,T) (T)

F007 F008 F009 F010 F011 F012

(R,T) (R,T) (R,T) (R,T) (R,T) (T)

F014 F015 F017 F018 F019 F020

(T) (R,T) (T) (T) (T) (E)

F021

(E)

(E)

(E)

F024

(T)
8

F026 F027 F028 F130 F230 F330 F430 F530 F100 K193 K194 K195 F102 F103 F104 F105 F100 K053 K078 K081 K203 K207 D001 D002 D003 D004

carbonos, utilizando processo de radicais livres catalisados, incluindo, mas no se limitando a resduos de destilao, fundos de coluna, alcatres e resduos de limpeza de reator, exceto os citados no Anexo B listagem n 2 Resduos da produo de materiais em equipamentos usados previamente para o uso (como reagente, intermedirio ou componente) de tetra, penta ou hexaclorobenzeno sob condies alcalinas, exceto guas residurias e carvo gasto na purificao de cido clordrico. Resduos de formulaes no usadas contendo tri, tetra ou pentaclorofenol ou aquelas que contm compostos derivados destes clorofenis, exceto formulaes contendo hexacloropreno sintetizado de 2,4,5-triclorofenol. Resduos resultantes da incinerao ou tratamento trmico de solo contaminado com resduos F020, F021. F022, F023, F026 ou F027. leo lubrificante usado Fluido hidrulico leo de corte e usinagem leo usado contaminado em isolao ou na refrigerao Resduos oleosos do sistema separador de gua e leo Fluidos dieltricos a base de bifenilas policloradas. Aparas de couro curtido ao cromo Serragem e p de couro contendo cromo Lodo de estaes de tratamento de efluentes de curtimento ao cromo Resduo de catalisadores no especificados na Norma NBR 10.004 Resduo oriundo de laboratrios industriais (produtos qumicos) no especificados na Norma NBR 10.004 Embalagens vazias contaminadas no especificados na Norma NBR 10.004 Solventes contaminados (especificar o solvente e o principal contaminante) Bifenilas Policloradas - PCB's. Embalagens contaminadas com PCBs inclusive transformadores e capacitores Restos e borras de tintas e pigmentos Resduo de limpeza com solvente na fabricao de tintas Lodo de ETE da produo de tintas Resduos de laboratrios de pesquisa de doenas Borra do re-refino de leos usados (borra cida) Resduos perigosos por apresentarem inflamabilidade Resduos perigosos por apresentarem corrosividade Resduos perigosos por apresentarem reatividade Resduos perigosos por apresentarem patogenicidade

(E) (E) (T) Perigoso Perigoso Perigoso Perigoso Perigoso (T) Perigoso Perigoso Perigoso Perigoso Perigoso Perigoso Perigoso Perigoso Perigoso Perigoso Perigoso Perigoso Perigoso Perigoso Perigoso Perigoso Perigoso

NOTA T Txico I - Inflamvel R - Reativo C - Corrosivo P - Patognico

CDIGO DO RESDUO K001 K002 K003 K004 K005 K006 K007 K008 K009 K010 K011 K013 K014 K015 K016 K017 K018 K019 K020 K021 K022 K023 K024 K025 K026 K027 K028 K029 K030 K083 K085 K093 K094 K095 K096 K102 K103 K104 K105 K031 K032 K033 K034 K035 K036 K037 K038 K039 K040 K041

LISTAGEM N 2 - RESDUOS PERIGOSOS DE FONTES ESPECFICAS DESCRIO DO RESDUO Lodos de sedimentos de fundo do tratamento de guas residurias de processos de preservao de madeira que utilizam creosoto e/ou pentaclorofenol. Lodo de tratamento de guas residurias de produo de pigmentos laranja e amarelo de cromo. Lodo de tratamento de guas residurias de produo de pigmento laranja de molibdato. Lodo de tratamento de guas residurias de produo de pigmento amarelo de zinco. Lodo de tratamento de guas residurias de produo de pigmento verde de cromo. Lodo de tratamento de guas residurias de produo de pigmento verde de xido de cromo ( anidro e hidratado) Lodo de tratamento de guas residurias de pigmento azul de ferro. Resduos de fornos da produo de pigmento verde de xido de cromo. Resduos de fundo de destilao da produo de acetaldedo a partir do etileno. Fraes de destilao da produo de acetaldedo a partir do etileno. Corrente de fundo proveniente do stripper de resduos lquidos na produo de acrilonitrila. Sada de fundo da coluna de acetonitrila da produo de acrilonitrila. Resduo de fundo da coluna de purificao de acetonitrila da produo de acrilonitrila. Resduo de fundo de coluna de destiao de cloreto de benzila. Frao pesada ou resduos de destilao da produo de tetracloreto de carbono. Resduo de fundo de coluna de purificao na produo de epicloridrina. Resduo de frao pesada de coluna de fracionamento da produo de cloreto de etila. Frao pesada de destilao de dicloroetileno da produo dessa substncia. Frao pesada de destilao de cloreto de vinila da produo de monmero de cloreto de vinila. Resduo de catalisador aquoso de antimnio exaurido da produo de fluorometano. Resduo de fundo de destilao com alcatres de produo de fenol/acetona a partir de cumeno. Resduos leves de destilao da produo de anidro ftlico a partir do naftaleno. Resduo de fundo de destilao da produo de anidro ftlico a partir do naftaleno. Resduo de fundo de destilao da produo de nitrobenzeno pela nitrao do benzeno. Resduo de fundo de extrator da produo de metiletilpiridinas. Resduos de destilao e centrifugao da produo de tolueno diisocianato. Catalisador exausto do reator de hidroclorao da produo de 1,1,1 tricloroetano. Resduo do extrator a vapor da produo de 1,1,1-tricloroetano. Resduo de fundo de coluna ou frao pesada da produo combinada de tricloroetileno e percloroetileno. Fundo de destilao da produo de anilina. Fundos de coluna de destilao ou fracionamento da produo de clorobenzenos. Resduos leves de destilao da produo de anidro ftlico a partir do ortoxileno. Resduos de fundo de destilao de anidrido a partir do ortoxileno. Resduos de fundo de destilao da produo de 1,1,1- tricloroetano. Fundos de coluna de destilao da frao pesada da produo de 1,1,1- tricloroetano. Resduos de processo na extrao de anilina durante a sua produo. guas resdurias combinadas geradas na produo de nitrobenzeno/anilina. Efluente aquoso da limpeza do reator de produto na produo em bateladas de clorobenzeno
guas de lavagem da produo de clorobenzeno

CDIGO DE PERICULOSIDADE (T) (T) (T) (T) (T) (T) (T) (T) (T) (T) (R,T) (R,T) (T) (T) (T) (T) (T) (T) (T) (T) (T) (T) (T) (T) (T) (R,T) (T) (T) (T) (T) (T) (T) (T) (T) (T) (T) (T) (T) (T) (T) (T) (T) (T) (T) (T) (T) (T) (T) (T)
10

Subprodutos na forma de sais gerados na produo de MSMA e cido cacodlico. Lodo de estao de tratamento de guas residurias da produo de clordano. guas residurias e gua do lavdor de gases de clorao do ciclopentadieno da produo de clordano. Resduos slidos da filtrao de hexaclorociclopentadieno da produo de clordano. Lodos do tratamento das guas residurias geradas na produo de creosoto. Resduos do fundo do processo de recuperao do toluneo por destilao da produo de dissulfoton. Lodos do tratamento das guas residurias da produo de dissulfoton. guas residurias de lavagem e extrao da produo de phorate. Resduos de torta da filtrao de cido dietilfosforoditiico da produo de phorate. Lodo do tratamento das guas residurias da produo de phorate. Lodo do tratamento das guas residurias da produo de toxafeno.

K042 K043 K097 K098 K099 K044 K045 K046 K047 K048 K049 K050 K051 K052 K061 K062 K092 K209 K090 K091 K064 K065 K066 K067 K068 K069 K100 K071 K073 K074 K106 K078 K079 K081 K082 K086 K084 K101 K102 K203 K205 K060 K087 K206 K088 K200 K201 K202 K204

Fraes pesadas ou resduos de destilao do tetraclorobenzeno da produo de 2,4,5-T Resduo de 2,6-diclorofenol da produo de 2,4-D Descarga do extrator a vcuo do clorados de clordano feita durante a sua produo. guas residurias do processo, sem tratamento, da produo de toxafeno. guas residurias, sem tratamento, da produo de 2,4-D Lodos de tratamento de guas residurias da manufatura e processamentos de explosivos Carvo gasto no tratamento das guas residurias , que contm explosivos. Lodos de tratamento de guas residurias da manufatura, formulao e operaes de manuseio de compostos iniciadores base de chumbo. gua rosa/vermelha das operaes de TNT. Sobrenadante de separadores tipo DAF, nas indstrias de refino de petrleo. Slidos da emulso de leo residual da indstria de refinao de petrleo. Lodo da limpeza dos tubos dos trocadores de calor da indstria de refinao de petrleo. Lodos dos separadores de leo de industrias de refino de petrleo. Resduos que contm chumbo de fundo de tanque da indstria de refinao de petrleo. Lodo ou poeira do sistema de controle de emisso de gases da produo de ao primrio em fornos eltricos. Banho de decapagem exaurido das operaes de acabamento de ao. Lodo ou poeira do sistema de controle de emisso da produo de ferro-mangans. Poeira do sistema de controle de emisso de gases nos fonos Cubilot na fundio de ferro. Poeira do equipamento de controle de emisso ou lodo da produo de ferrocromosilcio. Poeira do equipamento de controle de emisso ou lodo da produo de ferrocromo. Lodos e lamas do espessamento do blow down cido na produo de cobre primrio. Slidos contidos em reservatrios de sistemas de tratamento de emisses de fundio de chumbo primrio ou retirados destes reservatrios. Lodos de tratamento de guas residurias ou do blow down cido na produo de zinco primrio. Lodos ou lamas calcrios de anodos eletrolticos da produo de zinco primrio. Resduo da unidade cdmio (xido de ferro) na produo de zinco primrio. Lodo ou poeira do sistema de controle de emisso de gases da fuso de chumbo secundrio. Soluo residual da lavagem cida do lodo ou poeira do sistema de controle de emisso de gases da fuso de chumbo secundrio. Lama da estao de tratamento dos efluentes do processo de produo de cloro em clula de mercrio. Resduos de hidrocarbonetos clorados da etapa de purificao do processo de clulas de diafragma usando anodos de grafita na produo de cloro. Lodos de tratamento de guas residurias a produo de pigmento de TiO2 ( dixido de titnio ) com minrios que contm cromo pelo processo de cloretos. Lodo de tratamento de guas residurias do processo de clulas de mercrio na produo de cloro. Resduo de limpeza com solvente na fabricao de tintas. Resduo de limpeza com gua ou materiais custicos na fabricao de tintas. Lodo de tratamento de guas residurias da produo de tintas. Lodo ou poeira de controle de emisses de gases da produo de tintas. Lodos e lavagens com solvente, lodos e lavagens alcalinas, ou lodos e lavagens aquosas da limpeza de tubulaes e equipamentos usados na formulao de tintas a partir de pigmentos, secantes, sabes e/o estabilizantes contendo cromo ou chumbo. Lodos do tratamento de guas residurias geradas durante a produo de produtos farmacuticos veterinrios a partir de compostos arsenicais ou organo-arsenicais. Resduos de fundo da destilao de compostos a base de anilina na obteno de produtos farmacuticos veterinrios de compostos arsenicais ou organo-arsenicais. Resduos do uso de carvo ativo para descolorao na produo de produtos veterinrios a base de arsnico e organo-arsenicais. Resduos dos laboratrios de pesquisas de doenas. Resduos de carvo ativo para descolorao na produo de compostos arsenicais ou organoarsenicais. Lodo calcrio que contm amnia do resduo de fundo das operaes de coqueificao . Lodo de alcatro do tanque de decantao utilizado no sistema de tratamento de gases de coqueria. Resduo da lavagem acida do benzeno, originrio da destilao do alcatro do coque. Catodos exauridos da reduo de alumnio primrio. Resduo do desmonte das cubas de reduo na produo de alumnio primrio. Resduos em geral Resduos oriundos do processamento de anlises Resduos dos laboratrios de pesquisas de doenas.

(T) (T) (T) (T) (T) (R) (R) (T) (R) (T) (T) (T) (T) (T) (T) (C,T) (T) (T) (T) (T) (T) (T) (T) (T) (T) (T) (T) (T) (T) (T) (T) (I,T) (T) (T) (T) (T) (T) (T) (T) (P) (T) (T) (T) (C,T) (T) (T) (P) (P) (P)
11

K207 K208 K001 K002 K003 K004 K005 K006 K007 K008 K009 K010 K011 K013 K014 K015 K016 K017 K018 K019 K020 K021 K022 K023 K024 K025 K026 K027 K028 K029 K030 K083 K085 K093 K094 K095 K096 K102 K103 K104 K105 K031 K032 K033 K034 K035 K036 K037 K038 K039 K040 K041 K042 K043 K097

Borra cida originada do re-refino de leos usados. Borra neutra do re-refino de leos usados. Lodos de sedimentos de fundo do tratamento de guas residurias de processos de preservao de madeira que utilizam creosoto e/ou pentaclorofenol. Lodo de tratamento de guas residurias de produo de pigmentos laranja e amarelo de cromo. Lodo de tratamento de guas residurias de produo de pigmento laranja de molibdato. Lodo de tratamento de guas residurias de produo de pigmento amarelo de zinco. Lodo de tratamento de guas residurias de produo de pigmento verde de cromo. Lodo de tratamento de guas residurias de produo de pigmento verde de xido de cromo ( anidro e hidratado) Lodo de tratamento de guas residurias de pigmento azul de ferro. Resduos de fornos da produo de pigmento verde de xido de cromo. Resduos de fundo de destilao da produo de acetaldedo a partir do etileno. Fraes de destilao da produo de acetaldedo a partir do etileno. Corrente de fundo proveniente do stripper de resduos lquidos na produo de acrilonitrila. Sada de fundo da coluna de acetonitrila da produo de acrilonitrila. Resduo de fundo da coluna de purificao de acetonitrila da produo de acrilonitrila. Resduo de fundo de coluna de destiao de cloreto de benzila. Frao pesada ou resduos de destilao da produo de tetracloreto de carbono. Resduo de fundo de coluna de purificao na produo de epicloridrina. Resduo de frao pesada de coluna de fracionamento da produo de cloreto de etila. Frao pesada de destilao de dicloroetileno da produo dessa substncia. Frao pesada de destilao de cloreto de vinila da produo de monmero de cloreto de vinila. Resduo de catalisador aquoso de antimnio exaurido da produo de fluorometano. Resduo de fundo de destilao com alcatres de produo de fenol/acetona a partir de cumeno. Resduos leves de destilao da produo de anidro ftlico a partir do naftaleno. Resduo de fundo de destilao da produo de anidro ftlico a partir do naftaleno. Resduo de fundo de destilao da produo de nitrobenzeno pela nitrao do benzeno. Resduo de fundo de extrator da produo de metiletilpiridinas. Resduos de destilao e centrifugao da produo de tolueno diisocianato. Catalisador exausto do reator de hidroclorao da produo de 1,1,1 tricloroetano. Resduo do extrator a vapor da produo de 1,1,1-tricloroetano. Resduo de fundo de coluna ou frao pesada da produo combinada de tricloroetileno e percloroetileno. Fundo de destilao da produo de anilina. Fundos de coluna de destilao ou fracionamento da produo de clorobenzenos. Resduos leves de destilao da produo de anidro ftlico a partir do ortoxileno. Resduos de fundo de destilao de anidrido a partir do ortoxileno. Resduos de fundo de destilao da produo de 1,1,1- tricloroetano. Fundos de coluna de destilao da frao pesada da produo de 1,1,1- tricloroetano. Resduos de processo na extrao de anilina durante a sua produo. guas resdurias combinadas geradas na produo de nitrobenzeno/anilina. Efluente aquoso da limpeza do reator de produto na produo em bateladas de clorobenzeno guas de lavagem da produo de clorobenzeno Subprodutos na forma de sais gerados na produo de MSMA e cido cacodlico. Lodo de estao de tratamento de guas residurias da produo de clordano. guas residurias e gua do lavdor de gases de clorao do ciclopentadieno da produo de clordano. Resduos slidos da filtrao de hexaclorociclopentadieno da produo de clordano. Lodos do tratamento das guas residurias geradas na produo de creosoto. Resduos do fundo do processo de recuperao do toluneo por destilao da produo de dissulfoton. Lodos do tratamento das guas residurias da produo de dissulfoton. guas residurias de lavagem e extrao da produo de phorate. Resduos de torta da filtrao de cido dietilfosforoditiico da produo de phorate. Lodo do tratamento das guas residurias da produo de phorate. Lodo do tratamento das guas residurias da produo de toxafeno. Fraes pesadas ou resduos de destilao do tetraclorobenzeno da produo de 2,4,5-T Resduo de 2,6-diclorofenol da produo de 2,4-D Descarga do extrator a vcuo do clorados de clordano feita durante a sua produo.

(C,T) (T) (T) (T) (T) (T) (T) (T) (T) (T) (T) (T) (R,T) (R,T) (T) (T) (T) (T) (T) (T) (T) (T) (T) (T) (T) (T) (T) (R,T) (T) (T) (T) (T) (T) (T) (T) (T) (T) (T) (T) (T) (T) (T) (T) (T) (T) (T) (T) (T) (T) (T) (T) (T) (T) (T)
12

K098 K099 K044 K045 K046 K047 K048 K049 K050 K051 K052 K061 K062 K092 K209 K090 K091 K064 K065 K066 K067 K068 K069 K100 K071 K073

guas residurias do processo, sem tratamento, da produo de toxafeno. guas residurias, sem tratamento, da produo de 2,4-D Lodos de tratamento de guas residurias da manufatura e processamentos de explosivos Carvo gasto no tratamento das guas residurias , que contm explosivos. Lodos de tratamento de guas residurias da manufatura, formulao e operaes de manuseio de compostos iniciadores base de chumbo. gua rosa/vermelha das operaes de TNT. Sobrenadante de separadores tipo DAF, nas indstrias de refino de petrleo. Slidos da emulso de leo residual da indstria de refinao de petrleo. Lodo da limpeza dos tubos dos trocadores de calor da indstria de refinao de petrleo. Lodos dos separadores de leo de industrias de refino de petrleo. Resduos que contm chumbo de fundo de tanque da indstria de refinao de petrleo. Lodo ou poeira do sistema de controle de emisso de gases da produo de ao primrio em fornos eltricos. Banho de decapagem exaurido das operaes de acabamento de ao. Lodo ou poeira do sistema de controle de emisso da produo de ferro-mangans. Poeira do sistema de controle de emisso de gases nos fonos Cubilot na fundio de ferro. Poeira do equipamento de controle de emisso ou lodo da produo de ferrocromosilcio. Poeira do equipamento de controle de emisso ou lodo da produo de ferrocromo. Lodos e lamas do espessamento do blow down cido na produo de cobre primrio. Slidos contidos em reservatrios de sistemas de tratamento de emisses de fundio de chumbo primrio ou retirados destes reservatrios. Lodos de tratamento de guas residurias ou do blow down cido na produo de zinco primrio. Lodos ou lamas calcrios de anodos eletrolticos da produo de zinco primrio. Resduo da unidade cdmio (xido de ferro) na produo de zinco primrio. Lodo ou poeira do sistema de controle de emisso de gases da fuso de chumbo secundrio. Soluo residual da lavagem cida do lodo ou poeira do sistema de controle de emisso de gases da fuso de chumbo secundrio. Lama da estao de tratamento dos efluentes do processo de produo de cloro em clula de mercrio. Resduos de hidrocarbonetos clorados da etapa de purificao do processo de clulas de diafragma usando anodos de grafita na produo de cloro.

(T) (T) (R) (R) (T) (R) (T) (T) (T) (T) (T) (T) (C,T) (T) (T) (T) (T) (T) (T) (T) (T) (T) (T) (T) (T) (T)

13

Item 3 CDIGO AS PARA ESTADO FSICO

CDIGO ESTADO FSICO DE RESDUOS Slido Pastoso ou semi-slido Lquido Gasoso

S P L G

Item 6 CDIGOS PARA ARMAZENAMENTO

CDIGO Z01 S01 Z11 S11 Z21 S21 Z31 S31 Z02 S02 Z12 S12 Z22 S22 Z32 S32 Z03 S03 Z13 S13 ARMAZENAMENTO tambor em piso impermevel, rea coberta tambor em piso impermevel, rea descoberta tambor em solo, rea coberta tambor em solo, rea descoberta a granel em piso impermevel, rea coberta a granel em piso impermevel, rea descoberta a granel em solo, rea coberta a granel em solo, rea descoberta caamba com cobertura caamba sem cobertura CDIGO Z04 S04 Z14 S14 Z05 S05 Z15 S15 Z25 S25 Z35 S35 Z09 S09 Z19 S19 Z08 S08 ARMAZENAMENTO tanque com bacia de conteno tanque sem bacia de conteno bombona em piso impermevel, rea coberta bombona em piso impermevel, rea descoberta bombona em solo, rea coberta bombona em solo, rea descoberta lagoa com impermeabilizao lagoa sem impermeabilizao outros sistemas (especificar)

Item 7 CDIGOS PARA DESTINAO

B01 B02 B03 B04 B05 B06 B20 B30 R01 R02 R03 R04 R05 R06 R07 R08 R09 R10 R11

Infiltrao no solo Aterro Municipal Aterro Industrial Prprio Aterro Industrial Terceiros Lixo Municipal Lixo Particular Rede de Esgoto Outras (especificar) Utilizao em forno industrial (exceto em fornos de cimento) Utilizao em caldeira Coprocessamento em fornos de cimento Formulao de "blend" de resduos Utilizao em formulao de micronutrientes Incorporao em solo agrcola Fertirrigao Rao animal Reprocessamento de solventes Re-refino de leo Reprocessamento de leo

T01 T02 T05 T06 T07 T08 T09 T10 T12 T13 T15 T16 T17 T18 T19 T34 R12 R13 R99

Incinerador Incinerador de Cmara Queima a cu aberto Detonao Oxidao de cianetos Encapsulamento/fixao qumica ou solidificao Oxidao qumica Precipitao Neutralizao Adsoro Tratamento biolgico Compostagem Secagem "Landfarming" Plasma trmico Outros tratamentos (especificar Sucateiros intermedirios Reutilizao/reciclagem/recuperao internas Outras formas dereutilizao/reciclagem/recuperao (especificar)

14