INSTITUTO FEDERAL DE EDUCAO, CINCIA E TECNOLOGIA DA BAHIA.

ELETRODEPOSIO DE COBRE SOBRE UMA LMINA DE ALUMNIO

Relatrio

realizado

pelos

discentes

..........da turma......., do curso de..........., Para a disciplina de ........., ministrada pela docente ................

Salvador,

Disciplina: Tcnicas Eletroanalticas II Prtica Professora: Ttulo da Experimental: Eletrodeposio de Cobre Data de Realizao da Experimental: Turma:

Equipe Tcnica:

Salvador, Dezembro de 2011

NDICE

Pg. I. Introduo............................................................................................................................

II.

Objetivo................................................................................................................................

III.

Procedimento Experimental..............................................................................................

IV.

Resultados e Discusso........................................................................................................

V.

Concluso.............................................................................................................................

VI.

Referncias Bibiogrficas...................................................................................................

I.

INTRODUO

Na anlise eletrogravimtrica o elemento a ser determinado depositado eletroliticamente sobre um eletrodo adequado. A eletrodeposio governada pela lei de Ohm e pelas duas leis de Faraday da eletrlise (1833-1834). As ltimas estabelecem o seguinte: i. As quantidades de substncias liberadas nos eletrodos de uma clula so diretamente proporcionais quantidade de eletricidade que passa atravs da soluo. ii. As quantidades de diferentes substncias que so depositadas, ou liberadas, pela mesma quantidade de eletricidade so proporcionais aos seus equivalentes qumicos. A lei de Ohm exprime as trs quantidades fundamentais: corrente fora eletromotriz e resistncia. A corrente i diretamente proporcional a fora eletromotriz E e inversamente proporcional a resistncia R. I = E/R A eletrodeposio uma reao eletroqumica em que o produto deposita sobre (ou em) um eletrodo. A eletrodeposio comumente realizada em uma clula eletroltica, que consiste essencialmente de dois eletrodos metlicos imersos na soluo. Na clula eletroltica uma f.e.m externa aplicada entre os eletrodos provoca uma reduo em um dos eletrodos, chamado ctodo, e uma oxidao no outro eletrodo chamado nodo. A eletrodeposio pode ocorrer sobre qualquer um dos eletrodos. A eletrodeposio serve de base para a determinao gravimtrica de metais. O mtodo conhecido como eletrogravimetria. A maioria das aplicaes da eletrogravimetria envolve a deposio do metal sobre um ctodo de platina. Os processos da anlise eletrogravimtrica so relativamente simples no precisam de calibrao e a exatido dos mesmos corresponde a erros relativos da ordem de 0,1% ou mesmo menores. Porm podem ocorrer reaes paralelas alm de se caracterizar como um mtodo relativamente demorado. As tcnicas da eletrogravimetria podem ser classificadas em duas categorias: a) A eletrogravimetria comum, em que a f.e.m aplicada clula ou a corrrente que passa atravs da clula so mantidas constantes durante a eletrlise; b) A eletrogravimetria com potencial eletrdico controlado, em que o potencial do eletrodo de trabalho (geralmente o ctodo) mantido constante.

A eletrogravimetria comum, sob qualquer uma das modalidades como pode ser praticada se recente da falta de especificidade; em geral, a espcie interessada deve ser o nico componente presente na soluo, mas facilmente redutvel do que o on hidrognio nas condies da eletrlise. No obstante esta limitao, a eletrogravimetria comum encontra muitas aplicaes importantes. O advento da tcnica baseada na eletrlise com potencial eletrdico controlado ampliou notavelmente as possibilidades da eletrogravimetria e a utilizao das separaes eletrolticas na anlise qumica. Em contrapartida, o equipamento requerido mais complexo o usado na eletrogravimetria comum. Este mtodo fundamenta-se pela quantidade de analito presente na amostra sendo este determinado em funo da massa depositada sobre um dos eletrodos aps a sua total eletrlise. Esta clula eletroltica, por um potencial externo, gera um fluxo de ons em soluo, ctions (positivos) e nions (negativos), sendo que cada um destes ons so dirigidos aos seus eletrodos contrrios s suas cargas em ambientes cidos propcios. Este procedimento necessrio formao de um depsito oriundo de uma eletrolise, sobre um eletrodo com a massa aferida antes e aps o processo, onde a quantidade de material depositado proporcional a corrente aplicada ao sistema. Este tipo de anlise pode ser de potencial controlado (potenciosttico) ou de corrente controlada, onde uma excitao em um sistema estimula uma resposta. As clulas eletrolticas diferem bem das clulas galvnicas. Estas clulas podem ser definidas como: 1 Clula ou Cela Galvnica: So dispositivos capazes de gerarem uma corrente eltrica entre dois eletrodos, como resultado de reaes de oxi-reduo. 2 Clula ou Cela eletroltica. So dispositivos nos quais a aplicao de uma fora eletromotriz externa (fem), (um potencial externo) provoca um fluxo de ons dentro da soluo, com os ons positivos (os ctions) se dirigindo para o plo negativo (eletrodo negativo), o ctodo; e os ons negativos (os nions) se dirigindo para o plo positivo (eletrodo positivo), o nodo. Como consequncia ocorre a decomposio das espcies inicas na soluo, num processo conhecido como eletrlise. Na figura 1 mostrada uma clula eletroltica que pode ser utilizada para a dosagem do Cd
2+

em uma soluo.

Fig. 1: Clula eletroltica com eletrodos de prata (nodo) e de cdmio (ctodo), que pode ser utilizada para a dosagem de cdmio em solues.

O eletrodo de referncia um eletrodo de Ag/AgCl(s), cujo potencial permanece praticamente constante durante todo o processo analtico, e o eletrodo indicador, aqui chamado de eletrodo de trabalho, um eletrodo de cdmio, o catodo, onde ocorre a reduo do Cd 2+ a Cdo e o metal depositado sobre o eletrodo, que tem peso conhecido e, aps a deposio, novamente pesado, permitindo assim a determinao do Cd 2+, presente na soluo. As semi-reaes envolvidas e seus respectivos potenciais padro seriam:

AgCl (s) e

Ag(s) Cl E 0 0,222volts, (eq.1);

Cd 2 2e

Cd (s) E 0 0,403volts (eq.2).

Obtemos a equao da reao de reduo do Cd 2+ invertendo a semi-reao (1), multiplicando-a por dois e ento somando, membro a membro as duas equaes. O valor negativo (-0,734volts) indica que o processo no espontneo, que a tendncia seria a oxidao do Cd(s) e no sua reduo. Para que ocorra tal reduo devemos aplicar um potencial mais negativo que -0,734volts, digamos -0,764volts (O clculo deste valor ser mostrado mais tarde). Desta maneira haver a deposio do Cdo sobre o catodo e evoluo de Cl2 no anodo. Conforme j foi citado, a eletrlise um processo onde os componentes de uma soluo so decompostos em conseqncia da passagem de uma corrente eltrica atravs da soluo. Na soluo vo ocorrer reaes chamadas de reaes eletrdicas. No eletrodo ligado ao plo negativo do gerador externo e identificado como catodo, iro ocorrer reaes de reduo,

(reaes com o ganho de eltrons) enquanto no eletrodo ligado ao plo positivo, identificado como anodo, iro ocorrer reaes de oxidao, (reaes com a perda de eltrons). evidente a presena de ons H+ e OH nas solues, por se tratarem, na maioria das vezes, de solues aquosas. Assim, se o on metlico tiver potencial padro de reduo, E o, menor que o do hidrognio, ao qual foi arbitrariamente atribudo o valor zero (0), quem sofrer a reduo no catodo ser o on H+, ocorrendo evoluo de H2 neste eletrodo, mas se o potencial padro do elemento for maior que o do hidrognio, ser depositado o metal, correspondente ao on, sobre o catodo. Nas reaes andicas, que so reaes de oxidao, devemos considerar o estado de oxidao do nion. Se o mesmo estiver em seu maior estado de oxidao haver a oxidao do on hidroxila, com a evoluo de oxignio neste eletrodo.

II.

OBJETIVOS

a) Depositar cobre em alumnio com controle de tempo. b) Estimar a magnitude da corrente eltrica durante a eletrodeposio admitindo que a massa experimental de cobre depositado no eletrodo se aproxime da massa terica.

III.

PARTE EXPERIMENTAL

Amostras e Reagentes cido clordrico 150mL/L Soluo cida de cobre II (CuSO4 250g/L, H2SO4 50g/L) Soluo desengraxante (NaOH
6g/L e 35g/L,

Qtd. -

NaCO3 25g/L, Na3PO4.H2O

Lauril sulfato de sdio 1 g/L ) e Qtd.

gua destilada Materiais Equipamento Balana analtica Fonte de corrente Lixa 400 Termmetro Placa de cobre Placa de alumnio Vidrarias Vidro de relgio Bquer Proveta graduada Metodologia: 250 mL 10 mL 1 1 1 1 1 1 Capacidade Qtd. 1 3 1

1. Preparou-se a superfcie de trabalho lixando com lixa 400. 2. Pesou-se posteriormente a placa de alumnio. 3. Efetuou-se o desengraxe alcalino com a seguinte soluo a uma temperatura de 80 minutos: Hidrxido de sdio (NaOH) 35g/L Carbonato de sdio (NaCO3) 25g/L Fosfato trisdico (Na3PO4.H2O) 6g/L Lauril sulfato de sdio 1 g/L 4. Efetuou-se decapagem com cido clordrico 150mL/L por 30 segundos. por 2

5. Realizou-se a eletrlise em soluo cida de cobre II (CuSO 4 250g/L, H2SO4 50g/L) a temperatura ambiente e sob agitao. 6. Pesou-se o eletrodo.

IV.

RESULTADOS E DISCUSSO

A reao ocorrida na prtica foi a descrita abaixo: Cu0 (S) Cu 2+(aq) + 2e- para o eletrodo de cobre (ctodo) Cu 2+(aq) + 2e- Cu0 (S) para o eletrodo de Al (nodo). Desta forma observa-se que a reao ocorrida processa-se de modo a promover a transferncia de uma massa de cobre do eletrodo de alumnio. O fluxo de eltrons tambm segue a mesma lgica, visto que o cobre, ao perder eltrons no catodo, passa soluo em forma de Cu2+ e seus eltrons so conduzidos pelo circuito eltrico em direo ao anodo, onde o cobre presente na soluo reduz-se a cobre metlico que se deposita sobre o anodo. Verifica-se, portanto a presena de uma eletrolise, pois sob situao de presena de ponte salina e sem aplicao de potencial, a tendncia seria inversa. Porm a aplicao de potencial fora a remoo de eltrons do cobre e passagem para o ctodo que provoca a reduo da espcie com maior potencial de reduo do meio (Cu2+ E0 = 0,337). Admitindo-se as massas abaixo listadas, e que o tempo de deposio foi de 7 minutos, podemos calcular a corrente, sabendo-se da relao de faraday, em que Q = nFm/MM, e que i = Q/t, assim podemos observar que as correntes utilizadas foram respectivamente 1,32 A, 1,94 A, 3,22 A e 3,64 A. Tabela 1: Massas observadas antes e aps a eletrodeposio do Cu0 na lmina de Al0. Equipe 1 Equipe 2 Equipe 3 Eletrodeposio com pilha Massa Inicial (g) Massa Final (g) Massa (g) Depositada 3,7631 4,1294 0,3663 1,3156 2,8520 0,5364 1,0241 1,9147 0,8906 0,1764 1,1841 1,0077

Sugere-se ligao de um ampermetro ou multmetro para averiguar a corrente e assim podermos calcular o rendimento de corrente, visto que no havia informao nem controle da corrente aplicada.

Observou-se tambm, que a massa maior de depositado ocorreu na deposio com pilha. Isso se deve a dois fatores: um relaciona-se com o procedimento utilizado semelhante a equipe 3,

com todos os passos corretos e o segundo fator relaciona-se com a corrente (i) fornecido pela pilha. As diferenas entre as equipes podem ser devidas, a falta de decapagem na equipe 1, o que liberou menos superfcie livre para a ocorrncia da reao. Na equipe 2, deve-se a pesagem ter ocorrido antes dos procedimentos finais que removeram mais massa da placa, afetando a massa final, dando a sensao de menor deposio. Assim podemos observar que a seqncia dos procedimentos realizados pode afetar significativamente no resultado analtico.

V.

CONCLUSO

Atravs do experimento realizado, foi possvel notar a formao de um depsito eletricamente, baseando-se nas Leis de Faraday, sobre um eletrodo com massa aferida antes e aps do procedimento, onde a quantidade de material depositado foi proporcional a corrente aplicada ao sistema; dessa forma, depositou-se uma amostra de cobre (formato em barra) em alumnio (formato laminar) com controle de tempo.

VI.

REFERNCIAS BIBLIOGRFICAS

1. SKOOG,

A.

Douglas; WEST,

M.

Donald;

HOLLER, F. James;

CROUCH,

R.

Stanley_Fundamentos de Qumica Analtica_Cengage Learning_So Paulo_8 ed_2009. 2. OHLWEILER, O. A., Qumica Analtica Quantitativa. 3 ed. Rio de Janeiro: LTC Livros Tcnicos e Cientficos S. A., 1981, v.

3. JAMES, E. Brady; GERARD E. Humiston; Qumica Geral, volume 2 - 2 ed. Rio de Janeiro: LTC,2008.