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ABNTAssociao Brasileira de
Normas Tcnicas
Printed in Brazil/
Impresso no Brasil
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www.abnt.org.br
ABNT-Associao
Brasileira de
Normas Tcnicas
Tecnologia grfica - Controle de
processo - Preparao de chapas
offset
Palavras-chave: Tecnologia grfica. Impresso. Controle de
processo
17 pginas
Origem: NM-ISO 12218:1999
ABNT/ONS-27 - Organismo de Normalizao Setorial de Tecnologia Grfica
NBR NM-ISO 12218 - Graphic technology - Process control - Offset
platemaking
Descriptors: Graphic technology. Printing. Process control
Esta Norma cancela e substitui a NBR 14078:1998
Vlida a partir de 31.08.2000
NBR NM-ISO 12218 JUL 2000
Sumrio
Prefcio nacional
Prefcio regional
Introduo
1 Objetivo
2 Referncias normativas
3 Definies
4 Requisitos
5 Mtodos de prova
Anexo A (normativo)
Anexo B (informativo)
Anexo C (informativo)
Anexo D (informativo)
Anexo E (informativo)
Anexo F (informativo)
Prefcio nacional
A ABNT - Associao Brasileira de Normas Tcnicas - o Frum Nacional de Normalizao. As Normas Brasileiras,
cujo contedo de responsabilidade dos Comits Brasileiros (ABNT/CB) e dos Organismos de Normalizao Setorial
(ABNT/ONS), so elaboradas por Comisses de Estudo (CE), formadas por representantes dos setores envolvidos,
deles fazendo parte: produtores, consumidores e neutros (universidades, laboratrios e outros).
O Projeto de Norma MERCOSUL, elaborado no mbito do CSM 18 - Comit Setorial MERCOSUL de Tecnologia
Grfica, circulou para Consulta Pblica entre os associados da ABNT e demais interessados sob o nmero
18:00-ISO 12218.
A ABNT adotou, por solicitao do seu ABNT/ONS-27 - Organismo de Normalizao Setorial de Tecnologia Grfica, a
norma MERCOSUL NM-ISO 12218:1999.
Esta Norma cancela e substitui a NBR 14078:1998.
Cpia no autorizada
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NBR NM-ISO 12218:2000
A correspondncia entre as normas listadas na seo 2 Referncias normativas a as Normas Brasileiras a
seguinte:
NM-ISO 12647-1:1999 NBR NM-ISO 12647-1:2000 - Tecnologia grfica - Controle do processo de separao
de cores, prova e impresso - Parte 1: Parmetros de processo e mtodos de
ensaio
Prefcio regional
O CMN - Comit MERCOSUL de Normalizao - tem por objetivo promover e adotar as aes para a harmonizao e
a elaborao das Normas no mbito do Mercado Comum do Sul - MERCOSUL, e integrado pelos Organismos
Nacionais de Normalizao dos pases membros.
O CMN desenvolve sua atividade de normalizao por meio dos CSM - Comits Setoriais MERCOSUL - criados para
campos de ao claramente definidos.
Os Projetos de Norma MERCOSUL, elaborados no mbito dos CSM, circulam para votao nacional por intermdio dos
Organismos Nacionais de Normalizao dos pases membros.
A homologao como Norma MERCOSUL por parte do Comit MERCOSUL de Normalizao requer a aprovao por
consenso de seus membros.
Introduo
Durante a produo de uma chapa de impresso em offset, um material bsico revestido com uma camada sensvel
radiao fotoqumica ativa. A chapa considerada como pr-sensibilizada se produzida por um fabricante de cha-
pas. A camada sensvel radiao pode ser tanto de ao positiva (para filmes positivos) como de ao negativa (para
filmes negativos). Algumas chapas offset podem ser usadas como chapas conversveis junto com material negativo.
Durante a preparao da frma de impresso em offset, as informaes analgicas so transferidas de um filme re-
ticulado para uma chapa atravs do contato e da exposio radiao, onde a camada da chapa sensibilizada. Alter-
nativamente, as chapas offset podem ser expostas usando projeo ptica de cpia de reflexo ou transmisso ou
por tcnicas diretas de reproduo. Enquanto os processos alternativos no so cobertos por esta Norma, muitos dos
princpios podem ser aplicados por analogia.
Antes da etapa de exposio, o lado da camada do filme reticulado colocado em contato com a camada sensvel da
chapa, normalmente com a utilizao de vcuo. A radiao usada para a etapa de exposio pode conter um com-
ponente difuso e um unidirecional.
O benefcio da radiao difusa que bordas de filme, arranhes e partculas de poeira no so transferidos para a
chapa. Entretanto, necessrio ter cuidado porque a radiao difusa acentua falhas associadas s reas onde filme
e chapa no esto em contato ou onde o contato baixo.
Durante a etapa de exposio, a expanso ptica da chapa e o componente difuso da radiao causam reduo na
largura dos detalhes finos, ento os elementos de imagem ficam algo menores que a imagem original no filme. Com
chapas negativas, o mesmo fenmeno fsico resulta em um pequeno aumento nos detalhes finos em relao ao
original.
Aps a etapa de exposio, mas antes da revelao, a camada sensvel normalmente apresenta uma diferena de cor
entre as reas expostas e no expostas.
A revelao de uma chapa offset consiste na remoo da camada sensvel das reas de contragrafismo. Essas reas
so as reas expostas de uma chapa positiva e as reas no expostas de uma chapa negativa.
A qualidade da preparao da frma depende basicamente dos seguintes parmetros:
- condies da etapa de exposio, especialmente das condies de vcuo;
- composio qumica e temperatura do revelador;
- condies dos rolos e escovas;
- velocidade de processamento (tempo de revelao);
- condies de acabamento.
Depois da revelao, o contraste das cores entre as reas de grafismo e contragrafismo normalmente bem maior.
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Em seguida, pode ser feita a correo e aplicao da goma na chapa. A chapa offset torna-se ento uma frma offset
pronta para a impresso. Durante a correo, elementos de imagem so apagados (correo negativa) ou adicionados
(correo positiva).
Aps a correo, costuma-se aplicar uma fina camada de goma (soluo coloidal) sobre o lado da imagem da chapa,
que serve para proteger e prevenir alteraes durante a operao de impresso. Aps a exposio, um tratamento de
termoendurecimento pode ser aplicado, para aumentar a durabilidade da camada da chapa ao desgaste qumico e
mecnico.
Determinao da exposio ideal para chapas offset positivas: Existem trs consideraes importantes:
a) a exposio deve ser suficientemente intensa, para que as bordas do filme e partculas de poeira no
apaream na frma de impresso;
b) a exposio no deve ser to intensa a ponto de no prejudicar a transferncia dos pontos das reas de altas
luzes;
c) uma vez que a exposio tambm determina o valor tonal, que muito importante no controle de processo, a
diminuio do ponto de retcula do filme para a chapa deve ficar dentro de um nvel especificado, independente do
tipo de chapa e das condies de processamento.
Para retculas com freqncia de 70 cm
-1
ou menos, possvel considerar a) e b) em uma nica exposio. A
exposio usada pode ser mais intensa que aquela que resultaria na melhor resoluo possvel (mas onde detalhes
como poeira e bordas de filme tambm poderiam aparecer). A considerao c) pode ser aplicada observando-se uma
leitura de microlinhas adequada.
Para retculas muito finas, com elementos de imagem menores que 25 mm, as consideraes a) e b) podem no ser
obtidas com uma nica exposio. Nesse caso, executa-se uma primeira exposio com a melhor resoluo possvel
ou um pouco acima. Durante a segunda etapa de exposio, as reas de grafismo so protegidas por uma mscara,
e uma exposio maior remove todos os traos de poeira, bordas de filme e adesivos.
Para as chapas positivas, verificou-se que podem ser usados alvos de microlinhas para definir uma faixa de
exposio que assegure uma diminuio reproduzvel dos pontos de retcula na transferncia do filme reticulado para
a frma de impresso. Nessa faixa, a diminuio do ponto do filme reticulado para a frma de impresso uma funo
linear da leitura de microlinhas; a funo depende da resoluo de preparao da chapa. Para uma determinada
chapa, sob determinadas condies de exposio e processsamento, o grfico da leitura de microlinhas positivas em
funo do logaritmo da exposio caracteriza a dependncia do valor tonal com a exposio. A inclinao da curva
uma indicao da variao do ponto em funo da variao da exposio. Assim, uma inclinao mais acentuada
indica uma latitude menor que uma inclinao menos acentuada.
Os alvos de microlinhas usados para o controle do processo de preparao da frma contm um determinado
nmero de subalvos com linhas de largura graduada, variando de poucos micra a vrias dezenas de micra. Diferentes
dos alvos usados na prova de resoluo na rea fotogrfica, os alvos de microlinhas apresentam relaes de linha-
espao diversas de 1:1. As relaes mais comuns so de 1:9, 3:5 e 1:4. Dentro da faixa de exposio normal, a leitura
de microlinhas depende pouco da relao entre linha e espao. importante lembrar que a leitura de microlinhas
depende do nvel de definio entre as microlinhas. O seu alvo no consideravelmente mais elevado que qualquer
outra parte na tira de filme de controle. Como alternativa diviso em subalvos com alvos com largura de linha
constante, pode-se tambm empregar um nico alvo de microlinhas com larguras de linha de variao constante.
Como podem haver efeitos direcionais, tanto durante a preparao da chapa como no seu processamento,
interessante tirar a mdia das leituras feitas em ngulos retos ou usar microlinhas circulares. importante notar que
as leituras de microlinhas relacionam-se sempre largura das microlinhas no filme, e no (desconhecida) largura
na frma de impresso.
Determinao da exposio de chapas offset negativas: Existem trs consideraes importantes:
a) a exposio deve ser intensa o suficiente para alcanar uma tiragem suficiente e segura;
b) a exposio no pode ser to intensa a ponto de causar um excessivo ganho de ponto na transferncia do filme
reticulado para a frma de impresso, ou causar tambm uma perda dos detalhes nas reas de sombra;
c) o aumento do valor tonal do filme reticulado para a frma de impresso deve ter um nvel especificado.
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NBR NM-ISO 12218:2000
Como o primeiro critrio determinante, as exposies de chapas negativas seguem, normalmente, as recomendaes
do fabricante, expressa atravs da leitura de uma escala de gris em tom-contnuo. Uma vez que a exposio ideal
tenha sido estabelecida, podem ser usadas tiras de controle para uma monitorao adicional da consistncia das
exposies subseqentes. Elas no podem ser usadas como determinante principal da exposio.
Alguns usurios empregam exposies menos intensas que as recomendaes do fabricante, com o objetivo de
obter a reproduo tonal desejada em sistemas de processamento automtico com chapas que tenham camada
resistente a longas tiragens e que requerem uma revelao mais agressiva.
Em algumas chapas, a resistncia a altas tiragens pode ser aumentada atravs de uma ps-exposio ou tratamento
termoendurecedor. Nesses casos, o fabricante pode recomendar uma exposio menos intensa, acompanhada de
uma ps exposio ou de um tratamento termoendurecedor, para aumentar a vida til da chapa. Isto resulta em um au-
mento do valor tonal menor que no outro caso.
Alm do emprego na definio da exposio de chapas negativas, a escala de gris em tom-contnuo tambm pode ser
usada para auxiliar no controle da revelao. Normalmente, usada para verificar a camada da chapa; isto caracteriza
a reao da camada sensvel da chapa quantidade de radiao transmitida sob determinadas condies de pro-
cessamento. Uma mudana na reproduo da escala de gris indica mudanas nas condies de processamento ou
na camada sensvel.
1 Objetivo
Esta Norma define a terminologia unificada, os mtodos de prova e os requisitos para o controle do processo de
preparao de chapas offset.
Esta Norma:
- Aplica-se s chapas de metal pr-sensibilizadas;
- Aplica-se exposio de contato, seja em prensa de cpia, mquinas copiadoras repetidoras ou processadoras
automticas;
- No se aplica projeo ou a tcnicas de cpia direta, apesar dos princpios poderem ser aplicados por ana-
logia;
- No se aplica a retculas estocsticas, apesar das especificaes poderem ser aplicadas por analogia.
2 Referncias Normativas
As seguintes Normas contm disposies que, ao serem citadas neste texto, constituem requisitos desta Norma
MERCOSUL. As edies indicadas estavam em vigncia no momento desta publicao. Como toda Norma est sujeita
a reviso, se recomenda, queles que realizam acordos com base nesta Norma, que analisem a convenincia de usar
as edies mais recentes das Normas citadas a seguir. Os organismos membros do MERCOSUL possuem
informaes sobre as Normas em vigncia no momento.
NM-ISO 12647-1:1999 - Tecnologia Grfica - Controle do processo de separao de cores, prova e impresso -
Parte 1: Parmetros de processo e mtodos de ensaio
ISO 5-3:1995 - Photography - Density measurements. - Part 3: Spectral conditions
3 Definies
Para os efeitos desta Norma, aplicam-se as seguintes definies:
NOTA - Para fins de quantificao, a unidade preferida sempre mencionada junto com a definio.
3.1 termoendurecimento da camada: Tratamento trmico para aumentar a durabilidade da camada sensvel da chapa
contra ataques qumicos e desgaste mecnico.
3.2 etapa de exposio por contato: Etapa do processo onde uma chapa offset exposta em contato ntimo com um
filme reticulado.
NOTA - Geralmente utiliza-se uma prensa de cpia com vcuo para se obter um contato ntimo.
3.3 escala de gris: Disposio linear de reas de controle de tons contnuos cujas densidades de transmitncia esto
escalonadas em incrementos de 0,15 ou 0,30.
3.4 rea de controle: rea produzida para fins de controle ou medio. (ISO 12647-1).
3.5 tira de controle: Disposio unidimensional de reas de controle (ISO 12647-1).
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3.6 densidade central (em um filme reticulado): Densidade de transmisso do centro de um elemento de imagem
opaco, como um ponto ou linha. Unidade: 1 (ISO 12647-1).
3.7 exposio: Produto da irradiao e da durao da radiao fotoqumica ativa durante a etapa de exposio do
processo. Unidade: J/m
2
.
NOTA - No lugar da radiao fotoqumica ativa pode ser usada qualquer medida de energia total depositada, uma vez que a cor-
respondncia seja estabelecida.
3.8 latitude de exposio: Gama de exposies que produzem resultados aceitveis. Unidade: 1.
3.9 etapa de exposio: Etapa do processo onde uma chapa offset exposta radiao fotoqumica ativa com um filme
reticulado.
3.10 polaridade do filme (positiva ou negativa): Positiva, se as reas transparentes e opacas correspondem s reas
de contragrafismo e grafismo, respectivamente. Negativa, se as reas transparentes e opacas correspondem s
reas de grafismo, respectivamente e contragrafismo, respectivamente.
NOTA - Adaptado da ISO 12647-1.
3.11 largura do halo do ponto (de um elemento de imagem opaco): Distncia mdia entre as linhas de contorno do
ponto de retcula correspondentes a 10% e 90% da densidade central mnima especificada para o processo de im-
presso considerado. Unidade: m.
NOTA - Adaptado da ISO 12647-1.
3.12 filme reticulado: Filmes utilizados em processos de impresso reticulada, mostrando elementos de imagem como
pontos ou linhas (ISO 12647-1).
3.13 leitura de microlinhas: Sob determinadas condies, transferncia de microlinhas positivas ou negativas do
filme para a chapa de modo que pelo menos 50% da longitude dessas microlinhas sejam claramente visveis na
chapa offset. A leitura positiva de microlinhas refere-se s microlinhas positivas (linhas opacas sobre base transparente),
enquanto a leitura negativa de microlinhas refere-se s microlinhas negativas (linhas transparentes sobre base
opaca) conforme elas aparecem na frma de impresso em offset. Unidade: m.
3.14 alvo de microlinhas: rea de controle que contm finas linhas positivas e negativas com larguras diversas mas
acuradamente definidas, e que esto dispostas em um modo visual de fcil leitura.
3.15 chapa negativa: Chapa de impresso em offset, para uso com filmes negativos (ISO 12647-2).
3.16 frma de impresso em offset: Frma para impresso em offset onde as reas de grafismo aceitam tinta e as
reas de contragrafismo no aceitam tinta.
NOTA - Uma chapa offset se transforma em uma frma de impresso em offset por meio das etapas de exposio, gravao e ps-
tratamento.
3.17 chapa offset: Pea plana cuja superfcie foi revestida de maneira que se possa produzir uma frma de impresso
em offset (ISO 12647-2).
3.18 fenmeno "falha de contato": Transferncia insuficiente de elementos de imagem de um filme reticulado para uma
chapa offset, como resultado de um contato inadequado entre eles.
NOTA - A falha de contato pode ser causada por um objeto mecnico ou por uma bolha de ar.
3.19 preparao de chapas, preparao da frma de impresso em offset: Etapas do processo onde uma frma de
impresso em offset preparada a partir de uma chapa offset.
3.20 gradao: Medida da sensibilidade da camada sensvel da chapa offset exposio. Unidade: 1.
3.21 resoluo na preparao de chapas: Leitura da menor microlinha positiva e negativa que obtida em uma nica
exposio. Unidade: m.
NOTAS
1 No confundir com poder de resoluo, um termo usado em fotografia.
2 s vezes referido como boa resoluo.
3.22 chapa positiva: Chapa offset para cpia com filme reticulado positivo (ISO 12647-2).
3.23 chapa offset pr-sensibilizada: Chapa offset cuja superfcie revestida pelo fabricante com camada sensvel
radiao.
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NBR NM-ISO 12218:2000
3.24 fator de refletncia, R: Razo entre o fluxo refletido por uma amostra e o fluxo refletido por um material padro com
reflexo e difuso perfeitas. Unidade: 1. (ISO 5-4).
3.25 densidade de reflexo: Logaritmo em base 10 do recproco do fator de refletncia. Unidade: 1.
3.26 lineatura, freqncia de retcula: Freqncia espacial da distribuio dos elementos de imagem, tais como
pontos ou linhas, por unidade de longitude, na direo em que produzem o maior valor. Unidade: cm
-1
.
3.27 resoluo da retcula: Recproco lineatura. Unidade: cm. (ISO 12647-1).
3.28 mquina copiadora repetidora: Equipamento para executar etapas automatizadas de exposio de contato em
uma chapa offset.
3.29 valor tonal; rea de ponto (em uma impresso ou frma de impresso), A: Porcentagem da superfcie coberta
por uma nica cor (se forem ignorados a difuso de luz e outros fenmenos pticos). Calculado por meio da frmula:
onde:
D
0
a densidade do fator de refletncia do suporte de impresso no impresso, ou as partes de contragrafismo
da frma de impresso;
D
s
a densidade de refletncia da rea slida;
D
t
a densidade do fator de refletncia do reticulado.
Unidade: Porcento.
NOTAS
1 Adaptado da ISO 12647-1.
2 Tambm conhecido como aparente, equivalente ou rea total de ponto.
3 O sinnimo rea de pontos pode ser aplicado somente para retculas produzidas por padres de pontos.
4 Esta definio pode ser usada para uma aproximao do valor tonal sobre certas matrizes de impresso.
5 Geralmente assume-se que o valor tonal (denominado valor de tinta na ISO 12640) dos dados so reproduzidos identicamente no
filme produzido por uma image setter. Os filmes finais devem reproduzir esses valores tonais.
3.30 valor tonal, rea de ponto (em um filme reticulado positivo), A: Porcentagem calculada pela seguinte frmula:
100 x
10 - 1
10 - 1
= (%) A
) - ( -
) - -(
0 s
0 t
D D
D D
Onde:
D
0
a densidade de transmitncia da base do filme;
D
s
a densidade de transmitncia da rea slida;
D
t
a densidade de transmitncia do reticulado.
Unidade: Porcento.
NOTAS
1 Adaptado da ISO 12647-1.
2 Tambm conhecido como rea de pontos em uma impresso reticulada.
3.31 valor tonal; rea de ponto (em um filme reticulado negativo), A: Porcentagem calculada pela seguinte frmula:

[ ]
A(%)
)
=
100 - 100 x (1 - 10
1 - 10
-( )
-( )
D - D
D - D
t 0
s 0
onde:
D
0
a densidade de transmitncia da base do filme;
100 x
10 - 1
10 - 1
= (%) A
) - ( -
) - -(
0 s
0 t
D D
D D
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D
s
a densidade de transmitncia da rea slida;
D
t
a densidade de transmitncia do reticulado.
Unidade: Porcento.
NOTAS
1 Adaptado da ISO 12647-1.
2 Tambm conhecido por rea de pontos em impresso reticulada.
3.32 densidade de transmitncia (ptica); densidade de transmisso: Logaritmo em base 10 do recproco do fator de
transmitncia T. Unidade: 1.
3.33 fator de transmitncia, T: Razo entre o fluxo luminoso transmitido atravs de uma abertura coberta por uma
amostra e o fluxo luminoso transmitido sem a amostra. Unidade: 1.
3.34 prensa de vcuo; prensa de cpia; prensa de exposio: Equipamento a vcuo operado manualmente onde so
executadas as etapas de contato e exposio.
4 Requisitos
4.1 Qualidade do filme de separao de cores
Salvo especificao, a densidade central do ponto deve estar pelo menos 2,5 acima da densidade de transmitncia da
rea transparente do filme (base do filme mais velatura). A densidade de transmitncia nas reas transparentes entre
pontos no deve estar mais de 0,1 acima do valor correspondente de uma ampla rea da base do filme. A densidade
de transmitncia da base do filme no pode ser maior que 0,15. As medies devem ser realizadas com um densitmetro
de transmisso (UV) cujos produtos espectrais estejam conforme a densidade de impresso ISO tipo 1 definida em
ISO 5-3.
A largura do halo do ponto no pode ser maior que 1/40 do tamanho do ponto. O ponto de retcula no pode ser separado
em partes distintas e a qualidade do filme de separao de cores deve ser avaliada conforme o especificado em A.1.
NOTAS
1 Os requisitos densidade da rea transparente do filme baseiam-se no seguinte:
- que a diferena de densidade das reas transparentes de todos os filmes a serem expostos sobre uma chapa offset no exceda
0,1;
- que 0,05 representa o menor valor encontrado com maior freqncia para a densidade de impresso ISO tipo 1. Para minimizar o
impacto do uso de filmes reticulados com as densidades das bases do filme acima dessa faixa, so necessrios acordos entre o
fornecedor de separao de cores e o usurio. Pode-se usar tambm os recursos de contato ou duplicao para que filmes
reticulados com densidades da base do filme diferentes sejam compatibilizados.
2 Como referencial prtico, pode-se dizer que quando a densidade de amplas reas chapadas de mais de 3,5 acima da densidade
da rea transparente do filme, obtm-se normalmente uma densidade do ncleo do ponto de retcula 2,5 acima da densidade da rea
transparente do filme.
3 Se um usurio deseja usar um filtro azul para medies da densidade de transmitncia, preciso determinar, para o tipo de filme e
as condies de processamento em questo, a correlao entre as densidades obtidas com o filtro azul e as obtidas com um
instrumento de densidade de impresso ISO tipo 1.
4.2 reas de controle
As etapas do processo de preparao de chapas devem ser monitoradas expondo-se pelo menos uma tira de controle
ao longo do trabalho sobre a chapa offset. A tira de controle deve conter reas de controle reticuladas bem definidas,
com indicao de valores tonais variando de 1%. O ponto de retcula deve ter matriz estrutural circular. A lineatura deve
ser constante, e deve ser selecionada entre 50 cm
-1
e 70 cm
-1
. A densidade de ncleo no deve ser menor que 3,0 acima
da densidade de transmitncia da rea transparente do filme (base do filme mais velatura), a largura da borda no pode
ser maior que 2 m, conforme definido pelo equipamento descrito em A.2 do anexo A.
Para as chapas positivas, a ferramenta primria do controle de exposio um alvo de microlinhas. Ele deve ser exposto
junto com o trabalho, e ao mesmo tempo deve ser exposta tambm uma escala de gris. Para as chapas negativas, a
ferramenta primria do controle de exposio uma escala de gris. Ela deve ser exposta junto com o trabalho, e ao
mesmo tempo, pode ser exposto tambm um alvo de microlinhas. A relao linha - espao dos alvos de microlinhas
pode ser selecionada entre 1:9 e 1:2, e deve ser constante por todos os alvos. A escala de gris deve ter um incremento
de 0,15 ou menos.
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4.3 Seleo da exposio
4.3.1 Chapas positivas
O processo de preparao de chapas dever ser controlado de modo que os valores tonais das reas de controle de 40%
ou 50% na frma de impresso em offset, pronta para impresso mas ainda no entintada, sejam menores que os
valores correspondentes aos das reas de controle no filme da tira de controle, conforme os valores mostrados na tabe-
la 1. Os valores tonais na frma de impresso em offset e no filme da tira de controle devem ser determinados pelos
mtodos indicados em 5.1 e 5.2, respectivamente. No lugar do mtodo de referncia descrito em 5.1, pode-se usar um
mtodo secundrio, desde que os resultados obtidos possam ser diretamente relacionados aos do mtodo de
referncia.
NOTA - Mtodos secundrios esto descritos nos anexos B e C.
Tabela 1 - Diminuio do valor tonal na passagem do filme reticulado para a
frma de impresso
Lineatura
1)

cm
-1
rea de controle 40% rea de controle 50%
% %
50 2,5 a 3,5 3,0 a 4,0
60 3,0 a 4,0 3,5 a 5,0
70 3,5 a 4,5 4,5 a 6,0
4.3.2 Chapas negativas
No h requisitos. A exposio deve ser selecionada conforme as recomendaes do fabricante da chapa. Comparando-
se com a exposio ideal recomendada pelo fabricante, a exposio efetivamente usada no pode ser mais fraca que
um campo de 0,15 de densidade, conforme mostrado por uma escala de gris. Se o fabricante recomendar uma faixa
de exposies para chapas que podem ser expostas, a exposio real no pode ser menor que o limite inferior da faixa
em mais de um campo de densidade de 0,15.
NOTA - Com essas condies, o aumento do valor tonal na passagem do filme reticulado para a frma de impresso em offset fica
usualmente dentro das faixas mostradas na tabela 2 (apenas para informao). Sob as condies mencionadas no penltimo
pargrafo da introduo, o ganho de ponto pode ser levemente menor.
Tabela 2 - Aumento do valor tonal do filme reticulado para a frma de impresso
(apenas para informao)
4.4 Limites de reproduo
Os pontos de retcula com mais de 25 m de dimetro no filme da tira de controle devem ser transferidos para a frma
de impresso em offset de modo uniforme e consistente. Para a mesma frma, tambm os pontos reticulados negativos
(pontos transparentes) com mais de 25 m de dimetro no filme da tira de controle devem ser transferidos para a frma
de impresso em offset de modo uniforme e consistente.
5 Mtodos de ensaio
5.1 Valor tonal em uma frma de impresso em offset - Mtodo de referncia
Com o auxlio de um micrmetro padro, calibrar para a determinao da rea ou do dimetro:
- um microanalisador de sonda de eltrons, ou
- um microscpio de varredura de eltrons, ou
- uma combinao de microscpio-analisador de imagem de videocmera.
Diminuio do valor tonal
1)
Nessa faixa, a mudana do valor tonal proporcional lineatura.
Aumento do ponto de retcula
1)
Nessa faixa, a mudana do valor tonal proporcional lineatura.
Lineatura
1)

cm
-1
rea de controle 40% rea de controle 50%
% %
50 2,5 a 3,5 3,0 a 4,0
60 3,0 a 4,0 3,5 a 5,0
70 3,5 a 4,5 4,5 a 6,0
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Determinar a rea ocupada por um nico ponto reticulado na chapa offset. Calcular o ponto de retcula dividindo a rea
mdia coberta por um nico ponto pelo quadrado da largura de retcula. Medir e tirar a mdia de tantos pontos de
retcula quantos necessrios para uma preciso de 0,5%.
5.2 Valor tonal de uma rea de controle de retcula em uma tira de controle
Usando um densitmetro de transmisso conforme a norma ISO 5-2, determinar as densidades de transmitncia do
material de base do filme D
0
, a rea slida, D
s
, e uma rea bem definida de retcula, D
t
. Calcular o ponto de retcula a
partir da definio pertinente, que est em 3.30 para os filmes positivos e em 3.31 para os filmes negativos.
Para se alcanar uma preciso suficiente, a abertura de amostragem do instrumento deve ter pelo menos um dimetro
de 15 vezes a largura de retcula, e no deve ser menor que 10 vezes essa largura. Esse requisito aplica-se tambm,
por analogia, rea das aberturas de amostragem no circulares.
/ANEXO A
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Anexo A (normativo)
Determinao dos parmetros da qualidade de pontos de retcula de um filme reticulado
A.1 Este mtodo deve ser empregado apenas para os filmes de retcula cuja densidade de transmitncia de base do
filme ISO Status T (azul) seja de 0,06 ou menos. Outros tipos de filme devem ser aprovados pelo mtodo A.2 ou por
qualquer outro mtodo comprovadamente equivalente ao A.2. Colocar uma tira de controle com um alvo de microlinhas
e com o lado da emulso do filme para cima sobre uma mesa iluminada, e cobri-la com o filme a ser avaliado, esse
ltimo com o lado da emulso do filme para baixo. Com um microscpio manual de ampliao entre 60 e 100 vezes,
observar os pontos de retcula opacos isolados que so encontrados nas partes do filme de retcula, positivo ou
negativo, que aparecem mais transparentes. Se as microlinhas forem claramente visveis sob os pontos de retcula, a
densidade de ncleo estar muito baixa. A largura da borda pode ser estimada, comparando-a com a largura das
microlinhas que est indicada no alvo de microlinhas. O filme de separao de cores deve ser iluminado por baixo por
luz com ngulos de incidncia oblquos, uma condio conhecida como iluminao de fundo escuro. Com alguma
experincia, a conformidade dos pontos de retcula em relao a uma largura mxima de borda especificada poder
ser predita com bastante preciso.
A.2 Este um mtodo quantitativo que usa um microdensitmetro de varredura. Este um instrumento no qual, por
exemplo, o estgio de iluminao de um microscpio de transmisso est equipado de modo a permitir a formao
de uma abertura com um dimetro ajustvel de 3 m ou menos no centro do plano do objeto. O filme pode ser movido
de modo controlado tanto na direo x como na direo y do plano do objeto. Conforme o deslocamento do filme, a
intensidade de luz transmitida pelo filme medida com um fotodetector que foi calibrado segundo a densidade do fator
de transmitncia. Os dados podem ser apresentados graficamente tanto sob a matriz de um perfil da densidade
atravs de um ponto de retcula, como pelo desenho de linhas de contorno que unem pontos de densidade igual (ver
ISO 12647-1). Para os filmes de retcula com densidade de transmitncia de base do filme ISO Status T (azul) acima
de 0,06, a sensibilidade do fotodetector poder ficar restrita faixa de 280 nm 30 nm.
/ANEXO B
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Anexo B (informativo)
Mtodo de ensaio secundrio para chapas positivas:
Valores tonais em uma frma de impresso em offset - microlinhas
B.1 Ensaio da etapa de exposio
Um ensaio usado na etapa de exposio para determinar o valor de certas caractersticas, como a resoluo a
preparao de chapas, a exposio recomendada das microlinhas e a latitude de exposio.
Executar uma srie de etapas individuais de exposio de magnitude graduada sob condies constantes (isso inclui
a revelao e o acabamento) sobre uma nica chapa offset. A exposio mnima dever ser escolhida de modo que a
camada sensvel da chapa no fique totalmente revelvel, e a exposio mxima deve estar acima da faixa usada
efetivamente na preparao de chapas. Recomenda-se escalar as exposies em progresso geomtrica, por exemplo,
com 10, 14, 20, 28, 40, 56, 80 unidades de exposio, etc., ou 10, 20, 40, 80 unidades de exposio, etc. Avaliar ento a
frma de impresso em offset pronta para impresso mas ainda no entintada.
B.2 Determinao da resoluo na preparao de chapas
Executar uma prova na etapa de exposio de contato conforme B.1 com um alvo de microlinhas em um filme. Deve-se
se assegurar que existe contato entre o lado da emulso do filme de retcula e a camada sensvel luz na chapa offset.
No pode haver bolhas de ar, sujeira ou partculas aderidas entre eles. Com a ajuda de um conta-fio de 5 a 30 vezes,
determinar ento as leituras de microlinhas positivas e negativas em um alvo de microlinhas sobre a frma de
impresso em offset pronta para a impresso mas ainda no entintada. A leitura de microlinhas a mnima largura de
microlinhas positivas ou negativas no filme reticulado, que transfere pelo menos 50% da longitude das microlinhas
claramente visveis na matriz de impresso em offset. A leitura das microlinhas positivas se refere s microlinhas
positivas (linhas opacas sobre base transparente) e a leitura das microlinhas negativas se refere s microlinhas
negativas (linhas transparentes sobre base opaca), como aparecem na frma de impresso em offset.
Plotar as leituras de microlinhas em funo do logaritmo decimal da exposio. Caso for verificado que as leituras de
microlinhas dependem da orientao das microlinhas, tirar a mdia das orientaes que esto em ngulo reto entre
si. Desenhar duas curvas suaves que representem da melhor maneira as leituras positiva e negativa. A figura B.1 um
exemplo. A partir da plotagem, determinar a leitura de microlinhas que corresponde ao ponto de cruzamento entre as
duas curvas. Essa a resoluo de preparao da chapa. Quando da indicao de um valor, preciso citar a relao
linha/espao das microlinhas.
A preciso da determinao pode ser aumentada repetindo-se a prova vrias vezes, e plotando ento as mdias das
leituras de microlinhas positivas e negativas.
Para uma determinao aproximada, ser suficiente a seleo visual da imagem da chapa, onde as leituras de
microlinhas positivas e negativas coincidem, anotando-se ento a largura das microlinhas correspondentes no filme
da tira de controle.
NOTA - O eixo vertical mostra uma escala linear; o eixo horizontal mostra uma escala logartmica.
Figura B.1 - Chapas de ao positiva: Dependncia de leituras de microlinhas positivas e negativas na exposio
Exposio em unidades arbitrrias
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B.3 Leitura de microlinhas que produz a diminuio do valor tonal especificada na tabela 1
Observao das leituras de microlinhas dadas na tabela B.1 que produzem as redues de ponto de retcula dadas na
tabela 1.
NOTAS
1 As faixas de leitura de microlinhas indicadas na tabela B.1 esto baseadas em numerosas medies de valores tonais de frma de
impresso em offset usando-se o mtodo 5.1 com uma combinao microscpio-analisador de imagem de videocmera.
2 A resoluo de preparao da maioria das chapas positivas est abaixo de 8 m.
Tabela B.1 - Faixas de leituras de microlinhas positivas
Resoluo de fabricao da chapa at 8 > 8 a 12
Faixa de leitura de microlinhas 12 a 15 15 a 20
B.4 Determinao da latitude de exposio correspondente a determinada faixa de leitura de microlinhas
Executar uma prova de exposio conforme o descrito em B.2. Em seguida, plotar apenas a leitura de microlinhas
positivas para chapas positivas e a leitura de microlinhas negativas para chapas negativas. Desenhar uma curva
suave que represente bem os pontos no grfico. Determinar a inclinao mdia m da curva na rea usada para a
preparao prtica de chapas, e express-la em micras por dcadas de exposio.
Determinar
L = 10
a/m
onde:
L a latitude de exposio;
a a largura da faixa de leitura de microlinhas;
m a inclinao mdia.
Exemplo:
Ver a figura B.2. Supor que a faixa recomendada para leituras de microlinhas seja de 12 m a 15 m como mostrado na
tabela B.1, assim a = 3 m. A inclinao da curva de 18 m para a dcada de 6 a 60 unidades de exposio. Isso faz
com que L = 1,47. Se a leitura de microlinhas tiver que ficar dentro de uma margem de 3 m, a relao entre a ex-
posio mxima e a mnima no pode ultrapassar 1,47.
Caso se deseje trabalhar dentro da faixa de leitura de microlinhas, a relao entre a exposio mxima e mnima no
pode exceder o valor de L. Isso aplicvel igualmente s variaes de intensidade de radiao na chapa ou s
variaes de durao da exposio.
Valores em m
a Largura da variao da leitura de microlinha
m Variao do ngulo
NOTA - O eixo vertical mostra uma escala linear; o eixo horizontal mostra uma escala logartmica.
Figura B. 2 - Chapas positivas: Exemplo para a determinao da latitude de exposio
Exposio em unidades arbitrrias
/ANEXO C
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Anexo C (informativo)
Mtodo secundrio de ensaio: Valores tonais em uma frma de impresso em offset - Densitometria
Este o mtodo menos preciso e menos confivel. Ele s pode ser utilizado sob as seguintes condies:
- em uma frma de impresso que fornea um bom contraste entre as reas de grafismo e contragrafismo da
superfcie;
- no haver variaes de densidade tanto nas reas de grafismo como nas reas de contragrafismo da superfcie;
- o densitmetro dever ser de alta preciso com trs casas decimais.
Usar um densitmetro de reflexo para medir, em uma mesma frma, as densidades do fator de refletncia da rea
de contragrafismo, de uma rea de controle slida e de uma rea de controle de reticulado. Para resultados confiveis,
medir imediatamente aps a revelao e secagem, isto , antes de uma intensa exposio luz do dia. Usar o ajuste
de resposta espectral do densitmetro que resulte na mais elevada densidade para a rea de controle da rea slida.
Se a leitura do densitmetro depender da direo, tirar a mdia de pelo menos 10 medies, sendo que a metade das
medies deve ser feita com o densitmetro paralelo ao lado da pina, e metade com o densitmetro perpendicular a
essa direo. Medir as densidades do fator de refletncia da rea de contragrafismo, de uma rea de reticulado bem
definida e de uma praticamente slida. Calcular o valor tonal da rea de controle reticulada conforme a definio em
3.29.
Para se alcanar uma preciso suficiente, a abertura de amostragem do instrumento deve ter pelo menos um dimetro
de 15 vezes a largura de retcula, e no deve ser menor que dez vezes essa largura. Esse requisito aplica-se tambm,
por analogia, rea das aberturas de amostragem no-circulares.
Os valores tonais assim medidos devem ser relacionados com os obtidos com o mtodo primrio descrito em 5.1,
devendo-se ento definir uma tabela de converso. Devem ser considerados apenas os valores tonais que possam
ser relacionados aos obtidos com o mtodo descrito em 5.1.
/ANEXO D
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Expor uma escala de gris sobre uma chapa com o lado da base do filme em contato com a chapa. Com um densitmetro
de reflexo, medir as densidades do fator de refletncia D dos campos de tonalidade contnua na frma de impresso
em offset pronta para a impresso mas ainda no entintada. Designar a densidade de reflexo mnima encontrada
como D
min
e a mxima como D
mx
. Plotar a quantidade:
(D - D
min
)/D
mx
em funo da correspondente densidade de transmitncia da escala de gris. A figura D.1 mostra um exemplo para
uma chapa positiva. O grfico para uma chapa negativa seria similar mas invertido. Desenhar uma curva suave que
represente os pontos dos dados. Determinar os pontos na curva com as ordenadas 0,1 e 0,9 e anotar a diferena entre
as correspondentes densidades de transmitncia. Dividir essa diferena por 0,15, o resultado ser a gradao de
preparao de chapa. Esse valor indica aproximadamente o nmero de campos intermedirios entre o campo livre
mais alto e o campo coberto mais baixo, conforme o lido em uma escala de gris com incremento de 0,15.
NOTA - A gradao da confeco da frma pode ser visualmente estimada pelo nmero de campos notados em incrementos de 0,15
que esto separadamente discriminados na frma de impresso pelo campo sem densidade ou uma leve velatura, ao campo mostrando
o slido.
Anexo D (informativo)
Mtodo de ensaio: Gradao na preparao de chapas
Densidade de transmitncia do filme
Logaritmo de exposio
Figura D.1 - Exemplo de um diagrama mostrando a determinao da gradao de preparao da frma, chapa
positiva
/ANEXO E
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Anexo E (Informativo)
Fatores que podem afetar a transferncia do valor tonal de um filme reticulado para uma frma de impresso
E.1 Geral
Enquanto a configurao da camada sensvel bsica determina a resposta sensitomtrica da chapa, muitos outros
fatores devem ser mantidos sob controle para assegurar uma transferncia consistente e previsvel do ponto de
retcula durante a preparao de chapas offset. Para aumentar a vida til das chapas, os fabricantes melhoraram as
camadas sensveis das chapas, tornando a reproduo da tonalidade mais consistente e facilitando a aplicao do
vcuo. Todavia, sem um controle adequado, o usurio no alcanar as especificaes de desempenho dadas pelo
fabricante. A seguir, as condies necessrias para:
- a prensa de cpia ou da mquina copiadora-repetidora;
- a lmpada de exposio, incluindo refletor;
- a processadora de chapa, mecnica e qumica.
so brevemente analisadas.
E.2 Prensa de cpia, mquina copiadora-repetidora
A eficincia na aplicao do vcuo o fator mais importante a influenciar a transferncia do ponto de retcula. Um vcuo
inadequado ou ineficiente causar uma transferncia inconsistente do ponto de retcula. Assim, a condio de vcuo
deve ser controlada para que o tempo de aplicao do vcuo seja ideal. Geralmente, quanto maior a lineatura, maiores
sero os tempos de aplicao necessrios.
A eficincia do vcuo pode ser influenciada por:
- Um ou dois estgios de vcuo;
- As condies das vedaes;
- O material da superfcie da camada da chapa;
- As mangueiras de vcuo;
- A bomba de vcuo;
- A manta (tipo rolo, lmina, lmina segmentada);
- O vidro da prensa.
E.2.1 Avaliao visual da eficincia do vcuo
Colocar um filme positivo com ponto de retcula de 40% e com uma lineatura de no mnimo 70 cm
-1
em contato com
uma chapa offset. Durante a formao do vcuo e sob luz ambiente, observar o movimento do padro de moir gerado
pela retcula do filme e sua sombra sobre a chapa. Anotar o tempo requerido para que o padro de moir desaparea e
a superfcie fique uniforme. Esse o tempo mnimo de aplicao para esse tipo de chapa sob condies efetivas de
vcuo. Se forem observadas anomalias, as condies da prensa de cpia devem ser corrigidas antes de uma nova
avaliao.
E.3 Lmpada de exposio, incluindo refletor
A lmpada de exposio de uma prensa de cpia deve ser posicionada de modo a resultar uma iluminao uniforme e
com um satisfatrio nvel de radiao unidirecional. Para se obter uma formao de imagem ideal em curto tempo de
exposio, deve-se usar uma fonte de radiao cuja emisso espectral coincida com a faixa de sensibilidade da
emulso.
E.3.1 Determinao da uniformidade da iluminao
Usar um medidor de luz ou raios UV com escala linear para medir a intensidade em, por exemplo, 5 pontos que
caracterizem a rea da prensa de cpia que usada para a exposio da chapa. A relao entre a maior e a menor
leitura no pode exceder a latitude de exposio determinada com o mtodo de prova indicado no anexo B. Para as
mquinas copiadoras-repetidoras, deve-se usar medidores de radiao com geometria especial. Como uma alternativa
bem menos precisa, a intensidade da iluminao poder ser avaliada por meio da exposio de tiras de controle
sobre uma chapa offset, avaliando-se ento as microlinhas ou escalas de grises. A uniformidade da iluminao pode
ser melhorada pela limpeza do refletor, pela substituio da lmpada, nivelamento e distncia da fonte luminosa.
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E.4 Processadora de chapa
Controlar se as condies da processadora esto conforme as recomendaes do fabricante. As condies de rolos
e escovas e a presso dos rolos podem ter efeitos adversos sobre a transferncia do ponto de retcula. Inspecionar a
operao das sees de revelao, lavagem e acabamento.
preciso controlar com regularidade as condies dos lquidos de revelao e acabamento. Esses lquidos devem
ser completados ou trocados nos intervalos recomendados pelo fabricante, o mesmo valendo tambm para os filtros.
Se houver alguma dvida, por exemplo, na mudana do valor da gradao na preparao da chapa (anexo D), as
chapas podem ser processadas manualmente e seus resultados podem ser comparados com os obtidos na
processadora.
/ANEXO F
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Anexo F (informativo)
Bibliografia
ISO 5-2:1991 - Photography - Density measurements - Part 2: Geometric conditions for transmission density
ISO 5-4:1995 - Photography - Density measurements - Part 4: Geometric conditions for reflection density
ISO 12640: 1997 - Graphic technology - Prepress digital data exchange - CMYK standard colour image data (CMYK/
SCID)
ISO 12467-2:1966 - Graphic Technology - Process control for the manufacture of half-tone colour separations, proof and
production prints - Part 2: Offset processes
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