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Conception, fabrication et tests de fluxmtres

thermiques 1D performants raliss partir de


dpts couches minces

Boussad AZEROU, Bertrand GARNIER, Julien LAUNAY, Abdeljalil LAHMAR

Laboratoire de Thermocintique, UMR CNRS 6607, Ecole polytechnique de lUniversit de Nantes
La chantrerie, BP 50609, 44306 Nantes, France

Rsum En insrant un rseau de microthermocouples au sein de parois et en utilisant les techniques
inverses, on peut raliser des mesures peu biaises de flux de chaleur. Il sagit ici de remplacer le
rseau de thermocouples filaires par un rseau de thermo-rsistances dposs sur un substrat souple et
fin. Lintrt est notamment une moindre perturbation due la plus faible paisseur de llment
thermosensible (typiquement autour du m) ainsi quune bien meilleure connaissance des distances
entre les diffrents capteurs de temprature dans le fluxmtre, celles-ci tant dfinies avec prcision
dans le masque ralis lors du procd dlaboration du dpt. Ce travail prsente ainsi la conception,
la ralisation de ces nouveaux capteurs base de couches minces ainsi que la comparaison de leurs
performances avec celles des fluxmtres plus classiques rseau de thermocouples filaires.

Nomenclature

e Epaisseur du dpt, m
T Temprature, K
R Rsistance lectrique. du dpt,
E Tension de dsquilibre, V
U Tension dalimentation, V
Densit de flux de chaleur, W.m
-2
I Intensit du courant lectrique, A
coefficient de temprature, K
-1
h Coefficient dchange convectif, W.m
-2.
K
-1

1. Introduction

Les fluxmtres thermiques sont trs utiles pour la comprhension et le contrle des
phnomnes thermiques coupls ou non dautres processus physiques, chimiques ou
mcaniques. Pour rduire les biais de mesure, le fluxmtre doit tre judicieusement conu de
manire assurer une mesure non biaise des grandeurs thermiques recherches (temprature,
flux de chaleur) tout en assurant la meilleure sensibilit possible.
Le flux de chaleur peut tre mesur par des mthodes directes. Il existe ainsi des fluxmtres
gradient normal, gradient tangentiel, dissipation lectrique ou enthalpique [1] Cependant,
trs souvent ces capteurs sont placs sur la surface et perturbent plus ou moins les transferts
de chaleur. Dans les cas les plus difficiles mais trs courant de rgime instationnaire et de
transfert dans des parois mtalliques, il existe un type de fluxmtre conu spcialement pour
minimiser les biais induits par sa prsence [2]. Il sagit de fluxmtre constitu de 2 demi-
coquilles ralises dans le mme matriau que celui de la paroi. Un rseau de thermocouple
filaire est install dans le plan de coupe diffrentes distances de la paroi et les volutions de
temprature sont utilises pour estimer les flux laide de techniques inverses classiques
telles que spcification de fonction ou autres [3, 4, 5]. Comme le plan de coupe est alors
parallle la direction du flux de chaleur, il perturbe trs peu la diffusion de la chaleur
notamment pour des transferts 1D perpendiculaire la paroi. Un certain nombre de travaux
existe dans la littrature propos de ce fluxmtre, ils concernent autant sa conception que son
utilisation dans diverses situations [6]
Lobjectif de notre travail est la conception et la ralisation dun nouveau type de capteur
fluxmtrique base de dpt couche mince afin dobtenir des mesures encore moins biaises.
En effet dans les fluxmtres filaires, compte tenu de la taille des thermocouples autour de
50m, il y a une certaine imprcision au niveau de la localisation de la soudure fils/paroi
mtallique. Il en rsulte une incertitude denviron une vingtaine de m pour la distance entre
2 thermocouples filaires. Avec des procds couches minces, lincertitude entre la position
des thermorsistances est inferieure 5 m, elle est fixe lors de la fabrication des masques
do une probable amlioration de la mesure de flux.
Dans ce travail, on prsente la conception et la fabrication du fluxmtre couches minces
et par la suite les tests de comparaison avec un fluxmtre plus classique thermocouples
filaires.
2. Conception et fabrication du fluxmtre base couches minces
Le nouveau capteur fluxmtrique a t ralis partir dun dpt couche mince en cuivre
tam, ralis sur un substrat souple de polyimide, des procds de photolithographie ayant
t utiliss pour obtenir un rseau de capteurs de thermo-rsistances. On a choisi de raliser
des thermo-rsistances au lieu de thermocouples car les premiers ne ncessitent quun seul
dpt et dautre part on peut ajuster sa sensibilit en changeant lintensit du courant les
traversant.
La premire tape visant la ralisation dun capteur fluxmtrique est la cration dun
masque servant de support au dpt de cuivre. Ce masque a ensuite t imprim en ngatif par
flashage sur un film transparent, solution permettant une rsolution spatiale de 1 3 m
(fig.1).





A partir du film trac, les couches minces de cuivre tam de 9 m dpaisseur ont t
ralises sur un substrat souple en polyimide et dpaisseur 25 m. La ralisation du motif
lectrique par photolithographie a comport les tapes suivantes :
1) insolation de la rsine photo sensible travers le masque ralis
2) enlvement de la rsine non rticule laide dun produit dveloppeur
3) attaque chimique du cuivre laiss apparent.
Un tamage trs fin ltain permet dviter loxydation future des dpts de cuivre.
Llment thermo-rsistif central a une longueur de 20 mm et une largeur de 30 m (figure 2).
Du point de vue lectrique, les thermo-rsistances sont insres dans des ponts de
Wheatstone constitus de rsistances pures en contact avec un changeur de chaleur qui
permet de les maintenir temprature constante (16 C).




Figure 1 : Masque et rseau de thermo-rsistances pour le nouveau fluxmtre couche minces
Figure 2 : Motif lectrique
des thermo-rsistances
r
2
R

A B
30m
20mm
r
1
19 mm 20 mm 19 mm 2 mm 2 mm
15 mm
30m
3. Etalonnage des capteurs
Ltalonnage des diffrentes thermo-rsistances (TR) sur un mme fluxmtre a t ralis
dans une tuve en rgime permanent et ceci pour 5 tempratures entre 16 et 46 C. La tension
dalimentation U a t garde la mme durant ltalonnage (U 46,0 mV). Le dsquilibre
de tension E du pont de chaque TR a t mesur par le systme dacquisition de tensions
(Nat. Instrum+ amplis ANS G = 1000, f
c
=10 Hz). La grandeur E/U est une fonction
linaire de la temprature dtalonnage: / . Les rsultats obtenus pour les
differents capteurs sont prsents dans le tableau 1. La sensibilit moyenne des capteurs est de
26,15 V/C, soit plus faible quun thermocouple massif de type K. Le coefficient de
temprature moyen de la rsistivit lectrique du cuivre tam est alors de = 1,82 10
-3
K
-1
,
soit infrieure celle du cuivre massif (3,93 10
-3
K
-1
).








4. Calcul de leffet Joule et de lauto-chauffement parasite
Le passage dun courant lectrique dans les thermo-rsistances entraine un certain auto
chauffement par effet Joule et par suite une augmentation de temprature ce qui cre des
biais de mesure. Les chauffements induits au niveau des thermo-rsistances centraux ont t
obtenus par des simulations numriques en considrant une seule thermo-rsistance (fig. 4).
Ainsi, le couplage entre les champs lectrique et thermique au sein de la couche mince
mtallique a t modlis par lments finis avec le logiciel Comsol (version 3.4), en utilisant
lapproximation de couches minces pour le dpt. La figure 4 montre un schma simplifi du
modle lectrothermique dvelopp, qui prend en compte un seul capteur thermo rsistif
(dpt couches minces de cuivre) muni au milieu dune rsistance R et de deux autres
rsistances r
1
et r
2
en srie avec R le tout plac sur un film de polyimide (p. 25 m) puis sur
un bloc en acier inoxydable (p.15 mm). Ltude paramtrique, a t ralise en variant le
courant lectrique entre 1 et 100 mA par lintermdiaire de la tension dalimentation (U).
La figure 5 prsente leffet Joule et les tempratures moyenne et maximale dans llment
thermorsistif central travers par des courants variables entre 1 et 100 mA. Le courant tant
typiquement de 19,8 mA, on en dduit dans nos essais des auto-chauffements infrieurs
0,06 C.
TR n a.10
4
(K
-1
) b .10
3
(K
-1
)
TR
1
5,88261 0,12957 1,86207
TR
2
5,64105 0,08215 1,78561
TR
3
5,70095 0,09286 1,80457
TR
4
5,81561 0,10537 1,84086
20 30 40 50
0,09
0,10
0,11
0,12
0,13
0,14
0,15
0,16

E

/

U
Temprature (C)
Tr(1)
Tr(2)
Tr(3)
Tr(4)
Figure 3 : Etalonnage des capteurs
Tableau 1 : Etalonnage de 4thermorsistances
au sein du fluxmtre
0 20 40 60 80 100
0,0
0,2
0,4
0,6
0,8
1,0
1,2
1,4
1,6
-2
0
2
4
6
8
10
12
14
T
moy
-T
E
,C
T
max
-T
E
,C
E
c
h
a
u
f
f
e
m
e
n
t
,

C
Courant, mA
Effet J oule, mW

E
f
f
e
t

j
o
u
l
e
,

m
W



5. Dispositif de test pour la comparaison des performances des capteurs
Un montage symtrique comportant une chaufferette mince Minco, avec de part et dautre
des pices en aluminium dpaisseur 3 mm (pour homogniser le flux) puis des pices en
acier inoxydable dpaisseur 15 mm et instrumentes de thermocouples filaires (type K, diam.
50 m) et de thermo-rsistances couches minces a t ralis afin de comparer les
performances des deux types de fluxmtres thermocouples filaires et couches minces.
Comme le montre la figure 6, les deux types de capteurs sont installs sur la partie suprieure
de montage.
En appliquant la tension aux bornes du rchauffeur Minco, la chaleur se dissipe
symtriquement de part et dautre de celui-ci (1 2 % prs). Les diffrents lments du
dispositif sont spars par une couche de graisse conductrice afin de favoriser le transfert de
chaleur et limiter les sources de dissymtrie.
Il est noter que les parties haute et basse du dispositif sont maintenues temprature
constante laide dchangeur aliment par un bain thermostat.











Figure 4 : modle lectrothermique tudi
Figure 5 : auto-chauffement et effet Joule
Figure 6 : Dispositif exprimental
Soudures
Thermocouples
Plaque daluminium
homognisante
Film chauffant
Fluxmtre
thermocouples
filaires
Thermocouples
Fluxmtre
couches minces
changeur
(Parois adiabatiques)

Polyimide
Acier inoxydable
r
1
r
2
R

Dpt de
cuivre
75 mm
15 mm
15 mm
h=0
T=0
0 25 50 75 100 125 150 175 200
15,0
17,5
20,0
22,5
25,0
27,5
TR
2
TR
4
TR
3
T
e
m
p

r
a
t
u
r
e

(

C
)
Temps (s)
TR
1
0 25 50 75 100 125 150 175 200
15,0
17,5
20,0
22,5
25,0
27,5
TH
4
TH
3
TH
2
TH
1
T
e
m
p

r
a
t
u
r
e

(

C
)
Temps (s)
6. Rsultats exprimentaux et discussion

Lvolution de la densit de flux de chaleur a t estime en se basant sur les releves
de temprature donnes par les deux types de capteurs fluxmtriques, base de thermo-
rsistances (TR) et base de thermocouples filaires (TH), au moyen dune technique inverse.
La mthode destimation de la densit de flux utilise est base sur le concept de spcification
de fonction et de pas de temps futur [3], le choix de cet algorithme squentiel est justifi par
sa facilit de mise en uvre.
Les figures 7 et 8 prsentent les relevs de temprature et de flux obtenus par les
fluxmtres thermo-rsistances et thermocouples, suite lapplication dun flux de chaleur
impos avec une tension de chauffage de U
ch
= 20 volts et ceci pour une dure de 100s
(frquence dchantillonnage: 50 Hz). Les volutions en temprature et en flux sont
similaires. Les tableaux 2 et 3 prsentent des valeurs chiffres concernant le flux de chaleur et
les tempratures obtenus avec les 2 fluxmtres. Il apparat ainsi que les carts entre flux
dissip lectriquement et flux mesur sont plus faibles avec le fluxmtre thermo-rsistances
en couches minces (carts entre 2 et 3%) quavec le fluxmtre thermocouples (carts entre
6 et 9%). Par ailleurs les carts types sur la temprature et le flux restent sensiblement
identiques pour les 2 type de fluxmtres do des bruits de mesure similaires.













Figure 7 : Tempratures mesures par les thermo-rsistances (TR) et les thermocouples (TH)













Figure 8 : Densits de flux estimes par les fluxmtres thermo-rsistances (TR) et thermocouples
(TH), suite lapplication dun double chelon de flux (dure : 100 s ; U
ch
= 20 Volts)
TH z (mm)
TH
1
0,5945
TH
2
2,577
TH
3
6,607
TH
4
12,587
TR z (mm)
TR
1
0,065
TR
2
1,765
TR
3
3,465
TR
4
5,165
0 25 50 75 100 125 150 175 200
0
2000
4000
6000
8000
D
e
n
s
i
t


d
e

f
l
u
x

(
W
/
m
2
)
Temps (s)
TH
0 25 50 75 100 125 150 175 200
0
2000
4000
6000
8000
D
e
n
s
i
t


d
e

f
l
u
x
(
W
/
m
2
)
Temps (s)
TR
Tableau 2 : Densit de flux estime par les deux types de capteurs fluxmtrique (: cart type ; : flux
de chaleur; TR : thermo-rsistance ; TH : thermocouple, les valeurs analyses sont considres sur une
dure de 40s avant la fin du chauffage de dure 100s)
Fluxmtre thermorsistances Fluxmtre thermocouples filaires
U
ch
.
(Volts)
lec.
(W/m
2
)
TR
estim*
(W/m
2
)
R
(W/m
2
)
cart/ lec.
(%)

estim*
(W/m
2
)

(W/m
2
)
cart/ lec.
(%)
10 1776,8 1842,8 0,165 2,9 1656,6 0,177 6,8
20 7107,3 7378 0,169 3 6611,7 0,188 7
30 15991,5 15685 0,016 1,9 14607,1 0,020 8,7

* : moyenne sur 40s

Tableau 3 : Tempratures mesures par le capteur le plus proche de la paroi dans les 2 fluxmtres
(les valeurs analyses sont considres sur une dure de 4s avant la fin du chauffage de dure 100s)

Fluxmtre thermorsistances(TR) Fluxmtre thermocouples filaires (TH)
U
ch
(V) TR1 *(C) TR1 (C) TH1* (C) TH1 (C)
10 2,28 0,026 2,17 0,059
20 9,26 0,045 8,88 0,046
30 19,22 0,093 19,16 0,102
*: moyenne sur 4s

5. Conclusion

Aprs avoir expos les caractristiques et le procd de fabrication, il est apparu que le
nouveau fluxmtre base de thermo-rsistances en couches minces savre tre plus prcis
que le fluxmtre classique thermocouples filaires. Aucun changement significatif du temps
de rponse na pu tre constat. Lintrt de tels fluxmtres est ainsi une meilleure
connaissance de la localisation des diffrents capteurs utile lors du calcul du flux de chaleur
par mthode inverse. De plus, de part le procd de fabrication, ce type de fluxmtre a
lavantage dtre facilement ralisable en srie. Par ailleurs, sa sensibilit peut tre ajuste en
variant la tension dalimentation des ponts de Wheatstone et donc le courant traversant chaque
thermo-rsistance.

Rfrences

[1] F. Van der Graff, F. 1990, Heat flux sensors, in Ricol, T. and Scholz, J. (eds), Thermal Sensors 4,
VCH, Weinheim, Germany-(1990) 297322.
[2] J.P. Bardon, Y. Jarny, Procd et dispositif de mesure en rgime transitoire de temprature et flux
surfacique Brevet n 94.01996, 22 Fvrier 1994
[3] J.V. Beck, B. Blackwell, C. A St. Clair, Inverse Heat Conduction, Ill-posed problems,J. Wiley
& Sons, Inc. New York, 1985
[4] A.Saidi, J. Kim, Exp Therm. Fluid Sci, 28 (2004) 903-908
[5] J.V. Beck, Nuclear Engng Design (1968)170-178
[6] B. Bourouga, V. Goizet, J.P. Bardon, Int. J. Therm. Sci. 39 (2000) 96-109.

Remerciements : les auteurs remercient le Programme Interdisciplinaire Energie du CNRS
ainsi que le Conseil gnral de Vende pour leur soutien dans ce programme de recherche

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