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UNIVERSIDADE DO RIO GRANDE DO NORTE FEDERAL

UNIVERSIDADE FEDERAL DO RIO GRANDE DO NORTE


CENTRO DE TECNOLOGIA
PROGRAMA DE PS-GRADUAO EM ENGENHARIA ELTRICA
Ambiente de Simulao Hbrido Integrando
Hysys e Rede Industrial Foundation Fieldbus
aplicado ao Controle de uma Coluna de
Destilao
Bruno Xavier da Costa
Natal, RN, Maro de 2011
UNIVERSIDADE DO RIO GRANDE DO NORTE FEDERAL
UNIVERSIDADE FEDERAL DO RIO GRANDE DO NORTE
CENTRO DE TECNOLOGIA
PROGRAMA DE PS-GRADUAO EM ENGENHARIA ELTRICA
Ambiente de Simulao Hbrido Integrando
Hysys e Rede Industrial Foundation Fieldbus
aplicado ao Controle de uma Coluna de
Destilao
Bruno Xavier da Costa
Orientador: Prof. Dr. Adrio Duarte Dria Neto
Co-orientador: Prof. Dr. Jorge Dantas de Melo
Dissertao de Mestrado apresentada ao
Programa de Ps-Graduao em Engenharia
Eltrica e de Computao da UFRN (rea de
concentrao: Automao e Sistemas) como
parte dos requisitos para obteno do ttulo
de Mestre em Cincias.
Natal, RN, Maro de 2011
Resumo
O principal objetivo deste trabalho desenvolver um ambiente que permite a comu-
nicao do simulador de processos qumicos HYSYS
R
com medidores e atuadores de
uma rede industrial Foundation Fieldbus. O ambiente considerado hbrido por possuir
uma parte real (a rede industrial) e uma parte simulada (o processo) com os sinais de
controle e medio sendo reais. O ambiente bastante exvel, permitindo a reproduo
de diversas dinmicas tpicas de processos industriais sem a necessidade de alterao na
rede fsica, possibilitando gerar diversas situaes existentes em um ambiente industrial
real. No presente trabalho, a dinmica utilizada de uma coluna de destilao, simu-
lada no HYSYS
R
, com suas variveis medidas e controladas pelos dispositivos da rede
industrial Foundation Fieldbus.
Palavras-chave: Ambiente Hbrido, Coluna de Destilao, Foundation Fieldbus, HYSYS.
Sumrio
Sumrio i
Lista de Figuras iii
Lista de Tabelas vi
1 Introduo 1
1.1 Objetivo . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 1
1.2 Motivao . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 2
1.3 Estrutura do Trabalho . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 3
Lista de Smbolos e Abreviaturas 1
2 Descrio da Arquitetura 5
2.1 Componentes do Ambiente . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 6
2.1.1 Estaes de Simulao e de Congurao/Superviso . . . . . . . 6
2.1.2 Rede Industrial Didtica . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 7
2.1.3 Interface de Interconexo com a Rede Industrial . . . . . . . . . . 8
2.2 Descrio do Programa que Faz a Comunicao do Ambiente de Simula-
o (HYSYS) com a Rede Industrial Foundation Fieldbus . . . . . . . . . 14
2.2.1 Tecnologia OLE Automation . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 15
2.2.2 Ferramenta Comunicao HYSYS . . . . . . . . . . . . . . . . . 17
3 Controle de Coluna de Destilao 25
3.1 Coluna de Destilao . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 25
i
3.1.1 Partes Principais . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 25
3.1.2 Funcionamento . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 27
3.2 Sistema de Controle . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 29
3.2.1 Pares de Variveis Controladas e Manipuladas (PV - MV) . . . . 29
3.2.2 Graus de Liberdade . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 33
3.2.3 Controle de Composio e de Temperatura . . . . . . . . . . . . 34
3.3 Sensores Virtuais . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 36
4 Testes e Resultados 38
4.1 Testes Realizados . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 38
5 Concluso 47
Referncias bibliogrcas 49
A Layout do circuito conversor V/I 52
B Layout do circuito conversor I/V 55
C Montagem do Ambiente Proposto 57
D Graus de Liberdade em uma Coluna Binria Ideal 61
Lista de Figuras
2.1 Arquitetura do Ambiente Hbrido . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 6
2.2 Interface conversora de sinais . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 9
2.3 Congurao bsica do XTR100 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 10
2.4 Congurao do XTR100 para ajuste das correntes de offset (4mA) e
spam (20mA) . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 11
2.5 Placa com 18 mdulos XTR110KP para converso de loops de tenso em
loops de corrente . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 12
2.6 Conexes de sada do FI302 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 13
2.7 Conexes de sada do FI302 com a placa A/D para converso de padres
de corrente para tenso . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 14
2.8 Interfaces fsicas do ambiente desenvolvido . . . . . . . . . . . . . . . . 15
2.9 Converso de uma varivel de temperatura medida na Estao de Simula-
o para sinais de medio reais . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 18
2.10 Interface grca inicial da ferramenta que faz a comunicao como HYSYS
R
19
2.11 Simulao de uma coluna de destilao em software industrial HYSYS
R
. 19
2.12 Interface grca da ferramenta que faz a comunicao com o HYSYS
R
depois ter carregado com sucesso as informaes do arquivo de simulao
aberto . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 20
2.13 Janela "Opes"da ferramenta Comunicao HYSYS . . . . . . . . . . . 21
2.14 Janela para congurao dos dispositivos FF virtuais . . . . . . . . . . . 21
2.15 Janela de congurao Databook do HYSYS
R
. . . . . . . . . . . . . . . 22
2.16 Janela "Tabelas" da ferramenta Comunicao HYSYS para importao de
variveis . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 23
iii
2.17 Janela para congurao dos dispositivos FF virtuais depois da importa-
o de variveis do HYSYS
R
. . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 23
2.18 Botes de incio/parada para medio e/ou atuao das variveis de pro-
cesso da planta simulada no HYSYS
R
. . . . . . . . . . . . . . . . . . . 24
2.19 Monitoramento da temperatura da corrente de processo Reux . . . . . . 24
3.1 Esquema geral de uma coluna de destilao . . . . . . . . . . . . . . . . 26
3.2 Dinmica interna de operao da coluna . . . . . . . . . . . . . . . . . . 28
3.3 Vlvulas de controle em uma coluna de destilao . . . . . . . . . . . . . 30
4.1 Medio dos sinais de corrente que chegam nos canais da rede FF, (b) e
(d), quando congurado as tenses de 0 (a) e 10 Volt (c) na sada de 9
canais da placa D/A . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 39
4.2 Medio dos sinais de tenso que chegam nos canais da placa A/D, (b) e
(d), quando congurado as correntes de 4 (a) e 20 mA (c) na sada de 6
canais FIs da rede FF . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 40
4.3 Teste para validao da medio no ambiente hbrido . . . . . . . . . . . 41
4.4 Simulao de uma torre debutanizadora . . . . . . . . . . . . . . . . . . 42
4.5 Janela de propriedades da unidade de de controle presente no HYSYS
R
. 43
4.6 Controle PI do nvel do tanque do acumulador utilizando o controlador
do prprio HYSYS
R
. . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 43
4.7 Lgica de blocos implementado um controlador PID para um ambiente
de redes industriais Foundation Fieldbus . . . . . . . . . . . . . . . . . . 44
4.8 Aes realizadas para controle do nvel do acumulador na planta simulada
atravs da rede FF . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 45
4.9 Controle para o nvel do tanque do acumulador implementado no ambi-
ente de redes industriais Foundation Fieldbus . . . . . . . . . . . . . . . 45
4.10 Supervisionamento da varivel controlada no Elipse SCADA . . . . . . . 46
A.1 Placa 1 - para ajuste das correntes de offset (4mA) e spam (20mA) dos
mdulos conversores V/I da Placa 2 (gura A.2) . . . . . . . . . . . . . . 53
A.2 18 Placa 2 - 18 (dezoito) mdulos conversores V/I implementados com o
XTR110KP . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 54
B.1 Placa com 18 mdulos conversores de loops de corrente para tenso . . . 56
Lista de Tabelas
2.1 Comparao entre a terminologia convencional e a usada no COM. . . . . 17
3.1 Alguns exemplos de pares de variveis controladas e manipuladas para
uma coluna de destilao. . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 32
vi
Captulo 1
Introduo
1.1 Objetivo
O objetivo deste trabalho desenvolver um ambiente de simulao industrial hbrido
e aplic-lo ao controle de uma coluna de destilao. Este ambiente integra o simulador
de processos qumicos HYSYS
R
rede industrial Foundation Fieldbus. Portanto, este
ambiente possui uma parte real (a rede industrial) e uma parte simulada (o processo) com
os sinais de controle e medio sendo reais. O ambiente bastante exvel, permitindo
a reproduo de diversas dinmicas tpicas de processos industriais sem a necessidade de
alterao na rede fsica, possibilitando gerar diversas situaes existentes em um ambiente
industrial real.
Esse ambiente hbrido foi referenciado em [COSTA 2007] como Ambiente Hbrido
para Concepo de Sensores de Software em Redes Industriais Foundation Fieldbus
(FF). O mesmo foi denominado assim, pois adequado para o desenvolvimento de tais
sensores virtuais, j que o ambiente permite o conhecimento do comportamento de vari-
veis importantes de um processo simulado (que pode ter um equivalente real) e at mesmo
o armazenamento do histrico dessas variveis em um sistema com banco de dados do
tipo SCADA (Supervisory Control And Data Acquisition) de tal forma que o ambiente
possa ser utilizado posteriormente no treinamento de um sensor virtual baseado em redes
neurais.
Os sensores virtuais tem importante papel nos diferentes segmentos da indstria,
sendo uma das motivaes pela qual o ambiente hbrido foi desenvolvido. Zanata arma
em [ZANATA 2005] que os sensores virtuais possuem uma grande rea de aplicao,
pois atuam auxiliando na monitorao, controle e otimizao de processos em geral, for-
necendo medies mais precisas, mais rpidas e mais conveis a um custo mais baixo
CAPTULO 1. INTRODUO 2
tanto para desenvolvimento e implantao como para manuteno. Alm disso, deve-se
ressaltar que estes podem atuar substituindo vrios sensores fsicos ou trabalhando em
conjunto com estes e auxiliando na monitorao e controle de falhas e manuteno pre-
ventiva, reduzindo os custos do processo.
Em [COSTA et al. 2008] enfatizado o papel do ambiente hbrido na concepo de
sensores de software aplicados aos problemas da indstria petroqumica.
J em [MACHADO et al. 2008] o ambiente utilizado para outra aplicao: cria-
o de uma "arquitetura multi-agentes baseada em blocos funcionais da rede Foundation
Fieldbus" .
1.2 Motivao
No presente trabalho, a dinmica escolhida para simulao foi de uma coluna de des-
tilao, mas possvel simular no ambiente uma vasta gama de processos fsicos. Vale
ressaltar que as variveis da planta simulada so medidas e controladas por dispositivos
de uma rede industrial de cho de fbrica como se a planta fosse real. Esse fato, faz com
que tal ambiente possibilite criar diversas situaes presentes em um ambiente industrial
real e consequentemente gerar solues para problemas e necessidades que possam existir
nesses ambientes, como por exemplo:
Estudo do comportamento dos dipostivos que sero utilizados para medio e atu-
ao na planta simulada (comunicao, tempo de resposta, robustez) e se estes se-
riam adequados para um projeto de instrumentao da planta fsica equivalente
simulada;
Estudo das especicaes que os dispositivos devem ter para atender os requisitos
de instrumentao para funcionamento correto da dinmica da planta;
Teste e/ou criao de diferentes supervisrios para melhor monitoramento e con-
trole da planta;
Monitoramento e controle de uma planta simulada atravs de um sistema SCADA:
tornando possvel fazer o estudo do comportamento da dinmica da planta sem a
necessidade de implementao fsica da mesma;
A criao de telas de supervisrio, estratgias de controle e de otimizao para a
planta, e o armazenamento do histrico de variveis em um banco de dados para
criao de estratgias inteligentes, como por exemplo, sensores de software.
CAPTULO 1. INTRODUO 3
Essas solues que o ambiente propicia so as principais motivaes para este traba-
lho, alm de que o ambiente hbrido permite interferir bem menos em um processo indus-
trial real quando necessrio a realizao das atividades descritas acima, evitando assim,
maiores custos nanceiros e eventuais problemas de operao da planta, como por exem-
plo, o fechamento de uma vlvula de forma errnea em um teste de um novo esquema de
controle por um projetista e at quem sabe consequente parada da planta. Sem contar que
os processos de uma planta real esto suscetveis a interrupes para manuteno, de tal
forma que acabaria prejudicando a realizao dessas atividades.
A escolha da coluna de destilao para ser simulada no HYSYS
R
e ser monitorada
e controlada pelos dispositivos da rede FF, deve-se importncia desta operao unit-
ria sendo um dos equipamentos de separao mais empregados na indstria qumica e
petroqumica como citado em [KALID n.d.].
Kalid arma em [KALID n.d.] que 80% do custo operacional energtico devido a
essa operao unitria, podendo ser o equipamento que impede o aumento da produo.
Para Kalid, uma das formas de solucionar esse problema passa pelo aperfeioamento do
sistema de controle.
Se a estrutura de controle (pares PV-MV) de uma coluna no esta denida correta-
mente ou se a sintonia dos controladores no a tima, o consumo de energia no referve-
dor e/ou no condensador e as vazes internas de lquido e/ou de vapor da coluna podem
estar muito acima do necessrio, ou seja, o custo operacional maior que o ideal e a carga
menor que a possvel. Temos portanto um custo operacional elevado com uma pequena
produo. A melhoria do sistema de controle simultaneamente minimizar os custos e
maximizar a produo da unidade.
Ento, a motivao desse trabalho vem das vantagens que o Ambiente Hbrido pro-
picia associado importncia de um controle adequado de uma coluna de destilao na
indstria qumica e petroqumica.
1.3 Estrutura do Trabalho
O presente trabalho est organizado da seguinte forma: no Captulo 2, descreve-se
a arquitetura hbrida que ser utilizada para o controle da coluna de destilao simulada
atravs da rede industrial Foundation Fieldbus e a ferramenta desenvolvida para medio
e atuao na planta simulada. Essa ferramenta um programa congurvel que permite
ao operador selecionar quais variveis sero medidas e/ou controladas atravs dos dispo-
CAPTULO 1. INTRODUO 4
sitivos presentes na rede Foundation Fieldbus. Tambm descrita a tecnologia presente
no programa de simulao que permitiu desenvolver tal ferramenta. No Captulo 3, faz-se
um estudo do controle de uma coluna de destilao. No Captulo 4 so apresentados os
resultados obtidos a partir de experimentos realizados para validao do ambiente. Por
m, no Captulo 5 apresentado o cronograma de ativades para concluso da dissertao
e as concluses sobre o trabalho proposto.
Captulo 2
Descrio da Arquitetura
A arquitetura do ambiente hbrido construdo para simulao de um ambiente indus-
trial de monitorao de um processo da indstria qumica ou petroqumica composta
por uma rede industrial padro Foundation Fieldbus conectada a um ambiente de simula-
o de processos presente em um computador tipo PC via componentes de converso de
padres 4-20mA para FF. Esta abordagem permite reproduzir, de forma bastante exvel,
diversas dinmicas tpicas de processos industriais, alm de permitir gerar diversas situa-
es para avaliao de algoritmos inteligentes implementados na rede FF. O nome hbrido
vem da abordagem que adotada pelo sistema, pois este, alm de trabalhar com dados
reais (rede industrial), trabalha com dados simulados em tempo real (planta simulada).
A rede industrial FF foi escolhida para instrumentao da planta virtual devido a
capacidade e exibilidade de congurao, manuteno e projeto que a arquitetura FF
apresenta. Entretanto, outros tipos de interfaces e protocolos (HART
R
, Probus
R
,
MODBUS
R
, WirelessHART
R
, etc) poderiam ser utilizados para monitoramento e con-
trole da planta simulada. Inclusive, caso estivessem disponveis vrios desses tipos de
protocolos e interfaces no laboratrio, o ambiente hbrido tambm serviria para escolha e
teste de protocolos e interfaces adequados para uma determinada planta, j que segundo
[RIBEIRO 1999], protocolos tem sido projetados para diferentes aplicaes em mente
e otimizados para caractersticas especcas tais como segurana, baixo custo, alto n-
mero de dispositivos conectados, o que depende do processo em questo. Portanto, cada
protocolo pode ter vantagens para atender prioridades de uma determinada aplicao.
CAPTULO 2. DESCRIO DA ARQUITETURA 6
2.1 Componentes do Ambiente
O ambiente para concepo de sensores de software na rede FF composto de dois
computadores interconectados rede industrial, um para congurao do sistema e outro
para a simulao da dinmica da planta, de acordo com a gura 2.1.
Figura 2.1: Arquitetura do Ambiente Hbrido
2.1.1 Estaes de Simulao e de Congurao/Superviso
O computador de Congurao ser, como o prprio nome sugere, responsvel pela
congurao de blocos e instrumentos no barramento atravs do Linking Device que de-
sempenha a funo de gateway entre a TCP/IP/Ethernet e o barramento FF. O computador
de Simulao implementa o modelo matemtico da dinmica da planta e atravs de da-
dos coletados pela placa de aquisio de dados, recebe os sinais de controle da rede FF e
disponibiliza a ela os sinais de sada do processo simulado, respeitando as caractersticas
CAPTULO 2. DESCRIO DA ARQUITETURA 7
temporais do processo. O software industrial Aspen HYSYS
R
da Aspentech foi escolhido
como o ambiente de simulao por apresentar na sua base de dados componentes qu-
micos, mtodos termodinmicos e operaes unitrias como equipamentos de separao,
trocadores de calor, tubulaes e vlvulas permitindo a construo de modelos eis de um
vasto nmero de plantas presentes na indstria petroqumica [Hyprotech 2002b].
2.1.2 Rede Industrial Didtica
A Rede didtica presente no laboratrio foi reestruturada para desenvolvimento do
ambiente proposto. Nela foram instaladas 3 FIs, 3 IFs, um transmissor de temperatura e
outro de presso, assim como a DFI. Abaixo descreve-se cada dispositivo FF presente na
arquitetura:
DFI302 - Fieldbus Universal Bridge
DFI302 um elemento chave na arquitetura distribuda dos sistemas de controle de
campo. Alia poderosas caractersticas de comunicao com acesso direto de entrada/sada
e controle avanado para aplicaes contnuas e discretas. um instrumento bastante ex-
pansvel e indicado para pequenas e/ou complexas plantas. A DFI um equipamento
modular multifuncional, montado num Backpanel, no qual todos os mdulos so instala-
dos, incluindo as fontes (principal e Fieldbus), processador e impedncia de linha.
A arquitetura distribuda deste equipamento garante a alta conabilidade mesmo em
ambientes industriais hostis: sem discos rgidos, sem paredes mecnicas mveis. No nvel
de execuo do software, as tarefas internas (comunicao, blocos funcionais, superviso,
etc.) so controladas por um sistema multitarefa, garantindo assim, operao em tempo
real e determinstica.
O DFI302 completamente congurado atravs de blocos funcionais disponveis no
padro Foundation Fieldbus. Isso permite que o todo o sistema (DFI e equipamentos de
campo) possa ser completamente congurado por um nico aplicativo [SMAR 2003a].
IF302 - Conversor Corrente para Fieldbus com Trs Canais
O IF302 um conversor destinado a "interfacear" transmissores analgicos com a
rede Fieldbus. Ele recebe at trs sinais de corrente tipicamente de 4-20 mA ou 0-20 mA
e torna-os disponveis para o sistema Fieldbus [SMAR 2003c].
CAPTULO 2. DESCRIO DA ARQUITETURA 8
FI302 - Conversor Fieldbus para Corrente com Trs Canais
O FI302 um conversor destinado a conectar sistemas Foundation Fieldbus com
atuadores e posicionadores de vlvulas de controle 4-20 mA. Este equipamento produz
uma sada de 4-20 mA proporcional a entrada recebida pela rede Foundation Fieldbus
[SMAR 2003b].
LD302 - Transmissor de Presso Fieldbus
O LD302 um transmissor para medida de presso diferencial, absoluta e manom-
trica, de nvel e de vazo. O transmissor possui um sensor capacitivo que proporciona
uma operao segura e um excelente desempenho em campo [SMAR 2003d].
TT302 - Transmissor de Temperatura Fieldbus
O TT302 um transmissor apropriado para a medio de temperatura usando termore-
sistncias ou termopares, mas podem tambm aceitar outros sensores com sada em resis-
tncia ou milivoltagem, tais como pirmetros, clula de carga, indicadores de posio, etc.
O TT302 tem embutido um controle PID eliminando a necessidade de um equipamento
separado, reduzindo a comunicao e diminuindo o tempo morto [SMAR 2003e].
2.1.3 Interface de Interconexo com a Rede Industrial
Os sinais de medio e atuao na rede industrial didtica presente no laboratrio so
sinais de 4-20mA. Porm, esses sinais provenientes na rede Foundation Fieldbus devem
ser convertidos para sinais que possam ser processados pela Estao de Simulao. Para
converso do padro utilizado na rede Foundation Fiedlbus para o padro usado nos com-
putadores utilizou-se a interface mostrada na gura 2.2. Cada mdulo desta interface
descrito a seguir.
Placas de Aquisio de Dados
As placas de aquisio de dados correspondem aos mdulos conversores analgico /
digital (A/D) e digital / analgico (D/A) da interface conversora de sinais. Estas placas fo-
ramadquiridas de uma empresa especializada emequipamentos deste tipo, a Advantech
R
.
Estas placas foram desenvolvidas exatamente para propsitos de comunicao entre PCs
CAPTULO 2. DESCRIO DA ARQUITETURA 9
Figura 2.2: Interface conversora de sinais
e redes industriais. Elas possuem vrias facilidades em sua utilizao seja na aquisio
de dados da rede, seja no envio de dados rede, pois possuem compatibilidade com algu-
mas linguagens de programao, permitindo a leitura e escrita do valor das variveis do
processo simulado atravs da rede industrial Foundation Fieldbus.
As placas utilizadas so dos modelos PCI-1713 e PCI-1724U, sendo a primeira uma
placa de converso A/D e a segunda uma placa de converso D/A que por sua vez so
conectadas s placas de conexo terminal PCLD-881B e ADAM-3962, respectivamente.
As placas de conexo terminal cam conectadas aos circuitos externos, enquanto as pla-
cas PCI esto instaladas em slots PCI do computador da Estao de Simulao. Cada
placa tem 32 canais. As especicaes das placas PCI-1713 e PCI-1724U podem ser en-
contradas nos seus respectivos manuais referenciados em [Advantech 1999] e [Advantech
2004].
Na interface conversora, os sinais de sada da planta so emitidos para o meio externo
atravs da placa conversora D/A. A placa D/A PCI-1724U trabalha tanto com padres
de sada de tenso (-10 - 10 V) assim como de loops de corrente (0 - 20mA, 4 - 20mA).
Quando congurada para trabalhar na sada com loops de corrente, resulta que os disposi-
tivos IFs da rede FF no conseguem medir essas correntes nos seus respectivos canais de
entrada, pois o sentido das fontes de correntes presente em cada canal da placa oposto ao
sentido que deve circular a corrente nos canais de entrada dos IFs. Devido a esta incom-
patibilidade, foi optado por congurar a placa para trabalhar com loops de tenso na sua
CAPTULO 2. DESCRIO DA ARQUITETURA 10
sada e utilizar um circuito conversor de loop de tenso para corrente. Esses sinais ana-
lgicos provenientes do placa A/D e em seguida do circuito conversor de loop de tenso
para corrente so convertidos para sinais digitais FF pelos canais dos IFs disponibilizando
a informao no barramento.
Os FIs convertem sinais digitais FF para sinais de corrente entre 4 e 20 mA. Na
prtica, esses sinais so captados por atuadores analgicos como vlvulas de controle.
Na arquitetura desenvolvida esses sinais de controle so enviados para planta simulada
atravs da placa conversora A/D. A placa A/D no trabalha com loops de corrente. Dessa
forma, foi utilizado um circuito produzido no prprio laboratrio, que converte o loop
de corrente de 4-20 mA em tenses na faixa de -2 at -10 Volts, respectivamente. Com
esta placa, faz-se o "interfaceamento"entre a placa de aquisio e o equipamento da rede
Foundation Fieldbus.
Circuito Conversor Loop de Tenso para Corrente
No projeto da placa conversora de loops de tenso para corrente foi utilizado o XTR110KP,
um conversor de preciso tenso para corrente para transmisso de sinais analgicos, da
Burr-Brown
R
[Burr-Brown 1993]. Ele aceita entradas de 0 a 5V ou 0 a 10V e pode ser
congurado para sadas de 4 a 20mA, 0 a 20mA, 5 a 25mA e outras faixas mais comuns.
A gura 2.3 mostra as conexes bsicas necessrias para converter 0 a 10V em 4 a
20mA. Outras escalas de converso tenso-corrente requer mudanas nas conexes dos
pinos 3, 4, 5, 9 e 10 conforme mostrado na tabela da gura 2.3.
Figura 2.3: Congurao bsica do XTR100
CAPTULO 2. DESCRIO DA ARQUITETURA 11
A placa foi projetada com 18 canais, ou seja, 18 mdulos conversores trabalhando em
paralelo. O circuito de cada mdulo mostrado na gura 2.4. O ajuste da corrente de
offset (4mA) regulado pelo resistor R
1
quando setado na entrada uma tenso de 0 Volt.
O span o ajuste da corrente mxima de sada usando o potencimetro R
2
quando setado
na entrada uma tenso de 10 Volt.
Figura 2.4: Congurao do XTR100 para ajuste das correntes de offset (4mA) e spam
(20mA)
O projeto das placas, detalhado no Apndice A, foi realizado no editor para desenho
de circuitos impressos Eagle 5.6.0. A placa impressa com os componentes soldados pode
ser vista na gura 2.5.
Circuito Conversor Loop de Corrente para Tenso
Os sinais de controle analgicos provenientes da rede FF chegam na simulao atra-
vs da placa A/D depois de convertidos de valores de corrente para valores equivalentes
em tenso. O princpio utilizado para essa converso baseou-se na Lei de Ohm descrita
abaixo:
Resistncia (R) = Tenso (V) / Corrente (I)
CAPTULO 2. DESCRIO DA ARQUITETURA 12
Figura 2.5: Placa com 18 mdulos XTR110KP para converso de loops de tenso em
loops de corrente
CAPTULO 2. DESCRIO DA ARQUITETURA 13
Para um resistor linear de preciso no valor de 500, obtemos a seguinte relao
corrente-tenso:
(corrente) (diferena de potencial no resistor)
(4mA) (2V)
(20mA) (10V)
A gura 2.6 mostra como deve ser realizada as conexes de sada do FI302. Nela,
verica-se que o terminal positivo da fonte de alimentao comum aos terminais po-
sitivos dos equipamentos conectados a cada canal da FI. Para converso de padres de
corrente para tenso, os equipamentos da gura em questo sero substitudos pelas resis-
tncias de 500de forma que o terminal positivo da fonte de alimentao e que comum
s resistncias ser conectado ao canal GND da placa A/D e os outros terminais das re-
sistncias que por sua vez estaro conectados nos diferentes canais da FI tambm devero
estar conectados em um correspondente canal da placa A/D conforme mostrado na gura
2.7. Portanto, nos diferentes terminais na placa A/D estaro presentes sinais negativos de
tenso que podero variar de -10V at -2V.
Figura 2.6: Conexes de sada do FI302
CAPTULO 2. DESCRIO DA ARQUITETURA 14
Figura 2.7: Conexes de sada do FI302 com a placa A/D para converso de padres de
corrente para tenso
O projeto da placa com 18 mdulos conversores de loop de corrente para tenso est
detalhado no Apndice B. A gura 2.8 mostra o ambiente hbrido aps todas interfaces
terem sido conectadas. A montagem passo-a-passo das interfaces fsicas do ambiente
mostrada no Apndice C.
2.2 Descrio do Programa que Faz a Comunicao do
Ambiente de Simulao (HYSYS) com a Rede Indus-
trial Foundation Fieldbus
Nesta seo descrita a interface em software, denominada de Comunicao HYSYS,
desenvolvida para fazer a comunicao do HYSYS
R
com a rede industrial Foundation
Fieldbus. A ferramenta Comunicao HYSYS permite selecionar quais variveis da simu-
lao sero monitoradas ou controladas pela rede industrial Foundation Fieldbus indepe-
dente de qual planta est sendo simulada. Inicialmente feita uma breve explanao da
tecnologia presente no HYSYS
R
que permitiu desenvolver essa ferramenta.
CAPTULO 2. DESCRIO DA ARQUITETURA 15
Figura 2.8: Interfaces fsicas do ambiente desenvolvido
2.2.1 Tecnologia OLE Automation
O HYSYS
R
incorpora sua arquitetura de software a tecnologia OLE Automation
[Hyprotech 2002a]. OLE Automation um mecanismo para a comunicao entre proces-
sos baseado em Component Object Model (COM) introduzido pela Microsoft. O COM
fornece uma infra-estrutura na qual as aplicaes (chamadas controladoras de automao)
podem acessar e manipular dados compartilhados (chamados objetos de automao) em
uma relao cliente-servidor [Microsoft 2009].
O COM disponibiliza os objetos do programa implementado com tal tecnologia para
outras aplicaes permitindo que elas interajam umas com as outras dentro do sistema
operacional. Nessa comunicao as aplicaes assumem o papel de cliente ou servidor
COM. No caso, o HYSYS
R
assume a funo de servidor COM e o aplicativo desenvol-
vido de cliente COM.
Em [Microsoft 1995] explicado o seguinte: um servidor COM uma aplicao ou
biblioteca que fornecem servios para uma aplicao cliente. Um servidor COM consiste
de um ou mais objetos COM, em que um objeto COM um conjunto de propriedades
e mtodos. Clientes COM no conhecem como um objeto COM apresenta seu servio;
CAPTULO 2. DESCRIO DA ARQUITETURA 16
a implementao do objeto ca encapsulada. Um objeto torna seus servios disponveis
atravs de suas interfaces.
Uma interface COM fornece um meio para conduzir aos clientes quais servios ela
fornecer, sem preocupa-se com detalhes de implementao de como ou onde os objetos
fornecem esses servios. Estas caractersticas simplicam e multiplicam a utilidade de
um objeto.
Tanto os objetos COM como as interfaces COM tm GUIDs (Globally Unique Iden-
tier) para a sua identicao. Um GUID um nmero de 128 bits gerado por um algo-
ritmo desenvolvido pela OSF (Open Software Foundation) que combina endereo de rede,
a data (em incrementos de 10 nanossegundos) e um contador. O COM prende-se ao fato
de obrigar que cada interface e objeto sejam identicados de forma nica em todo mundo
para evitar a existncia de conitos entre diferentes verses de um produto ou de produtos
diferentes. Portanto, apesar de parecer, primeira vista, que o nmero mximo de iden-
ticadores (2
128
) gerados - para identicao nica dos objetos e interfaces COM - ser
extremamente elevado, faz dessa exigncia necessria quando consideramos a existncia
da rede mundial de computadores.
Quando um cliente solicita um servio de um objeto COM, o cliente passa um identi-
cador de classe (CLSID) para COM. Um CLSID simplesmente um GUID que identica
um objeto COM. COM usa esse CLSID, que est registrado no registro do sistema, para
localizar um servidor apropriado. Uma vez que o servidor localizado, o COM executa
o cdigo na memria, e apresenta uma instncia do objeto para o cliente.
Partindo do pressuposto que conhecido o vocabulrio da linguagem de programao
C++, a tabela 2.1 (Fonte: [MATOS 2004]) faz uma comparao entre a terminologia
convencional e a que usada no COM.
Os conceitos apresentados relativos plataforma COM so importantes para um me-
lhor entendimento da comunicao entre o HYSYS
R
e a ferramenta projetada e tambm
da prpria implementao nas chamadas de mtodos e propriedades dos objetos atravs
das interfaces expostas pelo Servidor COM que no caso o HYSYS
R
.
O aplicativo desenvolvido para medio e atuao na planta simulada denominado
Comunicao HYSYS foi implementado utilizando o ambiente de desenvolvimento inte-
grado (IDE) C++ Builder. Um ambiente de desenvolvimento integrado um programa
de computador que rene caractersticas e ferramentas de apoio ao desenvolvimento de
software com o objetivo de agilizar tal processo.
CAPTULO 2. DESCRIO DA ARQUITETURA 17
CLIENTE CONVENCIONAL(C++) COM
Cliente Um programa que requisita um
servio de um servidor.
Um programa que chama mtodos
COM.
Servidor Um programa que fornece servi-
os a outros programas.
Um programa que torna os objetos
COM disponveis a clientes COM.
Interface Um apontador para um grupo de
funes que so chamadas atravs
do COM.
Classe Umtipo de dado. Dene umgrupo
de mtodos e dados que so utili-
zados em conjunto.
A denio de um objeto que im-
plementa uma ou mais interfaces
COM. Tambm conhecido como
coclass.
Objeto Uma instncia de uma classe. Uma instncia de uma coclass.
Tabela 2.1: Comparao entre a terminologia convencional e a usada no COM.
2.2.2 Ferramenta Comunicao HYSYS
A ferramenta Comunicao HYSYS faz uso da tecnologia OLE Automation presente
no HYSYS
R
e de conversores A/D e D/A para medio e atuao na planta simulada atra-
vs da rede industrial didtica Foundation Fieldbus. Entende-se por medio , a converso
de variveis do HYSYS
R
(temperatura, presso, vazo, nvel, etc) para sinais analgicos
de 4-20mA e posterior leitura desses sinais por elementos IFs da rede industrial didtica.
Por atuao, entende-se a escrita na simulao de sinais de controle provenientes dos FIs
(sinais de 4-20mA) que foram previamente convertidos para sinais digitais. Na atuao,
normalmente esse sinais so de abertura de vlvulas, carga trmica do condensador e
refervedor.
Apresentao
O programa Comunicao HYSYS l continuamente as variveis de processo do
HYSYS
R
selecionadas pelo operador para medio e as disponibiliza na sada dos ca-
nais D/A da placa de aquisio de dados. Essas variveis correspondem a valores de
presso, temperatura e vazo e so nmeros reais que so padronizados dentro da faixa
de 0-10 para posterior converso D/A.
Essa padronizao abstrada da escala de medio existente em um sensor real, de
forma que, foi implementado no programa uma janela de congurao que permite o ope-
rador especicar uma escala mxima e mnima de funcionamento cada tipo de varivel.
CAPTULO 2. DESCRIO DA ARQUITETURA 18
Por exemplo, a temperatura de uma corrente de processo medida de uma simulao do
HYSYS
R
corresponde a -10

C e as escalas mxima e mnima denidas no programa fo-


ram respectivamente -50

C e 50

C. Esse valor medido convertido para outro correspon-


dente na faixa de 0-10 utilizando uma relao linear. O grco da gura 2.9 exemplica
essa converso. Sendo assim, com todos os valores das variveis padronizados em uma
escala de 0-10 possvel congurar a placa D/A para trabalhar com valores de tenso
na sua sada que sero convertidos a posteriori pelo circuito conversor V/I em sinais de
4-20mA.
Figura 2.9: Converso de uma varivel de temperatura medida na Estao de Simulao
para sinais de medio reais
Na atuao, os sinais reais de controle so convertidos para valores de abertura de
vlvulas, carga trmica do condensador e refervedor tendo como base as mesmas escalas
mxima e mnima conguradas pelo operador para cada tipo de varivel. Esses sinais
variam de 2 a 5 Volts e so provenientes das FIs depois de terem sidos convertidos no
circuito I/V (circuito conversor loop de corrente para tenso).
Interface Grca
A gura 2.10 mostra a interface grca inicial dessa ferramenta. Nela, os campos
MQUINA e SIMULAO correspondem ao nome ou endereo IP da mquina na qual
ser executada a aplicao HYSYS
R
e o caminho do arquivo de simulao de extenso
.hsc, respectivamente.
No caso da gura 2.10, quando o boto Abrir for acionado, a simulao R-3.hsc
aberta no prprio sistema, na mesma mquina onde o aplicativo Comunicao HYSYS es-
CAPTULO 2. DESCRIO DA ARQUITETURA 19
Figura 2.10: Interface grca inicial da ferramenta que faz a comunicao com o
HYSYS
R
tiver sendo executado. Agura 2.11 mostra o arquivo R-3.hsc correspondente a simulao
de uma coluna de destilao.
Figura 2.11: Simulao de uma coluna de destilao em software industrial HYSYS
R
Depois que o arquivo de simulao tiver sido carregado com sucesso, o aplicativo Co-
municao HYSYS assume a nova interface grca mostrada na gura 2.12. Ela apresenta
CAPTULO 2. DESCRIO DA ARQUITETURA 20
a representao de seis dispositivos Foundation Fieldbus, os quais correspondem aos trs
IFs e trs FIs instalados na rede industrial presente no laboratrio.
Figura 2.12: Interface grca da ferramenta que faz a comunicao com o HYSYS
R
depois ter carregado com sucesso as informaes do arquivo de simulao aberto
Em Ferramentas->Opes possvel congurar se mais de uma varivel vai ser en-
viada atravs de um mesmo canal 2.13. Isso feito movendo um determinado "canal de
informao" para atuar como "canal de controle". Para cada canal que vai enviar mais
de uma varivel deve existir um canal de controle associado. Essa funcionalidade foi
implementada pois a placa D/A antiga presente no laboratrio apresenta apenas 4 canais
conversores, o que limitava o nmero de variveis que poderiam ser enviadas para rede
FF.
CAPTULO 2. DESCRIO DA ARQUITETURA 21
Para que as informaes possamser separadas na "Estao de Congurao/Superviso"
foi desenvolvido um multiplexador com blocos funcionais do ambiente Foundation Field-
bus [MARTINS et al. 2008]. Para a aba "Canais A/D" est opo est desabilitada, pois a
placa A/D apresenta 32 canais.
Figura 2.13: Janela "Opes"da ferramenta Comunicao HYSYS
Na Fig. 2.12, ao clicar em uma das representaes (IF ou FI), abre-se a janela de
congurao. A gura 2.14 exibe a janela de congurao para o primeiro IF. A interface
grca da janela de congurao das FIs so idnticas as de congurao das IFs com
excesso do campo de seleo Canal D/A que para esta ltima denominado Canal A/D.
Figura 2.14: Janela para congurao dos dispositivos FF virtuais
Nessa janela selecionam-se quais variveis de processo sero monitoradas na planta
simulada. Para cada canal virtual do dispositivo pode-se inserir quantas variveis desejar.
Mas deve-se levar em considerao que quanto maior for o nmero de variveis sendo
CAPTULO 2. DESCRIO DA ARQUITETURA 22
enviadas para rede Foundation Fieldbus por meio de um mesmo canal, maior ser o tempo
de atraso para tomada de uma nova amostragem das variveis.
Portanto, ideal que o operador congure os dispositivos de forma que a quantidade
total de variveis monitoradas que distribuda ao longo dos canais virtuais habilitados
para envio de dados a rede FF. Como explicado anteriormente, essa funcionalidade foi
implementada no programa para resolver o problema de limitao do nmero de canais
fsicos poca.
Cada canal virtual associado a um canal de um dispositivo instalado na rede FF
atravs da seleo do Canal D/A na janela Congurao IF ou do Canal A/D na janela
Congurao FI. Portanto, as variveis listadas nesses canais sero enviadas ou recebidas
como forma de sinal analgico atravs das interfaces de interconexo com a rede.
Os canais de entrada das IFs so ligados sicamente aos canais do mdulo V/I conec-
tado a placa de conexo terminal da placa D/A. J os canais de sada das FIs so ligadas
s entradas dos canais de converso A/D atravs do mdulo I/V. Portanto, a seleo do
Canal D/A (IF virtual) ou do Canal A/D (FI virtual) na janela de congurao deve ser
feita com base na estrutura da rede fsica montada.
No HYSYS
R
, acessando Tools->Databook (Fig. 2.15), deni-se quais variveis po-
dero ser lidas e/ou escritas pela ferramenta Comunicao HYSYS associando as variveis
adicionadas previamente na aba "Variables" com as DataTables criadas na aba "Process
Data Tables".
Figura 2.15: Janela de congurao Databook do HYSYS
R
Clicando-se em "Importar variveis..." em 2.14, abre-se a janela "Tabelas" (Fig. 2.16)
para importao das variveis de Databook.
Ao apertar o boto "OK" da janela "Tabelas", a janela "Congurao IF1" lista todas
as variveis que sero enviadas pelo "Canal 1" do "IF1". No caso, como mais de uma
varivel vai ser enviada por esse canal, foi necessrio especicar tambm qual ser o
CAPTULO 2. DESCRIO DA ARQUITETURA 23
Figura 2.16: Janela "Tabelas" da ferramenta Comunicao HYSYS para importao de
variveis
"Canal de Controle"(Fig. 2.17).
Figura 2.17: Janela para congurao dos dispositivos FF virtuais depois da importao
de variveis do HYSYS
R
Quando o boto verde (Iniciar) (2.18) da rea de congurao das IFs ou das FIs
for acionado, a simulao ser iniciada. No acionamento do boto Iniciar da primeira
rea, ser ativada a medio real na planta simulada. Da mesma maneira, ser ativada a
atuao real na planta simulada quando o boto Iniciar da rea de congurao das FIs
for acionado. A simulao ser parada somente quando os dois botes vermelhos (Parar)
das reas de congurao das FIs e IFs estiverem acionados.
Quando a ferramenta Comunicao HYSYS estiver medindo ou atuando na planta e
for apertado um dos botes correspondentes a um dispositivo virtual (FI ou IF) aparecer
a respectiva janela de congurao (Fig. 2.17), mas agora mostrando o comportamento
dinmico para a varivel selecionada com o seu valor sendo atualizado em tempo real.
CAPTULO 2. DESCRIO DA ARQUITETURA 24
Figura 2.18: Botes de incio/parada para medio e/ou atuao das variveis de processo
da planta simulada no HYSYS
R
A gura 2.19 mostra uma sequncia de imagens tomadas na medio da temperatura
da corrente de processo Reux.
Figura 2.19: Monitoramento da temperatura da corrente de processo Reux
Captulo 3
Controle de Coluna de Destilao
A proposta deste captulo discutir e estudar algumas das principais caractersticas
de uma coluna de destilao bifsica e do seu controle, assim como, quais informaes
em regime estacionrio auxiliam no projeto e avaliao desses sistemas de controle, de
forma que fornea um entendimento para os testes de comunicao/superviso/validao
do ambiente hbrido desenvolvido cuja aplicao escolhida foi de uma coluna de destila-
o.
3.1 Coluna de Destilao
Colunas de destilao so largamente usadas em indstrias qumicas e petroqumicas
para separar componentes qumicos em correntes de produtos com diferentes graus de
pureza. Essa separao baseada nas diferenas em volatilidade entre os vrios compo-
nentes qumicos. Em uma coluna de destilao, os componentes mais volteis, ou leves,
so removidos do topo da coluna, e os de menos volatilidade, ou pesados, so removidos
da base da coluna [BUCKLEY et al. n.d.].
3.1.1 Partes Principais
As partes que compe uma coluna de destilao, ilustradas na gura 3.1, [MARANGONI
2005], so:
coluna;
seo de esgotamento;
seo de reticao;
CAPTULO 3. CONTROLE DE COLUNA DE DESTILAO 26
refervedor;
condensador;
tanque de reuxo;
acumulador de produto de fundo (base da coluna).
Figura 3.1: Esquema geral de uma coluna de destilao
[ZANATA 2005] explica o funcionamento e as trs partes principais que compe uma
coluna de destilao (coluna, condensador e refervedor):
Coluna um grande tubo cilndrico com dimetro que pode variar de alguns centmetros
at alguns metros. No interior desta encontram-se os pratos ou bandejas. Estes so
como discos que preenchem todo o dimetro da coluna e possuem um vertedouro
longitudinal que mantm uma lamina de lquido sobre eles. Estes pratos recebem
o lquido proveniente de um prato superior, que desce por uma abertura e passam
lquido, que transborda do vertedouro, para um prato inferior. Os pratos possuem
furos pelos quais o vapor oriundo do prato inferior passa formando bolhas que aque-
cem o lquido. Nestes furos podem ser adaptadas capas ou vlvulas para melhorar
o rendimento da passagem do vapor.
CAPTULO 3. CONTROLE DE COLUNA DE DESTILAO 27
Condensador um trocador de calor, responsvel por condensar o vapor que chega ao
topo da coluna, atravs da retirada de calor deste, normalmente utilizando gua fria.
Pode ser parcial ou total, de acordo com a parcela do vapor que condensado neste.
Os condensadores parciais permitema retirada do destilado tambmna forma de va-
por alm do lquido, que mais freqentemente empregado. O lquido condensado
em parte devolvido coluna para ser processado novamente, este denominado
reuxo, e parte retirado como produto destilado nal, pode ainda haver retirada
de destilado no estado vapor quando este for um condensador parcial.
Refervedor tambm efetua troca de calor, assim como o condensador, porm, aquecendo
o lquido do seu interior e retornando para coluna j na forma de vapor. Normal-
mente ca localizado na base na coluna. No refervedor, existe uma retirada do
chamado produto de base, que a frao mais pesada do que resta na coluna.
O tanque de reuxo e o acmulo de produto no fundo da coluna so necessrios pois,
normalmente, a retirada de produtos promovido por bombas, portanto faz-se necessrio
a existncia de um acumulador de lquido na suco dessas bombas para evitar a cavitao
da mesma, ou que as mesmas funcionem sem lquido para bombear. Alm disso esses
acumuladores atenuam possveis variaes na qualidade dos produtos, pois funcionam
como tanques-pulmo [KALID n.d.].
3.1.2 Funcionamento
O ponto de partida da coluna de destilao a entrada (mistura) que inserida na
bandeja de alimentao, localizada normalmente na parte central da coluna. A partir deste
estgio, ocorre a alimentao de forma contnua ou batelada da mistura a ser separada.
Em cada bandeja, existe um obstculo (vertedouro) de sustentao do lquido (seme-
lhante borda de uma forma). Quando o nvel ultrapassa a altura do vertedouro, o lquido
excedente escoa por cima desta e desce por uma passagem para a bandeja imediatamente
inferior, iniciando um efeito em cascata, no qual o lquido comea a descer de bandeja em
bandeja.
Na base da coluna, est localizado o refervedor que responsvel por fornecer calor
ao processo. Assim, o lquido que chega at este vaporizado e retorna para a coluna.
Este vapor sobe at o prato imediatamente acima e devido diferena de presso atravessa
os pequenos orifcios da bandeja na forma de bolhas. Esse vapor mais quente aquece o
lquido da bandeja e tambm produzir vapor que se juntar a este e subiro para o prato
CAPTULO 3. CONTROLE DE COLUNA DE DESTILAO 28
acima e assim sucessivamente. Desta forma, estabelece-se um gradiente de temperatura
em toda coluna, mais quente na base e mais frio no topo.
As bolhas de vapor tm a funo de melhorar a pureza do vapor. Assim, o vapor que
sai do prato ao atravessar os pratos superiores, dependendo da temperatura e presso que
encontra, volta a liquefazer-se e desce novamente para a base, melhorando a concentrao
dos produtos, enquanto os mais volteis sobem pelos pratos em direo ao topo da coluna.
A gura 3.2 mostra em detalhes os uxos de lquido e vapor que uem pela coluna.
Figura 3.2: Dinmica interna de operao da coluna
Portanto, existe ao longo da coluna um gradiente de temperatura e de presso. Na
base, mais perto do refervedor, tem-se maior concentrao do componente mais pesado e,
portanto maior presso. Conforme se sobe, o lquido menos voltil predomina e a presso
diminui. Logo, a composio da mistura em cada bandeja vai variando conforme a altura
desta. O nmero de pratos da coluna diretamente proporcional pureza dos produtos
nais. Muitos outros fatores tambm inuenciam a pureza do destilado, dentre eles: tipo
de prato, tipo de encapsulamento, distncia entre pratos, etc.
O vapor que sobe pelos pratos chega ao topo da coluna e passa pelo condensador
que retira calor e o liquefaz. Uma parte deste liquido do condensador, o reuxo, volta
para o prato mais alto da coluna de onde comea a descer escorregando pelos pratos e,
de acordo com a temperatura que possui, o componente mais voltil volta a evaporar
e sobe novamente melhorando a pureza no topo da coluna. A outra parte do lquido
do condensador retirada como produto destilado nal. Se o condensador for parcial -
quando liquefaz apenas uma parte do vapor que recebe - pode haver retirada tambm na
CAPTULO 3. CONTROLE DE COLUNA DE DESTILAO 29
forma de destilado vapor. Na base da coluna tambm feita uma retirada do produto mais
pesado como produto nal.
3.2 Sistema de Controle
O controle de uma unidade de destilao deve atender trs necessidades bsicas: man-
ter o balano de massa, atingir a qualidade desejada e atender s restries do processo.
No primeiro aspecto busca-se manter os nveis na base e no acumulador de maneira que
no ocorra nem a inundao nem o "esvaziamento"da coluna. No controle de qualidade
espera-se garantir a qualidade dos produtos, atravs de uma ou mais composies. Restri-
es impem limitaes em virtude da dinmica do processo, como o uso de temperatura,
vazes e presses elevadas ou baixas [MARANGONI 2005].
[KALID n.d.] arma que alm dessas restries operacionais tpicas, as colunas de
destilao apresentam restries hidrulicas, na separao e de transferncia de calor.
Nesse mesmo trabalho explicada cada uma dessas restries; os principais mtodos
para criao de estratgias de controle de uma coluna de destilao; regras para seleo e
instalao de sensores e vlvulas de controle; tambm, mtodos para inferir importantes
variveis de uma coluna de destilao, como por exemplo, a composio do produto de
sada da mesma.
A maior parte do contedo das prximas subsees deste captulo baseada nesse
curso de controle de coluna de destilo oferecido por Kalid devido ao excelente con-
tedo, didtica e forma como foi abordado o assunto. Portanto, o que no for referenciado
a seguir neste captulo atribui-se desde j os crditos a [KALID n.d.].
3.2.1 Pares de Variveis Controladas e Manipuladas (PV - MV)
Para a denio de um sistema de controle adequado necessrio conhecer a dinmica
do processo. O primeiro passo consiste em estudar quais variveis do processo se deseja
manter em um ponto de operao constante (variavis controladas - PV) e quais podem
ser ajustadas dentro de uma faixa (variavis manipuladas - MV). Alm disso, necessrio
identicar quais variveis atuam como perturbaes no processo [MARANGONI 2005].
A Fig. 3.3 mostra uma coluna de destilao com duas retiradas e seis vlvulas de
controle. Uma dessas vlvulas utilizada para controle da produo, normalmente a da
vazo de alimentao (F). Porm, em alguns casos, quando a coluna opera sob demanda
CAPTULO 3. CONTROLE DE COLUNA DE DESTILAO 30
(on-demand), a vlvula associada ao controle da produo uma de produto. Em outras
situaes, quando a limitao da vazo devida capacidade de troca trmica no conden-
sador ou refervedor, a produo denida pelas vlvulas do uido de resfriamento ou de
aquecimento [KALID n.d.].
Figura 3.3: Vlvulas de controle em uma coluna de destilao
As variveis indicadas na Fig. 3.3 so detalhadas a seguir:
D - vazo de destilado;
B - vazo de fundo;
R - vazo de reuxo
F - vazo de alimentao;
z
i
-frao molar do componente i da alimentao;
Q
C
- carga trmica do condensador;
Q
R
-carga trmica do refervedor;
V - vazo do uido de aquecimento do refervedor;
RR - razo de reuxo, RR = R/D;
N
F
- prato de alimentao;
N
T
- nmero total de pratos;
CAPTULO 3. CONTROLE DE COLUNA DE DESTILAO 31
x
Di
- frao molar da substncia i no destilado;
x
Bi
- frao molar da substncia i no resduo.
Duas dessas vlvulas devem ser utilizadas para controle do nvel do vaso de reuxo e
do nvel do fundo da coluna. Normalmente, o nvel do tambor de topo controlado atravs
da manipulao da vazo de reuxo (R), do destilado (D) ou da vazo de alimentao (F),
quando a carga da coluna parcialmente vaporizada.
O nvel do fundo da coluna tem como varivel manipulada a vazo de fundo (B), o
uido de aquecimento do refervedor (V) ou a vazo de alimentao (F), quando a carga da
coluna est parcialmente em fase lquida e o nmero de pratos na seo de esgotamento
no muito elevado.
Pares entre variveis manipuladas do topo da coluna comvariveis controladas da base
da coluna (ou vice-versa) no so a melhor combinao pois reforam a caracterstica do
tempo morto na coluna de destilao [HUROWITZ et al. 2003]. O tempo morto em cada
prato numa coluna de destilao , geralmente. entre 3 e 6 segundos. Portanto, uma
coluna com 30 pratos na seo de reticao, apresenta um atraso entre 1,5 e 3 minutos,
entre o prato de alimentao e o fundo da coluna. Por esse motivo, normalmente, o reuxo
no utilizado para controlar o nvel do fundo da coluna, a menos que existam menos de
30 pratos e o holdup da base seja elevado (maior que 10 minutos).
A quarta vlvula utilizada para controlar a presso na coluna. Para esta malha,
normalmente a varivel manipulada a vazo de uido refrigerante, de uido de aqueci-
mento ou da alimentao, quando esta parcialmente vaporizada. Se em um condensador
inundado utilizado a vlvula do uido refrigerante em 100% aberta, e uma vlvula de
controle instalada na sada do uido condensado, restringindo a sua passagem, o nvel
do trocador sobe, diminuindo a rea para troca trmica com um consequente aumento na
presso da coluna, e vice-versa.
Ento restam-nos 2 vlvulas. Essas podem ser utilizadas para controle da qualidade
da separao. Portanto s podemos controlar duas composies, mas no qualquer duas
variveis. Portanto, numa separao multicomponente no possvel controlar duas ou
mais composies numa mesma corrente.
Outra impossibilidade ocorre quando controlamos a qualidade numa seo e na ou-
tra seo da coluna queremos manipular a vazo de descarga para controlar a produo.
Digamos, por exemplo, que xamos a vazo de destilado (D). Ora se a vazo da carga
constante, ento, pelo balano global na coluna, a vazo de resduo conhecida. Como a
qualidade da base controlada, o balano molar por componente pode no ser atendido,
CAPTULO 3. CONTROLE DE COLUNA DE DESTILAO 32
caso o setpoint alcance valores sicamente incompatveis.
Os objetivos da produo normalmente exigem que os produtos sejam entregues com
qualidade. Esta necessidade implica que a composio seja mantida constante
[DESHPANDE 1985]. Para tanto so ajustadas a carga trmica no refervedor e a vazo
de reuxo.
Segundo [REMBERG et al. 1994], [SKOGESTAD 1997], [BUCKEY et al. 1985],
[SHINSKEY 1984] e [RADEMAKER et al. 1975], a maioria das colunas de destilao
tratada como um sistema 5 x 5. As variveis que se deseja controlar normalmente so os
nveis da base e do acumulador, a presso da coluna e as composies das correntes de
produto. Para atender a estas especicaes, diversas combinaes de pares de variveis
controladas e manipuladas (PV-MV) so possveis e algumas so apresentadas na Tabela
3.1.
NOME DA
ESTRUTURA
CONTROLE DE QUALIDADE CONTROLE DO BALANO DE
MASSA
PV MV PV MV
R-V Composio do topo R Nvel do acumulador D
Composio da base V Nvel da base B
D-V Composio do topo D Nvel do acumulador R
Composio da base V Nvel da base B
RR-V Composio do topo RR Nvel do acumulador D
Composio da base V Nvel da base B
R-B Composio do topo R Nvel do acumulador D
Composio da base B Nvel da base V
R-Q
C
Composio do topo R Nvel do acumulador D
Composio da base Q
C
Nvel da base B
D-Q
C
Composio do topo D Nvel do acumulador R
Composio da base Q
C
Nvel da base B
RR-Q
C
Composio do topo RR Nvel do acumulador D
Composio da base Q
C
Nvel da base B
Tabela 3.1: Alguns exemplos de pares de variveis controladas e manipula-
das para uma coluna de destilao.
CAPTULO 3. CONTROLE DE COLUNA DE DESTILAO 33
A escolha entre qual par (PV-MV) deve ser usado realizada com base em quais
variveis podem ser medidas e controladas com mxima preciso. Outro fator decisivo
consiste na interao entre as malhas de controle. Em muitos casos, assume-se que a
manuteno da presso e dos nveis (ou seja, o balano de massa) pode ser controlado
desconsiderando interaes, pois essas so mais fracas do que as existentes entre o con-
trole da qualidade dos produtos da coluna. Assim, o sistema que era 5 x 5, passa a ser
considerado apenas 2 x 2 [SHINSKEY 1996].
O controle simultneo de duas composies ou temperaturas denominado de con-
trole dual (dual composition control). Esta estrutura de controle, quando funciona, a
mais indicada. Entretanto, em muitos casos, impossvel controlar as duas malhas, ento
apenas uma varivel controlada, controle singular (single composition control).
As vezes apenas o controle singular possvel devido a uma das seguintes razes:
1. Controle dual mais difcil de sintonizar;
2. Frequentemente a medio direta da concentrao onerosa ou mesmo impossvel,
neste caso devemos utilizar a temperatura para estimar a concentrao (controle
inferencial). Neste caso, muitas vezes somente existe um prato no qual a medio
da temperatura representa adequadamente a separao.
Em muitos casos, o processo de destilao precede as etapas nais da produo de
um determinado composto. Portanto o sistema de controle de uma unidade no pode
ser visto isolado e independente do comportamento global da indstria. Ou seja, no se
pode perder de vista que a coluna apenas uma unidade da planta, portanto afeta e
afetada por mudanas operacionais de unidades a montante ou a jusante. Sendo assim, as
perturbaes as que o processo est sujeito consistem em alteraes na alimentao que
podem ser minimizadas atravs do controle das etapas precedentes coluna de destilao
[RYS 1984].
3.2.2 Graus de Liberdade
A anlise dos graus de liberdade de um processo indica o nmero mximo de variveis
controladas que este processo pode ter, e pode ser obtida de duas maneiras: pela anlise
quantitativa do sistema e pela anlise qualitativa.
No clculo dos graus de liberdade para os propsitos de controle so eliminados al-
guns graus devido s perturbaes externas pois apesar da intensidade desse distrbio ser
CAPTULO 3. CONTROLE DE COLUNA DE DESTILAO 34
desconhecida o processo "reconhece"(reage perturbao), diminuindo assim os graus de
liberdade. Observe que para os propsitos de projeto estacionrio de colunas de destilao
essas variveis aumentam os graus de liberdade.
A anlise quantitativa exige o entendimento minucioso dos fenmenos fsicos presen-
tes no processo e detalhado em [KALID n.d.].
Anlise quantitativa
Para os propsitos do controle de processos a denio de graus de liberdade de um
sistema tem uma pequena diferena em relao a denio utilizada no projeto de um
processo. O grau de liberdade (L) pode ser denido como:
L = X (E +P+N+C) (3.1)
onde X - n
o
de variveis,
E - n
o
de equaes,
P - n
o
de parmetros conhecidos,
N - n
o
de distrbios externos,
C - n
o
de controladores.
Se L for maior que 0 (zero) ento o processo (ou pelo menos alguma varivel de pro-
cesso) no estar sob controle. Se L for menor que 0 (zero) ento existem controladores
em excesso e eles estaro "brigando"entre si, um tentando suplantar o outro. Portanto
para um processo estar sob controle o nmero de controladores deve ser igual a:
C = X (E +P+N) (3.2)
No Apndice D exemplicado o clculo do grau de liberdade de uma coluna binria
ideal.
3.2.3 Controle de Composio e de Temperatura
A nalidade de uma unidade de destilao a separao de uma mistura em duas ou
mais correntes com composies especicadas, logo essencial que seja feito o controle
da qualidade do destilado ou do produto de fundo.
Para controlar a qualidade do destilado podemos manipular a vazo de reuxo (R),
CAPTULO 3. CONTROLE DE COLUNA DE DESTILAO 35
pois com o aumento do reuxo o destilado tende a car mais rico nos produtos mais leves.
Analogamente a composio do produto de fundo pode car mais rica em substncias
mais pesadas se for aumentada a vazo do uido de aquecimento do refervedor.
Portanto (R) uma varivel manipulada que controla, por exemplo a qualidade do
destilado (varivel controlada), enquanto (V) outra varivel manipulada associada com
a qualidade do produto de fundo (varivel controlada).
Porm a medio em linha da composio uma tarefa complexa e cara. Como solu-
o alternativa utiliza-se a temperatura para inferir a composio, nestes casos a varivel
controlada a temperatura ou a diferena de temperatura entre dois pratos da coluna.
Temperatura Composio
Historicamente a temperatura tem sido a varivel medida mais utilizada no monito-
ramento (inferncia) e controle da separao, pois os instrumentos de medio de tem-
peratura so simples, tem resposta rpida, so relativamente baratos e seguros, tm alta
padronizaes e no requerem um complicado sistema de amostragem. Em torno de 75%
das colunas de destilao utilizam a temperatura para inferir a qualidade da separao.
Contudo, para muitas colunas, o controle de temperatura no satisfaz os objetivos da se-
parao, nesses casos a medio direta da composio deve ser considerada.
Limitaes dos Termmetros
A inferncia da composio a partir da temperatura s exata para sistema binrio,
com a compensao da variao da presso. Apesar disto a composio dos sistemas
multicomponentes pode ser inferida a partir da sua temperatura.
Alm disso existem misturas multicomponentes no-ideais, com comportamento ter-
modinmico complexo, no qual a temperatura umfraco indicador da composio, mesmo
com a compensao da presso. Por exemplo numa unidade de recuperao de cido ac-
tico (trata-se de uma destilao azeotrpica) o controle da temperatura tem um baixo
desempenho.
Limitaes dos Analisadores
Apesar do desenvolvimento de novas tecnologias para instrumentao analtica tor-
narem a cada dia o uso de analisadores on-line mais vivel no controle de processos, e
CAPTULO 3. CONTROLE DE COLUNA DE DESTILAO 36
das vantagens que o controle da composio apresenta, ainda hoje esses instrumentos tem
certas limitaes:
Custo: Analisadores on-line de processos geralmente tem custo inicial e de manuteno
elevados.
Estrutura auxiliar: Analisadores em-linha de processos requerem equipamentos auxili-
ares (amostradores, condicionadores de amostras, padres para calibrao, ambien-
tes condicionados) que devem ser projetados, comprados e mantidos.
Tempo de resposta: A maioria analisadores so relativamente lentos, particularmente se
um mesmo instrumento multiplexa muitas correntes.
Aplicao especca: Ao contrrio dos termmetros, os analisadores so especcos para
cada aplicao.
3.3 Sensores Virtuais
Uma alternativa interessante, mas infelizmente ainda pouco utilizada nos sistemas
de controle, so os sensores ou analisadores virtuais (soft sensors). Esses analisadores
virtuais so algoritmos matemticos que utilizam variveis que so mais fceis e/ou mais
rpidas de medir para inferir ou estimar o valor de outras [WANG et al. 1996].
Segundo [ZANATA 2005], as variveis de interesse em processos industriais so nor-
malmente variveis fsicas e qumicas, sendo que as mais comuns so temperatura, pres-
so, vazo e nvel. Para medir as variveis fsicas, h uma grande variedade de sensores
e transdutores com boa preciso, normalmente disponveis a custos bastante acessveis
para as indstrias e que operam com tempos de respostas baixos, da ordem de dcimos de
segundo, ou no pior caso, de poucos segundos.
Usualmente, as variveis de difcil medio em um processo industrial so as variveis
qumicas ou bioqumicas relacionadas com composio, como medio de DO (concen-
trao de oxignio dissolvido), O2, CO, CO2, NH3 ou outras variveis relacionadas com
biomassa. H muitos casos em que as anlises so feitas em laboratrio, atravs da coleta
de amostras e o tempo de resposta pode ser de minutos ou at mesmo de horas.
Dessa forma, controlar e monitorar em tempo real a qualidade dos produtos de sada
de uma planta torna-se muito difcil. Portanto, o desenvolvimento de sensores virtuais
para modelos de plantas torna possvel a estimao dessas variveis permitindo a imple-
mentao de um sistema de controle mais eciente.
CAPTULO 3. CONTROLE DE COLUNA DE DESTILAO 37
Existem vrios tipos de modelos para representar o comportamento da composio
numa determinada corrente, como, por exemplo, um modelo fenomenolgico rigoroso,
uma rede ou ainda em estimador determinstico ou estocstico.
Captulo 4
Testes e Resultados
Neste captulo sero apresentados e analisados os resultados obtidos na validao do
ambiente hbrido. Esse resultados so importantes, pois deixa claro que possvel imple-
mentar um sistema de controle para uma planta simulada atravs de uma rede industrial
Foundation Fieldbus.
4.1 Testes Realizados
Os primeiros testes realizados foram para assegurar que as placas de converso D/A
e A/D conectadas respectivamente aos conversores V/I e I/V, assim como a prpria rede
industrial Foundation Fieldbus esto trabalhando dentro dos padres de tenso e corrente
especicados no Captulo 2.
Primeiro, foram congurados no software de congurao para redes industriais
SYSCOM
R
da SMAR, os IFs, para leitura, e os FIs, para escrita, de sinais de 4-20mA nos
seus respectivos canais, e desenvolvido um supervisrio simples, no Elipse SCADA
R
,
para visualizao e congurao desses sinais de corrente, respectivamente, para os IFs e
FIs. Tanto o SYSCOM
R
assim como o Elipse SCADA
R
esto instalados na Estao de
Superviso.
Na Estao de Simulao, foi utilizado o programa de teste/congurao da placa
PCI-1724U para setar sinais de tenso (0 10 V) na saidas dos canais D/A e dessa forma
vericar na Estao de Superviso se os valores de corrente que chegam na rede industrial
FF equivale aos sinais de tenso enviados atravs da placa D/A. Agura 4.2 detalha o teste
realizado. Verica-se na gura 4.2 (d) que o Canal 1 do IF-7121 est recebendo um valor
de corrente acima do esperado. Ento, para esse caso, vericou-se a necessidade de ajuste
da corrente de spam (20mA) do mdulo conversor V/I conectado ao canal dessa IF.
CAPTULO 4. TESTES E RESULTADOS 39
(a) Estao de Simulao: Tenso
min
setada (b) Corrente na rede
FF p/ Tenso
min
se-
tada
(c) Estao de Simulao: Tensao
max
setada (d) Corrente na rede
FF p/ Tenso
max
se-
tada
Figura 4.1: Medio dos sinais de corrente que chegam nos canais da rede FF, (b) e (d),
quando congurado as tenses de 0 (a) e 10 Volt (c) na sada de 9 canais da placa D/A
CAPTULO 4. TESTES E RESULTADOS 40
Tambm foi utilizado o programa da placa PCI-1713 para vericar os valores de ten-
so que chegam nos canais A/D (-2 -10 V) a partir de sinais de corrente de 4 - 20mA
setados na rede FF atravs do supervisrio desenvolvido. A gura 4.2 detalha o teste
realizado.
(a) Estao de Su-
perviso: I
min
setada
(b) Tenso na placa A/D p/ I
min
setada
(c) Estao de Su-
perviso: I
max
setada
(d) Tenso na placa A/D p/ I
max
setada
Figura 4.2: Medio dos sinais de tenso que chegam nos canais da placa A/D, (b) e (d),
quando congurado as correntes de 4 (a) e 20 mA (c) na sada de 6 canais FIs da rede FF
CAPTULO 4. TESTES E RESULTADOS 41
O segundo teste realizado vericou a medio de variveis da planta simulada pelos
dispositivos IFs da rede FF. As guras 4.3 (a) e (b) mostram os testes realizados para
validao do sistema de medio. Na parte esquerda dessas guras mostrado respecti-
vamente em cada uma a leitura de uma varivel de presso e a de temperatura pela fer-
ramenta Comunicao HYSYS. A ferramenta juntamente com a placa D/A converte essas
variveis em sinais analgicos externos que podem ser lidos pelos IFs depois de passa-
rem pelo circuito V/I. Os IFs foram congurados no SYSCOM
R
para trabalhar com a
mesma escala de medio congurada na ferramenta Comunicao HYSYS para varivel
monitorada. Ento, na parte esquerda de cada gura mostrado o display de indicao de
medio desses sinais analgicos pelos respectivos dispositivos da rede industrial FF.
(a)
(b)
Figura 4.3: Teste para validao da medio no ambiente hbrido
O prximo teste realizado valida o sistema de atuao ao mesmo tempo em que pos-
sibilita uma melhor viso de como ser a implementao das estratgias de controle utili-
zando o ambiente desenvolvido.
Foi realizado apenas o estudo do comportamento da varivel de nvel de um tanque
de reuxo (ou acumulador) presente na simulao de uma torre debutanizadora.
CAPTULO 4. TESTES E RESULTADOS 42
Primeiramente, foi estudado o comportamento da varivel de nvel do acumulador
utilizando o prprio elemento de controle existente na base de dados do HYSYS
R
para
depois compar-lo ao comportamento dessa mesma varivel quando controlada por um
bloco PID instanciado nas unidades de processamento dos dispositivos FF instalados na
rede didtica presente no laboratrio.
A simulao da torre debutanizadora mostrada na gura 4.4. O acumulador a ser
controlado est destacado pela circunferncia vermelha.
Figura 4.4: Simulao de uma torre debutanizadora
Nessa simulao o nvel do acumulador controlado por um "objeto" PID disponvel
na prpria base de dados do HYSYS
R
denominado LIC-102. Os parmetros de con-
gurao desse controlador como setpoint, sinal medido e sinal de controle equivalem
respectivamente aos campos SP, PV e OP da janela de propriedades mostrada na gura
4.5.
CAPTULO 4. TESTES E RESULTADOS 43
Esse controlador est conectado a vlvula VLV-103. Esta vlvula est conectada a
uma corrente de sada do acumulador. Portanto se esta vlvula se fecha, o nvel do acu-
mulador tende a subir. Caso ela se abra, o nvel do acumulador descer.
Figura 4.5: Janela de propriedades da unidade de de controle presente no HYSYS
R
O grco da gura 4.6 mostra o comportamento desse controlador para um setpoint de
50% (nvel do tanque = 50%). O acumulador est inicialmente vazio. As linhas vermelha,
verde e azul correspondem respectivamente ao sinal de controle (OP), sinal medido (PV)
e setpoint (SP).
Figura 4.6: Controle PI do nvel do tanque do acumulador utilizando o controlador do
prprio HYSYS
R
CAPTULO 4. TESTES E RESULTADOS 44
Para o controle do nvel do acumulador utilizando a rede industrial Foundation Field-
bus foi implementado uma lgica de controle utilizando o software de congurao para
redes industriais SYSCOM
R
. A gura 4.7 mostra a implementao dessa lgica que
baseada em blocos e descritores de dispositivos.
Figura 4.7: Lgica de blocos implementado um controlador PID para um ambiente de
redes industriais Foundation Fieldbus
Com a implementao do controlador no ambiente de redes industriais Foundation
Fieldbus, o controlador LIC-102 pode ser excludo da planta simulada. O prximo passo
a congurao da ferramenta para medio e atuao na planta simulada (Comunicao
HYSYS). Essas aes so exemplicadas na gura 4.8.
No programa Comunicao HYSYS, deve ser selecionada a varivel Liquid Percent
Level do acumulador (V-100) para medio e associar a varivel Percentagen open da
vlvula VLV-103 ao canal da placa A/D conectada a um FI responsvel pela atuao
nessa vlvula.
O grco da gura 4.9 mostra o comportamento do nvel do tanque para o novo con-
trolador implementado. Esse controlador foi sintonizado com os mesmos ganhos e tempo
integrativo do LIC-102 e condies iniciais de operao com setpoint de 50% e nvel do
acumulador igual a 0% da mesma forma como foi realizado no teste anterior. Esses par-
metros foram denidos nas especicaes do bloco funcional PID dentro do congurador
SYSCOM
R
. Percebe-se que o grco (gura 4.9) do controlador instanciado na rede
Foundation Fieldbus muito parecido com o grco (gura 4.6) do controlador LIC-102,
o que valida o sistema de atuao na planta simulada. O setpoint no est denido nesse
grco pois o mesmo foi plotado no HYSYS
R
na "Estao de Simulao" e como agora o
controlador est instanciado na rede industrial FF o valor do setpoint denido no sistema
supervisrio da Estao de "Congurao/Superviso".
CAPTULO 4. TESTES E RESULTADOS 45
Figura 4.8: Aes realizadas para controle do nvel do acumulador na planta simulada
atravs da rede FF
Figura 4.9: Controle para o nvel do tanque do acumulador implementado no ambiente de
redes industriais Foundation Fieldbus
CAPTULO 4. TESTES E RESULTADOS 46
No Elipse SCADA foi feito o supervisionamento do controle do nvel do acumulador
(Fig. 4.10). Os grcos das guras 4.9 e 4.10 foram traados ao mesmo tempo, o pri-
meiro no supervisrio da "Estao de Congurao/Superviso" e o segundo no HYSYS
R
na "Estao de Simulao". Percebe-se ento que a planta simulada est sendo supervisi-
onada na "Estao de Congurao/Superviso" como se a mesma fosse real.
Figura 4.10: Supervisionamento da varivel controlada no Elipse SCADA
Captulo 5
Concluso
No trabalho foram apresentados os detalhes de desenvolvimento do ambiente que ser
utilizado para simulao e controle da coluna de destilao. Tambm foi feito um estudo
sobre o controle de colunas de destilao e citados os principais componentes do ambiente
e estratgias de comunicao entre a Estao de Simulao e a rede industrial Foundation
Fieldbus presente no laboratrio.
Na Estao de Simulao est instalado um simulador de processos qumicos que
apresenta grande delidade na construo e simulao de um vasto nmero de plantas
presentes na indstria petroqumica, apresentando na sua base de dados componentes
qumicos, mtodos termodinmicos, ferramentas para caracterizao de uidos de petr-
leo e criao de componentes hipotticos, e operaes unitrias como equipamentos de
separao, trocadores de calor, tubulaes e vlvulas.
Sendo assim, por permitir a construo de modelos eis de plantas reais, a escolha
desse simulador para o ambiente proposto considerada de grande importncia pois as-
segura que os sensores virtuais e estratgias de controle desenvolvidas para uma planta
simulada nesse ambiente sejam ecazes quando forem transferidos para a planta real equi-
valente.
Viu-se que o ambiente hbrido permite a implementao de algoritmos inteligentes
no ambiente de redes industriais Foundation Fieldbus para medio indireta de variveis
de processo, deteco de falhas, degradao em sistemas de medio e implementao
distribuda de estratgias de controle, tornando possvel criar um sistema de controle real
para uma planta simulada, como no caso do controle da coluna de destilao proposto
neste trabalho.
Portanto, utilizar o ambiente hbrido desenvolvido para estudo e melhoria de um de-
terminado processo torna-se vantajoso, j que o mesmo auxilia no desenvolvimento de
CAPTULO 5. CONCLUSO 48
estratgias de controle mais ecientes e de algoritmos inteligentes, assim com na escolha
da tecnologia e especicaes de instrumentao mais adequados para o processo, no
havendo necessidade de interferncia no processo industrial real, o que acarretaria mai-
ores custos nanceiros e eventuais problemas de operao na planta. Sem contar que os
processos de uma planta real esto susceptveis a interrupes para manuteno, de tal
forma que acabaria prejudicando o estudo para melhor operao da mesma.
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Apndice A
Layout do circuito conversor V/I
O circuito projetado apresenta 18 (dezoito) mdulos conversores de loops de corrente
para tenso e constitudo por 2 (duas) placas, que se encaixam. Uma (gura B.1) que
possibilita o ajuste das correntes de offset (4mA) e spam (20mA) de cada mdulo (gura
2.4) por um operador, atravs dos potencimetros R
1
e R
2
, e a outra (gura A.2) que
implementa as conexes necessrias no XTR110 para converso do padro de 0 - 10V
para 4 - 20mA. O material necessrio para desenvolvimento e encapsulamento das placas
projetadas no software Eagle 5.6.0 est descrito abaixo:
1 BORNE S H S MOD. KRE 02 - 2 TERMINAIS (CCI 02);
6 BORNERS S H S MOD. KRE 03 - 3 TERMINAIS (CCI 03);
1 CAIXA PATOLA MOD. PB 108 TE- 116 X 75 X 32;
1 CAIXA PATOLA MOD. PB 119/2 TE - 52 X 110 X 190;
1 CAPAC. ELET. BIPOLAR - 4,7 MF X 50 V - RADIAL;
2 CONECTORES IDC HEADER MACHO - 20 VIAS B. PERFIL - 180 G.;
18 RESISTORES DE CARBONO CR 25 - 0,25 W. - 56 K
18 SOQUETES P/CIRC. INTEGRADO - 16 PINOS - ESTAMPADO;
2 SOQUETES P/CIRC. INTEGRADO - BARRA 50P- B-USO-W
2 SOQUETES P/CIRC. INTEGRADO - BARRA 50P- TORNEADO;
36 TRIMPOT DE 25 VOLTAS (64W)= 3296W-1-504 = 500 K;
0.50m FIO (CABO) PLANO TWO - 20 X 28 AWG - CINZA;
2 CONECTORES LATCH FEMEA - 20 VIAS C/ALIVIADOR;
1 PLACA DE FENOLITE FACE SIMPLES - 15 X 20 CM;
1 PLACA DE FENOLITE FACE DUPLA - 15 X 20 CM e
18 TRANSISTORES MOSFET PNP - RF9530NPBF.
A
P

N
D
I
C
E
A
.
L
A
Y
O
U
T
D
O
C
I
R
C
U
I
T
O
C
O
N
V
E
R
S
O
R
V
/
I
5
3
1
0
0
k
1
0
0
k
5 6 k
1
0
0
k
1
0
0
k
1
0
0
k
1
0
0
k
1
0
0
k
1
0
0
k
1
0
0
k
1
0
0
k
1
0
0
k
1
0
0
k
1
0
0
k
1
0
0
k
1
0
0
k
1
0
0
k
1
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0
k
1
0
0
k
1
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0
k
1
0
0
k
1
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0
k
1
0
0
k
1
0
0
k
1
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0
k
1
0
0
k
1
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0
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0
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1
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0
k
1
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k
1
0
0
k
1
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0
k
1
0
0
k
1
0
0
k
1
0
0
k
1
0
0
k
K R E 1K R E 2K R E 3K R E 4K R E 5K R E 6
2 5 2 0 -
K R E 7
R
1
R
2
R 3
R
4
R
5
R
7
R
8
R
1
0
R
1
1
R
1
3
R
1
4
R
1
6
R
1
7
R
1
9
R
2
0
R
2
2
R
2
3
R
2
5
R
2
6
R
2
8
R
2
9
R
3
1
R
3
2
R
3
4
R
3
5
R
3
7
R
3
8
R
4
0
R
4
1
R
4
3
R
4
4
R
4
6
R
4
7
R
4
9
R
5
0
R
5
2
R
5
3
X 1X 3X 4X 5X 6X 7
X 2
X 8
33
33
33
33
33
3333
33
33
3333
33
33
33
33
33
33
33
3
1
3
1
3
1
3
1
3
1
3
1
3
1
3
1
3
1
3
1
3
1
3
1
3
1
3
1
3
1
3
1
3
1
3
1
3
1
3
1
3
1
3
1
3
1
3
1
3
1
3
1
3
1
3
1
3
1
3
1
3
1
3
1
3
1
3
1
3
1
3
1
12312312312312312312
PAD3
PAD5
PAD1
PAD2
PAD6
PAD7
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PAD9
PAD10 PAD12
PAD13
PAD14
PAD15
PAD16 PAD18
PAD19
PAD20
PAD21
PAD22 PAD24
PAD25
PAD26
PAD27
PAD28 PAD30
PAD31
PAD32
PAD33
PAD34 PAD36
PAD37
PAD38 PAD39
PAD40
PAD41 PAD42
PAD43
PAD44
PAD45
PAD46 PAD48
PAD49
PAD50
PAD51
PAD52 PAD54
PAD55
PAD56
PAD57
PAD58
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PAD60 PAD62
PAD63
PAD64
PAD65
PAD66 PAD68
PAD69
PAD70
PAD71
PAD72
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PAD74 PAD76
PAD77
PAD78
PAD79
PAD80 PAD82
PAD83
PAD84
PAD85
PAD86
PAD87
PAD88 PAD90
PAD91
PAD92
PAD93
PAD94 PAD96
PAD97
PAD98
PAD99
PAD100
PAD101
PAD102 PAD104
PAD105
PAD106
PAD107
P
A
D
1
0
8
PAD110
PAD111
PAD112
PAD113
PAD114
PAD115
PAD116 PAD118
PAD119
PAD120
PAD121
PAD122
PAD123
PAD124
PAD125
PAD126
PAD127
R6
PAD128
R9
P
A
D
1
2
9
R12
PAD130
R15
PAD131
R18
PAD132
R21
PAD133
R24
PAD134
R27
PAD135
R30
PAD136
R33
PAD137
R36
PAD138
R39
PAD139
R42
PAD140
R45
PAD141
R48
PAD142
R51
PAD143
R54
PAD144
X9
PAD4
PAD11
56k
56k
56k
56k
56k 56k
56k
56k
56k 56k
56k
56k
56k
56k
56k
56k
56k
BTOR1
Figura A.1: Placa 1 - para ajuste das correntes de offset (4mA) e spam (20mA) dos mdulos conversores V/I da Placa 2 (gura A.2)
A
P

N
D
I
C
E
A
.
L
A
Y
O
U
T
D
O
C
I
R
C
U
I
T
O
C
O
N
V
E
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S
O
R
V
/
I
5
4
IC1
C1
PAD3
PAD5
PAD1
PAD2
PAD6
IC2
C2
PAD7
PAD8
PAD9
PAD10 PAD12
IC3
C3
PAD13
PAD14
PAD15
PAD16 PAD18
Q4
Q1
Q2
IC4
C4
PAD19
PAD20
PAD21
PAD22 PAD24
Q3
IC5
C5
PAD25
PAD26
PAD27
PAD28 PAD30
Q5
IC6
C6
PAD31
PAD32
PAD33
PAD34 PAD36
Q6
PAD37
PAD38 PAD39
PAD40
PAD41 PAD42
IC7
C7
PAD43
PAD44
PAD45
PAD46 PAD48
Q7
IC8
C8
PAD49
PAD50
PAD51
PAD52 PAD54
Q8
PAD55
PAD56
IC9
C9
PAD57
PAD58
PAD59
PAD60 PAD62
Q9
IC10
C10
PAD63
PAD64
PAD65
PAD66 PAD68
Q10
PAD69
PAD70
IC11
C11
PAD71
PAD72
PAD73
PAD74 PAD76
Q11
IC12
C12
PAD77
PAD78
PAD79
PAD80 PAD82
Q12
PAD83
PAD84
IC13
C13
PAD85
PAD86
PAD87
PAD88 PAD90
Q13
IC14
C14
PAD91
PAD92
PAD93
PAD94 PAD96
Q14
PAD97
PAD98
IC15
C15
PAD99
PAD100
PAD101
PAD102 PAD104
Q15
IC16
C16
PAD105
PAD106
PAD107
P
A
D
1
0
8
PAD110
Q16
PAD111
PAD112
IC17
C17
PAD113
PAD114
PAD115
PAD116 PAD118
Q17
IC18
C18
PAD119
PAD120
PAD121
PAD122 PAD124
Q18
PAD125
PAD126
PAD127
PAD128
PAD129 PAD130
PAD131
PAD132 PAD133 PAD134
PAD135
PAD136
PAD137 PAD138 PAD139
PAD140
PAD141 PAD142 PAD143
PAD144
PAD4 PAD11
PAD17
X
T
R
1
1
0
A
4.7uF
X
T
R
1
1
0
A
4.7uF
X
T
R
1
1
0
A
4.7uF
IRF9530
IRF9530
IRF9530
X
T
R
1
1
0
A
4.7uF
IRF9530
X
T
R
1
1
0
A
4.7uF
IRF9530
X
T
R
1
1
0
A
4.7uF
IRF9530
X
T
R
1
1
0
A
4.7uF
IRF9530
X
T
R
1
1
0
A
4.7uF
IRF9530
X
T
R
1
1
0
A
4.7uF
IRF9530
X
T
R
1
1
0
A
4.7uF
IRF9530
X
T
R
1
1
0
A
4.7uF
IRF9530
X
T
R
1
1
0
A
4.7uF
IRF9530
X
T
R
1
1
0
A
4.7uF
IRF9530
X
T
R
1
1
0
A
4.7uF
IRF9530
X
T
R
1
1
0
A
4.7uF
IRF9530
X
T
R
1
1
0
A
4.7uF
IRF9530
X
T
R
1
1
0
A
4.7uF
IRF9530
X
T
R
1
1
0
A
4.7uF
IRF9530
Figura A.2: 18 Placa 2 - 18 (dezoito) mdulos conversores V/I implementados com o XTR110KP
Apndice B
Layout do circuito conversor I/V
O circuito projetado apresenta 18 mdulos conversores de corrente para tenso. Cada
mdulo constitudo de dois potencimetros em srie, um de 1K e outro de 100 (para
ajuste mais no).O material necessrio para desenvolvimento e encapsulamento da placa
projetada no software Eagle 5.6.0 est descrito abaixo:
1 BORNE S H S MOD. KRE 02 - 2 TERMINAIS (CCI 02);
6 BORNERS S H S MOD. KRE 03 - 3 TERMINAIS (CCI 03);
1 CAIXA PATOLA MOD. PB 108 TE- 116 X 75 X 32;
1 CAIXA PATOLA MOD. PB 119/2 TE - 52 X 110 X 190;
2 CONECTORES IDC HEADER MACHO - 20 VIAS B. PERFIL - 180 G.;
18 TRIMPOT DE 25 VOLTAS (64W)= 3296W-1-102 = 1 K;
18 TRIMPOT DE 25 VOLTAS (64W)= 3296W-1-101 = 100 R;
0.50m FIO (CABO) PLANO TWO - 20 X 28 AWG - CINZA;
2 CONECTORES LATCH FEMEA - 20 VIAS C/ALIVIADOR e
1 PLACA DE FENOLITE FACE DUPLA - 15 X 20 CM;
A
P

N
D
I
C
E
B
.
L
A
Y
O
U
T
D
O
C
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R
C
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O
C
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N
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V
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1
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k
1
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k
1
0
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k
1
0
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k
1
0
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k
1
0
0
k
1
0
0
k
1
0
0
k
1
0
0
k
1
0
0
k
1
0
0
k
1
0
0
k
1
0
0
k
1
0
0
k
1
0
0
k
1
0
0
k
1
0
0
k
1
0
0
k
1
0
0
k
1
0
0
k
1
0
0
k
1
0
0
k
1
0
0
k
1
0
0
k
1
0
0
k
1
0
0
k
1
0
0
k
1
0
0
k
1
0
0
k
1
0
0
k
1
0
0
k
1
0
0
k
1
0
0
k
1
0
0
k
1
0
0
k
1
0
0
k
K R E 1K R E 2K R E 3K R E 4K R E 5K R E 6
2 5 2 0 -
K R E 7
R
1
R
2
R
4
R
5
R
7
R
8
R
1
0
R
1
1
R
1
3
R
1
4
R
1
6
R
1
7
R
1
9
R
2
0
R
2
2
R
2
3
R
2
5
R
2
6
R
2
8
R
2
9
R
3
1
R
3
2
R
3
4
R
3
5
R
3
7
R
3
8
R
4
0
R
4
1
R
4
3
R
4
4
R
4
6
R
4
7
R
4
9
R
5
0
R
5
2
R
5
3
X 1X 3X 4X 5X 6X 7
X 2
X 8
33
33
33
33
33
3333
33
33
3333
33
33
33
33
33
33
33
3
1
3
1
3
1
3
1
3
1
3
1
3
1
3
1
3
1
3
1
3
1
3
1
3
1
3
1
3
1
3
1
3
1
3
1
3
1
3
1
3
1
3
1
3
1
3
1
3
1
3
1
3
1
3
1
3
1
3
1
3
1
3
1
3
1
3
1
3
1
3
1
12312312312312312312
X
9
B
T
O
R
1
Figura B.1: Placa com 18 mdulos conversores de loops de corrente para tenso
Apndice C
Montagem do Ambiente Proposto
APNDICE C. MONTAGEM DO AMBIENTE PROPOSTO 58
APNDICE C. MONTAGEM DO AMBIENTE PROPOSTO 59
APNDICE C. MONTAGEM DO AMBIENTE PROPOSTO 60
Apndice D
Graus de Liberdade em uma Coluna
Binria Ideal
Para uma coluna de destilao binria ideal temos a seguinte anlise quantitativa dos
graus de liberdade do sistema:
VARIVEIS (X):
Vazo e composio da alimentao (F e z) = 2
Composio nos pratos (x
n
e y
n
) = 2 N
T
Escoamento lquido dos pratos (L
n
) = N
T
Holdup de lquido nos pratos (M
n
) = N
T
Composio do reuxo (x
D
) = 1
Vazo de reuxo (R) = 1
Vazo de destilado (D) = 1
Holdup no tambor de reuxo (M
D
) = 1
Vazes no fundo (V e B) = 2
Composio da base (x
B
e y
B
) = 2
Holdup da base (M
B
) = 1
4 N
T
+ 11
NMERO DE EQUAES (E):
Balano molar nos pratos = N
T
Balano de massa total = N
T
Equilbrio nos pratos = N
T
Equilbrio na base = N
T
Hidrulica = 1
Balano molar no tambor de reuxo = 1
Balano global no tambor de reuxo = 1
Balano molar na base = 1
Balano global na base = 1
4 N
T
+ 5
APNDICE D. GRAUS DE LIBERDADE EM UMA COLUNA BINRIA IDEAL 62
DISTRBIOS EXTERNOS (N):
Vazo e composio da alimentao (F e z) = 2
Graus de liberdade (C) - nmero de controladores:
C = X (E +N) = 4 N
T
+11(4 N
T
+5+2) = 4 (D.1)
Portanto podemos instalar 4 controladores:
1 controlador do nvel do tambor de reuxo (M
D
);
1 controlador do nvel da base da coluna (M
B
);
1 controlador de composio do destilado (x
D
);
1 controlador de composio do fundo (x
B
);

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