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EMC028
Bibliografia:
Semana 1:
Definio de materiais
Caracterizao dos nveis estruturais
Relao processamento estrutura propriedades
Tipos de materiais
Evoluo tecnolgica dos materiais
Distino entre cincia e engenharia de materiais
Definio de material
Houaiss
Dicionrio da lngua portuguesa
Objetivo
Processamento
Mtodo de dar forma, unio ou acabamento a materiais.
Modificao da
forma inicial
Forma inicial
Soldagem;
Usinagem;
Fundio;
Unio
Conformao
Colagem;
Cimentao
Conformao;
Sinterizao;
Acabamento
superficial
Polimento;
Metalizao;
Tratamento trmico
Injeo em molde
Texturizao;
Pintura
Tmpera;
Recozimento;
Envelhecimento
Processamento
http://www.perfecta.art.br/GerdauB.jpg
Propriedades
Tipo e intensidade da resposta de um material
a um estmulo externo.
Fsicas
Mecnicas
Eltrica
Trmica
Magntica
Fluncia;
Condutividade;
Condutividade;
Resistividade;
Fratura
Const. dieltrica
Capacidade
Remanncia
Elasticidade;
Plasticidade;
tica
Deteriorativa
Refletividade;
Reatividade
ndice de refrao
qumica
Estrutura
A estrutura dos materiais no uma caixa-preta!
A estrutura possui diferentes nveis dimensionais:
Aspecto estrutural
Dimenso (m)
Ligao atmica
<10-10
tomo
10-10
Estrutura cristalina
(gros)
10-8 10-1
Poros
10-8 10-3
Partculas de segunda
fase
10-8 10-4
Dimenso (m)
Ligao atmica
<10-10
tomo
10-10
10-8 10-1
Poros
10-8 10-3
10-8 10-4
Ligao
Tabela peridica;
eltrons de valncia.
Dimenso (m)
Ligao atmica
<10-10
10-10
tomo
Estrutura cristalina (gros)
10-8
10-1
Poros
10-8
10-3
10-8 10-4
Dimenso (m)
Ligao atmica
<10-10
tomo
10-10
10-8 10-1
Poros
10-8 10-3
10-8 10-4
Microscopia tica;
Raios-x;
Microscopia eletrnica
Dimenso (m)
Ligao atmica
<10-10
tomo
10-10
10-8
10-1
Poros
10-8
10-3
10-8 10-4
Microscopia tica;
Raios-x;
Microscopia eletrnica
Dimenso (m)
Ligao atmica
<10-10
tomo
10-10
10-8 10-1
Poros
10-8 10-3
10-8 10-4
Microscopia tica;
Raios-x;
Microscopia eletrnica
Processamento
Propriedades
Estrutura
Policristal denso
(translcido)
Dureza (BHN)
600
500
400
(b)
(a)
4m
300
200
100
30 m
(c)
30 m
30 m
0.01 0.1
1
10 100 1000
Cooling
Rate (C/s)
Taxa de resfriamento
(oC/s)
Estrutura
Processamento
Propriedades
Estrutura
Tipos de materiais
Grandes grupos
Grupos adicionais
(composio qumica e
estrutura atmica):
(combinaes de materiais e
caractersticas peculiares):
Metais
Compsitos
Cermicos
Semicondutores
Vidros
Biomateriais
Polmeros
Elastmeros
Tipos de materiais
Metais:
Composio qumica: combinaes de
elementos metlicos
Tipo de ligao atmica: metlica
Caractersticas: bons condutores de calor e
eletricidade, superfcie espelhada
(quando polido), alta resistncia
mecnica, deformveis.
Tipos de materiais
Cermicos e Vidros:
Composio qumica: combinaes entre
elementos metlicos e nometlicos.
Tipo de ligao atmica:
predominantemente inica.
Caractersticas: tipicamente isolantes
trmicos e eltricos, resistentes a
altas temperaturas e ambientes
abrasivos, duros e quebradios.
Tipos de materiais
Polmeros e elastmeros:
Composio qumica: baseada no carbono,
hidrognio e outros elementos nometlicos.
Tipo de ligao atmica: ligaes covalentes
formam molculas e ligaes de
hidrognio e de van der Waals ligam
as molculas.
Caractersticas: baixa densidade, alta
flexibilidade, baixo ponto de fuso.
Tipos de materiais
Compsitos:
So combinaes de mais de um
tipo de material.
Caractersticas: Combinaes das
caractersticas de cada
material.
Tipos de materiais
Semicondutores:
Possui condutividade eltrica
intermediria entre os
condutores e os isolantes.
A condutividade destes materiais pode
variar significativamente com a
presena de pequenas
quantidades de impurezas.
O silcio um importante material
neste grupo.
Tipos de materiais
Biomateriais:
Materiais utilizados em implantes no
interior do corpo humano.
Todos os materiais (metais,
cermicos, polmeros,
compsitos e semicondutores)
podem ser usados como
biomateriais.
Caracterstica: no devem produzir
substncias txicas e devem
ser compatveis com os
tecidos do corpo.
2 1
Ncleo
Z = nmero de prtons
N = nmero de neutrons
Massa atmica = Z + N
Eltrons:
possuem estados energticos discretos
Increasing energy
4p
n=4
4s
n=3
3s
n=2
n=1
2s
1s
3p
2p
3d
Eltrons:
Elemento
Smbolo
Nmero
Atmico
Configurao
Eletrnica
Hidrognio
1s1
Hlio
He
1s2
Carbono
1s22s22p2
Oxignio
1s22s22p4
Sdio
Na
11
1s22s22p63s1
Cloro
Cl
17
1s22s22p63s23p5
Argnio
Ar
18
1s22s22p63s23p6
Ferro
Fe
26
1s22s22p63s23p63d64s2
Tabela Peridica
Elementos eletropositivos:
Elementos eletronegativos:
Adquirem 2 eltrons
Liberam 2 eltrons
Tabela Peridica
Adquirem
1 eltron
Elementos
estveis
Liberam 1 eltron
Ligao Inica
Ligao Covalente
Eltron do
Hidrognio
Eltron do
Carbono
Ligao Metlica
Ncleo do on
Nuvem de eltrons
Nuvem de
eltrons
Nuvem de
eltrons
Ligaes
Tipo
Energia de ligao
Material
Inica
Alta
Cermicos
Covalente
Varivel
Alta-Diamante
Baixa-Bismuto
Cermicos,
semicondutores,
cadeias de polmeros
Metlica
Varivel
Alta-Tungstnio
Baixa-Mercrio
Metais
Secundria
Baixa
Entre cadeias de
polmeros
Materiais Slidos
Classificao: regularidade do arranjo dos tomos/ons/molculas
no espao.
Slidos cristalinos: os tomos/ons/molculas esto posicionados
em um arranjo tridimensional ordenado e repetitivo.
Slidos amorfos: no possuem arranjo atmico regular.
Slidos cristalinos
Metais
Todos
Cermicos
Muitos
Polmeros
Poucos
Clulas unitrias
Menor agrupamento de
tomos que se repete no
espao tridimensional.
Sistemas cristalinos
Cbico
Hexagonal
Tetragonal
Sistemas cristalinos
Rombodrico
(Trigonal)
Ortorrmbico
Monoclnico
Triclnico
4R
a 2
Nmero de Coordenao
Parmetro de rede
Fator de Empacotamento
a=4R/3
0,68
4R
Nmero de Coordenao
Parmetro de rede
Fator de Empacotamento
12
a=2R2
0,74
Nmero de Coordenao
Parmetro de rede
Fator de Empacotamento
12
a=2R
c/a = 0,633
(terica)
0,74
Direes Cristalogrficas:
Direo cristalogrfica definida por um vetor. Os ndices
de cada direo so determinados da seguinte forma:
-Um vetor paralelo posicionado a partir da origem do
sistema de coordenadas
-Determina-se as projees do vetor em cada eixo
-Esses nmeros so multiplicados ou divididos por um
fator para torn-los o menor inteiro possvel
-Os ndices so separados por vrgulas e colocados entre
colchetes.
Planos cristalogrficos:
-So especificados por trs ndices entre parnteses.
-Planos paralelos so equivalentes e possuem ndices idnticos.
-Para determinar os ndices devemos traar um plano paralelo
que no passe pela origem do sistema de coordenadas.
-Determinamos os pontos de interseo entre o plano e os trs
eixos.
-Caso o plano no intercepte um eixo (seja paralelo a este
eixo) o ponto de interseo considerado infinito.
-Os ndices do plano sero o inverso dos pontos de interseo
(zero, no caso de interseo no infinito), aps reduo dos
ndices para o menor conjunto de valores inteiros.
Estvel
Estvel
Instvel
AX
AX
AmXp
AmBnXp
CsCl
Cbica Simples
Nmero de
coordenao
Rcation/Ranion
<0.155
0.155
0.225
0.225
0.414
0.414
0.732
0.732 1.0
Defeitos pontuais
ZnS
(Blenda de zinco)
NaCl
(cloreto de sdio)
CsCl
(cloreto de csio)
Defeitos pontuais
Defeitos lineares
Defeitos lineares
Defeitos lineares
Tipos de superfcies
Tipos de superfcies
C.F.C.: ABCABCABCABC
H.C.: ABABABABAB
1. Inicial
2.Tenso
3. Final
tomos se
bonds
stretch
distanciam
return to
Retorno ao
initial
Deformao
elstica
estado inicial
bonds
tomos se
stretch
distanciam e h
&cisalhamento
planes
de
shear
planos
elastic
Elstico
e plstico
+ plastic
p lanes
Os planos
still
continuam
sheared
cisalhados
plastic
Plstico
Deformao
plstica
Deformao por
cisalhamento
Deformao por
trao
+
+
+
+
+
+
+
+
+
+
+
+
Covalente:
Movimento difcil
Ligaes direcionais
Inica:
Movimento difcil
Tem que evitar vizinhos ++ e --
repulso
Compresso
Trao
Atrao
Discordncias se anulam
(cristal perfeito)
Constante de
Boltzman
Temperatura (K)
Exerccio:
Qual a quantidade de lacunas
em equilbrio no Cobre a 600 K?
Qlacuna=0,52 eV/tomo
k = 8,62 x 10-5 eV/tomo/K
Densidade, = 11,49 g/cm3
massa atmica, A = 207,19 g/mol
N sitios
Q
N lacunas = N sitios exp lacuna
kT
0,52eV / atomo
5
8,62 10 eV / atomo / K 600 K
N lacunas = 14,26 10 23 / m 3
Incio
100%
Cu
Ni
Perfil de concentrao
100%
0
Perfil de concentrao
Incio
C
A
D
B
C
D
A
B
Difuso substitucional:
Ocorre em impurezas substitucionais
Os tomos trocam de lugar com lacunas
A taxa de difuso depende:
quantidade de lacunas
Energia de ativao para a troca
Tempo
Difuso intersticial:
Ocorre em impurezas intersticiais
No depende de lacunas
mais rpida do que difuso
substitucional.
Semi-condutores:
1. Depsito de camadas
ricas em P na superfcie.
Si
2. Aquecimento
Geram tenses de
compresso.
3. Resultado: regies
semi-condutoras.
Si
Substitucional
ou intersticial
Temperatura
Depende da distncia percorrida
pelo elemento
Tempo
Direo
de
difuso
PA>PB
Posio, x
Primeira lei
de Fick:
Fluxo de
difuso
J=
dC
dx
Gradiente de
concentrao
Coeficiente
de difuso
3
/m
g
k
3
.2
m
=1
kg /
8
C1
.
=0
Estado estacionrio
C2
= linha reta
Gas pobre
em carbono
0 x1 x2
m
m
10
m
5m
kg
atoms
1 dM
or
2
A dt
m s
m2 s
J x = D
Placa de ao a 700 oC
J = D
D=3x10 -11 m 2 /s
kg
C2 C 1 =
2 .4 10 9
x2 x 1
m 2s
Equao geral:
dC
d 2C
=D 2
dt
dx
Concentrao inicial, C0
Concentrao, C
Distncia, x
Distncia, x
Endurecimento superficial de
peas de ao feito por
difuso de carbono.
x
C(x, t) Co =
1 erf
2 Dt
C s Co
Concentrao na profundidade x
aps o tempo t
Exemplo (carbonetao):
Liga de ao com 0,25%p de Carbono
C x C0
x
= 1 erf
C s C0
2 Dt
C0 =0,25%p C
Cs =1,2%p C
Cx =0,8%p C
x=0,5mm=5x10-4 m
D= 1,6x10-11 m2/s
C x C0 0,8 0,25
5 10 4 m
=
= 1 erf
11 2
C s C0 1,2 0,25
2 1,6 10 m / s (t )
62,5s1/ 2
0,421 = erf
t
62,5s1/ 2
= 0,392
t
2
62,5s1/ 2
= 25400s = 7,1horas
t =
t
z = 0,392
Temperatura (oC)
Difuso intersticial
O coeficiente de difuso
aumenta com o aumento
da temperatura.
Difuso substitucional
Exerccio (carbonetao):
Liga de ao com 0,10%p de Carbono
Temperatura de tratamento: 800 oC
Atmosfera com 1,2%p de carbono durante tratamento.
(a) Quanto tempo ser necessrio para atingir uma concentrao de 1,0%p a
uma profundidade de 0,5 mm?