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INSTITUTO DE PESQUISAS ENERGTICAS E NUCLEARES

SECRETARIA DA INDSTRIA. COMRCIO. CINCIA E TECNOLOGIA


AUTARQUIA ASSOCIADA A UNIVERSIDADE DE SAO PAULO

DESENVOLVIMENTO E IMPLANTAO DE UMA TCNICA DE ANLISE DE


PERFIS DE DIFRAO DE RAIOS X, PARA A DETERMINAO DA ENERGIA
DE FALHA DE EMPILHAMENTO DE METAIS E LIGAS DE ESTRUTURA CFC

LUIS GALLEGO MARTINEZ

Dissertao apresentada como parta dos


requisitos para oiitenio do grau de
Mestre am Cidnciaa na rea de
Teonotogia Nuclear".

Orientador: Or. Kengo Imakuma

So Paulo
1989

INSTITUTO DE PESQUISAS ENERGTICAS E NUCLEARES


AUTARQUIA ASSOCIADA A

DESENVOLVIMENTO

IMPLANTAO

UNIVERSIDADE DE SO PAULO

DE UMA TCNICA

DE ANLISE

DE PERFIS DE

DIFRACAO D E R A I O S X. PARA A D E T E R M I N A O D A ENERGIA D E F A L H A D E


EMPILHAMENTO

DE METAIS E LIGAS DE ESTRUTURA CFC

LOS

G A L L E C O IMAIRTDINEZ

Dissertao apresentada como


parte dos requisitos
para
obteno do ttulo de Mestre
em Cincias na rea de Tecnologia Nuclear.

Orientador: Dr. Kengo Imakuma

SO PAULO
1989

AOS meus

pais

LUIS E VICTORIA

NDICE GERAL

Agradecimentos

Objetivos do Trabalho

ii

Resumo

iii

Abstract

iv

- Difrao de Raios X

1.1

- Introduo

1.2

- Produo e Caractersticas

1.3

- Estrutura Cristalina

1.4

- Direo do Feixe Difratado (Lei de Bragg)

1.5

- Intensidade do Feixe Difratado

11

1.6

- Mtodos Utilizados para Difrao de Raios X

17

1.7

- Difratmetro de Raios X

19

1.8

- Instrumentao para Difratometria de Raios X

20

II

- Energia de Falha de Empilhamento

26

11.1

- Falha de Empilhamento

26

11.2

- Discordncias na rede efe

29

11.3

- Mtodos de Medida da Energia de Falha de Empilhamento

32

11.4

- Mtodos

de

Determinao

da

Energia

de

Falha

de

Empilhamento por Difrao de Raios X


11.5

33

- Relao entre a Probabilidade de Falha de Empilhamento,


Microdeformao e Energia de Falha de Empilhamento

34

11.6

- Calibrao do Mtodo

36

11.7

- Determinao da Probabilidade Falha de Empilhamento

38

11.8

- Determinao da Microdeformao

39

11.9

- Separao do Tamanho de Partcula e Deformao

43

III

- Anlise do Perfis de Difrao de Raios X

45

111.1 - Introduo

45

111.2 - Aquisio e Armazenamento de Dados (Prog.Aq/Dados)

45

111.3 - Correo do Background e fator de Lorentz-Polarizao (Prog.BGLP)

46

111.4 - Obteno da Srie de Fourier e Correes do Dubleto K^j~K^2 Alargamento Instrumental

(Prog.Fourier/

Rachinger/Stokes)

49

111.5 - Impresso dos Perfis (Prog.Plot)

*^

nr^,r.MAl

r.P

tWFffil

57

NIllT.lFAR/SP

- iPfeM

III. 6 - Determinao da Posio de Picos e Probabilidade de


Falhas de Empilhamento

(Prog.Pos/Pico/Alpha)

61

111.7 - Correo de Roth ^'man-Cohen

62

111.8 - Diagramas de Blocos

65

IV

- Estabelecimento das Condies Experimentais e Materiais Utilizados

67

IV. 1

- Estabelecimento dos Parmetros Experimentais

67

IV.2

- Materiais Utilizados

71

IV.3

- Preparao das Amostras

72

- Resultados e Discusso

75

V.l

- Resultados para os Metais Puros

75

V.2

- Resultados para Aos Inoxidveis Austenticos

78

V.3

- Influncia do Nb na Matriz Austentica

81

VI

- Concluses

83

Referncias

84

INDICE DAS FIGURAS

Figura

I.l

- Espectro
W(100

Figura

1.2

de um tubo de raios

1.3

nodo

de

KV).

- Transies

eletrnicas

para o tomo de
Figura

X com

- Processos

de

que resultam

em raios

X,

cobre.
interao

dos

raios

absoro

de

com

matria.
Figura

1.4

- Variao do coeficiente
com o comprimento

de

massa

de onda para o

tungstnio.

cristalinos

Bravais.

Figura

1.5

- Os 14 reticulados

de

Figura

1.6

- Difrao de raios X por um

Figura

1.7

- Espalhamento

de radiao por um

Figura

1.8

- Espalhamento

da radiao por um tomo.

Figura

1.9

- Fator

de espalhamento

Figura

I.10

- Fator

de

Figura

I.ll

- Fator

de temperatura

Figura

I.12

- Mtodo de Laue por transmisso

Figura

1.13

- Cmara de

Figura

1.14

- Cmara

Figura

1.15

- Esquema

Figura

1.16

- Diagrama

cristal.

eltron.

atmico do

11
12

cobre.

13

Lorentz-Polarizao.
de

15

Debye-Waller.
e

16

reflexo.

18

Debye-Scherrer

18

focal

18

de um difratmetro
esquemtico

de raios X.

de

um

19

difratmetro

de

raios X.

22

Figura

I.17

- Difratograma

Figura

I.18

- Padro "PDF" do LiF

de ZnO

24
25

Figura II.1

- Representao

Figura II.2

- Falhas

Figura II.3

- Sequncia

Figura II.4

- Direes de deslizamento

na estrutura

efe.

29

Figura II.5

- Deslizamento

dos planos

(111) da rede

efe.

30

Figura II.6

- Discordncias

parciais

Figura III.1 - Perfis

de

de um plano

compacto.

26

empilhamento
de

27

empilhamento.

de

28

Shockley.

31

do pico de difrao (222) de amostra

de

aO;
Figura III.2 - As

48
tres

curvas

alargamento
Figura III.3 - Correo de
Figura III.4 - Perfis
de Cu

utilizadas

na

correo

do

instrumental

50

Rachinger.

experimentais

53
do pico

(222) de

amostras
58

Figura III.L - Ajuste

da >ar.'tbola lr:s poniou.

Figura III. 6 - Coc icicnle

dc Fourier

In A^^ versus

n.

Figura III. 7 - Coeficiente

de Fourier

In A^^ versus

62
63

correo de

com

Rothman-Cohen.

Figura III.8 - Diagrama de blocos - Determinao da probabili-

64

dade de falhas de empilhamento.


65
Figura II1.9 - Diagrama

de blocos

- Dcterminao

da

microde-

formao quadr/itica mdia.


Figura V.l

- Grfico

de

^/^m^p

66

versus

"^^50^11/"

para

valores de -f da tabela II. 1.


Figura V.2

- Grfico
valores

Figura V.3

de y/G_ b

versus

77

<cf>,,/a

para

os

de y da tabela II. 2.

77

- Energia de falha de empilhamento versus teor


de Nb para os aos I, I I , m

e IV.

81

INDICE DAS TABELAS

Tabela I.l

Geometria

dos sistemas

Tabela 1.2

Espaamento

cristalinos.

interplanar

para

08
os

sistemas

cristalinos.
Tabela

Reflexes

1.3

Tabela 1.4

- Fator

10

possveis

para cada rede de

de multiplicidade

Tabela II.1 Reviso

dos valores

'7'

de

dos valores

14
15

para o mtodo do p.

Au, Cu, Al e Ni - Reed e


Tabela II.2 - Reviso

Bravais.

para

os

metais

Ag,

Shrann^-'^^K

de 'r' para

os

37
metais

Ag,

Au, Cu, Ni e Al - Coulomb^^^\


Tabela IV.1 - Degraus

de absoro K dos

37

elementos

Fe,

Cr

Ni''\

67

Tabela IV.2 - Comprimentos


utilizadas
Tabela IV.3 - Grau

Tabela IV.4

de

de onda das radiaes

normalmente

em difrao de raios X
pureza

dos

calibrao

do mtodo.

Composio

dos aos

metais

68

utilizados

para
71

inoxidveis

austenticos
72

estudados.
Tabela IV.5 - Condies

dos

recristalizao
Tabela V.l -

Resultados

Parmetro

Tabela V.3 -

Energias

das amostras

experimentais

para os metais
Tabela V.2 -

tratamentos

trmicos

de

padro.
demais

74
grandezas

puros.

elstico

76

dos aos.

de falha de empilhamento

79
para

os aos.

79

AGRADECIMENTOS

Quero registrar meus sinceros agradecimentos s pessoas que, direta


ou indiretamente, colaboraram na execuo deste trabalho:
Ao Dr. Kengo

Imakuma pela orientao, pelo

incentivo

e pela

opor-

tunidade.
Ao D r .

Humberto Gracher Riella pelas proveitosas discusses e suges-

tes sobre a anlise de perfis de difrao.


Ao

Dr.

Angelo

Fernando

Padilha

por

ceder

as

amostras

de

aos

inoxidveis e pelas sugestes e incentivo.


Ao

Dr.

Paulo

ris

Ferreira

pelo

fornecimento

de

amostras

incentivo.
Ao Dr. Luiz Filipe C. P. de Lima pelas sujestes e discusses.
Ao Amigo MsC. Nilton Itiro Morimoto pela colaborao inestimvel no
desenvolvimento dos programas para microcomputador

e discusses

ao

longo do desenvolvimento de nossos respectivos trabalhos.


Ao Amigo MsC. Nelson Batista de Lima pelo apoio, discusses e sugestes.
Aos Amigos MsC. Maria Silvia Gorski, Willy e Artur pelo auxlio nos
tratamentos trmicos das amostras.
Ao pessoal do Laboratrio de Difrao de Raios-X pela colaborao.
Ao

Eguiberto

e Marllene

pela

ajuda manuteno

dos

aparelhos

na

digitao desta dissertao.


Aos companheiros do Departamento de Metalurgia e do Departamento de
Processos

Especiais,

atravs

de

seus

chefes

Dr.

Jose

Otvio

A.

Paschoal e Dr. Spero P. Morato.


Eliz pelo apoio e compreenso.
queles

cujos

nomes

foram

involuntariamente

omitidos,

porm

no

esquecidos.
Fundao de Amparo Pesquisa do Estado de So Paulo pelo

apoio

financeiro durante parte deste trabalho.


Ao Instituto de Pesquisas Energticas e Nucleares, IPEN-CNEN/SP, na
pessoa de seu Superintendente, Dr. Claudio Rodrigues, pela oportunidade de realizar este trabalho.

OBJETIVOS

DO

TRABALHO

Os objetivos deste trabalho so:

a)

Implantao

de

uma metodologia

de

determinao

da

energia

de

falha de empilhamento em metais cbicos de faces centradas, por


difrao

de

raios

X,

partir

da

anlise

do

alargamento

dos

perfis e do deslocamento de picos de difrao de raios X.

b) Desenvolvimento e implantao da tcnica de anlise de perfis de


linhas de difrao

para a determinao de microtenses e tamanho

de cristalitos, com o uso de um microcomputador Apple 11+.

c)

Determinao

de

energia

de

falha

de

empilhamento

em

aos

inoxidveis utilizados para aplicaes em altas temperaturas.

11

COMISSO N A C I C N H

TE E N E R i A

l G L E A R / S P ^ \PtH

RESUMO

DESENVOLVIMENTO E IMPLANTAO DE UMA TCNICA DE ANLISE DE PERFIS DE


DIFRAO DE RAIOS X, PARA A DETERMINAO DA ENERGIA DE FALHA DE
EMPILHAMENTO DE METAIS E LIGAS DE ESTRUTURA CFC

LUIS GALLEGO MARTINEZ


r

Foi
falha

de

implantada uma tcnica de determinao da energia

empilhamento,

em

metais

ligas

de

estrutura

de

cbica

de

falha

de

faces centradas, por difrao de raios X.


A

tcnica

baseia-se

em relacionar

a energia

de

empilhamento com a razo entre a microdeformao quadrtica mdia e


a probabilidade de falhas de empilhamento, para amostras severamente
deformadas a frio por limagem.
A

microdeformao

quadrtica mdia

anlise dos perfis das reflexes

(111) e

obtida

a partir

da

(222) com a aplicao

do

mtodo de Ii^arren-ilverJbach.
A anlise do deslocamento relativo dos picos das reflexes
(111) e (200) fornece a probabilidade de falhas de empilhamento.
Foram desenvolvidos

e implantados programas

em

linguagem

BASIC para a aquisio dos dados do difratmetro e para o tratamento


dos dados.
So discutidas as tcnicas de anlise de perfis de
de difrao

linhas

e inovaes introduzidas atravs dos programas desen-

volvidos.
O mtodo foi calibrado com os materiais A u , Ag, Cu, Ni e
A l , e aplicado a seis amostras de aos inoxidveis austenticos.

111

ABSTRACT

DEVELOPMENT AND IMPLANTATION OF A METHOD FOR THE X-RAY DIFFRACTION


PROFILE ANALYSIS, FOR THE DETERMINATION OF STACKING
FAULT ENERGY IN FCC METALS AND ALLOYS.

LUIS GALLEGO MARTINEZ

A method was implanted for the determination of stacking


fault

energies

of

face

centered

cubic

metals

using

X-ray

diffraction.
The stacking fault energy is determined from the relation
of

the

rms

microstrain

and

stacking

fault

probability

in

cold

worked filings of these metals.


The
diffraction

rms
peak

microstain
profile

was

analysis

obtained

from

the

X-ray

of

(111)

and

(222)

the

reflections and the stacking fault probability was determined


the

relative

peak

shift

analysis

of

the

(111)

and

from
(200)

reflections.
Microcomputer
acquisition

and

programs

were

calculations, using

developed

BASIC

for

language

the

for Apple

data
11+

microcomputer. Some innovations were introduced in the analysis of


the peak profiles.
The method was calibrated by means of pure A u , Ag, Cu, Ni
and

AT

metals

and

applied

in

the

determination

fault energies of six austenitic stainless steels.

IV

of

the

stacking

DIFRAO DE RAIOS

I.l - INTRODUO

A descoberta dos raios X por Rntgen


trs

ramos

da

cincia

que utilizam

essa

em 1895 deu origem a

radiao * . O primeiro

m a i s antigo deles o campo da radiologia, que teve o incio de sua


aplicao imediatamente aps a descoberta dos raios X. A radiologia
utiliza-se da propriedade de um feixe de raios X que, ao atravessar
um objeto qualquer tem sua intensidade diminuda numa proporo que
depende da espessura,, densidade e nmero atmico mdio do material
absorvedor. Desta forma, possvel detectar a radiao que atravessa o objeto por meio de um filme, e visualizar diferenas de espessura, densidade, composio, trincas e bolhas em estruturas opacas
luz

visvel. Esta utilizao

tem

inmeras aplicaes

em

medicina,

indstria e pesquisa.

confirmar
Laue

em

Um

segundo

natureza

1912

campo

originou-se

ondulatoria

pelos

Bragg

em

dos

dos

estudos

raios X,

1913,

atravs

no

sentido

realizados
da

por

de
Von

experincia

de

difrao de raios X por um cristal. Desta experincia derivou-se o


ramo da cincia conhecido como cristalografia de raios X.
O terceiro ramo, que estuda o espectro de emisso de raios
X dos materiais, embora tenha sido utilizado j no incio do sculo,
somente veio a ter aplicao rotineira

(hoje conhecida como espec-

trometria por fluorescncia de raios X) na segunda metade do sculo.

1.2 - PRODUO E CARACTERSTICAS DOS RAIOS X

Normalmente define-se como sendo raios X a parte


pectro

eletromagntico

0,1 a 100

compreendida

entre

os comprimentos

do e s de

onda

(ou energias entre 0,1 e 100 KeV) . Os raios X usual-

mente so produzidos fazendo-se incidir um feixe de eltrons, acelerados por uma diferena de potencial de alguns milhares de Volts, em
um alvo metlico. O espectro de raios X produzidos neste alvo tem a
forma mostrada na figura 1.1.
Nesta figura pode-se observar uma distribuio contnua de
comprimentos de onda, e sobrepostas a esta, vrias raias de comprimentos

de

onda

discretos

diferentes

intensidades.

-1-

f ni,;,L9Cn

KACiCNM Ct E N E R G I A N C L E A R / S f ^ - IPN

Essa

superposio deve-se a dois processos distintos que ocorrem simultaneamente. Um conhecido como radiao contnua, radiao branca ou
ainda bremsstrahlung, e o outro como radiao caracterstica.

LjXi
1-31
KC<i

1 '

1
1

1 '

UJ

Mf|

1 '

z
1

50

100

20

0,2

05

Figura 1.1 - Espectro

10

KeV

2J0

1.0

de um tuho de raios X com ando de W(100

KV).

O espectro contnuo devido interao coulombiana entre


os eltrons acelerados do feixe e os eltrons orbitais dos tomos do
alvo, que provoca uma desacelerao dos primeiros e, segundo a eletrodinmica clssica, essa desacelerao de cargas eltricas resulta
na emisso de radiao. A energia de um fton dada por E = hv' =
hc
r , onde h a constante de Planck, v a freqncia,
c a velo-19

cidade da
ento E =
cial

luz e A o comprimento de onda. Como 1 eV = 1,6x10


J,
12 4
fi
, onde E dado em KeV e X em A.
Portanto um eltron de carga ^e' acelerado por um poten-

cintica

ter

energia

cintica

(em eV) numericamente

Se esse eltron

for

eV,

ou

seja,

igual ao potencial

sua

energia

acelerador.

freado num nico evento, resultando

num

fton

com energia igual energia cintica do eltron, seu comprimento


onda ser A

min

. Esse o menor comprimento de onda

de

(ou maior

KV

energia) possvel, uma vez que fizemos a suposio de que o eltron


converteu

toda

sua

energia

potencial
-2-

(no

campo

eltrico)

em

cintica, e toda esta em eletromagntica num nico fton. Porm isto


no

regra

geral,

os

eltrons

acelerados

num

campo

eletrosttico em vcuo tm uma distribuio de velocidades e ainda a


desacelerao na interao com os eltrons do alvo pode dar-se por
uma srie de eventos sucessivos com a perda de parte da energia em
cada um deles, resultando na emisso de vrios ftons cuja soma de
energias igual energia inicial do eltron. Isto resulta na emisso

de

vrios

acima do

ftons

limite mnimo

com todos os comprimentos


(X

de

onda

possveis

) , dado pelo potencial de acelerao. A

min

distribuio

do

espectro

contnuo

pode

ser

dada

em

termos

das

condies de excitao pela frmula de Kramers^^^.


I(A) d(A) = K i Z \{X/X

) - 1 l(l/A^) dX

1.1

min

que relaciona

intensidade de raios x de comprimento

de onda

X,

produzidos num alvo de espessura infinitesimal, de nmero atmico Z


por

uma

corrente

expresso

no

eletrnica

leva

em

conta

i,
a

onde

auto-absoro

uma
pelo

constante.
alvo,

Esta

o que

na

prtica resulta em modificaes na distribuio de intensidades.


Quando
eletrosttico

um

dos

eltrons

acelerados

pelo

interage com um eltron de uma camada

potencial

interna

de um

tomo do alvo, este eltron ser ejetado com energia E = E - I onde


O

a energia do eltron incidente e l o

potencial de ionizao do

eltron. A posio deste eltron ser imediatamente ocupada por um


outro eltron de uma camada mais externa que, na transio, emitir
um fton cuja enegia hi^ igual diferena entre a energia no nvel
inicial

(Ej) e a energia no nvel final (E^)'^^:


hi^ = AE = Ej - E^

1.2

Na figura 1.2 so mostradas as transies eletrnicas para


o tomo de cobre.
Quando um feixe de raios X incide numa lmina de um material absorvedor

^A' de espessura

^x', 4

processos diferentes podem

ocorrer. Considerando um fton individual do feixe, este pode atravessar o

absorvedor sem sofrer nenhuma

interao, pode ser total-

mente absorvido, pode ser espalhado com o mesmo comprimento de onda


inicial ou
onda. A

ainda ser espalhado com o aumento do seu comprimento de

probabilidade

governada pelo

de

respectivo

ocorrncia de cada um dos processos


coeficiente, que depende do comprimento
-3-

N,

t I :
8 ; g

3d
3d
3P
3P
3s

Ml
Lffl

2p
2p
2s

ft

tf

Pi

B3

0(1

Figura 1.2 - Transies


tomo de
de

onda

da

pares,
maiores

eletrnicas

absoro

no

ser

que resultam

em raios

X. para

e do nmero atmico do absorvedor. Um


de

radiao

considerada

por

estar

restrita

energias

consideradas

como raios X.
FEIXE

V /

INCIDENTE

//Z////

ABSOVERDOR

FLUORECENTES
FEIXE
TRANSMITIDO
RAIOS X ESPALHADOS

COERENTE
(THONSON)

Figura 1.3 - Processos

ELTRONS

ELTRONS
DE RECUO
COMPTON

INCOERENTE
ICOMPTON)

FOTOELETRONS

ELTRONS (AUGER)

de interao dos raios X com a matria.

-4-

r-r

outro

eletromagntica, a produo de

(E > 1.02 M e V ) , acima das que normalmente so

RAIOS X

cobre.

radiao

processo de

1s

t- .C C ll A

NIi

m F A R / S P ' IPEN

Esses quatro processos so denominados: transmisso, absoro fotoeltrica, espalhamento incoerente ou Compton
ou

Rayleigh,

respectivamente.

e espalhamento coerente

figura

1.3

sumariza

esses

processos*^'.

ABSORO

- Quando um

mento de onda
frao do

feixe de raios X de intensidade

incide em um absorvedor

feixe, de

intensidade

e compri-

*A' de espessura

I, ser transmitida,

^x', uma

sendo

I dado

por:

I(A^) = I^ (A^) exp -(H^P^x)

1.3

onde ji^ o coeficiente de absoro de massa do material


(que depende de A^e Z) e
do feixe

absorvedor

a densidade desse material. O restante

I^- I = I^[l - exp-(/i^p^x)] ser removido por um dos

pro-

cessos descritos a seguir:

EFEITO FOTOELTRICO - Na faixa de energias considerada, a maior parte da intensidade removida do feixe primrio devida ao efeito fotoeltrico, pelo qual um fton do feixe

incidente

interage

com

um

eltron orbital de um tomo do absorvedor que ser ejetado com uma


energia

cintica

igual energia

do

fton menos

a sua

energia

ligao ao tomo. O coeficiente de absoro fotoeltrica

de

x, repre-

senta a frao do feixe incidente que absorvida por esse processo.


Como a absoro fotoeltrica ocorre em cada um dos nveis de energia
do tomo o coeficiente de absoro fotoeltrica

total

ser

soma

dos coeficientes parciais para cada nvel de energia:

=
total

+
K

+ T
L

L
I

+ T

+ T
M

L
II

III

+ T
M
I

+ T

...

M
II

X
n

III

1.4
onde

corresponde ao ltimo nvel ocupado do tomo. No

rearranjo

dos nveis eletrnicos do tomo sero emitidos ftons cujas energias


so caractersticas do tomo e da transio ocorrida.

ESPALHAMENTO - O espalhamento pode ser interpretado como uma coliso


entre o fton e um eltron do absorver. Se esta coliso elstica
no haver perda de energia pelo fotn e o espalhamento dito coerente ou espalhamento

Rayleigh.

Se a coliso entre o fton e um eltron fracamente

ligado

transferir parte da energia do primeiro ao segundo, o espalhamento


-5-

dito incoerente ou espalhamento Compton.

Neste caso o fotn espalha-

do tem comprimento de onda maior que ^e o eltron carrega a diferena de energia. O coeficiente total de espalhamento a composto
dos coeficientes dos dois tipos de espalhamento'*':

cr

+(1

f:

coer

Incoer'

onde f o fator de estrutura eletrnica.

COEFICIENTE DE ABSORO DE MASSA - O coeficiente de absoro de m a s sa a soma dos coeficientes de absoro fotoeltrica e de espalhamento. Mas como cr muito menor que X,

podemos considerar'**
1.5

H = X.

A maneira como N varia com o comprimento de onda


trada

na

figura

1.4,

que

mostra

curva

de

absoro

ilus-

para

tungstnio.
300

LIII

<
tf)
Z

/1

2X

c
o
t/)
m
<
Y
o

10C

0
02

OA

Oj6

0,8

10

16

12

16
X

Figura

1.4

- Variao
comprimento

do

coeficiente

de

de onda para o

absoro

20
(X)

de

massa

com

tungstnio.

1.3 - ESTRUTURA CRISTALINA

Todas as substncias so compostas por tomos e quase todas apresentam algum grau de ordem ou periodicidade no arranjo desses tomos. Um cristal pode ser definido como um slido composto de
tomos em um reticulado que se repete nas trs dimenses. Idealmente

-6-

CUBICO
SIMPLES

FIGURA

1.5

- Os

CUBICO
DE CORPO
CENTRADO

cristalinos

de

Bravais,

TETRAGONAL
SIMPLES

TETRAGONAL
DE
CORPO
CENTRADO

7,
7

ROMBODRICO

ORTORROMBICO
DE
FACES
CENTRADAS

HEXAGONAL

V
ORTORROMBICO
DE
BASES
CENTRADAS

CUBICO
DE
FACES
CENTRADAS

14 reticulados

ORTORROMBICO
DE
CORPO
CENTRADO

MONOCLINICO
DE
BASES
CENTRADAS

7\ JT^

ORTORROMBICO
SIMPLES

MONOCUNICO
SIMPLES

o arranjo mais estvel dos tomos num cristal aquele que minimiza
a

energia

por unidade de volume, ou seja: preserva

eltrica,

satisfaz

carter

direcional

das

neutralidade

ligaes

covalentes,

minimiza as repulses entre ons e agrupa os tomos mais compactamente'*'. Esses arranjos so chamados de reticulados ou redes espaciais e cada estrutura cristalina baseada num dos possveis reticulados

espaciais.

Um

reticulado

espacial

um

arranjo

tridimen-

sional infinito de pontos, no qual todo ponto tem a mesma vizinhana


e se chama ponto de reticulado. A cada ponto do reticulado pode e s tar associado mais de um tomo. Estes pontos podem estar arranjados
de

14

maneiras

Bravais,

diferentes

denominados

reticulados

ou

redes

de

envolvendo sete sistemas diferentes, conhecidos como siste-

mas cristalinos
cristalinos de
As

de Bravais.

A figura

1.5

mostra

os 14

reticulados

Bravais

redes

cristalinas

podem

ser

definidas

em

termos

dos

comprimentos dos lados da clula unitria e dos ngulos entre

suas

faces. Os lados da clula unitria definem os trs vetores fundamentais:

a, e nas direes x, y e z respectivamente

ngulos

entre

z e y ;

z e x ;

x e y

como

a,

/3

e tambm
e

y'^'.

os
As

caractersticas desses sistemas podem ser vistos na tabela 1.1.

sistema

eixos

cbico

^2

tetragonal

ngulos

axiais

todos os ngulos = 90

=
* c

todos os ngulos = 90

ortorrmbico

a * b * c

todos os ngulos = 90

monoclnico

a * b * c

2 ngulos = 9 0 ; 1 ngulo * 90

triclnico

a * b * c

todos os ngulos diferentes;


nenhum igual a 90

hexagonal

ngulo = 90 e 120

rombodrico

todos os ngulos iguais.


mas no de 90

Tabela 1.1 - Geometria

Portanto,

dos sistemas

sendo

r o vetor

cristalinos.

que

define

um

ponto

da

rede,

podemos definir a rede como sendo o conjunto de pontos r' tais que:

r' = r + ua + v + wc

onde u, v e w so inteiros

-8-

1.6

1.4 - DIREO DO FEIXE DIFRATADO (LEI DE BRAGG)

Se um feixe de raios X incidir sobre um tomo isolado os


eltrons
freqncia
cargas

desse
da

tomo
onda

eltricas

sero

excitados

incidente,

aceleradas.

emitindo
Em

outras

vibraro

com

radiao,

uma

palavras,

vez

mesma

que

tomo

so

espalha

parte do feixe incidente em todas as direes. Por outro lado, quando os tomos esto regularmente espaados em uma rede cristalina e a
radiao

incidente

tem

comprimento

de

onda

da

ordem

desse

espaamento, ocorrer interferncia construtiva entre as ondas espalhadas por cada .tomo, em determinadas direes ^ .
A figura 1.6 mostra um feixe monocromtico colimado de raios X com comprimento de onda X, incidindo em um conjunto de planos
cristalinos com espaamento d, segundo um ngulo de incidncia 0'^'.

Figura 1.6 - Difrao de raios X por um

cristal.

Como pode ser visto na figura 1.6,


(isto , interferncia construtiva)
rida por cada feixe for

se a

s ocorrer

distncia extra percor-

m mltiplo inteiro de A.

feixe difratado pelo segundo plano

reflexo

Por exemplo, o

de tomos percorre uma distncia

PO + OQ a mais que o feixe difratado pelo primeiro plano de tomos.


A condio para que ocorra interferncia construtiva :

P 0 + 0 Q = n A = 2 d

sen 6; onde n = 1, 2, 3,

Esta equao conhecida como Lei de Bragg

e os ngulos 8

para os quais ocorre difrao so chamados de ngulos de Bragg.

-9-

1.7

Fica

claro

nesta

equao que as direes para as quais ocorre

so determinadas
planos

(hkl)

pela

para

os

geometria

da rede. Os espaamentos

diversos

sistemas

de

Bravais

em

difrao
entre

funo

os
dos

parmetros e ngulos do reticulado so apresentados na tabela 1.2!^'

Relaes entre espaamento interplanar ( d ) ,


parmetros de reticulado

(a,b,c),

ngulos a, /3, y e planos cristalinos (h, k, 1) .


a ngulo entre b e c , /3 entre a e c e y entre a e b.

h" + k^ + 1'

Cbico:
d*
1

Tetragonal:

h^ + k^

^ _ll

h^ + hk + k^

Hexagonal:

Rombodrico:
1

(h^ + k^ + 1^) sen^g + 2(hk + kl + hl)(cos^g - cos a)


a^

(1-3

cos^ g + 2 cos^ g)

Ortorrmbico:
Monoclnico:
1

h^ ^

k^ sen^p

1^

2hl cos g

sen^g
Triclnico:
1
1
V2

(S

ac
h^ + S

^ 1 1

k^ + S
22

1^ +

2S

33

hk + 2S
12

kl + 2S
23

hl)
1 3 '

Na equao para cristais triclnicos:


V = volume da clula,
S.

11

= b^ c^ sen^g.
=

3 ^

S^^ = a

sen^/3,
2

sen y,

S^^ = abe

(cos g cos ^ - cos y ) ,

(cos

= a^bc

cos y - cos g) ,

= ab^c (cos y cos a - cos P ) .


1

Tabela 1.2 - Espaamento interplanar


-10-

para os sistemas

cristalinos

1.5

- INTENSIDADE DO FEIXE DIFRATADO

A
no

equao

suficiente

de Bragg

para

estabelece

existncia

de

a condio

uma

dada

necessria

reflexo,

sem

mas

fazer

referncia sua intensidade. As intensidades relativas dos picos de


difrao so determinadas por seis fatores*^':

a) FATOR DE ESPALHAMENTO ATMICO


Um eltron situado num campo eletromagntico oscilante ir
oscilar acelerado pelo campo eltrico, emitindo
mesma

freqncia

deste. Thonson

desenvolveu

(ou espalhando)

um tratamento

na

clssico

para um eltron livre, esquematizado na figura I . 7 ^ '

Figura 1.7

- Espalhamento

Nesta

de radiao por um

figura temos um eltron na

eltron.

origem do

sistema

um

feixe de radiao na direo do eixo x, com intensidade I^. A intensidade espalhada no ponto P, a uma distncia r da origem ser:

^0

(1

COS

29)

1.8

onde ^c' a velocidade da luz, ^m' e ^e' a massa e carga do eltron


respectivamente. O

fator

[ ( 1 + cos^2)

2]

denominado

fator

de

polarizao'^'.

discretos

Um

tomo

consiste

em um ncleo

em

torno

do ncleo. Quando

e Z eltrons
ngulo

entre

em

orbitais

a direo

da

radiao incidente e a direo de observao zero, no haver d i -11-

ferena de fase entre as ondas espalhadas por cada eltron e a amplitude espalhada ser:

(1 + eos

I, (Ze)
I

29)

1.9

= Z' I

r- (Zm)^ c*

Quando o ngulo de observao aumenta, as ondas espalhadas


pelos eltrons estaro defasadas e suas contribuies
celar

parcialmente,

diminuindo

intensidade

iro se can-

observada,

como

pode

ser visto na figura 1.8.

DIFERENA
DE
FASE

Figura 1.8 - Espalhamento

da radiao por um tomo.

O poder de espalhamento

de um tomo depende, portanto,

do seu nmero atmico Z e da direo de observao. O fator

chamando de fator de espalhamento atmico e definido como a razo


entre a amplitude da onda espalhada por um tomo e a amplitude espalhada
tambm

por

um

depende

diferena

eltron:

f^=

I^/I^.

do comprimento

fator

de onda

de

espalhamento

da radiao, uma

vez

atmico
que

de fase est relacionada com a diferena de caminho e o

comprimento da onda, conforme por ser visto na figura 1.8.


Em geral *f' varia inversamente com
das

razes

pelas

quais

as

intensidades

so

(sen 9/X).
menores

ngulos. A figura 1.9 mostra a variao de *f' com


cobre.
-12-

Esta uma
para

(sen 9/X)

altos
para o

30

20

fcu

10

02

OA

0.6

0,8

1,0

Sip 9
x(-il

Figura 1.9 - Fator

de espalhamento

atmico do

cobre.

b) FATOR DE ESTRUTURA
A intensidade de uma dada reflexo tambm funo da p o sio dos tomos na clula unitria. Como o cristal uma repetio
desta,

suficiente

considerar

como

as

posies

dos

tomos

numa

nica clula unitria afetam a intensidade difratada. A onda resultante espalhada pelos tomos da clula unitria chamada de

fator

de estrutura, pois descreve como o arranjo dos tomos, dado por suas
coordenadas u, v e w afeta a intensidade. O fator de estrutura F
obtido pela adio das ondas
Se a clula unitria contm
u ' v^, w^, u^,
, o
por

espalhadas pelos tomos


N tomos, com
e

fator

de

fatores

estrutura

individuais.

coordenadas
de

fracionais

espalhamento

para a

atmico

reflexo hkl dado

(5)

F = f j exp [2ni(hu^+kv^+lw^)]+f2exp[2ni(hU2+kv2+lw^)]+. .. ^ .^^


que pode ser escrito como:
N
F = J: f

exp [2ni (hu +kv +lw )]


n

n =l

-13-

I.ll

onde a somatria feita sobre todos os N tomos da clula unitria.


O

fator de estrutura

^F' , em geral, um nmero

complexo

que expressa a amplitude e a fase da onda resultante. Seu valor absoluto

|F| d a amplitude da onda resultante em termos da

amplitude

da onda espalhada por um eltron. Da mesma forma que o fator de e s palhamento atmico ^f,

o fator de estrutura

|F| definido como uma

razo de amplitudes (5)


IPI _amplitude da onda espalhada por todos tomos da clula unitria
amplitude da onda espalhada por um eltron
A

intensidade do feixe difratado por todos

os tomos

clula unitria, na direo determinada pela lei de Bragg,

da

propor-

cional a IFI^, o quadrado da amplitude da onda resultante*^'.


Urna observao importante que o fator de estrutura independe da forma e tamanho da clula unitria. Podemos, portanto, relacionar a rede de Bravais

de uma substncia com seu espectro de d i -

frao, como mostrado na tabela 1.3**'.

reticulado de
Bravais

reflexes possivelmente
presentes

reflexes necessariamente
ausentes (proibidas)

simples

todas

nenhuma

base centrada

h, k todos pares ou todos impares(nao-mistos)

h, k mistos

corpo centrado (h + k + 1) par


face centrada

(h + k + 1) impar

h, k, 1 todos pares
todos impares
(nao-mistos)

Tabela 1.3 - Reflexes

ou

h, k, 1 mistos

possveis para cada rede de

Bravais

c) - FATOR DE MULTIPLICIDADE
Este

fator

leva em conta a proporo

relativa

de

planos

cristalinos contribuindo para a reflexo. Ele pode ser definido como


o nmero de planos que tm o mesmo espaamento ^d'. Planos paralelos
com diferentes ndices de Miller, tais como (100) e (100), so contados separadamente. O fator de multiplicidade *p' para planos

(100)

no sistema cbico 6 e para os planos (111) 8*^'.


O valor de

^p' depende do sistema cristalino em questo.

Por exemplo, no sistema tetragonal os planos

(001) e

suem

^p' igual a 4 para

o mesmo

espaamento, sendo o valor de

(100) no posos

planos (100) e 2 para os planos (001). Os valores do fator de multi-14-

plicidade so mostrados na tabela

1.4

(3)

hkl
48

hhl
24

Okl
24

Okk
12

hhh
8

001
6

hk-1
24

hh-1
12

Ok-1
12

hk-O
12

hh-0
6

Ok-0
6

00-1
2

Tetragonal:

hkl
16

hhl
8

Okl
8

hkO
8

hhO
4

OkO
4

001
2

Ortorrmbico:

hkl
8

Okl
4

kOl
4

hkO
4

hOO
2

OkO
2

001
2

Monoclnico:

hkl
4

kOl

OkO

Cbico:
Hexagonal e
Rombodrico:

Triclnico:

hkl

Tabela 1.4 - Fator

de multiplicidade

para o mtodo do p.

d) - FATOR DE LORENTZ-POLARIZAO
O fator de Lorentz-Polarizao composto, na verdade, de
dois fatores distintos. O fator de polarizao provm do espalhamento da radiao no polarizada como j foi visto no
de Thonson

[(1 + cos^2e) / 2]. O fator de Lorentz

tores trigonomtricos

leva em conta fa-

[1 / (4sen^0 cose)]. Como ambos dependem

ANGULO DE BRAGG O

Figura I.IO - Fator de

desenvolvimento

Lorentz-Polarizao.
-15-

ape-

nas do ngulo de difrao, so geralmente agrupados num nico fator


e

so

geralmente

encontrados

em

tabelas

como

de

* Fator

Lorentz-Polarizao':
LP

26

JLJLOE:

sen

; omitindo-se a constante 1/8

1.12

e cos

O efeito global deste fator decrescer a intensidade das


reflexes

que

ocorrem

com o ngulo de Bragg

para

ngulos

intermedirios. A

sua

variao

est representada na figura I.IO*^'.

e) FATOR DE ABSORO
Este fator leva em conta a absoro dos raios X na amostra.

Seu

valor

depende

do

mtodo

de

difrao

empregado.

Para

mtodo do p com difratmetro o fator de absoro A = 1/(2^),


de /n o coeficiente de absoro) que independe de 6. A
neste caso diminui
fator

e,

no

influe

no

clculo

das

(on-

absoro,

a intensidade de todas as reflexes pelo

portanto,

mesmo

intensidades

relativas'^'.

f) - FATOR DE TEMPERATURA
O fator de temperatura

(ou fator de Debye-Waller)

leva em

conta o aumento da vibrao dos tomos com a temperatura. Este aumento na vibrao trmica dos tomos alm de causar a expanso

10

Dial riond

0J&

0.6
Cu

e2M

Al

OA

02

0.2

0.6

Si-r>0

Figura I.ll - Fator

de temperatura

de

-16-

Debye-Waller.

das

clulas unitrias, alterando assim os valores dos espaamentos

in

terplanares, e consequentemente dos ngulos de Bragg, provoca tambm


uma diminuio das intensidades dos picos de difrao e aumento da
radiao

de

fundo

(background). O fator de temperatura

depende

do

material, do comprimento de onda A e do ngulo de difrao , conforme pode ser visto na figura I.ll'^'.
Para

a tcnica difratomtrica

a intensidade

relativa

das

raias difratadas dada por:


1 + cos ^28

I = IFI^ p

1.13

sen^ 8 cos 8

Esta

intensidade

orientao preferencial

1.6

M T O D O S

pode

ser

alterada

por

dois

fenmenos:

(textura) e extino'^'.

U T I L I Z A D O S

PARA

DIFRAO

D E

RAIOS

Existem vrios mtodos para obtermos o padro de difrao


de substncias cristalinas. Esses mtodos diferem no tipo de aparato
utilizado, no tipo de amostra e nas informaes que se deseja obter
sobre a estrutura do material. Podemos destacar entre eles o mtodo
de Laue

(para monocristais) e o mtodo do p.


O mtodo de Laue

um

fino

feixe

colimado

o mais antigo e mais simples. Utiliza

de

radiao

policromtica

que

incide

num

cristal estacionrio. Os planos cristalinos selecionam os comprimentos de onda que obedecem lei de Bragg

e os difratam

formando um

conjunto de pontos que so detectados por um filme. Duas geometrias


diferentes

so

normalmente

empregadas:

transmisso

reflexo,

dependendo da posio relativa do feixe de radiao, do cristal e do


filme, conforme pode ser visto na figura 1.12.
O mtodo do p, desenvolvido independentemente por Debye
Scherrer

(1916) e Hull

ser capaz de
estrutura

(1917) , o mais intensamente utilizado por

fornecer uma grande variedade de informaes

do material

investigado.

Basicamente

o mtodo

sobre

envolve

difrao de raios X monocromticos por uma amostra policristalina. A


radiao empregada

, geralmente, a raia de emisso

caracterstica

Ka__de um tubo de,raiosX, filtrada ou monocromatizad por um cristal.

A amostra pode estar fisicamente na forma de p ou de um slido

policristalino.

-17-

COMiSSO NAClCNl CE E N E R G I A N U C L E A R / S P - IPEN

1180 - 2

Figura 1.12 - Mtodo de Laue por transmisso

Existem

duas

tcnicas

6)

e reflexo.

principais,

diferenciadas

pela

posio relativa da amostra e filme:


TCNICA DE DEBYE-SCHERRER: O filme posicionado na superficie de um
cilindro e a amostra no eixo do mesmo.
TCNICA PARAFOCAL

(FOCUSING METHOD): O filme, a amostra e a fonte de

raios X so posicionados na superfcie de um cilindro.


As figuras 1.13 e 1.14 mostram esquematicamente essas duas
tcnicas.

FILME

ALVO

FONTE
FILME

ANTEPARO
AMOSTRA

Figura 1.13 - Cmara de Debye-Scherrer

-18-

Figura 1.14 - Cmara

focal.

1.7

D I F R A T M E T R O

D E

RAIOS

Uma variao da cmara de Debye-Scherrer


de raios

onde, ao

invs de um

o difratmetro

filme, utiliza-se

um

dispositivo

eletrnico para detectar e medir a intensidade do feixe difratado. A


vantagem desta tcnica est na possibilidade de medir as posies e
intensidades das reflexes simultnea e rapidamente, apesar do maior
custo do aparelho.
A

figura

1.15

apresenta

esquematicamente

difratmetro

(ou gonimetro) de raios X.

Figura 1.15 - Esquema

No

de um difratmetro

difratmetro

de raios X.

o feixe de raios

gerado

pela

fonte

^ S ' , passa pelo colimador ^A' e incide na amostra ^ C , que se encontra

sobre

suporte

^H'. A amostra

sofre movimento

de rotao

em

torno do eixo ^O', perpendicular ao plano da figura. O feixe difra-

-19-

tado passa pelos colimadores


qual est sobre o suporte
mecanicamente
acompanhado

de

modo

pela

e 'F' e incide no detector

^E'. Os suportes

que

rotao

o movimento
de

X graus

de

na

*E' e
2X

so

graus

amostra.

no

^G', o

acoplados

detector

Este

acoplamento

assegura que o ngulo de incidncia e o de emergncia so iguais


metade do ngulo de difrao 26. O contador pode varrer toda a faixa
angular em torno do eixo

^O' com velocidade constante ou ser posi-

cionado manualmente em uma posio desejada. Em alguns aparelhos

detector pode tambm deslocar-se de forma intermitente avanando um


pequeno

ngulo

parando

por

um

tempo

pr-determinado

em

cada

posio enquanto feita a contagem.


A

intensidade

do

feixe difratado

que pode ser do tipo Geiger-Muller,

medida

pelo

detector

proporcional, de cintilao

ou

ainda semicondutor. Um graficador sincronizado com o gonimetro r e gistra a intensidade medida pelo detector, em funo da posio angular do detector.
A

amostra

pode

ser

em

forma

de p compactado

sobre

uma

lmina plana, slida com a superfcie plana ou, em gonimetros verticais, diluidas em um lquido. A superfcie analisada deve paralela
ao eixo ^O'. O ponto focal da fonte de raios X e a fenda de recepo
esto sobre uma circunferncia

(crculo difratomtrico) que tangen-

cia a superfcie da amostra, e so equidistantes desta. Esta geometria conhecida como geometria de Bragg-Brentano
mente empregada
A

e a mais comu-

radiao

pode

ser

monocromatizad

por

meio

cristal, tanto no feixe primrio como no feixe difratado

de

ou

um

ainda

por meio de um filtro e discriminao eletrnica. Neste caso o filtro, que uma fina lmina de um material que tenha alto coeficiente
de absoro para comprimentos de onda menores que a raia a ser utilizada

(geralmente a raia caracterstica

essa parte do espectro


um

analisador

K a ) , absorve

intensamente

(principalmente a raia caracterstica

de altura de pulso

(monocanal)

seleciona

K/S) e

a faixa

de

comprimentos de onda em torno daquele desejado, que ser detectado.

1.8 - INSTRUMENTAO PARA DIFRATOMETRIA DE RAIOS X

Um

difratmetro

de raios X consiste

basicamente

de

trs

partes:
a) Uma fonte de raios X composta de um gerador de alta tenso alta-

-20-

mente estabilizado e o tubo onde so produzidos os raios X;


b) O gonimetro;
c) O detector e eletrnica associada para deteco e

discriminao

da radiao e os mdulos para controle do gonimetro, aquisio e


tratamento de dados.
A figura 1.16 mostra um diagrama de blocos de um

difrat-

metro tpico e alguns dos equipamentos perifricos mais comuns**'.


O gerador basicamente um transformador altamente estabilizado que permite a seleo da tenso de excitao do tubo de raios
X e da corrente aplicada no filamento

(que determina a corrente

tubo) . O tubo , geralmente, do tipo selado, e pode ser


substituido.

Existem

atualmente

geradores

com

no

facilmente

tubos

de

ando

rotatrio que permitem a utilizao de potncias de at algumas d e zenas de KW

(para geradores com tubos de raios X comuns a potncia

mxima e da ordem de 3 KW) . O gerador contm tambm um sistema

de

refrigerao do ando e sistemas de segurana para evitar superaquecimento e descargas eltricas no tubo.
O gonimetro um conjunto mecnico de preciso que executa

o movimento

do

detector

da

amostra

mantendo

geometria

da

tcnica empregada. Deve ter grande preciso na determinao das p o sies angulares do feixe de radiao primria, da amostra e do d e tector. O gonimetro deve ter tambm motores com velocidades
tantes para a tcnica de varredura contnua. Os aparelhos
utilizam-se de motores de passo, controlados por

cons-

modernos

microprocessadores

para o controle dos seus movimentos. No gonimetro tambm feita a


colimao e a filtragem ou monocromatizao do feixe.
Existem gonimetros especiais para aplicaes particulares
tais como anlise de textura, anlise de filmes, anlise de peas de
grandes dimenses etc.
O

detector

normalmente

do

tipo proporcional

gs

ou

cintilador pois em ambos os casos possvel selecionar, por meio de


um analisador de altura de pulso, a radiao que quer-se utilizar. O
sinal do detector depois de discriminado entra no contador que pode
apresentar a taxa de contagens por unidade de tempo ou as contagens
integradas

num

tempo

pr-determinado.

Acoplado

ao

contador

um

graficador onde so registrados em papel os diagramas de intensidade


difratada versus ngulo do detector (difratogramas).
O difratmetro pode ainda conter mdulos de controle eletrnico do gonimetro e do gerador assim como de coleta e armazenamento de dados. Os aparelhos mais modernos vem acoplados a um mini

-21-

I
Ni

FONTE DO
GANIMETRO

FIGURA

1.16

AMPLIFICADOR
LINEAR

FONTE Dr. ALTA


TE^;SAC

CONTROLE
DE
IMPRESSORA

de

um

DISPLAY

difratmetro

IMPRESSORA

de

CONTROLE
DA
IMPRESSORA

ANALIZADOR DF.
ALTURA Df: PUL30

REGISTRADOR

RATEMETER

1
1
1
1

esquemtico

DETECTOR^

- Diagrama

GERADOR
DE
ALTA VOLTAGEM

TUBO D E
RAIO X

raios-X.

TIMER

H E Z

SCALER

ou microcomputador
dos dados
como

que, alm

por meio de

identificao

anlise qumica
fases

funes, permite

softwares especficos para

de

fases

cristalinas

tratamento

cada

(tambm

finalidade,

conhecida

como

por difrao de raios X ) , anlise quantitativa

cristalinas,

preferencial),
microtenses,

dessas

determinao

determinao
determinao

de

de

de

textura

tamanho

tenses

de

de

(orientao

cristalitos

rediduais,

determinao

de

cristalinidade, determinao de estrutura etc.


A

figura

1.17

mostra

um

difratograma

tpico

obtido

por

meio de um equipamento do tipo descrito.


Para
comparado

com

identificao de fases cristalinas


o

"padro

de

difrao" do

o difratograma

respectivo

material,

que

consiste de uma ficha onde constam os espaamentos interplanares das


reflexes

do espectro

intensidades
"Powder

de difrao desse material, assim

relativas.

Diffraction

Estes padres

File"

so

de

difrao

catalogados

como

suas

conhecidos

como

pelo

JCPDS

Committee on Powder Diffraction Standards). A figura 1.18

(Joint
mostra

padro PDF do LiF


Para medidas que requerem maior preciso, tanto na posio
quanto na forma do perfil de difrao, comum o uso da tcnica de
contagem

^passo-a-passo'

ou

^step-scanning'.

Por

essa

tcnica,

ao

invs do detector girar continuamente em torno da amostra, medindo a


taxa de contagens

(ou intensidade difratada), o detector posicio-

nado em uma dada posio angular 2 8 , durante um tempo t selecionado,


durante o qual o sistema de deteco acumula as contagens. Aps completado

esse tempo, o detector

deslocado

automaticamente

para

posio 8 + de, onde o passo de, assim como o tempo t, podem

ser

convenientemente selecionados. Desta forma obtem-se, ao invs de um


difratograma como o da figura 1.17, um histograma ou um conjunto de
pares de valores de ngulo versus intensidade. Desta

forma

pode-se

obter, alm de grande preciso e fidelidade na determinao do perfil de difrao, o registro do perfil

na

forma de um

conjunto

nmeros, o que conveniente para o tratamento matemtico e/ou


putacional.

-23-

de

com-

75

70

FIGURA

60

1.1?

50

- Difratograma

55

de

ZnO.

40

35

-1?

30

25

-o

3D

to

4-0857

4-0851

4-0857

95

1.18

2.23

FIGUEA

100

2.01

do

95
100
48
10
11
3
4
14
13

2.325
2.013
1.424
1.214
1.1625
1.0068
0,9239
.9005
.8220

LiF.

I/I1

FLUORIDE

d A

LITHIUM

"PDF"

95

2.325

- Padrao

48

1.42

111
200
220
311
322
400
321
420
422

hkl

d A

hkl

Il -

II.1

ENERGIA DE FALHA DE EMPILHAMENTO

F A L H A

D E

EMPILHAMENTO

maioria

dos

cbica de faces centradas


hexagonal compacta

metais

apresentam

estruturas

dos

(cfc), cbica de corpo centrado

(hc), apresentadas na figura 1.5. As

tipos

(ccc) ou

estruturas

cfc e hc so chamadas de estruturas compactas pois, num modelo

de

esferas rgidas dessas estruturas, 74% do volume da cdula unitria


ocupado por tomos, enquanto que a clula unitria ccc tem apenas
64% do seu volume ocupado.
As estruturas compactas podem ser construdas a partir do
empilhamento de planos compactos de esferas. Num plano compacto cada
esfera circundada por seis outras esferas que a tangenciam,

como

pode

pode

ser visto na figura I I . 1 . Uma segunda camada de esferas

ser sobreposta a esta, de maneira que os centros de seus tomos cubram metade do nmero de vales existentes na primeira

(posies B ou

C) . Para sobrepor uma terceira camada segunda existem duas possibilidades. Embora as esferas de terceira camada devam ajustar-se aos
vales da segunda camada, elas podem ocupar as posies

equivalentes

quelas ocupadas pela primeira camada (posies A) ou posies equivalentes aos vales no ocupados pela primeira camada (posies C ) .

Figura II. 1 - Representao

de um plano

26

compacto.

No

primeiro

caso temos uma

seqncia

de

empilhamento

do

tipo ABABAB... que tpica do plano basal (0001) da estrutura hc. O


segundo caso resulta numa seqncia de empilhamento ABCABC... que se
verifica para os planos (111) da estrutura cfc.
Uma falha ou defeito de empilhamento um defeito superficial q u e , como o nome indica, consiste de uma regio localizada

do

cristal onde a seqncia regular de empilhamento est alterada.


Numa rede cfc so possveis dois tipos de falha de empilhamento conhecidas como intrnseca e extrnseca*"', que podem

ser

descritas considerando a mudana na seqncia de empilhamento resultante da remoo ou da introduo de uma camada extra de tomos. Na
figura

II.2a

parte de uma

camada

foi removida,

resultando

numa

quebra da seqncia de empilhamento. Esta uma falha de empilhamento intrnseca. Na figura II.2b uma camada extra foi introduzida entre

uma

camada

uma

camada

C,

provocando

duas

quebras

na

seqncia de empilhamento. Este tipo chamado de falha de empilhamento extrnseca ou de macia.

C
A
B
A

A B

A
_ A ^ , ^
A

A
C
B
A

A C

(a)
Figura II.2 - Falhas

(b)
de empilhamento: (a)intrnseca

(b)extrnseca.

Outra maneira de descrever uma falha de empilhamento numa


estrutura cfc pelo deslizamento de planos compactos

(111) durante

a deformao plstica. Na figura II.3a temos a seqncia normal de


empilhamento dos planos

(111) da estrutura cfc. O deslizamento des-

ses planos pode produzir a falha de empilhamento representada na figura II.3b, onde o deslizamento ocorreu entre uma camada A e uma camada B, resultando no movimento, de uma mesma distncia para a e s querda, de cada camada atmica acima do plano de deslizamento. Assim

27

a seqncia de empilhamento passou a ser ABCAtCAB. Esta seqncia de


empilhamento apresenta quatro camadas com empilhamento semelhante ao
da estrutura hc da figura II.3d. Portanto esta falha de empilhamento
num metal cfc equivale a uma pequena regio hc no seu interior.

Ao

oX

Co

AO

=oA

Bo

-O

-j^iT

Ao

o^

Ao-=

Co

Ao

ABCABCA

ABCA-CAB

(a)

(b)

oC

Bo^^

oB

oB

'jr^

Ao

B
r

B o^cZ
Aor:^

ABC ACB CA

ABA BAB

(c)

Figura II.3 - Sequncia

oB

(d)

de

empilhamento.

A outra maneira de ocorrer a falha de empilhamento na e s trutura cfc mostrada ha figura II.3c. A seqncia de empilhamento
ABC:ACB:CA

caracteriza

uma

falha de empilhamento

extrnseca

ou

de

macia na qual as trs camada ABC constituem a macia. Desta forma, as


falhas de empilhamento em metais cfc podem tambm ser
como

macias

submicroscpicas

de

espessura

consideradas

aproximadamente

atmica"'.
As falhas de empilhamento ocorrem mais facilmente nos m e tais

cfc

nestas

e,

em razo

estruturas.

disto, tm
partir

sido mais

desses

estudos

extensamente
pode-se

estudadas

afirmar,

exemplo, que as diferenas de comportamento na deformao

por

plstica

dos metais cfc podem ser relacionadas com as diferenas de comportamento da falha de empilhamento""'.
Do ponto de vista da teoria das discordncias, uma
de empilhamento

num metal cfc pode ser considerada

falha

como sendo

uma

discordncia dissociada, consistindo em uma pequena regio hc limi-

28

tada

por discordncias

parciais.

As discordncias

aproximadamente

paralelas tendem a repelir-se mutuamente enquanto que a tenso superficial da falha de empilhamento tende a aproxim-las. Quanto mais
baixa a energia de falha de empilhamento, maior a separao entre
as discordncias parciais e mais larga a falha de empilhamento.

II.2

D I S C O R D N C I A S

NA

R E D E

C F C

A deformao plstica de um cristal ocorre atravs do m o vimento relativo de seus planos de escorregamento que, em geral, so
aqueles

de maior

densidade

atmica. A direo de escorregamento

aquela de menor espaamento interatmico. Na rede cfc o deslizamento


ocorre

no plano

(111) segundo

a direo

[110],

conforme

pode ser

visto na figura I I . 4 .

11001

Figura I I . 4 - Direes

menor

de deslizamento

vetor

na estrutura

cfc.

de rede 1^[110], que liga

um tomo no

vrtice do cubo com um tomo vizinho no centro de uma face do cubo.


Assim o menor vetor de Burgers

1^[110].

Entretanto, considerando o arranjo atmico sobre o plano


(111),
mento

mostrado na
desses

planos

vetor b^ = ^ [ 1 0 1 ]

figura I I . 5 ,
no ocorre

podemos concluir que o deslizadiretamente

na direo

[110].

define uma das direes de deslizamento

29

obser-

vadas. Porm, se considerarmos os tomos como esferas rgidas, ser,


mais fcil para os tomos pertecentes a um plano do tipo B mover-s
/

ao longo dos

W a l e s ' , num movimento de 'ziguezague'

+ b^, do que

o fazer sobre o 'monte' (esfera do plano A) que se encontra no caminho do vetor b^.

Figura II.5 - Deslizamento

dos planos

(111) da rede

cfc.

A reao de discordncia

b^

-f^ [101]

11.1

b3

[211] +

[112]

11.2

A reao possvel pois as somas dos respectivos componentes de b^e b^igualam-se aos componentes de b^:

(1/2,0,-1/2) = (1/3,-1/6,-1/6) +

(1/6,1/6,-1/3)

II.3

Como a energia de uma discordncia proporcional ao quadrado de seu vetor de Burgers,

a reao energeticamente

favorvel

pois ocorre um decrscimo de energia:


2
.2

ao

2
.

logo:

30

K2

w2

ao

II.4

>

II.5

. b^

O deslizamento atravs deste processo de dois estgio cria


uma falha ABCAC:ABC na seqncia de empilhamento. Na figura II.6 p o demos ver a discordncia com vetor de Burgers
duas
com

discordncias
vetores

ciais por

parciais

de Burgers

conhecidas

^^que se dissocia

como parciais

^e ^ . Essas discordncias

no produzirem

AB,

Burgers

que

se dissocia

Shockley,

so ditas

translaes completas na rede. Na

II.6 a discordncias perfeita com vetor de Burgers


por

de

em

discordncias

em

par-

figura

representada

parciais

com

vetores

e b^ conforme a reao descrita. A combinao

das

de

duas

parciais AC e AD conhecida como discordncia extendida e a regio


que as separa uma falha de empilhamento, pois a parte do cristal
que sofreu um deslizamento incompleto.
11211

REGIO
FALHADA
(1011

"2"

12111

V
1

11011

Figura II.6 - Discordncias

parciais

de

Shockley.

Como as direes dos vetores de Burgers

das parciais

no

so perperndiculares, existe entre eles \ima fora de repulso qual


se contrape uma fora de atrao devida energia da falha de empilhamento. o equilbrio entre estas duas foras determina

largura

da faixa defeituosa. Portanto no equilbrio a fora de repulso


(13)

iguala energia de falha de empilhamento

31
;n,.a.ssn NAClCNfL LE t N L R G l A

N U C L E A R / S P - IPEN

se

G
F = y =

( )
- -
2 nu 7)

[J/m^] ou [N/m]

II. 6

onde F a fora de repulso entre as parciais, y a energia da falha de empilhamento e G^^^ o mdulo de cisalhamento no plano
que contm a falha,
Cjj so

cujo valor

1/3

(c^^ + c^^-

c^^)'^*'

os coeficiente de rigidez elstica; (^ lo^) o

escalar

dos

vetores

de Burgers

das discordncias

(111)
onde

produto

parciais, w

largura da falha de empilhamento (ou seja, a distncia entre as dise TJ = l

cordncias parciais)
q = 1 -

para

uma

discordncia

em espiral e

V para uma discordncia em cunha {v a razo de Po is son) .


A energia de falha de empilhamento uma grandeza caracte-

rstica do material que permite o entendimento e a previso de suas


propriedades mecnicas, subestrutura de deformao, estabilidade m i croestrutural

etc. A energia de falha de empilhamento

de um

metal

pode ser relacionada, por exemplo, com a taxa de encruamento, resistencia

fadiga

discordncias,

fluncia,

armazenamento

distribuio

de

energia

densidade

na

de

deformao,

recristalizao, freqncia de macias de recozimento, susceptibilidade

corroso

(swelling),

sob

tenso,

estabilidade

textura,

de

fases

inchamento

sob

irradiao

intermetlicas,

relao

eltron/tomo e densidade de lacunas eletrnicas"^'.

II.3

M T O D O S

D E

MEDIDA

D A

ENERGIA

D E

FALHA

D E

E M P I L H A M E N T O

Desde o surgimento do conceito de energia de falha, ou defeito, de empilhamento, vrios mtodos experimentais tm

sido

pro-

postos e utilizados para a sua determinao.


Os mtodos ditos diretos envolvem a observao por microscopia
anis,

eletrnica
tetraedros

de

transmisso

(MET),

de

ns

de

etc""^'*^'. Outros mtodos, ditos

discordncias,
indiretos,

pro-

curam relacionar a energia de falha de empilhamento com outras grandezas que possam ser mais facilmente medidas. Dentre estes

mtodos

pode se destacar o mtodo por textura de raios X, o mtodo da taxa


de

encruamento

no

terceiro

(tambm conhecido como

T^^^^)^

estgio
O

de

deformao

de

monocristais

mtodo por difrao de raios X,

que

envolve a medida da probabilidade de falhas de empilhamento e densidade

de

discordncias,

combinado

com

determinao

microdeformao quadrtica mdia, por difratometria de raios X.

32

da

Os mtodos diretos so considerados, em geral, mais precisos, embora com a desvantagem de que cada um deles se aplica

apenas

a uma estreita faixa de valores da energia de falha de empilhamento.


Reed

e Schrann^^^^ apresentam uma extensa

lista de trabalhos envol-

vendo os diversos mtodos de determinao da energia de falha de empilhamento, alguns dos quais so tambm discutidos por
Dentre
considerado

os mtodos

Borges^^^\

indiretos, o de difrao de raios X

o mais preciso, com a vantagem

adicional

de poder

ser

aplicado potencialmente a uma ampla faixa de valores de energia de


falha de empilhamento, alm de sua boa reprodutibilidade e da possibilidade

de

automatizao

do

mtodo

por

meio

de

computadores

ou

mesmo microcomputadores.

II. 4

M T O D O
P O R

D E

DETERMINAO

D I F R A O

D E

RAIOS

DA

ENERGIA

D E

FALHA

D E

E M P I L H A M E N T O

X.

O mtodo de determinao da energia de falha de empilhamento


por difrao
falhas

de

de raios X consiste em relacionar

empilhamento

microdeformao

a probabilidade

quadrtica

mdia,

de
em

metais severamente deformados, com a energia de falha de empilhamento. Tanto a probabilidade de falhas de empilhamento, quanto a microdeformao quadrtica mdia so grandezas que podem ser determinadas
por tcnicas de anlise de perfis e posies de reflexes de raios
X.
A

anlise dos perfis e posies de linhas em padres

de

difrao de raios X uma tcnia valiosa para o estudo da estrutura


e das propriedades

de materiais cristalinos"^', particularmente

na

investigao dos efeitos da deformao em metais e ligas.


A

deformao

plstica

em

metais

policristalino

produz

alargamento nos perfis das linhas de difrao e deslocamento das p o sies de seus picos. O alargamento dos perfis devido reduo do
tamanho dos domnios coerentes de difrao

(cristalitos), falhas de

empilhamento e microdeformaes dentro desses domnios coerentes de


difrao. Os deslocamentos dos picos de difrao so resultantes das
tenses

residuais

(em amostras macias),

falhas de

empilhamento

variaes dos parmetros de rede produzidos por discordncias e segregao de tomos em soluo. Outra fonte de alargamento dos perfis
de difrao

a geometria

do difratmetro

incorrees no seu alinhamento.

33

de raios

X,

assim

como

possvel, utilizando-se tcnicas experimentais e tratamentos

matemticos

adequados,

separar

os

fatores

que

provocam

alargamento e o deslocamento das linhas de difrao: o

alargamento

produzido pelo tamanho de cristalitos e falhas de empilhamento independente da ordem da reflexo, enquanto que o alargamento devido
deformao depende da ordem da reflexo"*'. O deslocamento de picos
produzido

por

falhas

tenses

residuais

varia

com

orientao

cristalogrfica dos planos de difrao. O alargamento resultante dos


efeitos instrumentais pode ser avaliada

com o auxlio de uma amos-

tra padro registrada num difratograma, nas mesmas condies experimentais que a amostra em estudo, e esse alargamento pode ser eliminado no perfil da amostra, por meio de tcnicas convenientes.

II.5

R E L A O

ENTRE

M I C R O D E F O R M A O

A
E

P R O B A B I L I D A D E
E N E R G I A

D E

D E

FALHA

FALHAS
D E

D E

E M P I L H A M E N T O ,

EMPILHAMENTO.

Quando uma discordncia unitria se dissocia em duas discordncia parciais de Shockley,

criada uma falha de

empilhamento

entre elas. A probabilidade de falhas de empilhamento " a " expressa a


frao defeituosa dos planos de escorregamento

(lll)"^':

onde Aj a rea de falha de empilhamento entre as parciais e A^ a


rea dos planos de escorregamento. A rea total defeituosa

dada

por:
n

5: Aj = n 1 (j

onde n o nmero de discordncias dissociadas, 1 o

II.8

comprimento

das parciais e u a distncia de separao entre elas.


A densidade de discordncias "p" a razo entre o comprimento total das linhas de discordncia dentro do cristal "n 1" e o
volume do cristal "A d
o

":
111

P =

n 1
d

^0

portanto de II.7, II.8 e II.9 temos:

34

^^-^

a = p

^)

No sistema cbico d

/ / T .

= a

11.10

111

onde a^ o paramento de rede.

T I . 10^*
Substituindo d... em II.lo"''':
111

a
"

0,=

11.11

(13)

A densidade de discordncias pode ser dada tambm por

onde <c^ >

<c? >

o valor mdio, numa coluna de comprimento L=50, das

microdeformaes quadrticas mdias na direo [111]; b o vetor de


Burgers

total

(2 b^ = a^) e K^^^ uma constante relacionada

com

geometria do cristal. Substituindo-se as equaes 11.11 e 11.12

na

equao II.6, obtemos:

G
^

K
111

) a
111

<c^ >

3'

^2

50 111

a
A equao 11.13 contm possveis incertezas devidas anisotropia elstica, interao de discordncias em planos
se interseccionam, ao tipo de discordncia
ao

valor

de

. Reunindo

essas

(111) que

(ou seja o valor de T)) e

incertezas

no

termo

'k

111

w ',
111

podemos expressar a energia de falha de empilhamento como"^':


K
y =

u) G
"*

<c^ >

*"

50_m

a
Entretanto
para
um

existe

K^^^e w^*

Reed

desenvolvimento

Burgers

b^ = a^/ / 7

grande
e

divergncia

quanto

Schrann^^'^^ discutem

da

equao

11.14,

aos

esses

usando

valores
valores
vetor

adotados
e

prope

parcial

de

K
G

111

b
p

111

ir

35

<e

>
50 111

ic

1 1 . Ib

valor

de

'y/G

b '
111

pode

ser

determinado

vrios metais e comparado

da

literatura

para

coiri a razo

'<c >

/a', grandezas

que podem ser determinadas por difrao de raios X.


possvel determinar-se o valor do

Desta

KJJJU^/TI'

termo

estas

forma

independen-

temente de consideraes sobre o tipo de discordncias e suas interaes. Por meio deste procedimento, J?eed e Schrann

demostraram ha-

ver uma relao razoavelmente constante entre as razes 'y/G


2
e '<c > / ' ; ou seja , ' K
ui ' possue um valor bem definido
50

111

'

materiais

111

'

severamente

*^

deformados,

numa

ampla

faixa

de

b '
para

*^

valores

de

energia de falha de empilhamento. Por outro lado, ^K^^^ t J ^ ' fortemente dependente de parmetros que so muito difceis ou mesmo

im-

possveis de medir-se. Portanto esta metodologia, conjuntamente

com

a equao 11.15, constitui uma base razovel para a medida da energia de falha de empilhamento.
Os valores de microdeformao e probabilidade de falha de
empilhamento dependem fortemente do grau de deformao do material,
porm com a tcnica de difrao de raios X podem ser medidas simultaneamente na mesma amostra e, conforme tem sido confirmado por d i versos

trabalhos"^'*^',

razo

'<c^ >

/a'

pode

ser

considerada

111'

50

constante.

II.6

- CALIBRAO DO MTODO

O mtodo de determinao da energia de falha de empilhamento por difrao de raios X compreende ento, como foi visto, duas
fases. A primeira, que podemos denojninar de calibrao

do mtodo,

consiste

em

entre

as

razes

'y/G^^^bp'

'K^^^ w^'.

segunda

determinar
^^Cgo'^iii^"''

a
"

proporcionalidade
seja,

valor

de

etapa consiste em medir, para> os materiais cujas energias de falha


de empilhamento desejamos determinar, a razo ^"^^^q^^^^/^'

Para efetuarmos a calibrao do mtodo necessrio um levantamento, na literatura, dos valores da energia de falha de empilhamento medidas por mtodos considerados precisos, para alguns m e tais cfc, e a comparao desses valores, juntamente com os valores
de

'G

b ', com valores da razo


111

'<c^ >
50

/a' medidos por


111'

difrao
^

de raios X para os mesmos metais. Para tanto foram escolhidos os m e tais: prata, ouro, cobre, alumnio e nquel, para os quais existe um
grande nmero de trabalhos, utilizando diversos mtodos de determinao de energia de falha de empilhamento"'^'*^'.
36

Existe grande disperso nos valores de 'y' reportados para


esses metais, e em razo disto necessrio que se faa uma reviso
desses valores reportados, com uma ponderao do grau de confidncia
dos mtodos utilizados em cada um.
Reed
'y'

e Schrann^^'^^

apresentam

uma

reviso

dos

valores

de

para esses metais, com valores compilados at 1974, sugerindo os

seguintes valores como mdia dos valores obtidos pelos mtodos mais
confiveis:

METAL

FAIXA DE VALORES
(mJ/m^) ou (erg/cm^)

(mJ/m ) ou (erg/cm^)
22

Ag

16 - 31

Au

50

42 - 61

Cu

62

48 - 85

Al

163

111 - 210

Ni

220

160 - 300

Tabela

II. 1 - Reviso

dos

valores

de

realizou

os

metais

Ag,

Au,

Shrann^-^^K

Cu, Al e Ni - Reed e

Coulomb^^^^

'y' para

tambm

uma

reviso,

mais

recente

(1978), recomendando os valores mostrados na tabela II.2.


FAIXA DE VALORES
(mJ/m^) ou (erg/cm )

METAL
(mJ/m^) ou (erg/cm^)
Ag

20

16 - 65

Au

35

28 - 42

Cu

45

31 - 160

Al

135

86 - 400

Ni

125

150 - 240

Tabela II.2 - Reviso

dos valores

de

'y' para os metais

Ag, Au, Cu,

Ni e Al - Coulomb^^^\

Das tabelas
recomendados

por

JReed e Scbrann.

II. 1 e II.2 pode-se observar

Coulomb

so menores que aqueles

que

os

valores

recomendados

por

Os valores de 'y' para nquel so discrepantes entre

as duas revises e alm disso os resultados utilizados em ambas para


chegar

esses

valores

so

ainda

37

discutidos

quanto

sua

consistncia"^'.
Em razo disto utilizaremos os resultados recomendados p e la duas revises para a calibrao do mtodo, chegando a dois valores independentes para 'K^^^w^'.
Para a determinao de ^<c^^>^jj' e 'a', tanto para os m e tais puros utilizados para a calibrao do mtodo, como para os m e tais cujas energias de falha de empilhamento queira-se
foram
como

empregadas
"Anlise

tcnicas

hoje

de perfis de

bastante

determinar,

disseminadas,

linhas de difrao

conhecidas

de raios

X"

(X-Ray

diffraction Line Profile Analysis - X R D L P A ) .


A probabilidade
medida

do deslocamento

de

falhas de empilhamento

obtida

relativo dos picos de difrao do

pela

material

deformado em relao ao material recristalizado'^'.


A microdeformao obtida a partir da anlise de Fourier
do alargamento dos perfis dos picos de difrao, com a aplicao da
tcnica de Warren-Averbach*^*' para a separao dos efeitos de tamanho de cristalito e deformao.

II.7 - DETERMINAO DA PROBABILIDADE DE FALHAS DE EMPILHAMENTO

Falhas de empilhamento nos planos (111) de metais cfc produzem deslocamentos nos picos de difrao assim como o

alargamento

de seus perfis'^^'. difcil obter informao sobre falhas de

empi-

lhamento apenas da anlise do alargamento dos perfis pois estes so


afetados pelo tamanho dos domnios coerentes de difrao e pela d e formao"^'.

Entretanto

o deslocamento

dos

picos

afetado

apenas

pelas falhas de empilhamento e, portanto, a sua medida permite a d e terminao da probabilidade de falhas de empilhamento 'a'.
O

deslocamento

de

picos de

qualquer

linha de difrao

(23)

(A 2 8 ) , em graus dado por

A 28 = tan 8 cos^^ 270 / l ^ a / 7T^ h^

11.16

onde ^<p' o ngulo entre a direo normal ao plano de difrao e os


planos que contm

falhas de deformao,

lhas de empilhamento

'a' a probabilidade de fa-

(suposta pequena) e h^ =

|h + k + 1|. O deslo-

camento positivo ou negativo dependendo se 'h^' igual a 3n + l


ou 3n - 1 respectivamente
camento. Para as reflexes

(n inteiro) ; quando h

= 3ri no h deslo-

(111) e (200) o efeito das falhas de em-

38

pilhamento deslocar o pico


pico

(200)

difrao

na

direo
(TIL),

(111):

(111) na direo crescente

contrria.

Trs

componentes

de 26 e o

do

pico

de

(111) e ( L L T ) so deslocados, enquanto que o

quarto no afetado.
Portanto para as reflexes

(111) e

(200) a equao

11.16

fica:

^^^zoo

^^^J=

Segundo

Warren

4^/^

(2 tan

6^^^

Warekois

+ tan

este

6^^^)

2n^

desenvolvimento

supe

que as falhas ocorrem independentemente e apenas em um conjunto de


planos

(111).

Em metais severamente deformados a frio as falhas de

empilhamento provavelmente ocorrem em mais de um conjunto de planos


(111)*"'.

Conseqentemente

significncia

de

'a' obtida

partir

da equao 11.17 no claramente definida, porm considerada como


representando a soma das probabilidades para os diferentes conjuntos
de planos

(111).
O

deslocamento

de picos de difrao devido

falhas

de

empilhamento so, geralmente, muito pequenos e como pode haver outras

fontes

amostra

no

unitria,

de

deslocamento,

difratmetro

no

ou

aconselhvel

como

posicionamento

alteraes
medir

nas

incorreto

dimenses

deslocamento

da

para

da

clula

um

nico

pico. conveniente medir-se o deslocamento relativo de picos adjacentes cujos deslocamentos ocorram em direes contrrias, como o
caso dos picos

(111) e

(200), em uma nica corrida do

difratmetro

para a amostra deformada, e repetir o procedimento para uma amostra


idntica

que

tenha

sofrido

um

tratamento

de

recristalizao

(padro). Com este procedimento a separao dos picos praticamente


independente dos efeitos de erros de posicionamento e da variao da
clula unitria*^'.
importante, ainda, que a medida seja feita em termos da
posio

dos

picos,

uma

vez

que

medida

tomada

em

funo

dos

centroides dos picos pode incluir o efeito adicional das assimetrias


dos picos, resultantes das falhas de macla*^'.

II.8 - DETERMINAO DA MICRODEFORMAO

Um perfil de difrao corrigido do alargamento

instrumen-

tal pode ser representado em termos de uma srie de Fourier*^':

39
- > N /C D

IPFM

eo

P(s) =

exp [-2 n i n a^{s - s^)]

11.18

n=-oo

onde K

uma

funo que varia

suavemente

com

s = 2 sen e / A,

s^ = 2 sen 8^ / A, 8^ a posio angular do pico de difrao, n o


nmero harmnico e a

= d
3

Podemos

hkl

definir

intensidade

espalhada

I(s)

P(s)/K

como:
00

^^^

" I

[-2

rr i n a^s

11.19

s^)]

n = -00

onde os coeficientes de Fourier

=
n

so dados por:

I(s) exp ^-2 n i n a^ (s - s^)] ds

"F

21

-As

2 1 '

11.20

/2

onde As^j intervalo de integrao definido por:

As
3

Com

uso

da

= A h
21

= 1

11.21

integral

de

Fourier

podemos

escrever

as

equaes 11.19 e 11.20 na forma*^*':

I(s) =

C(L) exp [-2 n i L (s - s^)] dL

11.22

C(L) =

I(s)

[-2 TT i L (s - s^)] d s

11.23

exp

onde L a distncia normal aos planos de difrao

(hkl) dentro do

cristal. Das equaes 11.19 e 11.22 pode-se observar que:

L = n a

= n d

Os

coeficientes

de

Fourier

11.24
hkl

C(L)

ou

so,
n

grandezas complexas:

40

geralmente,

= A
n

+ i B
n

OU

C(L) = A(L) + i B(L)

11.25

assim as equaes 11.19 e 11.22 podem ser expressas na forma:

I(s)

= Y

2 TT n a^s - s^) + B^ sen 2 rr n

a^(s - s^)]
11.26

ou
[A(L)

I(s) =

2 n L (s - s^) + B(L) sen 2 n L (s - s^)] dL

COS

11.27

Cada

coeficiente

de

Fourier

(7)

termos

C(L)

produto

de

dois

PF

; um

deles

representado

por

(L)

funo do tamanho

de

partcula e o outro representado por C^(L) funo da deformao.


PF

O
s

termo

2 sen /A =

(L)

independente

1 / d** , onde d''

hkl

da

ordem

a distncia

da reflexo,
interplanar

da

hkl

amostra deformada. Os coeficientes de Fourier

podem, ento ser dados

por:
C{L) = C''^(L) C^(L,s )

11.28

O termo C^(L) representa as deformaes do material. Podemos definir o componente de deformao normal aos planos de difrao
como*"':

C^(L,sJ

(AL

11.29

/ L)^

= <exp (-2 7T i L c

Para

pequenos

s )>

valores

de L , e

e s
L

11.30

podemos

aproximar

funo exponencial por:


C^ (L,s^) = 1 - 2

TT^

L'<C^>

S^ - i 2

TT

L <e^> s^ =

A^(L)

+ i B^ ( L )
11.31

que pode ser escrito como:

41

C^(L,S ) = |C^(L)| exp (-2 TI i L < C , > S ^ )


b

11.32

onde:
|C^(L)| = 1 - 2 TT^ L^e^> -

<cl sl

11.33

Na equao 11.33 o termo <c^> - <^>^ o desvio padro da


distribuio de deformaes. Das equaes 11.22 e 11.32 obtemos:

C''^(L) |C^(L)| exp [-2 TT i L (S - Sp)] dL

I(s) =

onde

anlise

s^-

de

<c >s^. Se

Fourier,

usarmos

posio

supondo

uma

de

s^ como

distribuio

11.34

origem

da

simtrica

de

deformaes teremos:

IC'^L)! = A^(L) = 1 - 2

Tr^L^e^>

- <cy)

s^

11.35

ou seja:

A^(L) = {[A^ (L)]' + [B^ (L)]'

termo

c''''ou c''''(L) est

relacionado

}''^
com

11.36

tamanho

dos

domnios coerentes de difrao D(hkl) e falhas de empilhamento. Segundo Warren^^^:


c'''' = (N
n

/ N )
n

3'

11.37
n

onde N^ o nmero mdio de clulas de comprimento a^ com um n-simo


vizinho na mesma coluna normal aos planos de difrao, N

o nmero

mdio de clulas por coluna em toda a rea irradiada da amostra e


o coeficiente devido s falhas. Pode-se demonstrar que"*':
00

= Y
"

onde P

(j - Inl) P.

J=lnl

11.38

a frao de colunas de comprimento


J

j . Como N

depende

do

valor absoluto de n, o termo N

/N
n

na equao 11.37 funo par de


3

n e consequentemente os coeficientes de Fourier

em seno so iguais a

zero. Usando a funo de distribuio contnua p(J)dJ, definida como


a frao de colunas com comprimentos entre J e J + dJ, e usando:

42

C''''(L) =

(L) C''(L)

11.39

podemos representar os coeficientes de Fourier

A''(L) =

em cosseno

(J - ILI) p(J) dJ

(l/D)

por:

A''(L)

11.40

J= I L I

onde D o tamanho mdio dos domnios na direo normal aos planos


de reflexo. Para pequenos valores de L ,

pode ser

A''(L)

aproximado

por:

A''(L)

partir

das equaes

L/D

11.34,

11.41

11.35 e 11.39, podemos

ex-

pressar a intensidade difratada por:


I(s) =

onde

A''(L)

A^(L)

C^(L)

exp

[-2n

i L

(s

s^) ] dL

11.42

- <e^> s^.
Na ausncia de falhas c''(L) = 1 e a equao 11.42 se reduz

relao de

Warren-Averbach^^^^:

I(s) = P(s)/K = y A''A^cos[2Tr n a (s - s )] + A''B^sen[2Tr n a s - s^)]


t-

n = oo

x\

Ti

11.43

II.9

SEPARAO

D O

TAMANHO

D E

PARTCULA

DEFORMAO

PF

Os
dependem

da

coeficientes
ordem

de

de Fourier

reflexo"*'.

Se

PF

(L) ou A

PF

(L)

substituirmos

os

(L)

ndices

Miller

(hkl) do pico de difrao por (l^h^,l^k^,1^1^), onde

so os

ndices

de

Miller

da primeira

ordem

da

reflexo

no

de

h^k^l^
1

o
PF

ordem

da

reflexo,

os coeficientes

de Fourier

PF

(L) e

(L)

no

sero alterados. Os coeficientes de deformao A (L) e B ( L ) , porm,


dependem da ordem da reflexo. Como s^ = 1 / d^
b

= h^ / a^, pode se

hkl

concluir da equao 11.33, que para a estrutura cbica com parmetro


de rede a:
A^(L)

[2

Tr^L^<cJ>

43

(ic^)

a^3

h^

11.44

onde

1^.

Usando o mtodo de Warren-Averbach^^^^

A(L)

= A''^(L)

podemos escrever:

A^(L)

11.45

In A ( L ) = In A ' ' ^ ( L ) + In A ^ ( L )

11.46

Para pequenos valores de L e <c^>, podemos escrever:


In A ( L ) = In A ' ' ^ L )

2 Tr^<c^> - ic^)

L V

^^''^'^

Portanto se fizermos um grfico de In A ( L ) versus s^, (s^


=

2 sen e /A), extrapolarmos a curva para s


b

cientes de tamanho de partcula A ^ ' ' ( L )


L.

= O, teremos os coefi-

para os diferentes valores de

A inclinao da curva a medida da deformao quadrtica

mdia

<c^> - <c^>^ou seja:


1/2

cf> - <c^>')

1/2

= {In [ A ' ' ( L ) / A ( L ) ] >

/.

( / 2
.

7rLsJ

^^-^'^
2

Para amostras pulverizadas podemos considerar <c^^> = O

44

(37)

ANLISE DOS PERFIS DE DIFRAAO

DE RAIOS X

III.l - INTRODUO

Para a anlise dos perfis de difrao necessrio que estes


sejam registrados com grande preciso e que suas caudas sejam r e gistradas, em ambos os lados do pico, at distncias que permitam
estimar

com

segurana

(background)"*'.

Para

tanto

o
os

nvel

da

perfis

de

radiao
difrao

de

dos

estudados foram registrados pela tcnica de contagem

fundo

materiais

passo-a-passo

com tempo fixo (step-scanning).


O aparelho utilizado foi um difratmetro Rigaku, composto
de um gerador modelo Geigerflex, um gonimetro modelo SG-8 com d e tector de cintilao e eletrnica associada. O sistema eletrnico de
contagem

foi acoplado, por meio de uma interface projetada

e cons-

truida no IPEN-CNEN/SP, a um microcomputador APPLE II+, para o qual


desenvolvemos o software que realizou o armazenamento e o tratamento
dos dados.
Dentro dos objetivos deste trabalho, foram

desenvolvidos

programas em liguagem BASIC, para a aquisio, armazenamento e tratamento dos dados, para a determinao da probabilidade de

falhas

de empilhamento e da microdeformao quadrtica mdia, descritos a


seguir.

III.2 - AQUISIO E ARMAZENAMENTO DE DADOS

sistema

funcionamento

do

de

step-scanning

gonimetro

e do

do

(PROG.AQ/DADOS)

difratmetro

contador

(scaler)

controla

de

modo

que,

selecionada a faixa angular na qual se far o registro do perfil, o


gonimetro permanece estacionario numa posio durante o tempo selecionado, durante o qual o scaler acumula as contagens registradas
pelo detector. Completado esse tempo, o scaler interrompe a contagem

imprime

numa

fita

de

papel,

enquanto

que

gonimetro

avana de um passo angular selecionado, e em seguida reiniciada a


contagem.

Este

sistema

foi modificado

imprimir cada contagem atravs da


esta

de

forma

que,

ao

impressora do prprio

invs

de

aparelho,

informao enviada, atravs de uma interface, ao microcom-

putador que, por meio de um programa registra a contagem.

-45-

o programa armazena, ento, um arquivo em disquete, contendo

as

seguintes

informaes

sobre

perfil

de

difrao

registrado:
a) Identificao da amostra;
b) Identificao do arquivo;
c) Radiao utilizada;
d) Passo angular empregado;
e) Tempo de contagem;
f) Faixa angular registrada;
g) Fendas utilizadas;
h) Pares de valores "ngulo x contagem".
Estas informaes so impressas em papel, via
do

microcomputador,

simultaneamente

sua

gravao

em

impressora
disquete.

Assim, para cada perfil registrado gerado um arquivo em disquete


que ser acessado pelos demais programas.

III. 3

CORREO

DO

BACKGROUND

FATOR

DE

LORENTZ-POLARIZAO

(PROG.BGLP).

Todos os trabalhos que descrevem ou utilizam a anlise de


perfis de difrao recomendam especial cuidado com a determinao do
background*^'^'^'**'''^^'^^'"'^'',
espalhamento

incoerente

do

que

feixe

radiao
de

de

raios

fundo
pela

devida

amostra

ao
e/ou

radiao fluorescente ali excitada. A maioria desses trabalhos recomenda que determine-se o nvel do background ajustando uma curva

(em

geral uma reta) s caudas do perfil de difrao, usando apenas o bom


senso para evitar a subestimao ou a superestimao de sua intensidade.

Para

evitar

subjetividade

desse

procedimento,

desenvol-

vemos um mtodo de estimar o nvel do background que mostrou-se satisfatrio*^^', que baseia-se no seguinte raciocnio:
Num difratograma, a intensidade da radiao registrada para posies
distantes dos ngulos de Bragg
no dependem do ngulo 6

devida a fatores que, em princpio,

(ou 20) e, portanto, deve manter-se

cons-

tante, a menos da flutuao estatstica da produo, deteco e contagem dos ftons de raios X. Deste modo, numa regio de background a
flutuao

da

intensidade

(ou

das

contagens

acumuladas

num

dado

tempo) de um ponto para outro adjacente, deve estar relacionada

de

alguma forma com o desvio padro da contagem. Portanto, se para uma


posio 26 a contagem acumulada for N, para um dado tempo de conta-

-46-

gem,

para

posio

28

(onde

passo

angular

do

difratmetro) a contagem acumulada no mesmo tempo dever ser N Ka,


onde <r = y / N

o desvio padro da contagem e K uma constante.

uma dada contagem N^^^ supera o valor N^i K v^N^


das

contagens, ou seja, N

(onde

E N / j) ento a
J=i ^

=
'

Se

a mdia

contagem

(e consequentemente o ponto i + 1) no faz parte do background e sim


do perfil de difrao.
Eventualmente uma dada contagem pode estar fora do intervalo de N a N + v/^ , e no pertencer ao perfil. Para evitar estes
casos, um segundo teste faz com que um ponto seja considerado como
sendo do perfil apenas se Y pontos consecutivos estiverem

fora do

intervalo definido pela mdia dos valores anteriores mais ou menos


o respectivo desvio padro. Os valores de K e Y podem ser escolhidos convenientemente, de acordo com a razo entre as
do

pico

do

background.

Nossa

experincia

sugere

intensidades
como

valores

tipicos K=l e Y=3.


O programa para correo do background desenvolvido recupera os dados do arquivo gerado pelo programa de aquisio e armazenamento de dados, lista-os e permite que se selecione a regio do
perfil que se deseja estudar. Selecionada esta regio, o programa
determina

automaticamente, de ambos os lados do pico de difrao,

os pontos que correspondem ao background. A esses pontos ajustada


uma reta, pelo mtodo dos mnimos quadrados. O programa faz tambm
uma anlise estatstica do ajuste dos pontos reta, fornecendo

coeficiente de correlao da reta. Caso o ajuste dos pontos reta


seja insatisfatrio, pode-se recomear o processo selecionando uma
outra regio do perfil e/ou definindo novos valores para K e Y.
Quando chega-se a um resultado satisfatrio para a

reta

que define o background, esta subtrada, ponto-a-ponto, do perfil


experimental, resultando da o perfil corrigido do background.
O programa permite ento que iguale-se a zero os pontos
da regio do background que eventualmente sejam discrepantes e, em
seguida,

faz-se

para

cada

ponto,

correo

pelo

fator

de

Lorentz-Polarizao, segundo a equao 1.12. Os dados corrigidos do


background e do fator de Lorentz-polarizao so ento gravados em
disquete,

num

novo

arquivo

que

ser

utilizado

pelo

programa

seguinte.
Opcionalmente este programa permite que faa-se uma sua-

-47-

vizao

(smothing) dos valores de intensidade. Este procedimento

conveniente
quando
mados

(6)

quando

o perfil

intensidade

do pico

de difrao

baixa

muito alargado, como no caso de metais

ou

defor-

, como ilustrado na figura III.l.


100 -1

(a)
c

O -

I
100

133

143
2 e

(b)
.o

c
D

I
143
2

133
100

-1

(c)

c
3

O -J

I
133

143

2 8'

Figura III.l - Perfis

do pico

(a) Perfil
(c)

de difrao

experimental;

suavizado.

-48-

(222) de amostra

(b) Corrigido

do

de

ao;

Background;

Esta suavizao feita tomando-se como valor de intensidade para cada ponto, a mdia das intensidades dos pontos adjacentes. Assim cada intensidade 1^ fica:

1^=1

/ (2k

-H

1)

j = i-k

onde k pode

assumir

o valor

1 ou 2, dependendo

do passo

angular

usado na tomada de dados por step-scanning.

III. 4

OBTENO
K

DA

SRIE

DE

FOURIER

CORREES

DO

DUBLETO

k .,E ALARGAMENTO INSTRUMENTAL.

(PROG.FOURIER/RACHINGER/STOKES)

A teoria de difrao de raios X prev que um perfil de um


pico de difrao de uma amostra policristalina
com

cristalitos

estreito'*'.

Na

suficientemente

prtica

os

grandes

perfis

sempre

isenta de tenses e
deve

ser

apresentam

bastante

algum

alarga-

mento alm daquele devido s tenses e tamanho de cristalitos. Este


alargamento adicional devido combinao de diversos fatores r e lacionados com o equipamento, tais como largura finita das fendas de
colimao

do

feixe de raios X, tamanho da amostra, penetrao

dos

raios X na amostra, focalizao imperfeita, no resoluo do dubleto


K^j-

ou mesmo a largura das raias K^^-

resolvido.

Todos

esses

fatores

de alargamento

guando
podem

o dubleto

ser

agrupados

sob o nome de 'alargamento instrumental'.


Para

obter-se

perfil

'puro', que

apresenta

apenas

alargamento devido estrutura do material, necessrio corrigir o


perfil experimental, eliminando o alargamento instrumental.
O

alargamento

instrumental pode ser determinado

do perfil de difrao de uma amostra

atravs

(padro), isenta de tenses e

com cristalitos suficientemente grandes registrada nas mesmas condies

experimentais

gamento do perfil

que

a amostra

em

estudo*^'*'^'. Assim

de difrao do padro representa

alar-

alargamento

instrumental a ser corrigido do perfil experimental.


O princpio desta correo pode ser discutido em
das trs curvas mostradas na figura III.2.

-49-

termos

Figura III.2 - As tres curvas


instrumental:
estrutural,
perfil

utilizadas
f(y)

g(z)

na correo do

e o perfil
e o perfil

alargamento

'puro' do
do

padro

alargamento
e h(x)

e o

experimental.

A distribuio de intensidades h(x) do perfil experimental

consiste

na

superposio

da

funo

instrumental

g(z)

uma

funo f(y) relacionada com os parmetos fsicos da amostra, tais


como tamanho de cristalito e deformaes.
A relao entre as trs curvas obtida considerando-se,
na

figura

II1.2,

a rea hachurada

g(z)dz

sobre

a curva

g ( z ) . Se

existir adicionalmente um alargamento devido estrutura da

amos-

tra, a rea g(z)dz ser expandida pela funo f ( y ) , e na posio y


a ordenada a contribuio dh(x) na posio x = z + y sobre a curva

h(x) . Como

as ordenadas

reas dos picos

nas duas

dh(x)

onde

curvas

so

proporcionais

(7)

rea

da

curva

III.l

g(z)dz

f (y) . Substituindo-se

ordenada da curva h(x) ser dada por:

h(x) =

g(z)

f(X

III.2

- z) dz

A equao III.2 indica que o perfil de difrao da amostra uma convoluo de duas funes: uma que representa o alargamento devido aos fatores estruturais e outra que representa o alargamento

devido

aos

fatores

instrumentais. A determinao

de

f(y)

atravs da equao III.2, quando h(x) e g(z) so conhecidos, no


trivial uma vez que f(y) ser dentro da integral de convoluo.
Uma

forma rigorosa

de resolver

a equao

III.2

obter

f(y) a partir das curvas h(x) e g(z) obtidas experimentalmente

-50-

conhecida como mtodo de StoKes'^*'.


Pelo mtodo

de Stokes

forma de sries de Fourier


a mais

larga

as trs

funes

so expressas na

no intervalo de -a/2 a + a / 2 . Como h(x)

das trs curvas, o intervalo

escolhido

de modo a

incluir toda a curva h ( x ) . Usando a notao complexa temos:

f (y)

111.3

F ( n ) exp (-271 i n / a )

= E
n

g(z)

= ZG(N^)

h(x) = imn^)

n^z/a)

111.4

exp (-271 i n^x/a)

111.5

exp

(-271

Substituindo estas expresses na equao III.2 temos:

E G(nj) exp (-2n i n^ z/a) J] F(n) exp[-27r i n (x - z) ]dz

h(x) =

III.6

A integral pode ser confinada aos limites -a/2 a +a/2 pois


g(z) no nula apenas neste intervalo.
Combinando

os termos

que envolvem

z, podemos

expressar

h(x) como:
,.0/2

( x ) = - ^ 1 1 G ( n j ) F ( n ) exp(-27r i n x / a )

exp[-27r i (n^- n) z/a]dz

n n

-a/2

III.7

Como:
+ a/2

a se n^ = n
III.8

exp [-271 i (n^- n) z/a] dz =


O se n^

-a/2

a expresso se reduz a:
h(x) =

Comparando

com

G(n) F(n) exp (-271 i n x/a)

equao

III. 5

III.9

igualando

os

coeficientes, obtemos:

-|- G(n) F(n) = H(n)

-51.-...c=.i.n

aruON^L t k N t R G l A N U C L E A R / S P - IPEN

III.10

Normalmente

estamos

formato

da

curva e, portanto, a constante a/A pode ser desprezada. Assim,

os

coeficientes de Fourier

Por

meio

da

interessados

apenas

no

da curva f(y) so dados por:

equao

III.11

temos

uma

soluo

exata

completamente geral da equao III.2. Entretanto a equao

III.11

no to simples pois os trs coeficientes podem ser complexos'^':

H (n) + i H (n)
(n) + i F (n) =
'
G^(n) + i G J n )

III.12

ou ainda:
H (n) G (n) + H (n) G (n)
F

(n) =

III.13

G^n) + G^n)

(n) =
'

H (n) G (n) + H (n) G (n)


G^(n) + G^(n)

III.14

Partindo das duas curvas obtidas experimentalmente, h(x) e


g(z) , necessrio determinar-se os coeficientes em seno e em

cos-

seno, que combinados de acordo com as equaes III.13 e 14, fornecem


os coeficientes

F^ (n) e F^ (n), a partir dos quais a funo f(y)

sintetizada:

f(y) =

>

F (n) eos 2

TT

/ . L

III.15

+ F (n) sen 2 ir n
a

n
A s origens escolhidas para as duas curvas h(x) e g(z) so
arbitrrias,
F^(n)
f(x)

e
com

ou

seja,

Fj (n) sero
origens

se

as

origens

diferentes, mas

diferentes,

que

forem

deslocadas

correspondero
no

tem

as

funes

mesma

efeito

na

funo

forma

do

perfil.
O mtodo de Stokes s pode ser utilizado se a funo G(n)
possuir um valor aprecivel no intervalo no qual H(n) diferente de
zero, ou seja, G(n) deve ser muito larga em relao a H(n) , o que

-52-

equivale

dizer

que

g(z)

deve

ser

estreita

em

comparao

O trabalho envolvido na correo de Stokes


zido

se as trs

funes

forem

com

pode ser redu-

simtricas. Na maioria

dos

casos

assimetria dos picos devida principalmente ao dubleto K^j~K^2


resolvido,
deaz

para

de

modo

obter-se

que
os

corrigindo-se
perfis

h(x)

h(x)

e g(z)

da

contribuio

g(z)

resultantes

da

raia

ai

apenas, se obtm picos essencialmente simtricos*^'.


Dos mtodos existentes para a separao do dubleto K^,~K^2
o

mtodo

Rachinger)

de

Rachinger

(tambm

considerado

Rachinger^^'^'^'^^^ considera-se

conhecido

como
(16)

melhor
a

intensidade

da

mtodo

de

DuMond-

correo

Na
raia

K^^

como

de
sen-

do a metade da intensidade da raia K^^, e que a forma dos perfis resultantes das reflexes das duas raias a mesma, sendo que o pico
K^^ est

deslocado de um ngulo
A(2) = 2 tan [AX/A(ai)], onde AA = X (az) - (ai)

III. 16

O principio da correo de Pachinger ilustrado na figura


III.3.

01 2 3 4 5 6 7 8 9 10
Figura III.3 - Correo de

Rachinger.

Na figura III.3 o perfil da esquerda representa a contribuio de K^^ e K^^ separadamente, enquanto que o perfil da direita
mostra a superposio das duas raias, tal como se obtm

experimen-

talmente.
Para proceder correo, estabelecemos intervalos de largura A2/m, a partir da extremidade esquerda do perfil experimental,
onde a intensidade nula e dividimos toda a extenso do perfil em
intervalos com essa largura, numerando-os como O, 1, 2,...,i,...., n
at

extremidade

direita. O valor de m

no nosso

caso

inteira da razo entre A2 e o passo angular utilizado no

-53-

parte

registro

dos perfis por

'step-scanning'. Vamos denominar 1^ a intensidade

do

perfil experimental no i-simo dos n intervalos e Ij(ai) a parte de


devida apenas a ai. Assim:

Aplicando-se este procedimento para cada ponto experimental,

no

sentido

crescente

de

2 0 , obtem-se

o perfil

corrigido

dos

efeitos da raia K^^ ^om uma preciso satisfatria desde a extremidade

esquerda

at

aproximadamente

a metade

da

parte

descendente

perfil, a partir de onde as diferenas entre I. e I.

do

(ai) envolvem

quantidades muito prximas e assim a preciso baixa. Nesta regio


pode-se utilizar um procedimento de suavizao semelhante ao descrito n o item anterior para eliminar as flutuaes.
Gangulee^^^^
Rachinger,
entes da

faz

um

desenvolvimento

do

mtodo

de

efetuando a correo dos efeitos da raia K^^ nos coeficisrie de Fourier

que representa

o perfil

experimental. A

vantagem deste procedimento que o erro da correo de Rachinger

uniformemente distribuido por todo o perfil'^^'.


Podemos
perfis

denominar

relativos

as

distribuies

raias

K^^,

K^^ e o

de

intensidades

perfil

dos

experimental

(K^^+ K^^) como I^ ( X ) , Ig^) e I(x) respectivamente, onde x a p o sio angular.


Ento:

I(x) = Ij(x) + I^x)

Considerando

que

l^^W

tem

mesma

III.18

forma

que

I^(x),

podemos escrever:

l^(x) = R I^(x - A)

III.19

onde R a razo entre as intensidades das raias ^^j^^^^ai ^ ^ separao angular entre as reflexes de
Expandindo-se
-a/2

K^^ e K^^.

Ij(x) em srie de Fourier

no

intervalo

de

a + a / 2 , temos:

00

( X ) = y

1 '

'

00

A
n

COS

"

n=-oo

+ y
n = -oo

-54-

B ' sen
n

" ^

III.20

Combinado as equaes III.19 e III.20, temos:

00

a'
A eos

n A

2TT

'

271 n A

sen

eos

n = -00
00

sen

2TT
a

n A
n

, o' ^ r .
+ B eos

271 n A

271 n X

sen

III.21

n = -00

A intensidade do perfil experimental ser:

00

00

I(x)

sen
n = - 00

277 n X

III.22

n = -00

Podemos definir as grandezas p

e q
n

como:
n

= 1 + R eos ^JULA.

= R sen

111.23

27r n A

111.24

Comparando os coeficientes nas equaes III.20, III.21 e


III.22 temos:
A

= A

- B

= A
n

q
n

+ B
n

111.25
n

p
n

Resolvendo estas equaes para A

e B
n

A
A

p
n

+ B
n

III.27

III.28

P' + q^

-A
n

, teremos:
n

q
n

111.26

q
n

+ B
n

p
n

P^ + q^
n

O valor de A pode ser calculado facilmente para


reflexo de Bragg

qualquer

e, portanto, se R conhecido pode-se calcular os

coeficientes de Fourier

do perfil devido apenas raia K^^ por meio

-55-

das equaes III.23, III.24, III.27 e III.28, a partir dos coeficientes de Fourier

d o perfil experimental.

Esta tcnica de correo dos efeitos da raia K^^ em perfis


de difrao de raios X considerada moderna e elegante por traba(28)

Ihar diretamente no espao de Fourier


O programa desenvolvido l os arquivos de dados dos perfis
da amostra e do respectivo padro, j corrigidos do background e do
fator de Lorentz-polarizao pelo programa anterior e centraliza os
perfis pela posio do mximo de cada pico, o que necessrio para
realizar-se a deconvoluo. Em seguida aplicada, em ambos os perfis, a transformada de Fourier
srie de Fourier

para determinao dos coeficientes da

que representa cada perfil. Para realizar este pro-

cedimento foi necessria a otimizao do programa de modo a possibilitar a realizao dos clculos em tempos factveis e o armazenamento

das variveis

na memria

de um microcomputador

APPLE

11+ com

64Kbytes de memria RAM. Para tanto foi utilizado um algoritmo de


Transformada
f.p,j,j ( 2 8 , 2 9 . 3 0 ) ^

Rpida

de

Determinados

Fourier

(Fast

os coeficientes

Fourier

de Fourier

Transform

dos dois

experimentais, feita a correo de RachingeiGangulee


deles,

que so tambm

normalizados

de modo

que suas

perfis

em cada um
intensidades

sejam iguais.
possvel, ento, por meio da aplicao
inversa de Fourier

da tranformada

(Inverse Fast Fourier Transform - I F F T ) , obter-se

cada um dos perfis no espao real. A obteno dos perfis no espaCo


real depois de realizada a correo de Rachinger-Gangulee

inte-

ressante para se visualizr os perfis sem influncia da raia K^^. Os


valores de intensidade dos perfis assim obtidos so gravados em um
arquivo

em

disquete

para

serem

depois

graficados

por

outro

programa.
feita ento a deconvoluo dos dois perfis pelo mtodo
de Stokes,

para obter-se os coeficientes de Fourier

do perfil de d i -

frao da amostra, livre do alargamento instrumental.

possvel

reconstituir

este

partir dos coeficientes de Fourier


inversa
IDFT).

discreta

de Fourier

A transformada

perfil,

real,

com a aplicao da transformada

(Inverse Discrete

inversa

no espao

rpida

Fourier

de Fourier

no

Transform

conveniente

neste caso pois a sua preciso no satisfatria. Entretanto com a


utilizao

da transformada

inversa

demasiadamente lento.

-56-

discreta

programa

se

torna

Os valores de intensidade do perfil assim obtido so gravados

em

um

arquivo

em

disquete

para

posteriormente

serem

graficados.
O programa
perfil
que

fornece, ento, os coeficientes de Fourier

do

'puro', atravs de listagem impressa, e em arquivo em disco,

sero

utilizados

para

determinao

da

quadrtica mdia, pelo mtodo de Warren-Averbach.

microdeformao

Uma verso do pro-

grama permite a determinao da microdeformao e d o tamanho

mdio

(28 31 32 33)

de cristalitos diretamente, por meio de outros mtodos

>>

Este programa apresenta algumas limitaes devido ao tipo


de microcomputador

utilizado. Em um microcomputador

APPLE

11+ com

64Kbytes de memria RAM, o nmero mximo de pontos para a srie de


Fourier
para

2 * , ou seja 512 pontos e o tempo total de processamento

se obter os coeficientes de Fourier

do perfil corrigido

pode

chegar a cerca de uma hora.


A grande vantagem deste sistema por ns adaptado ao difratmetro

utilizado, consiste

em se poder realizar

todo

o processo,

desde a coleta de dados experimentais at os resultados finais sem a


necessidade de manipulao ou digitao dos dados.

III.5 - IMPRESSO DOS PERFIS

(PROG.PLOT)

Por meio deste programa pode-se traar no monitor do m i crocomputador

e imprimir

os perfis de difrao

cujos dados

tenham

sido armazenados em disquete por um dos programas anteriores.


Esses arquivos podem ser de quatro tipos diferentes:
- Arquivo AQ/DADOS: arquivo dos dados do perfil experimental;
- Arquivo BGLP: arquivo com

dados do perfil experimental cor-

rigido do background e pelo fator de Lorentz-polarizao;


- Arquivo IFFT: perfil corrigido do dubleto Ka^ - Ka^
dos coeficientes de Fourier
-

Arquivo

IDFT: perfil

obtido

pela aplicao da IFFT;

corrigido

do alargamento

obtido dos coeficientes de Fourier

do perfil

instrumental

deconvoludo,

pela aplicao da IDFT.


Estes arquivos de dados diferem entre si na formatao e,
portanto, necessrio um procedimento especfico para graficar os
dados de cada um deles.
A traagem dos perfis til para ilustrar, visualizar e
comparar os perfis de difrao antes e depois das correes, permi-

-57;IViSS;VQ WACtCNL

DE E N E R G I A

N I J C L F A R / S P . IW^M

tindo acompanhar visualmente o efeito dessas correes nos perfis, e


a deteco de erros ou enganos.
A figura III.4 ilustra os perfis graficados por meio deste
programa.

figura

II1.4.a

mostra

o perfil

do

pico

(222)

de

uma

amostra de Cu, deformada por limagem, tal como registrada experimentalmente pelo programa AQ/DADOS
do pico

. A figura III.4.b mostra o perfil

(222) de uma amostra de Cu idntica anterior, que

sofreu

um tratamento trmico de recristalizao a 800**C por 1 hora em vcuo


(amostra

padro para

condies.

As

figura

a correo de S t o k e s ) ,
III.4.C

III.4.d

registrada

mostram

os

anteriores, respectivamente, corrigidos do background

nas

mesmas

mesmos

perfis

e pelo

fator

de Lorentz-polarizao. As figuras IV.4.e e IV.4.f mostram os mesmos


perfis depois de corrigidos dos efeitos do dubleto K^, obtidos
coeficientes
rpida

de

Fourier

pela

aplicao

da

transformada

dos

inversa

(IFFT), e finalmente a figura III.4.g mostra o perfil corri-

gido do alargamento instrumental pela deconvoluo dos perfis anteriores

(mtodo de Stokes),

obtido dos coeficientes de Fourier

pela

aplicao da transformada inversa discreta, ou seja, o perfil 'puro'


do pico (222) da amostra de cobre deformada, cujo alargamento representa apenas os efeitos estruturais da amostra.

100 n

(a)
O

-J

133

Figura III.4 - Perfis

136

experimentais

deformada

(a).

-58-

139
2 0

do pico

(222) de amostras

de Cu

100 n

.J3

(b)

-J

139

136

2 9"

100

f
133

J
n

100

CD;
3

->

r
600

2 G"

Figura III.4 - Perfis

experimentais

recristalizada
background

(b);

e fator de

-59-

do pico
(c)

(222) de amostras

(d)

perfis

de Cu

corrigidos

Lorentz-polarizao.

do

-C
3

(e)
O

-J

512

100

(f)

-I

512

100 n

(g)
Z o

512

Figura III.4 - (e) e (f) perfis


'puro' do pico

corrigidos

do dubleto

(222) da amostra

-60-

K^.

deformada.

(g)

perfil

III.6 - DETERMINAO DA POSIO DE PICOS E PROBABILIDADE DE FALHAS


DE EMPILHAMENTO (PROG.POS/PICO/ALPHA) .

A probabilidade de falhas de empilhamento, conforme discutido anteriormente, obtida a partir do deslocamento relativo

dos

picos de difrao. Para determinar-se esse deslocamento necessrio


que se determine com preciso a posio dos picos de difrao.
Existem diversos mtodos, grficos e analticos, para d e terminar-se

a posio angular

de um pico de difrao ^* . O

mtodo

considerado padro consiste em ajustar os pontos experimentais, r e gistrados pela tcnica de contagem passo-a-passo, cujas intensidades
sejam maiores que 85% da intensidade mxima, a uma parbola, e tomar
o eixo dessa parbola como sendo a posio de mximo do pico*^'^*'.
A equao de uma parbola cujo eixo paralelo ao eixo y e
as coordenadas do vrtice so (h,k) '^':

(X - h ) ^ = p (y - k)

III.29

Fazendo-se x = 20 e y = I, esta equao representa a forma do perfil


de difrao na regio de seu pico'^'. Substituindo-se pares de valores "20 X I" na equao e resolvendo para h pelo mtodo dos mnimos
quadrados, teremos ento o valor de h igual posio 20^ do pico.
Apenas dois ou trs pontos em cada lado do pico so suficientes para
o ajuste da parbola com excelente preciso'^'. O procedimento

mais

comum, ilustrado na figura II1.5, requer que se mea apenas trs intensidades em posies angulares igualmente espaadas pelo mesmo intervalo

c'^'"'*'. Sendo

respondentes

aos

pelo

de

fator

I^,

ngulos

^3

intensidades

20^, 20^ +

Lorentz-polarizao,

e
e

20^ +

observadas

2c,

a = I^- 1^

cor-

corrigidos

e b = I^ - I3/

a posio angular do pico ser dada por'^'^*':

3a + b
a + b

20 = 20 +
o
1

III.30

O programa desenvolvido determina as intensidades, em torno

do

pico,

cujas

intensidades

mximo, para os picos

(111) e

seja

maiores

ou

iguais

(200) da amostra padro e da

85%

do

amostra

deformada e corrige-as pelo fator de Lorentz-polarizao. Em seguida


calcula a posio de cada pico ajustando a parbola a trs pontos: o
ponto

de

intensidade

mxima

os

-61-

pontos

adjacentes

de

ambos

os

26 20,13)

Figura III.5 - Ajuste

lados.

da parbola

So determinadas

a trs

pontos.

as parbolas para

o ponto

de mximo

os

pontos imediatamente adjacentes, os segundo adjacentes, os terceiros


adjacentes, e assim adiante, at que as intensidades sejam

menores

que 85% do mximo. Toma-se, ento, como posio do pico, a mdia dos
valores obtidos para todas as parbolas. Assim, so determinadas as
posies

dos picos

(111) ,

(200) ,

(111)

(200)

e,

por

meio

da

equao 11.17, determinada a probabilidade de falhas de empilhamento. Os subscritos p indicam a amostra padro e os subscridos d a
amostra deformada.

II1.7 - CORREO D E ROTHMAN-COHEN

ajuste

de

background

, para

a anlise

de

Fourier,

maior fonte de erros experimentais pois os coeficiente para valores


pequenos de L so determinados pelas caudas do pico de difrao
A^,

coeficiente

de

Fourier

em

cosseno

para

L=0,

, e

representa

intensidade integrada do pico'*^'.


Os

embora

mais

sensveis ao ajuste de background, so importantes na anlise

pois

determinam

coeficientes

de

Fourier

para

pequeno,

o tamanho efetivo de partcula D^^

(hkl)'*"''. Um

erro de

truncamento do perfil de 2% de sua altura pode resultar num erro de


15% no valor de A^. Esse erro se propaga pelos demais

coeficientes

quando da normalizao para A^ = 1 ' . Isto faz com que a curva de


A^ versus L (ou A^ versus n) tenha a forma de um sigma invertido, ou
seja,

tende a zero assintticamente quando L tende a zero. Este

comportamento

normalmente

conhecido

-62-

como

"efeito

gancho"

(hook

effect).
Rothman
dos

efeitos

do

Cohem

(43)

sugerem

truncamento

nos

um procedimento

valores

de

para

para
L

correo

pequeno.

Um

pequeno truncamento no afeta significativamente os coeficientes A^


para n intermedirio, pois esses coeficientes representam

posies

mais intensas do pico e no as caudas. Portanto, para valores intermedirios de n, a curva In A

versus n deve apresentar um comportan

mento linear. Alm disso esta regio linear deve ter a mesma inclinao para o pico truncado e para o pico correto, sendo que a nica
diferena

ser

um

pequeno

normalizao'consequentemente
lando

poro

linear

da

renormal izando todos os A

deslocamento

vertical

podemos. fazer

curva

(valores

devido

correo

intermedirios

de modo que A =0. Isto

figuras III.6 e III.7. Na figura III.6 temos A

extrapode

n)

ilustrado

nas

versus n, onde poden

mos notar o efeito gancho. Na figura III.7 temos os mesmos pontos da


figura anterior, com a extrapolao linear dos pontos para n intermedirio e a renormalizao para A^=0.
O

programa

desenvolvido

l os coeficiente

de

Fourier

do

perfil deconvoluido, plota-os e pede que se escolha os pontos para a


regresso.

Em

seguida

ajusta

a reta

e renormaliza

os

coeficientes

para A^=0. O programa fornece tambm o coeficiente A(L=50) e determina o valor de <c^ >

-1

pelo mtodo de

Warren-Averhach.

I
<

-2

"

-r
5

-I

10

15

20
n

Figura III.6 - Coeficiente

de Fourier

In A

versus

n.

-63r^.,cDr.iA

M L I R . L F A R / S P - IPEN

<
c

Figura III.7 - Coeficiente


de

de Fourier

Rothman-Cohen.

-64-

In

versus

n com a correo

II1.8 - DIAGRAMAS DE BLOCOS

A seqncia dos procedimentos para a anlise dos perfis e


do deslocamento de picos de difrao ilustrada pelos diagramas de
blocos abaixo:

PADRO

ARQUIVO DE DADOS

ARQUIVO DE DADOS

POSIO DE PICOS

POSIO DE PICOS

<-

AMOSTRA

SEPARAO DOS PICOS


(111) - (200)

SEPARAO DOS PICOS


(111) - (200)

DESLOCAMENI rO RELATIVO
DOS PICOS (lll)-(200)

>

PROBABILIDADE DE FALHAS DE EMPILHAMENTO

Figura

III.8 - Diagrama de blocos - Determinao da

probabilidade

de falhas de empilhamento.

A figura III.6 mostra o diagrama de blocos que ilustra

procedimento para a determinao da probabilidade de falhas de empilhamento a partir do deslocamento relativo de picos de difrao de
raios X.
A figura III.7 mostra o diagrama de blocos que ilustra

procedimento para a determinao da microdeformao quadrtica mdia


para anlise do alargamento de perfis de difrao.

-65-

PADRO

>

ARQUIVO DE DADOS
PERFIS
(111)
E
(222)

ARQUIVO DE DADOS
PERFIS
(111) E
(222)

AMOSTRA

CORREO DO BG E
LORENTZ-POLARIZ.

CORREO DO BG E
LORENTZ-POLARIZ.

T
CENTRALIZAO

CENTRALIZAO

DECOMPOSIO
EM
SERIE DE FOURIER

DECOMPOSIO
EM
SERIE DE FOURIER

T
CORREO DE RACHINGER

CORREO DE RACHINGER

NORMALIZAO

NORMALIZAO

STO]<ES
> r

CORREO DE
ROTHMAN-COHEN

WARREN-AVARBACH

MICRODEFORMAO

Figura III.9 - Diagrama


quadrtica

de blocos

- Determinao

mdia.

-66-

da

microdeformao

IV

ESTABELECIMENTO

DAS

CONDIES

MATERIAIS

EXPERIMENTAIS

UTILIZADOS

IV. 1

E S T A B E L E C I M E N T O

DOS

PARMETROS

E X P E R I M E N T A I S

Para se aplicar a anlise de perfis e deslocamento de picos


de difrao de raios X necessrio medir as intensidades de raios X
espalhadas pela amostra com a maior preciso possvel"*'. Para
necessrio grande

tanto

cuidado na escolha da radiao, geometria e ali-

nhamento do difratmetro.
A maioria dos trabalhos mai recente sobre alargamento

de

picos de difrao de raios X tem sido realizados com filtragem da r a diao K/3, em contraste com os trabalhos mais antigos com filme, que
usavam quase exclusivamente radiao monocromtica"*'.
O uso de radiao filtrada juntamente com a utilizao

de

um analisador de altura de pulso no sistema de deteco, produz r e sultados satisfatrios quando no excitada radiao fluorescente na
amostra"*'.
Na escolha da radiao a ser utilizada, deve-se

considerar

dois fatores principais'^':


- O comprimento de onda da radiao deve ser menor que os degraus de
absoro dos tomos da amostra.
- O comprimento de onda da radiao deve ser tal que permita o registro dos picos a serem estudados.
Neste

trabalho

necessrio que se obtenha

picos correspondentes aos planos

(111),

os perfis

(200) e (222) dos metais Cu,

A l , N i , Ag e Au, e dos aos inoxidveis austenticos, cujos


pais componentes so Fe, Cr e Ni, cujos

princi-

degraus de absoro K

dados na tabela IV.1.

ELEMENTO

Tabela IV. 1 - Degraus

DEGRAUS DE
ABSORO K ()

Fe

1,743

Cr

2,070

Ni

1,488

de absoro K dos elementos

67

dos

Fe, Cr e Ni

(2)

so

As radiaes normalmente utilizadas em difrao de raios X


so

as raias

caractersticas

Ka dos elementos Mo, Cu, Co, Fe e Cr

cujos comprimentos de onda so dados na tabela IV. 2.

COMPRIMENTO DE ONDA DAS RAIAS CARACTER STICAS

K-a2

K-al

ANDO

()

K-/3

K-a

Mo

0,70930

0,71359

0,71073

0,63229

Cu

1,54056

1,54439

1,54184

1,39222

Co

1,78897

1,79285

1,79026

1,62079

Fe

1,93604

1,93998

1,93735

1,75661

Cr

2,28970

2,29361

2,29100

2,08487

mdia

Tabela

ponderada

IV. 2

de

Ka^

Ka^

Comprimentos
utilizadas

de

onda

das

radiaes

normalmente

em difrao de raios X

Podemos concluir, a partir dessas tabelas, que as radiaes


caractersticas do cobre e do molibdnio provocam a excitao de radiao fluorescente nos principais componentes desses aos. Por outro
lado, usando-se a radiao Ka do cromo no seria possvel
perfis das reflexes
Portanto

obter

os

(222) do nquel e dos aos austenticos.

dessas radiaes apenas as raias

caractersticas

Ka de Cobalto e Ferro prestam-se para este estudo. Assim, os perfis


de

difrao

registrados

das

amostras

pelo

menos

de

uma

aos
vez

inoxidveis

com

cada

austenticos

uma

dessas

foram

radiaes,

enquanto que os perfis dos metais puros foram registrados tambm com
radiao Cu-Ka.
A

tenso

a corrente

de excitao

aplicadas

ao

tubo

de

raios X so limitadas pela potncia do gerador e pela potncia mxima


que pode ser aplicada ao tubo. Assim, para os tubos com nodos de Fe
e Cu foi usada a tenso de 40KV e corrente de 20mA e para o tubo com
ando de Co a tenso de 35KV e a corrente lOmA.
O

passo,

ou

intervalo

de contagem

pela

tcnica

de

step-

scanning, deve ser o menor possvel para obtermos o perfil com maior
preciso e melhores resultados nas correes de Rachinger

Stokes.

No equipamento utilizado, o menor valor de passo possvel


0,01

(em

2 0 ) . Devido

transformada

de

Fourier,

limitao
a

largura

de

512

mxima

pontos
do

no

perfil

programa
que

pode

de
ser

estuda usando-se este passo 5,12. Entretanto os perfis dos picos


(222)

de

metais

deformados

registrados

68

com

radiao

de

Fe

Co,

especialmente

os

aos

austenticos,

podem

ter

larguras

totais

da

ordem de 6 a 8, e alm disso necessrio registrar as caudas dos


perfis

at

grandes

background

com

distncias

segurana.

dos

Assim,

picos,

foi

para

empregado

determinar-se
o

registro dos perfis dos metais puros e dos perfis

passo

0,01

o
no

(111) dos aos e

passo 0,02 para os perfis (222) dos aos.


Para
foram

usados

alargamento
pico,

a determinao das posies dos picos


passos

de

0,01,

0,02

0,05,

do perfil, de modo que fosse possvel

entre

15

pontos

com

intensidades

(111) e

(200)

dependendo
obter, para

maiores

que

do
cada

85%

da

intensidade mxima do respectivo pico.


Os

tempos de contagem

em cada posio variaram

entre

80s

para os picos mais intensos das amostras padro e 200s para os menos
intensos das amostras deformadas. Estes tempos foram determinados de
forma

obtermos

intensidades

suficientes

para

garantir

boas

estatsticas de c o n t a g e n s .
Para

a determinao

das posies dos picos, os tempos de

contagem foram de 1000 a 2000s, dependendo da intensidade do pico.


Cada

perfil

variou de 4 (em 20)


alargados, sempre
o

perfil

para os

Isto

suas

numa

extenso

mais estreitos,

garantindo

at que

intensidade.

foi registrado

que

caudas

importante

at 10

os nveis

o clculo

que

para os mais

intervalo registrado

atingissem

para

angular

cobrisse

mnimos

de

dos coeficientes

de

Fourier'^'^'*-'''^^'^''"'.
A geometria de difrao determinada pela necessidade de
obter-se

intensidades

espalhadas

focalizao de Bragg-Brentano,

razoavelmente

altas. A

tcnica

de

com a amostra plana , usualmente, a

mais conveniente**'"'.
O
de

um

aparelho utilizado

gerador

modelo

foi um difratmetro

Geigerflex,

um

gonimetro

geometria de focalizao de Bragg-Brentano,

Rigaku,
modelo

composto
SG-8

com

um detetor de cintilio

com cristal de Nal:TI e eletrnica associada. O analisador de altura


de

pulso

foi

ajustado

para

registrar

aproximadamente

90%

da

intensidade da raia caracterstica da radiao empregada.


As
estvel

medidas

dentro

da

foram

realizadas

com

faixa de 1C, e na faixa

temperatura

ambiente

de 18C a 22C de uma

srie de medidas para outra.


Ao

sistema

eletrnico

de

contagem

adaptado, por meio de uma interface


APPLE

11+ de marca

MicroEngenho,

69

com

por

step-scanning

apropriada, um
64Kbytes

foi

microcomputador

de memria

RAM, com

dois

acionadores

de

disco

flexivel

impressora

grfica,

conforme

descrito anteriormente. O microcomputador fez registro dos valores de


ngulo versus intensidade e o armazenamento desses dados em arquivos
seqenciais em disquetes flexveis de S 1/4".
As
determinam
portanto

larguras

das

fendas de

colimao

do

feixe

a divergncia do feixe e a rea iluminada

interferem

no

alargamento

instrumental

de

da

dos

raios

amostra, e

perfis.

Fendas

mais largas resultam em aumento da intensidade difratada e diminuio


da

resoluo,

enquanto

que

fendas

mais

estreitas

tem

efeito

contrrio. Para perfis de difrao muito largos, como os obtidos para


metais deformados, deve-se usar fendas de recepo e de
(receiving
slits'
para

slit

de

mdia

divergence

resoluo.

limalhas

bem

slit)

Para

relativamente

perfis

recozidas,

largas

estreitos,

geometria

divergncia

como

'seller

os

obtidos

consideravelmente

melhorada com o uso de fendas de recepo e divergncia estreitas e


'seller slits' de alta resoluo.
A

partir

de

um

estudo

comparativo

entre

os

diversos

arranjos de fendas, concluimos que um bom compromisso entre resoluo


e

intensidade,

utilizao
fenda

de

registro
0,l5mm

de

no

'seller

recepo
das

sem

registro

de

uso

perfis,

slits' de
0,3mm

posies
o

dos

3, fenda

fenda

do picos

pode
de

utilizada

filtro

de

radiao

precisas

obtido

divergncia

espalhamento

foi

de

ser

de

fenda
K^,

com

de

1/2.

1/2,

Para

de

recepo

de

para

aumentar

intensidade medida.
Para
deve

ser

medidas

determinado

muito

'zero'

cuidadosamente

absoluto
e

deve

do

difratmetro

coincidir

com

'zero' da escala do aparelho"*'. A posio da amostra em relao ao


eixo

do

difratmetro

critica,

uma

vez

que

um

desvio

entre

amostra e o centro do difratmetro leva a um deslocamento do pico 26


dado por"*':

A2e = (h/R)

onde R o raio do difratmetro e


deslocamento

do

pico

equivale

COS

6^

IV.1

a posio angular do pico. Este


uma

mudana

no

espaamento

interplanar dada por:

Aa/a

= (h/R) cos

cotag
0

70

IV.2
0

Para

minimizar

alargamento

instrumental

dos

perfis,

superficie iluminada da amostra, o foco do nodo do tubo de raios X e


a fenda de recepo devem
possvel
amostra

paralelas

deve

estar

sobre

ngulo de

incidncia

amostra

feixe

ao
6

ser to pequenas quanto


eixo

do

difratmetro"*'.

a bissetriz do

seja

ngulo

igual ao ngulo

primrio"*'.

experimentalmente

Qualquer

26,

entre

superfcie
de

modo

da

que

a superfcie

alterao

na

relao

o
da

6:26

leva a um alargamento adicional dos perfis de difrao.


O
srie

de

difratmetro
medidas,

foi

cuidadosamente

seguindo

os

alinhado

procedimentos

antes

de

recomendados

cada
pelos

manuais do aparelho e pela literatura'*'. A cada vez que foi feito o


alinhamento

para

uma

srie

registrar um difratograma

de

medidas,

tomou-se

cuidado

de

completo de uma amostra de Si padro para

comparao do alinhamento, garantindo-se

sempre as mesmas

condies

de medida.

IV.2 - MATERIAIS UTILIZADOS

Os materiais

estudados

foram

divididos

em dois

grupos.

primeiro, composto dos metais puros Ag, Au, Cu, Al e N i , foi utilizado para calibrao do mtodo de determinao de energia de falha de
empilhamento,

ou

seja,

para

determinao

do

valor

da

constante

^m'^o* ^ 9^au de pureza desses metais dado na tabela V . 3 .

METAL

PUREZA

(%)

Ag

99,995

Au

99.9997

Cu

99,8 (OFHC)

Al

1100 COMERCIAL

Ni

99,5

Tabela IV. 3 - Grau de pureza

dos metais

utilizados

para

calibrao

do mtodo.

O segundo grupo de materiais composto de seis

amostras

de aos inoxidveis austenticos, aos quais demos a denominao

de

ao I, ao II, ao III, ao IV, ao V e ao V I , para os quais foram


determinadas

as energias

de falha de empilhamento.

destes aos so dadas na tabela IV. 4.

71

As

composies

AH0

s T R A->

AO
I

ELEMENTO

AO
III

AO
II

Cr

14,4

14,7

15,1

14,6

Ni

15,0

15,1

14,1

14,8

AO
VI

AO
V

AO
IV

17,50

19,7
9,86

16,40

0,02

0,02

0,02

0,02

0,06

0,06

Mo

0,01

0,01

<0,01

0,01

0,28

2,0

Mn

0,53

0,43

0,52

0,47

0,78

1,20

Si

0,59

0,48

0,53

0,57

0,55

0,38

0,006

0,006

0,006

0,006

0,025

0,014

0,013

0,012

0,012

0,012

0,024

0,014

eu

0,02

0,04

0,01

0,01

0,17

0,23

Al

<0,005

<0,005

<0,005

<0,005

Sn

0,002

0,002

0,001

0,001

As

0,002

0,001

0,002

0,002

0,005

0,0084

0,0081

0,0075

0,0081

0,028

0,44

0,89

1,74

Nb

<0,002

Co
V
Ti

Tabela IV. 4 - Composio

dos aos inoxidveis

0,010

0,78

0,14

0,06

0,038

0,028

austenticos

estudados.

IV.3 - PREPARAO DAS AMOSTRAS

As amostras foram obtidas a partir do material macio, na


forma de fios

(para N i , Ag e A l ) , lmina

o Cu e a o s ) ,

(para o Au) ou blocos

(para

por limagem ou seja, pulverizao manual por meio

de

limas.
O
deformao

processo
na

de

estrutura

limagem

do

tem

material,

por

obter

objetivo

partculas

introduzir
pequenas

de

forma que a rea iluminada da amostra tenha orientao aleatria das


partculas

para

obedecer

os

requisitos

do

mtodo

do

ainda

garantir a inexistncia de tenses residuais na amostrai^^'"^^'


A
com

limagem

cuidado

de

foi feita manualmente temperatura


evitar

aquecimento

poderia facilitar a sua recuperao.

72

sensvel

do

ambiente, e

material,

que

As limalhas de cada material foram selecionadas em tela de


150

Mesh,

0,105mm.
partes.

de
O

material

Uma

encruado,

modo

delas

obter-se
depois

foi

enquanto

partculas

de

selecionado

analisada

que

com

logo aps

outra

parte

dimetro

foi

menor

dividido

a deformao,

sofreu

tratamento

em
no

que
duas

estado

trmico

de

tendem

recristalizao.
Aps
mover-se,

severa

deformao

realinhar-se

ambiente""".

temperaturas

de

ou

processo

plstica

aniquilar-se,

de

recuperao

deformao,

os

maior

defeitos

mesmo

temperatura

favorecido

pureza,

menor

por

ponto

maiores

de

fuso

maior energia de falha de empilhamento""''^*'.


A
crtica
ponto

recuperao

temperatura

ambiente

no caso do alumnio de alta pureza


de

fuso

recuperao
registro
perfis

alta

acentuada

dos

de

energia

mesmo

de

perfis

de

difrao.

difrao

da

amostra

correspondentes
similares,

da

respectiva

que

impede

Esta
no

de

tempo

possuir

baixo

empilhamento,

sofre

decorrido

recuperao

estado

amostra

faz

deformado

padro

deconvoluo

especialmente

que, por

falha

durante

dos

durante
com

tenham

que

os

o
os

perfis

alargamento

perfis,

conforme

discutido no captulo seguinte. Por esta razo foi utilizado alumnio


comercial 1100 ao invs de alumnio de alta pureza, na calibrao do
mtodo, conforme pode ser visto na tabela IV.3.
Mesmo

para

ma recuperao
rar

que

ocorrendo

os

demais materiais esperado que haja algu-

temperatura

razo

alguma

ambiente. Entretanto
mantenha-se

^^50^111^'^

pode-se consideconstante,

mesmo

recuperao!^^'"'

Para minimizar a recuperao, as amostras deformadas


analisadas

imediatamente

aps

o processo

de

limagem,

as

foram

medidas

foram realizadas, em mdia, num perodo de 12 horas.


As

amostras

de

aos

inoxidveis

austenticos

contendo

niobio foram submetidas, antes da limagem, a um tratamento trmico de


solubilizao

a 1200C por

1 hora, com resfriamento rpido em gua,

para dissoluo de carbonetos e fase de Laves

que se precipitam

em

aos com alto teor de niobio ou titnio"^'"'*'.


As pores das amostras que no foram analisadas no estado
encruado
servirem

sofreram

de

ultrapuro

trmico

de

recristalizao,

como padres para a eliminao do alargamento

pelo mtodo
vcuo

tratamento

de Stokes.

10"^ Torr
para

os

Os tratamentos

para
aos,

os

metais

para

trmicos

puros

evitar-se

73

foram

instrumental
realizados

atmosfera

possveis

para

de

em

argnio

evaporaes

de

elementos

das

ligas.

As

temperaturas

tempos

de

tratamento

AMBIENTE

PRESSO
(Torr)

so

mostrados na tabela IV.5.

MATERIAL

TEMPERATURA

TEMPO
(H)

Al

450

vcuo

10-^

Ag

600

vcuo

10-^

CU

800

vcuo

10-^

Au

800

vcuo

10-^

Ni

1000

vcuo

10-^

AOS

1100

argnio

Tabela

IV.5 - Condies

dos

das amostras

Os

materiais

tratamentos

trmicos

de

recristalizao

padro.

foram

acondicionados,

para

as

anlises

difratmetro, em lminas de vidro apropriadas, aglutinadas com


mineral

(NUJOL),

e prensadas

manualmente

planas.

74

para

obter-se

no
leo

superfcies

RESULTADOS

E DISCUSSO

V.L

R E S U L T A D O S

PARA

O S

M E T A I S

PUROS

Foram determinados, para os metais puros Ag, A u , Cu, Al e


Ni,

os valores de <c^^>^^^ e a conforme os procedimentos

descritos.

Para

cada

material

as medidas

foram

previamente

repetidas

ao

menos

trs vezes. Os resultados individuais foram, em geral, consistentes,


dentro de uma faixa de 10%.
Apenas
encontrados
com

para

Al

houve

uma

disperso

nas diversas medidas, ao tentarmos

material

de

alta

pureza.

Para

amostra

maior

dos

valores

as

medidas

realizar
de

Al

puro

no

foi

possvel determinar os valores de microdeformao e probabilidade de


falha de empilhamento, pois este material possue baixo ponto de fuso
e

alta

energia

de

falha

de

empilhamento,

que

faz

com

que

recuperao, mesmo a temperatura ambiente, seja acentuada""". Como a


recristalizao

do

material

era

rpida,

obtnhamos

os

perfis

de

difrao da amostra no estado deformado e no estado recristalizado,


com

alargamento

instrumental

semelhantes.

pelo

mtodo

de

Como

eliminao

StoJkes'^*' implica

na

do

alargamento

deconvoluo

dos

perfis, ou seja na diviso dos respectivos coeficientes da srie de


Fourier

desses

encontrvamos

perfis,

grande

sendo

flutuaes

estes
nos

valores

valores

dos

perfis deconvoluidos. Para que o mtodos de Stohes


necessrio

que

perfil

ser

corrigido

muito

prximos

coeficientes

dos

seja aplicvel

apresente

um

alargamento

(38)

razoavelmente maior que o do padro

. Em razo disto foi utilizado

alumnio comercial 1100 para a calibrao do mtodo.


Os valores mdios de <c^^>^^^ de a, para os metais Ag, A u ,
Cu,

Al e Ni so apresentados na tabela V.l, juntamente com as demais

grandezas necessrias para o clculo de K

lo .

75
COMISSO

NAHiflM/l

TF F M P D C i A

miin c

material

Au

Cu

Al

Ni

4,7

13,8

10, 3

14,3

38,0

2,1

3,0

2,0

1,1

4,0

2,56

2,42

4,08

2,47

7,03

4,0862

4,0786

3,6150

4,0494

3,5238

Ag

I
II

10^

. a

III

10'?G^^N/m')

IV

a, ()

TF (mJ/m^)

22

50

62

163

220

VI

20

35

45

135

125

VII

2,3

4,6

5,1

13,4

9,5

VIII 1 0 ! y / G ^ ^ ^ b /

5,15

12,41

10,30

39,92

21,75

IX

4,68

8,69

7,47

33,06

12,36

grandezas

para

(mJ/m^)

io?r/G^^^b;*

Tabela

V.l

Resultados

metais

experimentais

demais

os

puros.

Na linha I so apresentados os valores mdios obtidos para


<c^ >
SO

a;

; na linha II so apresentados os valores mdios obtidos para


111

na linha III so apresentados os valores do mdulo de cisalhamen-

to"""; na linha IV so apresentados os valores dos parmetros de re(39)

de

na linha V so apresentados os valores de energia de falha de

empilhamento da tabela

II.l"^'; na linha VI so apresentados os v a -

lores de na
energia
de empilhamento
apresentados
na tabela
11.2"';
linha de
VII falha
so apresentados
os valores
de ^^so"^!!!^"'
na
linha VIII so apresentados os valores das razes y/G., b
(13)

segundo a
"

tabela II.1
, e finalmente na linha IX so apresentados os valores
das razes y/G
b segundo a tabela 11.2"^'.
111

Graficando-se

os valores de <c

>

/a versus

50 111

y/G

a-

lllp

justando-se uma reta pelo mtodo dos mnimos quadrados, tomamos a inclinao
para

'm' dessa reta como sendo a relao

os metais

cfc

severamente

entre essas grandezas

deformados, suposta

linear.

Ou

seja:

m =

^ii'^'o ^ 2

V.l

TT

figura V.l mostra esse grfico para os valores de y da

tabela II.1.

76

60

10^ ( 6^50 1,11

Figura V.l

- Grfico

de y/G

versus

<c'>. /a para

l l l p

da tabela
Para
u)

valor K
111

este

50

valores

de

V.l,

111

II. 1.

grfico

obtemos,

atravs

da

equao

=6,37.

'

A figura V.2 mostra o mesmo procedimento para os valores


de y da tabela II.2.
60

45

30

15

00

5"
o
o

10^ ( e^50
(X

Figura

V.2

Grfico

de

y/G

versus

l l l p

de y da tabela

<c^>
50

/a

para

os

valores

111

II. 2.

Para este grfico obtemos, seguindo o mesmo procedimento, o


0) =4,91.

valor K
111

Ambos

'

os resultados determinados para K.,.)


111

com valores

obtidos em estudos

so

coerentes

similares realizados para

os

mesmos

materiais. Borges^^^^, utilizando os materiais Ag, A u , Cu e Al encon-

77

trou o valor K^^jW^ = 5,6, usando os valores de y da tabela


valor

cj^ =

Schrann^^^

o presente

valores

de
e

da

os

valores

os valores

trabalho

tabela

resulta

no

correlacionando

valor

1/6

de

4,6

difrao

usando

outra
valor

4,67.

me-

o A l , com

os

metodologia'**",
28.

Adler

anisotrpicos,

Adler,

raios

Peed

os mesmos

de

materiais

de

II. 2.

excluindo

para

tabela

de

K^^^

28/6

da
5,4

Partindo
para

K^^jW^^ =

medidas

K^^^w^ =

II. 1.

valor

de

e K^^^w^ =

Ruff'*'' determinaram

outros'"'^'sugerem
que

usando

encontraram

tais que

Newton

4,7

II. 1 e o

Otte
e

Wagner^^^^

resultados

de

observaes de ns de discordancias por microscopa eletrnica, para


ligas

Ag-Sn,

determinaram

constante

0,91.10* mJ/m^, que resulta no valor K

(G^^^a^/7i >/ 3 )

w = 5,o"^ .

Portanto nossos valores 6,37

e 4,91

esto dentro da

faixa

de valores esperados para K^j^w^A

incerteza

quanto

ao

valor

exato

DE

K
111

U
o

decorre

de

diversas fontes. Uma delas a enorme disperso nos valores de y m e didos pelos diversos mtodos. Outras fontes so os erros na determinao

de

a,

<e^ >

'

relao

50

,
111

a ,

111

entre y e "^^so'^iii^'^
Levando

em

alm

da

possibilidade

de

que

seja perfeitamente linear.

considerao

todas

estas

possveis

fontes

de

erro, podemos considerar que a mdia dos dois valores por ns medidos
seja uma boa estimativa do valor de K^^^w^. Portanto, utilizaremos
valor K

w
111

= 5,64 + 1 5 % .
O

V.2 - RESULTADOS PARA AOS INOXIDVEIS AUSTENTICOS

Para

a aplicao do mtodo de determinao

da

energia

de

falha de empilhamento por difrao de raios X, necessrio, alm da


determinao

do valor de K
111

res

do

mdulo

de

cj e <c^ > /a, que se conhea


o
50 111'
^

cisalhamento

G^^^

do

parmetro

de

os valorede

dos

materiais.
Os parmetros de rede dos aos estudados foram determinados
para as amostra recristalizadas, e o valor mdio encontrado para
seis amostras foi a^ =
Com relao

as

3,585.
ao mdulo de cisalhamento ou os

coeficientes

de rigidez elstica, poucos dados so disponveis na literatura para


as

ligas

por Reed

aqui

estudadas. Entretanto, a partir

dos dados

compilados

e Schrann^^^^ apresentados na tabela V . 2 , para trs aos de

78

diferentes

composies, podemos observar que embora

os

coeficientes

de rigidez elstica c^^ e c^^ variem com a composio da

liga, G^^^

praticamente constante. Assim, utilizaremos aqui o valor mdio desse


parmetro para todas as amostra de aos, ou seja:

10* N/m'

(10** N/m^)
composio
2,332

1,626

1,235

0,647

Fe-18.lCr-14.lNi

1,98

1,25

1,22

0,650

Fe-18.2Cr-19.lNi

1,91

1,19

1,24

0,653

Fe-12Cr-12Ni

Tabela V.2 - Parmetro

elstico dos aos.

Determinados

esses

valores,

(13)

podemos

introduzi-los

na

equao 11.15, que fica:

10^ <e^ >

y = 24,2

Usando-se a equao
e

a,

determinamos

empilhamento

para

ento
os

i i r

V.2

/a

V.2 e os valores medidos de <c^^>^^j

os

aos,

50

valores

que

podem

de

energia

ser

vistos

de

na

falha

coluna

de

da

tabela V . 3 .
A

10?

ao

l-<S%>I/?

F 2
(mJ/m )
[V.2]
53

y 2
(mJ/m )
[V.3]
38

7
(mdia)
46

18,3

8,3

2,2

II

10,1

7,7

1,3

32

23

26

III

12,6

11,3

1,1

27

19

23

IV

10,5

10,3

1,0

25

18

22

9,6

11,4

0,8

20

15

18

VI

12,7

11,0

1,2

28

20

24

Tabela V.3 - Energias

Reed

de falha de empilhamento

Schrann

(13)

sugerem

uma

para os aos.

correo

para

ta
111

do

ponto de vista da anisotropia elstica, que resulta na introduo de


um termo na equao 11.15, que fica:

79

y _

G
0

a
111

<c^ >
0

SO

y 2

111

onde A = 2 c

/(c
44

entes

de

- c
11

rigidez

) a anisotropia elstica e c
1

os coefici1 j

elstica.

valor

mdio

de

para

os

aos

(13)

3,43

. O

expoente

-0,37

resulta

da

correlao

entre

para os metais puros""". Na coluna E da tabela V.3


valores
equao

so mostrados

os

de
falhadedeK^^^w^
empilhamento
por meio
V . 3energia
, para odevalor
obtido a calculados
partir da tabela
II. da
1,

equao

V.3, p

que resulta em:


y = 17,1 . 10^ <C5o>i/
A preciso do mtodo de determinao
de empilhamento por difrao

de

empilhamento

calibrao
e

dos

puros

utilizados

para

essa

, as constantes elsticas, os valores medidos de <c^^>^^^

O, assim

como pela

demais

preciso

falha

do mtodo, como as energias de

metais

prpria

fundamentao

confiabilidade com que a equao


as

da energia de

de raios X est limitada pela preciso

dos valores utilizados na calibrao


falha

V.4

grandezas.

absoluta

11.15 descreve a relao

Entretanto,

do mtodo

do mtodo, ou

carea

embora

uma

de uma

de y com

discusso

anlise mais

seja, a

sobre

aprofundada

acerca de cada um destes parmetros, o que est fora do escopo deste


trabalho,

possvel afirmar que os valores de energia de

falha

de

empilhamento determinados por meio desta tcnica so coerentes. Alm


disso, como a medida da energia de falha de empilhamento pelo mtodo
direto de microscopia eletrnica limitado a materiais com energias
relativamente baixas, a possibilidade de sua determinao

numa ampla

faixa

raios

de

valores, pelo mtodo

importante

indireto

por permitir uma avaliao

significante

que controla

de

difrao

de

do valor de y,

inmeras propriedades

fsicas

um

parmetro

mecnicas

dos materiais slidos"^'.


Assim, podemos considerar que os valores
colunas

medidos para

E da

tabela

V . 3 , representa

apresentados

disperso

dos

nas

valores

y, para cada ao, cujo o valor mdio apresentado

na

coluna F.
A

implantao

do mtodo, por

ns

procedida,

justifica-se

plenamente pela grande vantagem na automatizao da coleta e anlise

80
rr^nccn

mapioM/I

PF F M F R f i U

N l J C L F R / S P - IPEN

de dados em um aparelho que originalmente no dispunha dessa facilidade. A eliminao da necessidade de digitao de dados permite maior
agilidade e menor risco de erros na manipulao desses dados.

V.3 - INFLUNCIA DO Nb NA MATRIZ AUSTENlTICA

As
composio

amostra

denominadas

aos

bsica da matriz do tipo

I,

II,

III

IV,

cuja

Fe-15%Cr-15%Ni-0,5%Si-0,5%Mn-

0,02%C, foram objeto de um estudo adicional.


O

estudo

propriedades

do

dos

efeito

aos

do

niobio

inoxidveis

na

microestrutura

austenticos

nas

tem

sido

tradicionalmente realizado em aos com teores de Cr consideravelmente


maiores que o teor de N i , que no so completamente austenticos'*^'.
A s amostra de aos de I a IV so isentas de fases chi, sigma, deltaferrite
0%,

e martensita

0,44%,

0,89%

induzida por deformao, possuem


1,74%,

respectivamente,

foram

teores de

Nb

produzidas

em

forno de induo a vcuo e os lingotes resultantes foram forjados a


quente

com

reduo

de

Assim,

praticamente

95%, seguida

todo

Nb,

que

de
no

solubilizao
estado

bruto

encontrava precipitado na forma de fases de Laves


Si) ,

entrou

em

solubilizao**^'.

soluo
Portanto

empilhamento medidos para

slida
os

na

matriz

resultados

energia

esses aos refletem

de

1200C.
fuso

se

(Fe, Cr, N i ) ^ (Nb,

aps

de

forjamento
de

falha

influncia

do

real de Nb na matriz'*^'. Podemos observar essa influncia na

e
de

teor

figura

V . 3 , onde esto graficados os valores de y versus o teor de Nb.


60

FNI
E

VoNb

Figura v.3 - Energia

de falha de empilhamento

os aos I, II, III e IV.

81

versus

teor de Nb

para

Fica claro, da figura V.3, que o Nb provoca uma


da energia
variao

de
das

falha

de empilhamento

propriedades

fisicas

comprovado por Padilha**^'.

82

desses
e

aos,

o que

mecnicas,

diminuio
implica

conforme

na
foi

VI -

CONCLUSES

Em consonncia com os objetivos propostos para este trabalho, podemos apresentar as seguintes concluses:
a)

Quando

metodologia

para

determinao

da

energia

de

falha

de

empilhamento:
1. Embora existam

incertezas quando ao valor da constante K^^^u^,

existe concordncia entre os valores reportados na literatura e


os valores determinados neste trabalho, que apontam um valor no
intervalo de 5,5 + 0,8;
2. Esta concordncia entre os valores de

K^jjW^

permite supor que

a relao entre y e <c^p>^^j / a seja linear;


3. Um

mtodo para determinao

mento por difrao


para

da energia de falha de empilha-

de raios X confivel e, portanto,

determinao

dos

valores

de

em

metais

til

ligas

de

estrutura cfc,especialmente na faixa de valores onde os mtodos


diretos no so aplicveis.
b) Quanto a tcnica de anlise de perfis de difrao:
4. Foi desenvolvida e implantada a tcnica de anlise de perfis de
difrao
tamanho

de raios X para
de cristalitos

a determinao

e probabilidades

de
de

microdeformaes,
falha

de

empilha-

mento. A utilizao de um microcomputador Apple com 64 Kbytes


de memria RAM mostrou-se um fator limitante quanto ao tempo e
capacidade de processamento de dados;
5. O ajuste do background uma etapa crtica desta tcnica e portanto

a correo

dos

coeficientes

da

srie

de

Fourier

para

eliminao do efeito gancho uma etapa necessria.


c) Quanto energias de falha de empilhamento:
6. Os valores determinados para as energias de falha de empilhamento dos aos inoxidveis austenticos estudados foram:
Ao I

y = 46 mJ/m^

Ao II

y = 26 mJ/m^

Ao III

y = 23 mJ/m^

Ao IV

y = 22 mJ/m^

Ao V

y = 18 mJ/m^

Ao VI

y = 24 mJ/m^

7. O teor de Nb, na faixa de O a 1,74%, tem


nante na reduo
da

liga

influncia determi-

do valor da energia de falha de empilhamento

austentica

do tipo Fe-15Cr-15Ni, conforme mostra

figura V . 3 .

83

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