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ELECTRODEPOSICIN
Electrodeposicin: Es un proceso electroqumico en el que se usa una corriente elctrica
para reducir cationes en una solucin acuosa que los contiene para propiciar la
precipitacin de estos, que suelen ser metales, sobre un objeto conductivo que ser el
ctodo de la celda, creando un fino recubrimiento alrededor de este con el material
reducido. Su funcionamiento sera totalmente el contrario al de la celda galvnica, que
utiliza una reaccin redox para obtener una corriente elctrica.
Esta tcnica se utiliza para mejorar la resistencia a la abrasin de un objeto, proporcionarle
propiedades anticorrosivas, mejorar su lubricidad o simplemente por cuestiones estticas
entre otras.
Este proceso se realiza en un bao con un nodo y un ctodo cubiertos por una solucin de
sales del elemento que utilizamos para recubrir el objeto, el nodo estar compuesto de
dicho material para ir aportando iones a la solucin a medida que se oxida sustituyendo a
los que se estn consumiendo en la reaccin electroqumica.
Un factor muy importante es la corriente que utiliza el sistema para llevar a cabo la
operacin, ser determinante para las propiedades del recubrimiento, ya que establece la
adherencia de la capa tanto como su calidad y velocidad de deposicin, esta ltima es
directamente proporcional al voltaje. Lo ms comn es usar corriente continua en pulsos,
ciclos de 8-15 segundos activado el sistema para dejar 1-3 segundos de inactividad.
En este proceso se van a cambiar fuertemente las propiedades de la superficie del objeto
como la dureza o la conductividad, pero no las del interior de este. Por ejemplo:
Electrodeposicin de cromo duro a piezas industriales como vstagos de cilindros
hidrulicos.
En la operacin hay que tener en cuenta que una geometra compleja dar un espesor de
recubrimiento irregular, aumentando este en esquinas del objeto por ejemplo. Estos
contratiempos se pueden solucionar utilizando mltiples nodos o un nodo que imite la
forma del objeto a procesar.
Por ltimo indicar que dicha tcnica no debe confundirse con la electroforesis, esta se basa
en el movimiento hacia un nodo o ctodo de molculas o partculas en suspensin en una
disolucin, no de iones como la electrodeposicin.
Ejemplos:
Cu (NO3)2 + 2NO2
Cu (NO3)2 + NH4OH
+ 2H2O
Cu2+ + 2e-
Cu0
Reaccin en el nodo
2OH -
+ H2O + 2e-
1/2 O2
+ H2O
Reaccin en el ctodo
2H3O+ + 2e-
H2
+ 2H2O
Reaccin en el nodo
Pb 2+ + 2H2O
Operacin:
3.5184g
250mL
6
Walcuota
10mL
Walicuota = 0.1407g
Ejemplo de clculos
%Cu = WCu x 100
Walcuota
%Cu = 0.1014g x 100
0.1407g
%Cu = 72.07%
Del mismo modo se hallan los dems porcentajes de Cu detallados en la TABLA N 1
%E=
ETERICO x EEXPERIMENTAL
100
(3)
ETERICO
Asumiendo una recuperacin del 100%, para el %Cu para la muestra No 1
De la ecuacin (2) se tiene:
= - 2.96%
70
250mL
Walicuota
10mL
Walicuota = 9.312x10-3
Ejemplo de clculos
%PbO2 = WPbO2 x 100
(1)
%Pb = %PbO 2x PF Pb
Winicial
PF PbO2
(2)
=0.1407g
No de
muestra
1
2
3
W ELETRODO
9.5299
8.7264
9.4275
WELECTRODO + Cu
9.6313
8.8261
9.5270
Wcu
0.1014
0.0997
0.0885
%Error
%Cu
72.07
70.86
70.72
Promedio
2.96
1.23
1.03
%Cu=71.22
TABLA N 2
W alcuota = 0,0093 g
No de
muestra
1
W ELETRODO
WELECTRODO + PbO2
WPbO2
%Pb
8,5616
8,5655
8,8x10
-3
81,75
9,4261
9,4353
9,2x10-3
85.46
Promedio
%Pb=83,61
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IX. RECOMENDACIONES
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Coger los electrodos con pinzas o con una servilleta a la hora de manipularlos, para
evitar que se contaminen de sustancias ajenas al experimento, como pude ser la
grasa de las manos.
Ser muy cuidadoso al utilizar la balanza para pesar sustancias, ya que es muy
sensible y podra reportar valores de peso incorrectos. Recuerde que al momento de
de tomar la medida del peso se deben cerrar todas las compuertas de la balanza, a
fin de evitar que el viento no cause pequeas variaciones en la medicin.
Colocar con mucho cuidado los electrodos en los terminales del equipo a utilizar,
colocando el nodo en el terminal central y el ctodo en el lateral.
Etiquetar el material utilizado para evitar confusiones entre los reactivos y as evitar
accidentes.
X. CONCLUSIONES
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XI. BIBLIOGRAFIA
i. BROWN, T. CHEMISTRY the Central Science. Ed.
Prentice-Hall 7th edicin, 1997. p.p 131, 723-761.
ii. DANIELS, F. PHYSICAL CHEMISTRY. Ed. John Wiley &
Sons, Inc. 2nd edition, 1961. p.p 380-440.
iii. GLASSTONE, S. Tratado de QUMICA FSICA. Ed.
Aguilar 7 edicin, 1976. p.p 909-922.
iv. GONZALEZ, C. Gua de Practicas del Laboratorio de
Fsica General. Departamento de Fsica General, Escuela
Bsica, Facultad de Ingeniera, Indita, 1999. p.p 3-76.
v. Referencias Adicionales:
1.
2.
3.
4.
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