Recubrimiento Al Vacio

Recubrimiento al
vaco
14
PGINA
1
Sistemas de recubrimiento al vaco para

investigacin y desarrollo
Sistemas de evaporacin resistiva para
investigacin y desarrollo Auto 306
Sistema de deposicin de aplicacin general
Auto 500
Sistemas de pulverizacin catdica para
investigacin y desarrollo Auto 500
Sistemas de haz electrnico para investigacin y
desarrollo Auto 500
14-3
14-4
14-6
14-9
Sistemas para preparacin de muestras para

microscopios electrnicos
Arreglos recomendados para la preparacin de
muestras para EM
Pulverizador catdico de metales SEM Scancoat
Six
Desgasificador de placa PD3
14-13
14-14
14-15
Componentes para recubrimiento al

vaco
Fuente de haz electrnico focalizado
magnticamente EB1
Monitores de espesor de pelcula
Monitor digital de espesor de pelcula FTM6
Portacristal universal
Fuentes de pulverizacin catdica con
magnetrn planar EPM75 y EPM100
Datos sobre la deposicin fsica en fase vapor
Filamentos de evaporacin
Compre en lnea en www.bocedwards.com
14-16
14-18
14-18
14-19
14-19
14-20
14-21
14-23
SISTEMAS DE RECUBRIMIENTO AL
VACO PARA INVESTIGACIN Y
DESARROLLO AUTO 306
Sistemas de recubrimiento al vaco para investigacin y desarrollo
La familia de sistemas de deposicin de pelcula delgada de BOC Edwards est

diseada para aplicaciones de pre-produccin, investigacin y desarrollo en
todas las ramas de la ciencia y la industria.
El diseo de sistema modular brinda una sencilla ruta de actualizacin que
permite a los investigadores estar al da con las nuevas tecnologas de procesos
a medida que stas se desarrollan.
14
PGINA
2
Sistema de vaco automtico

El controlador de vaco Auto 306 PLC ofrece una sencilla evacuacin de la
bomba sin errores de operadores. Incluso los usuarios sin experiencia podrn
operar el sistema con seguridad. Los tiempos de evacuacin se mantienen
automticamente al mnimo, lo cual permite ahorrar tiempo en el proceso. Los
parmetros totalmente reproducibles brindan condiciones de deposicin
uniformes. Una pantalla digital brinda informacin sobre el estado del sistema
y el vaco.
Control inteligente de alto vaco

El controlador Auto 306 est diseado para mantener condiciones limpias de
alto vaco y proteger los sustratos de la contaminacin en todo momento.
Una secuencia "inteligente" de apertura de la vlvula de alto vaco garantiza una
nivelacin gradual de las diversas presiones de vaco en la cmara y debajo de
la vlvula durante el ciclo de evacuacin.
Una vez realizado el bombeo preliminar de la cmara, el controlador PLC abre
lentamente la vlvula de alto vaco. Si la presin de refuerzo se eleva superando
los lmites mnimos, la vlvula se cierra nuevamente. Una vez que se ha
recuperado el vaco de refuerzo, la vlvula de alto vaco se abre nuevamente.
El ciclo se repite hasta que la vlvula est totalmente abierta. Este proceso es
especialmente efectivo para los sistemas de bombas de difusin Auto 306. La
secuencia inteligente de apertura de la vlvula evita que la bomba de difusin
se detenga y elimina as una de las principales causas de la contaminacin del
vaco.
Para proteger an ms el entorno de vaco y los sustratos de la contaminacin
de aceite, una batera interna de 12 voltios cierra la vlvula de alto vaco si se
produce una falla en el suministro elctrico.
Sistema de recubrimiento para investigacin y desarrollo Auto 306 con cmara

de vaco de vidrio de borosilicato
El sistema Auto 306 ha demostrado ser una herramienta de investigacin til
y verstil ya que utiliza un sistema de vaco de alta calidad y una sofisticada
variedad de accesorios de deposicin modular perfectamente diseados
desarrollados con la colaboracin de los usuarios.
Variedad de bombas de vaco

Ofrecemos una amplia variedad de sistemas de bombeo de vaco limpios y
rpidos.
Todas las versiones de las bombas estn respaldadas por una bomba rotativa
de accionamiento directo de dos etapas de 12 m3h-1 con un filtro de niebla de
aceite en la salida de la bomba. Una trampa frontal de almina activada evita la
contracorriente.
Los sellos de fluoroelastmero, los materiales de baja desgasificacin y los
mtodos especiales de soldado son esenciales para un funcionamiento libre de
contaminacin.
Bomba de difusin con trampa de nitrgeno lquido El sistema ms
econmico es el Auto 306 con bomba de difusin de 600 l s-1 y trampa de
nitrgeno lquido. Una camisa enfriada por agua ubicada encima de bomba de
difusin y un control inteligente de la vlvula de alto vaco evitan la migracin
del vapor de aceite de la bomba de difusin a la cmara.
Bomba turbomolecular con trampa de nitrgeno lquido La
versin con bomba turbomolecular de 500 l s-1 ofrece las ventajas de las
bombas turbomoleculares con mayor desempeo de bombeo de vaco para
los vapores condensables.
Sistema de recubrimiento para investigacin y desarrollo Auto 306 con cmara

de carga frontal FL400
Interruptores de enclavamiento de seguridad

A fin de garantizar la seguridad de los operadores, un sistema integral de
interruptores de enclavamiento impide que la fuente de haz electrnico se
ponga en funcionamiento si las condiciones no son seguras. Se inhabilita el
funcionamiento a menos que todas las puertas y cubiertas de Auto 306 estn
cerradas y haya una presin mxima de 1 x 10-4 mbar en la cmara.
SISTEMAS DE EVAPORACIN RESISTIVA

PARA INVESTIGACIN Y DESARROLLO
AUTO 306
Sistemas de evaporacin resistiva para investigacin y desarrollo Auto 306
1450 (57.09)
1600 (62.99)
945
(37.21)
710 (27.95)
1075 (42.32)
La evaporacin resistiva es a menudo la tcnica de deposicin ms simple y

econmica. Mediante esta tcnica, los metales ms comnmente usados
(como, por ejemplo, el aluminio, el cromo, la plata, el oro y muchos otros) se
evaporan con facilidad.
Los sistemas de evaporacin resistiva Auto 306 de BOC Edwards brindan a
los investigadores una herramienta asequible y til que puede actualizarse
segn sea necesario mediante la incorporacin de tcnicas de deposicin ms
sofisticadas.
1255
(49.41)
Evaporacin resistiva
14
630 (24.80)
595 (23.43)
PGINA
3
880 (34.65)
Con cmara FL400

Con cmara de vidrio
Fuente de evaporacin resistiva para evaporacin de filamento o canoa. Una

pantalla incorporada evita el recubrimiento no deseado de la cmara de vaco y
los accesorios de deposicin adyacentes.
DATOS TCNICOS
Vaco final
Con bomba de difusin de 600 l s-1
Con bomba turbomolecular de 500 l s-1
Capacidad de la trampa de nitrgeno lquido1
Capacidad de aceite/fluido de la bomba
Bomba rotativa RV12
Bomba de difusin E04/160K
Peso (aproximado)
Suministro elctrico
Cable de suministro elctrico
Capacidad del alojamiento
Velocidad del flujo del agua de enfriamiento
Tiempo de evacuacin
Tiempo a 10-5 mbar
Tiempo a 10-6 mbar
Velocidad de fugas detectadas
1
2 x 10-7 mbar
2 x 10-7 mbar
1,4 l
750 ml, Ultragrade 19
175 ml, Santovac 5
200 kg
240 220 V monofsico 50 Hz
210 V monofsico 60 Hz
cable de 2 m x 3
IP20
1,2 l min-1 a 20 C
4 minutos
25 minutos
<10-9 mbar l s-1
La trampa se instala en versiones con bomba de difusin y bomba turbomolecular de 500 l s-1
solamente.
Fuente de evaporacin con cabrestante de cuatro posiciones capaz de depositar

hasta 4 materiales distintos en forma secuencial sin frenar el vaco. Las fuentes
se seleccionan y se rotan a la posicin de evaporacin mediante un control de
rueda de mano simple. Es posible configurar las fuentes para que se evaporen
desde el centro o el lateral de la cmara de vaco para lograr una ptima
uniformidad en el espesor de la pelcula en una variedad de dispositivos para
sustratos estticos o rotativos.
RECUBRIMIENTO AL VACO
1
2
SISTEMA DE DEPOSICIN DE APLICACIN

GENERAL AUTO 500
Sistema de deposicin de aplicacin general Auto 500
14
Procesos
Evaporacin por resistencia trmica
Haz electrnico
Pulverizacin catdica por c.c.
Pulverizacin catdica por r.f.
Pulverizacin catdica por c.c. y r.f.
Combinacin de pulverizacin catdica por r.f., c.c., haz electrnico, resistiva
Anlisis por descarga luminiscente
Rotacin/polarizacin por r.f./enfriamiento/calentamiento de sustratos
Monitoreo de espesor de pelculas y/o control de procesos
Los sistemas se disean y se adaptan a las necesidades del cliente a partir de
una gran variedad de fuentes de deposicin, tamaos de cmaras y gabinetes
con bastidor de 19 pulgadas a fin de satisfacer los requerimientos de cada caso.
APLICACIONES
PGINA
4
Recubrimientos antireflectantes
Semiconductores
Espejos
Metalizacin de matriz para discos compactos
Dielectricidad
Sustancias orgnicas/polmeros
Investigacin fotnica
Cmara de caja grande (500 mm de dimetro x 500 mm de alto).
Carga frontal para un fcil acceso a la cmara
Orificios de paso adicionales en la pared lateral para un mayor monitoreo
del proceso y analizadores de gas residual
Opciones de bombeo criognico, turbomolecular y de difusin estndar
El panel de bastidor brinda espacio para todos los accesorios de pelcula
delgada y los suministros elctricos
Disponible con una amplia gama de accesorios para resistencia trmica,
haz electrnico y pulverizacin catdica por r.f./c.c.
El sistema de cmara de caja Auto 500 es un sistema verstil de pelcula delgada
y carga frontal para investigacin y desarrollo o pre-produccin. La cmara
toma sin dificultad los sustratos de gran dimetro y permite que se realice una
combinacin de aplicaciones de evaporacin, haz electrnico y pulverizacin
catdica sin frenar el vaco.
La cmara FL 500 se monta en un pedestal, aloja la torre de bombeo y es
adecuada para instalaciones del tipo guantera o empotradas en la pared.
Un panel de bastidor ubicado junto al pedestal de vaco aloja los controles para
vaco y todos los accesorios de procesos de pelcula delgada.
La secuencia "inteligente" de apertura de la vlvula de alto vaco garantiza una
nivelacin gradual de las diversas presiones de vaco en la cmara y debajo de
la vlvula durante el ciclo de evacuacin.
DATOS TCNICOS
Cmara de caja de acero inoxidable FL500
Dimensiones internas
Visor
Orificios de acceso de las paredes
de la cmara
Orificios de acceso de la placa superior
Placa portapieza
(Estndar)
(Mximo)
Vaco final
Evacuacin
1 X 10-5 mbar
2 X 10-6 mbar
Opciones de bombeo de vaco
500 mm de dimetro x 500 mm de

alto
433 mm x 402 mm
100 mm de dimetro
1 x NW25, 1 x NW38CF
6 x NW25
260 mm de dimetro
425 mm de dimetro
7 X 10-7 mbar
500
250
1891
1575
940
< 13 min
< 60 min
Bomba de difusin de 600 l/s con
LN2
Bomba turbomolecular de 500 l/s
con LN2
Bomba criognica de 1500 l/s
630
600
650
E
H2 O
RF
14
B
PGINA
5
C
DC
RF
A Bombeo de vaco
Difusin
Turbomolecular
Criognico
B Opciones de deposicin
3 fuentes de pulverizacin catdica
2 fuentes de pulverizacin catdica
Pulverizacin catdica focalizada
Pulverizacin catdica y evaporacin
Pulverizacin catdica y haz electrnico
C Suministros elctricos para
pulverizacin catdica
C.c.
R.f.
C.c. y r.f.
D Cmaras de vaco
Cilindro de acero inoxidable CC330
Cmara de pulverizacin catdica SFL400
Cmara de carga frontal FL400
Cmara de carga frontal FL500
Enfriadas por agua
Cmaras de bloqueo de carga
E Accesorios adicionales
Monitoreo de espesor de pelculas
Calentamiento
Control de un solo gas
Control de gases mltiples
Portapieza
Opciones de configuracin del sistema
SISTEMAS DE PULVERIZACIN CATDICA

PARA INVESTIGACIN Y DESARROLLO
AUTO 500
Sistemas de pulverizacin catdica para investigacin y desarrollo Auto 500
14
PGINA
6
Auto 500 puede configurarse como un sistema potente y verstil de

pulverizacin catdica para investigacin. Las opciones disponibles incluyen:
Fuentes de pulverizacin catdica de hasta 3 magnetrones para
pulverizacin ascendente
Fuentes de pulverizacin catdica tipo cardn para co-pulverizacin
focalizada
Gran variedad de cmaras de vaco
Pulverizacin catdica de magnetrones por r.f. y c.c.
Co-pulverizacin catdica por r.f. y c.c.
Grabado con pulverizacin catdica por r.f. y c.c.
Sistemas combinados por r.f., c.c., resistencia y haz electrnico
Pulverizacin catdica de polarizacin por r.f. durante la deposicin
Interruptores selectores de suministro elctrico r.f. y c.c.
Pulverizacin catdica reactiva
Orificios de bloqueo de carga y manipulacin de muestras
Portapieza enfriado por agua y con aislamiento de r.f.
Control automtico del flujo de masa de los gases para 1 o 3 gases del
proceso
Control automtico de procesos
Calentamiento de sustratos
Los sistemas de pulverizacin catdica de magnetrones pueden utilizarse para
depositar prcticamente todos los metales, aleaciones y compuestos. La
mayora de los materiales que normalmente se disociaran durante la
evaporacin trmica pueden someterse a la pulverizacin catdica y mantener
constante su composicin.
Adems, la pulverizacin catdica de magnetrones brinda a los investigadores
una serie de ventajas considerables respecto de otras tcnicas de deposicin.
Mejor calidad de pelculas

El proceso de pulverizacin catdica puede depositar las pelculas sin que se
contaminen, como ocurre a menudo con los crisoles, filamentos y canoas
utilizados en la evaporacin trmica.
El proceso de pulverizacin catdica fra atena el calentamiento no deseado
de los sustratos, mientras que el carcter energtico del proceso de plasma
promueve una mayor adhesin de las pelculas. Es posible lograr altas
velocidades de deposicin y estructuras de pelculas densas.
Procesamiento rpido
Los avanzados diseos de magnetrones de BOC Edwards permiten alcanzar
velocidades de deposicin rpidas. Por ejemplo, es posible alcanzar
velocidades de deposicin de hasta 2 micrones por minuto en el caso del
cobre.
Practicidad de la pulverizacin catdica reactiva

Al utilizar el sistema de control de gases doble, es posible depositar los
compuestos mediante pulverizacin catdica reactiva. El control de la presin,
las relaciones y las velocidades del flujo de los gases permite controlar la
reproducibilidad del proceso de pulverizacin catdica.
Sistema de pulverizacin catdica por r.f. y c.c. con suministros elctricos

montados en bastidor y cmara de pulverizacin catdica.
Polarizacin para lograr un crecimiento exacto de las

pelculas
Los sustratos pueden aplicar un potencial de polarizacin por c.c. o r.f. durante
la pulverizacin catdica a fin de modificar las propiedades de las pelculas y
alterar la reactividad qumica de las superficies o las velocidades de deposicin
de las redes. La polarizacin afecta considerablemente la morfologa de las
pelculas y puede utilizarse para controlar su estoiquiometra.
Cmaras de vaco
Adems de las cmaras cilndricas estndar de acero inoxidable y las de carga
frontal FL400, la variedad disponible en la actualidad para sistemas incluye la
FL500, cmaras con orificios de bloqueo de carga (ISO 100 e ISO 160) y las
enfriadas por agua.
Todas las cmaras de acero inoxidable poseen un blindaje total de r.f. para
proteger al operador de niveles nocivos de emisiones de campo
electromagntico e impedir, adems, que las seales de r.f. interfieran con el
resto de la instrumentacin electrnica del laboratorio.
Grabado econmico con pulverizacin catdica

Mediante el bombardeo de sustratos con iones de argn, es posible retirar el
material mediante un proceso de grabado con pulverizacin catdica. Luego,
si se aplica de inmediato un recubrimiento a los sustratos preparados de este
modo, es posible mejorar considerablemente la adhesin de las pelculas.
El sistema Auto 500 ofrece un grabado econmico con pulverizacin catdica
ya que utiliza un interruptor selector de suministro elctrico que desva la
electricidad desde la fuente de alimentacin principal de pulverizacin catdica
hacia el soporte del sustrato, evitando as la necesidad de contar con un
suministro elctrico adicional.
Portapieza de pulverizacin catdica

El exclusivo diseo del portapieza de BOC Edwards ofrece a los
investigadores funciones sofisticadas en una unidad compacta pero robusta.
Los sustratos pueden rotarse continuamente durante la deposicin por
pulverizacin catdica para obtener la mxima uniformidad en el espesor de
las pelculas, especialmente en un dimetro grande.
La slida placa portapieza puede maquinarse para fijar prcticamente todo tipo
de sustratos. La placa de sustratos es enfriada por agua para impedir la
acumulacin de calor y que los sustratos se daen durante procesos largos.
Adems, el portapieza est totalmente aislado para permitir el uso de energa
de r.f. para la limpieza de los sustratos mediante grabado por pulverizacin
catdica antes de la deposicin y/o durante sta mediante pulverizacin
catdica por polarizacin.
14
PGINA
7
Las fuentes de pulverizacin catdica de magnetrones de BOC Edwards

ofrecen altas velocidades de deposicin y una excelente utilizacin del blanco.
Para la pulverizacin catdica ascendente, es posible instalar hasta tres fuentes
con un dimetro de 75 mm (3 pulg.) 100 mm (4 pulg.). Tambin estn
disponibles las opciones para pulverizacin catdica descendente.
El diseo optimizado garantiza que los materiales del blanco se modificarn en
forma rpida y sencilla. Mediante el uso de objetivos circulares y simples, los
costos de materiales se mantienen lo ms bajos posible.
Suministros elctricos para pulverizacin catdica

Estn disponibles suministros elctricos de 1,5 kW c.c. y 600 W en una
variedad de configuraciones secuenciales y de co-pulverizacin catdica. La
energa de c.c. puede utilizarse para realizar pulverizacin catdica en todos los
materiales conductivos mientras que para los no conductivos, se requiere
energa de r.f. Todos los sistemas de energa de r.f. se suministran con redes
de sintonizacin automtica a fin de minimizar las prdidas de energa reflejada.
Los interruptores selectores de energa permiten dirigir la energa a 3 fuentes
de pulverizacin catdica y al portapieza en forma secuencial.
Sistema de pulverizacin catdica por r.f. con evaporacin por haz electrnico.
Sistema de pulverizacin catdica con tres magnetrones de 75 mm y altura

regulable.
Sistema de procesos mltiples con dos fuentes de pulverizacin catdica de

magnetrones para recubrir simultneamente ambos lados de un sustrato
esttico.
Fuentes de pulverizacin catdica
Control de gases del proceso

Se encuentran disponibles sofisticados sistemas que controlan hasta 3 gases del
proceso. Es posible preconfigurar y controlar las velocidades de flujo de gas y
las proporciones de gases mltiples. Los paneles de control permiten visualizar
en forma continua las velocidades de flujo de los gases a travs de una pantalla
digital.
14
PGINA
8
Bastidor de 19" Auto 500 con suministros elctricos de r.f. y c.c., controlador de
sistema PLC y controlador de flujo de masa.
Orificios de bloqueo de carga

El sistema Auto 500 se suministra con accesorios de bloqueo de carga que
permiten transferir muestras sin frenar el vaco. Esta caracterstica reduce el
tiempo del ciclo y el riesgo de que las muestras se contaminen.
Cmara FL400 con conjunto de bloqueo de carga para sustratos de dos

pulgadas.
SISTEMA DE HAZ ELECTRNICO PARA

INVESTIGACIN Y DESARROLLO AUTO 500
Sistemas de haz electrnico para investigacin y desarrollo Auto 500
Evaporacin por haz electrnico

Los sistemas de evaporacin por haz electrnico Auto 500 de BOC Edwards
permiten depositar pelculas ultra puras de materiales con puntos de fusin
elevados y otros materiales de difcil deposicin mediante evaporacin
resistiva.
Mediante la evaporacin por haz electrnico es posible alcanzar velocidades
de deposicin muy rpidas. Las fuentes de haz electrnico admiten mayor
cantidad de evaporante que las fuentes de resistencia, lo permite la deposicin
de pelculas espesas y mltiples recubrimientos antes de que sea necesario
volver a llenar la fuente de haz electrnico.
Excelente control de deposiciones

El alto nivel de control que puede lograrse con las fuentes de haz electrnico
permite que los materiales se evaporen con un control constante de la
velocidad de deposicin.
El sistema Auto 500 puede suministrarse con controladores de deposicin de
cristal de cuarzo que pueden conectarse al controlador de vaco para ofrecer
un control totalmente automtico del proceso de haz electrnico.
A fin de brindar la mxima flexibilidad de investigacin, los sistemas de haz
electrnico de BOC Edwards cuentan con amplios controles manuales para la
fuente de haz electrnico, barrido X-Y de haces e indexacin de cabrestante.
14
PGINA
9
Fuente de haz electrnico con mltiples opciones de cabrestante.
Fuente de haz electrnico EB3 con crisoles de 4 cm3 en una cmara de vaco de
carga frontal FL400. La posicin de la fuente de haz electrnico permite obtener
la mxima uniformidad en el espesor de las pelculas de los sustratos rotativos.
Capacidad de procesos mltiples

BOC Edwards dise una familia de fuentes de haz electrnico compactas con
todas las funciones que habitualmente se encuentran en sistemas de
recubrimiento industriales grandes y costosos.
Gracias a su tamao compacto, estas fuentes de haz electrnico pueden
instalarse en el sistema Auto 500 junto con una amplia gama de otros
accesorios para procesos de pelculas delgadas. Entre los otros accesorios que
pueden instalarse en el sistema Auto 500 con evaporacin por haz electrnico
se encuentran aquellos utilizados en evaporacin resistiva, pulverizacin
catdica de magnetrones, anlisis por descarga luminiscente y calentamiento
de sustratos.
SISTEMAS PARA PREPARACIN DE

MUESTRAS PARA MICROSCOPIOS
ELECTRNICOS
SISTEMA DE ALTO VACO PARA LA

PREPARACIN DE MUESTRAS PARA EM
AUTO 306
Sistemas para preparacin de muestras para microscopios electrnicos
BOC Edwards fabrica una amplia variedad de sistemas diseados para brindar
a los microscopistas electrnicos modernos todas las tcnicas de vaco que se
utilizan habitualmente para preparar muestras para formacin de imgenes.
Nuestra capacidad es el resultado directo de la combinacin de nuestra
experiencia en vaco y recubrimientos con la colaboracin de fabricantes y
usuarios EM.
Sistema de recubrimiento de alto vaco Auto 306
14
PGINA
10
Deposicin de pelculas de soporte

Recubrimiento de carbono para microanlisis
Rplicas de carbono
Recubrimiento de sombras estticas
Recubrimiento de sombras giratorias
Limpieza de la abertura
Pelculas hidroflicas de carbono para tincin negativa
Recubrimientos conductivos para SEM
Pulverizador catdico Scancoat Six para montar en un

banco
Recubrimientos por pulverizacin catdica fra para SEM
Recubrimiento de carbono para microanlisis
Microscopa de interferencia ptica
Consulte la pgina 14-14.

Utilice el desgasificador de placa PD3 para desgasificar pelculas y placas
fotogrficas.
Consulte la pgina 14-15.
Opcin de sistemas de bombeo de vaco limpios y rpidos para la mayor

resolucin
Sistema de vaco automtico basado en PLC para una operacin sencilla
Amplia variedad de accesorios modulares para la preparacin de muestras
Amplias caractersticas de seguridad que cumplen con la legislacin de la
Unin Europea
Diseo compacto y moderno, funcionamiento silencioso y libre de
vibraciones
El sistema Auto 306 brinda al microscopista electrnico un sistema de vaco
de alta calidad capaz de llevar a cabo una amplia variedad de diversas tcnicas
de preparacin en una nica cmara de vaco.
Sistema de vaco automtico

Auto 306 ahora cuenta con un controlador PLC para una sencilla evacuacin,
lo que reduce los errores del operador y permite una operacin confiable,
incluso en manos de usuarios sin experiencia. Los tiempos de evacuacin se
mantienen automticamente al mnimo. Los parmetros totalmente
reproducibles aseguran condiciones de deposicin uniformes.
El controlador del sistema est equipado con un panel de instrumentos
inclinado a la derecha de la cmara. Las pantallas para la medicin de la presin
y la informacin del sistema se seleccionan con facilidad y son claramente
visibles. Los controles opcionales para los suministros elctricos y otros
accesorios pueden instalarse de manera compacta y conveniente en el panel
de instrumentos.
Variedad de bombas de vaco

Ofrecemos una amplia variedad de sistemas de bombeo de vaco limpios y
rpidos.
Todas las versiones de las bombas estn respaldadas por una bomba rotativa
de accionamiento directo de dos etapas de 12 m3h-1 con un filtro de niebla de
aceite en la salida de la bomba. Una trampa frontal de almina activada evita la
contracorriente.
Los sellos de fluoroelastmero, los materiales de baja desgasificacin y los
mtodos especiales de soldado son esenciales para un funcionamiento libre de
contaminacin.
Bomba de difusin con trampa de nitrgeno lquido El sistema ms

econmico es el Auto 306 con bomba de difusin de 600 l s-1 y trampa de
nitrgeno lquido. Una camisa enfriada por agua ubicada encima de bomba de
difusin y un control inteligente de la vlvula de alto vaco evitan la migracin
del vapor de aceite de la bomba de difusina la cmara.
Bomba turbomolecular con trampa de nitrgeno lquido La
versin con bomba turbomolecular de 500 l s-1 ofrece las ventajas de las
bombas turbomoleculares con mayor desempeo de bombeo de vaco para
los vapores condensables.
Mantenimiento sencillo
El mantenimiento de rutina se facilita gracias a los paneles frontales y traseros
con traba y al panel superior removible. El panel de control principal cuenta
con bisagras para un fcil acceso a los componentes electrnicos.
14
PGINA
11
Operacin segura y confiable

Hemos diseado cuidadosamente el Auto 306, para asegurar el mximo nivel
de seguridad para el operador mientras utiliza el Auto 306.
Cuando la cmara est a presin atmosfrica (y, por lo tanto, es posible
acceder a ella), un interruptor de enclavamiento de vaco impide la llegada del
suministro elctrico a los accesorios para evitar el encendido. Del mismo
modo, los microinterruptores de corte positivo apagan el suministro elctrico
si se retira el panel lateral o el superior del Auto 306. Los paneles estn
equipados con trabas para impedir el acceso no autorizado. Un sistema de
contraseas de tres niveles en el controlador restringe los cambios a los
parmetros slo a los usuarios autorizados.
Todos los sistemas cuentan con un filtro de niebla de aceite instalado en la
bomba rotativa preliminar/de refuerzo.
El Auto 306 puede configurarse para una amplia variedad de diversas tcnicas
de preparacin de muestras.
Todos los sistemas se ensamblan completamente en nuestras fbricas y se
prueban exhaustivamente para asegurar una instalacin rpida y sin problemas.
El diseo modular de la totalidad de la amplia variedad de accesorios permite
actualizar el sistema fcilmente en cualquier momento futuro.
Auto 306 configurado para la evaporacin de metal y carbono en rejillas de

microscopios electrnicos de transmisin. El portarejilla de desenganche rpido
se rota para una uniformidad ptima en el espesor de la pelcula y cobertura de
la muestra.
Amplia variedad de tcnicas de preparacin de muestras
DATOS TCNICOS
14
710 (27.95)
1075 (42.32)
945
(37.21)
1255
(49.41)
362 (14.25)
1450
(57.09)
Para obtener ms informacin acerca del sistema Auto 306, consulte la pgina 14-2.
PGINA
12
Mecanismo de accionamiento Rotatilt 3 con accesorio portarejilla.

630 (24.80)
880 (34.65)
Mecanismo de accionamiento Rotatilt 3 con accesorio portapieza plano.
Placa base de vaco del Auto 306, configurada para una evaporacin descendente
de metales y carbono hacia los adaptadores de muestras SEM Acepta la mayora
de los tipos de adaptadores de muestras y la rotacin planetaria asegura el
recubrimiento uniforme de las superficies irregulares de las muestras.
595 (23.43)
Esencial
Recomendado
E02512000
E09020000
E09027000
E09062000
E09065000
E05201000
E09022000
E09023000
E09092000
E09029000
E08571000
E08535000
E08573000
E08572000
E09035000
E09064000
E09033000
E09028000
E09039000
E09021000
E09052000
E09050000
E09067000
E08539000
E09032000
E09045000
E09044000
E08664000
E08669000
E08667000
E08666000
SEM por
evaporacin
SEM por
pulverizacin catdica
Muestras trmicamente
sensibles
La versatilidad del sistema Auto 306 permitir al usuario adaptar la placa base para adaptarla a aplicaciones especiales.
Puesto que algunos orificios de la placa base tienen funciones especficas, BOC Edwards se complacer en brindar asesoramiento acerca de la
viabilidad.
Opcional
Arreglos recomendados para la preparacin de muestras para EM
14
PGINA
13
Sistemas de vaco Auto 306

Bomba de difusin, 240V, 50Hz
Bomba turbomolecular de 555 l s-1, 220/240V, 50Hz
Bomba turbomolecular de 555 l s-1, 210V, 60Hz
Accesorios para EM
Conjunto de campana de vidrio
Elevador de la campana de vidrio
Conjunto de cmara de cilindros
Equilibrador de la placa superior
Conjunto de purga de gas automtico
Ua de enfriamiento de muestras
Trpode
Placa de desviadora
Accesorio de periscopio
Portapieza Rotatilt 3
Portarrejilla de 3mm
Portarrejilla magntico
Portapieza plano
Portapieza planetario SEM
Unidad de control LT/HT
Transformador LT, 90A
Interruptor selector
Portafilamentos
Fuente nica de carbono
Plasmaglo
Suministro elctrico HT
Accesorio para pulverizacin catdica por c.c.
Blanco de oro de 75mm
Porta muestras SEM
Obturador manual de la fuente
Controlador elctrico del obturador
Accionador elctrico del obturador
Monitor de deposicin FTM6
Monitor de deposicin FTM7
Portacristal
Oscilador
TEM de
alta resolucin
NMERO DE
PEDIDO
Muestras generales
para TEM
ARREGLOS RECOMENDADOS PARA LA

PREPARACIN DE MUESTRAS PARA EM
PULVERIZADOR CATDICO DE METALES

SEM SCANCOAT SIX
Accesorio de evaporacin de fibra de carbono
14
PGINA
14
Pulverizador catdico de metales SEM Scancoat Six
El Scancoat Six es un pulverizador catdico de metales compacto y econmico

diseado para preparar muestras para una microscopa electrnica con
barrido (SEM) convencional. El sistema es fcil de usar y puede pulverizar una
amplia variedad de muestras con una pelcula metlica conductiva de alta
calidad. Las pelculas se depositan de manera uniforme, incluso sobre
superficies reentrantes.
Un accesorio opcional de fibras de carbono permite que las muestras sean
recubiertas de carbono antes del microanlisis con rayos X.
Caractersticas y ventajas
Pulverizacin catdica automtica con un cronmetro digital del proceso
para una operacin sencilla y repetible
Fcil de usar
La pulverizacin catdica fra impide que el calor dae las muestras
delicadas
Amplia variedad de blancos fcilmente intercambiables
La separacin entre el blanco y la mesa de trabajo se ajusta con facilidad
desde afuera de la cmara
Funcin de grabado con pulverizacin catdica/limpieza incorporada
El portamuestras universal acepta adaptadores de muestras de la mayora
de los fabricantes de EM
Suministradas con una bomba rotativa, blanco de oro de 0,1 mm y paso
adicional para un monitor de espesor de pelculas
Fcil de usar El Scancoat Six cuenta con completos controles de
instrumentacin y de procesos que permiten programar el tiempo de
pulverizacin catdica, la potencia de la misma y el flujo de gas argn hacia la
cmara. La secuencia de pulverizacin catdica se inicia entonces
automticamente al presionar el botn "Start", lo que hace que el Scancoat sea
fcil de usar y que brinde recubrimientos reproducibles de pasada en pasada.
Recubrimiento por pulverizacin catdica fra El Scancoat Six est
diseado para impedir el sobrecalentamiento de las muestras delicadas
durante la deposicin por pulverizacin catdica. El diseo nico del electrodo
de pulverizacin catdica incorpora un sistema de desviacin electrnica que
reduce el bombardeo de electrones secundarios de la muestra, lo que
minimiza el calentamiento de la misma. Una mesa para muestras de cobre
enfriada por agua acta como un efectivo disipador de calor y brinda un nivel
extra de proteccin contra el calentamiento de las muestras.
Funcin de grabado con pulverizacin catdica/limpieza Cuando
se conecta en modo Grabado, es posible grabar con pulverizacin catdica las
piezas o limpiarlas. El grabado con pulverizacin catdica puede mejorar el
contraste de algunos tipos de muestras. Las muestras que no sean delicadas
pueden limpiarse al eliminar el agua en la superficie para mejorar la adhesin
de pelculas subsecuentemente pulverizadas.
Este accesorio es una fuente de evaporacin de fibra de carbono montado

sobre la placa superior de una cmara y un mdulo de suministro elctrico. La
placa superior de la cmara encaja directamente sobre la cmara Scancoat en
lugar de la placa superior de pulverizacin catdica. Un soporte en el mdulo
de suministro elctrico sujeta la placa superior de la cmara cuando no se
utiliza, lo que libera ambas manos para cargar la fibra de carbono.
La operacin es sencilla con una configuracin de energa de "desgasificacin"
para calentar la pelcula. Se suministra un obturador para proteger las muestras
del calor irradiado durante la desgasificacin. Un botn permite aplicar la
mxima potencia a la fibra para evaporar instantneamente la fibra de carbono.
Cada accesorio se suministra con 3 m de fibra de carbono.
Accesorios para microscopa de interferencia ptica

Con los accesorios apropiados, el Scancoat Six puede utilizarse para preparar
muestras metalrgicas estndar para microscopa de pelculas de interferencia
ptica. Las pelculas de xido de hierro pueden pulverizarse en una atmsfera
de oxgeno y las muestras pueden grabarse antes de la deposicin, para
mejorar las fronteras reticulares.
DATOS TCNICOS
Cmara de trabajo
Material
Tamao
Mesa de trabajo de cobre
enfriada por agua
Portapieza removible
Dimetro
Cantidad de orificios de 3,2 mm di.
Cantidad de orificios de 10 mm di.
Cantidad de orificios para
adaptadores SEM
Sistema de vaco
Bomba rotativa de accionamiento
directo
Indicador
Gas del proceso
Tipo
Conectores
Tensin
Cronmetro digital programable
Dimensiones
Peso
Vidrio de borosilicato con proteccin

contra implosin
150 mm di, 115 mm de alto
100 mm di.
100 mm di.
6
6
6
BOC Edwards RV3
14
Indicador Pirani
PGINA
15
Argn (suministro regulado)

Ajuste deslizante para una manguera
con un di. ext. de 6 mm
Vlvula de aguja de vueltas mltiples
Cmara de acero inoxidable de gran capacidad 164 u 164 u340 mm

Es posible agregar cmaras para incrementar la capacidad
Puerta con bisagra con sello de elastmero
Montado sobre una bomba de vaco de accionamiento directo estndar
de BOC Edwards
Equipado con accesorios NW para una mayor versatilidad
Ocupa una pequea superficie
El desgasificador de placa PD3 de BOC Edwards es adecuado para desgasificar
pelculas y placas fotogrficas antes de utilizarlas con microscopios
electrnicos. Esto brinda las ventajas de tiempos de evacuacin reducidos de
la bomba y una menor contaminacin de la columna del microscopio.
60 s
Hasta 60 nm min-1
1500 V c.c. a 50 mA
0 100 mA con proteccin contra

sobrecargas
0 2,5 kV
0 s a 100 minutos, reposicin
automtica
470 mm de ancho x 375 mm de
profundidad x 450 mm de alto
22 kg
Construccin de la cmara
INFORMACIN SOBRE PEDIDOS

DESCRIPCIN DEL PRODUCTO
NMERO DE PEDIDO
Pulverizador catdico SEM Scancoat Six

220/240 V, monofsico, 50 Hz
110 V, monofsico, 60 Hz
E09601000
E09602000
Suministrado con una bomba de vaco rotativa RV3, un blanco de oro de 0,1 mm, portamuestras, bomba de
aceite y manual de instrucciones.
El Scancoat Six puede suministrarse sin bomba rotativa a solicitud.
ACCESORIOS
NMERO DE PEDIDO
Accesorio de evaporacin de fibra de carbono, completo con 3 m de fibra de carbono

220/240 V, monofsico, 50 Hz
E09601200
110 V, monofsico, 60 Hz
E09602200
Cabezal sensible de cristal de cuarzo (para uso con el monitor de
E09601400
espesor de pelcula E086-64-000 FTM6 y el oscilador E086-66-000)
Blanco de oro de 0,1 mm
E09601042
Blanco de platino
E08732000
Blanco de oro/paladio
E08733000
Blanco de cobre
E08712072
Fibra de carbono, 3 m de longitud
E09601250
Blanco de hierro1
E08734000
Obturador1
E08741000
Portamuestras metalrgico1
E08742000
Filtro de niebla de aceite
A46226000
1Estn disponibles los accesorios para microscopa metalrgica de interferencia ptica
REPUESTOS
Junta en L de la cmara,
Nitrilo 6,5 pulg. de dimetro para Scancoat Six
Fluoroelastmero 6,5 pulg. de dimetro para Scancoat Six
Cmara de vidrio de borosilicato para Scancoat Six
NMERO DE PEDIDO
E00100202
D15701042
E08703047
La cmara de acero inoxidable tiene dimensiones internas diseadas para

manejar las ms grandes pelculas y placas fotogrficas utilizadas normalmente
en los microscopios electrnicos de hoy. La cmara est equipada con una
puerta con bisagra con sello de elastmero. Se suministran un indicador de
vaco y una vlvula de admisin de aire.
Montaje verstil
Es posible montar la cmara en posicin horizontal o vertical sobre la bomba
rotativa. Adems, es posible montar ms de una cmara sobre la bomba para
una mayor capacidad. Ms accesorios para tuberas pueden ser necesarios,
dependiendo de la configuracin seleccionada para la instalacin de mltiples
cmaras.
Bomba rotativa
Se suministra una bomba de vaco rotativa de dos etapas RV3 de
BOC Edwards. La bomba cuenta con un diseo probado y con un
funcionamiento silencioso, libre de vibraciones. La bomba est equipada con
una vlvula de lastre de gas para ayudar a eliminar el vapor de agua.
La unidad se suministra completa con un cable de red elctrica y est equipada
con un interruptor de encendido/apagado.
Tamao de la cmara
Tamao general
Peso
164 mm u164 mm u340 mm (interno) /

6,5 pulg. x 6,5 pulg. x 13,4 pulg. (interno)
630 mm u 190 mm u 450 mm
24,8 pulg. x 7,5 pulg. x 17,7 pulg.
30 kg / 66 lbs


220-240 V, monofsico, 50/60 Hz
115-230 V, monofsico, 60 Hz
Conjunto de la cmara (sin bomba rotativa)
Junta de la cmara
NMERO DE PEDIDO
E08579000
E08580000
E08578000
E00100202
Control
Tiempo para evacuar la cmara de
trabajo a presin de operacin
Velocidad de pulverizacin catdica
Suministro de alta tensin
Medidores HT
Corriente
DESGASIFICADOR DE PLACA PD3
COMPONENTES PARA RECUBRIMIENTO

AL VACO
FUENTE DE HAZ ELECTRNICO

FOCALIZADO MAGNTICAMENTE EB1
Sistemas de recubrimiento al vaco para investigacin y desarrollo
FUENTES DE HAZ ELECTRNICO
14
PGINA
16
Ciertos materiales (por ejemplo, el titanio, el nquel, el cobalto, los xidos de

metales semirrefractarios y los xidos de tierras raras) son difciles de
evaporar con fuentes calentadas por resistencia, pero pueden depositarse con
facilidad cuando se los calienta mediante un bombardeo de electrones.
Las fuentes de haz electrnico brindan un uso econmico y eficiente del
evaporante, permiten una simple transferencia entre evaporantes y logran
altas velocidades de deposicin. El alto nivel de control posible con las fuentes
de haz electrnico permite una velocidad de deposicin constante.
BOC Edwards fabrica una familia de fuentes compactas de haces electrnicos
para los investigadores de pelculas delgadas. Todas se suministran en forma
modular con todas las piezas para permitir una sencilla instalacin en los
sistemas de recubrimiento de BOC Edwards.
Fuente de haz electrnico focalizado magnticamente EB1
Una fuente ultracompacta de haz electrnico que se suministra montada sobre

un paso de agua dual integrado. El horno de cobre de 1 cm3 permite
deposiciones de pelculas espesas de alta velocidad. Es posible instalar mltiples
fuentes para deposiciones de capas mltiples.
El horno estndar es un bloque de cobre enfriado por agua con una apertura
cnica para aceptar un crisol removible de cobre. Es posible instalar
revestimientos refractarios a los crisoles para evaporar materiales como el
aluminio y el cobre.
La capacidad de potencia de la fuente EB1 es variante hasta 3,0 kVA. La
desviacin del haz de 180 se logra mediante un imn permanente fabricado en
Trigonal G, especialmente seleccionado por sus caractersticas de baja
desgasificacin y estabilidad del campo a altas temperaturas.
La fuente EB1 recibe su alimentacin de una fuente de tensin constante EB3
de 5 kV y 600 mA.
La fuente se suministra completa con dos pasos de alto vaco y un conjunto de
instalacin.
DATOS TCNICOS
Mxima capacidad de energa
Tensin HT
Corriente de emisin
Crisol
Tamao del punto del haz
Flujo mnimo de agua de enfriamiento
Vaco mnimo
Peso
3 kVA
4,5 5,5 kV
600 mA como mximo
1 cm3, de cobre
3 mm
3 l min-1 a 20 C
1 x 10-4 mbar
1,4 kg

NMERO DE PEDIDO
Fuente de haz electrnico EB1 (1cm3)

E09046000
EB1 utiliza el mismo suministro elctrico que EB3: consulte la informacin acerca de EB3
para obtener detalles acerca de los pedidos.
REPUESTOS
Filamento para EB1/EB3 de repuesto

ACCESORIOS
Una fuente de alimentacin EB3 de 3kW con pistolas controladoras, controlador

de barrido X-Y y controles del indexador del cabrestante en el adaptador del
bastidor de 19 pulg.
Conjunto de interruptor del flujo de agua

Revestimiento intermetlico del horno
Revestimiento de carbono del horno
Crisol de cobre
NMERO DE PEDIDO
E03615005
NMERO DE PEDIDO
E09081000
E03615017
E03615021
E03615018
FUENTE DE HAZ ELECTRNICO DE

HORNOS MLTIPLES EB3
Unidad de barrido X-Y

La unidad ofrece la posibilidad de barrer el haz electrnico en direcciones
laterales y longitudinales con un total control de la posicin de inicio del haz,
amplitud del barrido y frecuencia de oscilacin. Los diversos patrones de
barrido que pueden generarse permiten un calentamiento rpido y uniforme
de grandes volmenes de evaporante y materiales con conductividad trmica
escasa.
Accesorios de instalacin
Estn disponibles conjuntos modulares para permitir que la fuente de haz
electrnico EB3 se instale con facilidad en sistemas de recubrimiento de
BOC Edwards y de otras marcas. Los conjuntos incluyen gua de cables,
mecanismos de accionamiento de cabrestantes, componentes de montaje y
todas las tuberas, cables y piezas mecnicas necesarias.
DATOS TCNICOS
14
3 kVA
4,5 5,5 kV
6 V a 20 A
600 mA
Alnico
4 cm3 (x4) o 30 cm3 (x1)
4 mm
3 l min-1 a 20 C
1 x 10-4 mbar
4,9 kg
PGINA
17

Fuente de hornos mltiples

La serie de fuentes EB3 brinda en un tamao compacto todas la caractersticas
que normalmente se encuentran solamente en sistemas de produccin mucho
ms grandes. El reducido requerimiento de espacio del EB3 maximiza el
espacio en la cmara de vaco para otros componentes del proceso y tambin
permite posicionar la fuente donde sea necesario para lograr una uniformidad
ptima del recubrimiento.
Cuatro crisoles de 4 cm3, con opciones para un reborde de 30 cm3 y

crisol de disco plano.
La desviacin del haz electrnico de 270 minimiza la contaminacin del
filamento y prolonga su vida til.
Crisoles enfriados por agua removibles para una fcil limpieza y un
reemplazo econmico
Conjunto de emisor 'enchufable' para un conveniente mantenimiento del
filamento
Las bobinas de barrido X-Y integradas permiten un control ptimo del
haz durante la evaporacin
Crisoles inactivos blindados para impedir la contaminacin cruzada de los
materiales de evaporacin
Fuente de alimentacin del haz electrnico EB3 de 3 kW

El EB3 es una robusta fuente de alimentacin de tensin constante de 3 kW
formado por un mdulo de potencia autnomo y una unidad de control para
montar en una consola.
Salida de 5 kV y 600 mA con tubos de potencia gemelos de tetrodo para
una regulacin de la tensin de 1% y una recuperacin del arco
instantnea
El mdulo de potencia y los mdulos de pistolas controladoras pueden
montarse en gabinetes elctricos de 19 pulgadas
Sistema integral de interruptores de enclavamiento para garantizar la
seguridad del operador e impedir la operacin incorrecta
Compatible con la mayora de los controladores de deposicin de cristal
de cuarzo, lo que permite una deposicin totalmente automtica a una
velocidad constante.
EB3 - Fuente de haz electrnico de hornos mltiples (4 x 4 cm3)

EB3 - Fuente de alimentacin de 3 kW
380/415/440 V, 50 Hz
220 V, 60 Hz
ACCESORIOS
EB3 - Conjunto de pasos de vaco

EB3 - Conjunto de interruptor del flujo de agua
EB3 - Unidad de barrido
EB3 - Conjuntos de accionamiento motorizado de cabrestantes
EB3 - Conjunto de accionamiento manual de cabrestante
EB3/FL400 - Conjunto de montaje
Adaptador del bastidor de 19 pulg. para los controles EB3
EB3 - Conjunto de crisol para horno nico (30 cm3)
EB3 - Conjunto de crisol de disco
Revestimiento de grafito para un crisol de 30 cm3
Revestimiento de molibdeno para un crisol de 30 cm3
Revestimiento intermetlico para un crisol de 30 cm3
Revestimiento de grafito para un crisol de 4 cm3
Revestimiento de molibdeno para un crisol de 4 cm3
Revestimiento intermetlico para un crisol de 4 cm3
NMERO DE PEDIDO
E09072000
E09060000
E09061000
NMERO DE PEDIDO
E09080000
E09081000
E09082000
E09083000
E09084000
E09093000
D35422000
E09087023
E09087022
E09088020
E09088021
E09088022
E09088030
E09088031
E09088032
Mxima capacidad de energa

Tensin HT
Suministro elctrico del filamento
Corriente mxima del filamento
Imn (permanente)
Crisol
Tamao del punto del haz
Agua de enfriamiento mnima
Vaco mnimo
Peso
MONITORES DE ESPESOR DE PELCULA
MONITOR DIGITAL DE ESPESOR DE

PELCULA FTM6
Monitores de espesor de pelcula
BOC Edwards fabrica una familia de monitores de espesor de pelcula de

cristal de cuarzo con una variedad de caractersticas que se adaptan a las
diversas aplicaciones y presupuestos de nuestros clientes.
COMPARACIN DE CARACTERSTICAS
14
PGINA
18
Pantalla de velocidad de deposicin

Cantidad de materiales en memoria
Correccin de impedancia acstica
Correccin del factor de preparacin
Nmero de obturadores controlados
Funcin de autoverificacin
Indicacin del uso de cristales
Salida del registrador
Entradas de cristales de cuarzo
Interfaz RS232
Modo de secuencia automtica de mltiples capas
FTM6
FTM7
8
2
8
9
1
9
9
8
1
8
8
9
11
9
9
2
9
9
9
2
9
9
8 = No
9= S
Pantalla LED de espesor de pelcula de fcil lectura
Almacenamiento en memoria para 2 materiales de deposicin
Control automtico del obturador para una terminacin reproducible del
espesor de la pelcula
El diseo compacto ahorra espacio
El FTM6 es un econmico monitor de espesor de pelcula con alta resolucin
y caractersticas avanzadas que incluyen control del obturador para una
terminacin precisa del espesor de la pelcula.
El tamao compacto del FTM6 lo hace particularmente adecuado para
utilizarlo con sistemas de recubrimiento pequeos.
El FTM6 puede utilizarse como un instrumento autnomo o montarse sobre
las consolas de control mediante el uso del conjunto de montaje en panel
incluido.
Pantalla
Visualizacin de espesor
Resolucin
Velocidad de actualizacin de la
visualizacin
Parmetros de materiales
Capas
Densidad
Terminacin del espesor
Factor de preparacin
Rango operativo del cristal sensor
Capacidad del rel del obturador
Tensin del suministro elctrico1 50/60 Hz
Corriente del suministro elctrico
Dimensiones
Peso
0,0 nm 999,9 Pm
0,1 nm
1 Hz
1o2
0,1 99,9 g cm-3
0,0 nm 999,9 Pm
0,01 99,9%
5,1 6,1 MHz
220 V c.c., 2 A o 250 V c.a., 2A
110 V 220 V 240 V (10%)
9W
110 mm de ancho, 105 mm de alto,
185 mm de profundidad
1,6 kg
1 Seleccionable

Se necesita un oscilador y un portacristal por cada monitor de espesor de pelcula FTM6.
Monitor de espesor de pelcula FTM6
NMERO DE PEDIDO
E08664000
MONITOR DIGITAL DE ESPESOR DE

PELCULA FTM7
PORTACRISTAL UNIVERSAL
Portacristal universal
Pantalla
Visualizacin de espesor
Visualizacin de velocidad
Resolucin
Velocidad de actualizacin de la
visualizacin (variable)
Parmetros de materiales
Capas
Densidad
Terminacin del espesor
Impedancia acstica de la pelcula
Factor de preparacin
Rango operativo del cristal sensor
Capacidad del rel del obturador
Salida analgica
Impedancia
Resolucin
Tensin del suministro elctrico1 50/60 Hz
Corriente del suministro elctrico
Dimensiones
Peso

Oscilador, cable de 3 m
Portacristal, incluye un paquete de 5 cristales
Cristales de repuesto (paquete de 5)
0,0 nm 999,9 Pm
0,0 999,9 n ms-1
0,1 nm
1 4 Hz
1 11
0,1 99,9 g cm-3
0,1 nm 999,99 Pm
1 99,9 x 105 g cm-2 s-1
0,01 99,9%
5,1 6,1 MHz
220 V c.c., 2 A o 250 V c.a., 2 A
0 a 1 V, 1 k Ohm
8 bits
100 120 V 220 240 V (10%)
50 W
192 mm de ancho, 96 mm de alto,
243 mm de profundidad
2.,9 kg
1 Seleccionable

Se necesita al menos un oscilador y un portacristal por cada FTM7.
Monitor de espesor de pelcula FTM7
NMERO DE PEDIDO
E08669000
NMERO DE PEDIDO
E08666000
E08667000
E08668000
14
PGINA
19
Pantalla LED de espesor de pelcula y de velocidad de deposicin de fcil

lectura
Almacenamiento en memoria para 11 materiales de deposicin
Portacristal doble/funcin de control de obturador doble
Correccin de errores del factor de preparacin y de la impedancia
acstica
Modo de secuencia automtica para una deposicin de capas mltiples
simplificada
Interfaz RS232
El FTM7 es un instrumento sofisticado y totalmente funcional para monitorear
el espesor de pelcula y la velocidad de deposicin.
Es posible conectar hasta 2 sensores de cristal de cuarzo al FTM7, lo que
permite el monitoreo secuencial de dos fuentes de deposicin mediante el uso
de sensores separados.
Los rels incorporados pueden utilizarse para controlar hasta dos
obturadores de fuente separados, lo que permite terminar de manera precisa
la deposicin de dos fuentes. El modo de secuencia automtica es una funcin
nica que simplifica la deposicin de capas mltiples al seleccionar de manera
automtica el siguiente material de deposicin cada vez que se selecciona el
botn Run (Arranque).
La interfaz RS232 permite a una computadora externa programar el FTM7 y
tambin puede emitir datos durante el proceso de deposicin.
El portacristal universal de BOC Edwards es adecuado para la mayora de los

procesos de deposicin y opera de manera efectiva en un entorno de
pulverizacin catdica por r.f.
Su buena estabilidad trmica se logra al enfriar por agua el portacristal, el cual
tambin puede desecarse a 200 C. Las tuberas de agua flexibles pueden
extenderse para permitir un fcil posicionamiento del cabezal de cristal. El
alojamiento a presin del cristal hace que el cambio de cristales sea sencillo y
rpido.
El portacristal cuenta con una gua de cables estndar NW25, y est listo para
una instalacin inmediata sin soldaduras, soldaduras fuertes o conexiones de
agua separadas.
FUENTES DE PULVERIZACIN CATDICA

CON MAGNETRN PLANAR EPM75 Y EPM100
DATOS TCNICOS
Servicios
Velocidad del flujo del agua
de enfriamiento
Presin del agua de enfriamiento
Conexiones de entrada y salida
14
PGINA
20
Fcil de instalar
Gua de cables NW25 integrada
Funcionamiento por r.f. o c.c.
Pulverizacin catdica con magnetrn o diodo
La gua de cables de compensacin permite un posicionamiento radial
variable
Las fuentes de pulverizacin catdica con magnetrn planar de BOC Edwards
pueden instalarse y posicionase con facilidad en cualquier sistema de vaco que
tenga orificios adecuados de 25 mm o 1 pilg. de dimetro. El diseo de la gua
de cables de compensacin permite una ajuste sencillo de la posicin radial de
la fuente. El diseo de la fuente EPM est probado, tras haber sido utilizado
durante muchos aos en los sistemas de pulverizacin catdica de
BOC Edwards.
Fuentes de pulverizacin catdica con magnetrn planar EPM75 y EPM100
Instalacin simple
La caja de interfaces/servicios contiene dos tomas de conexin de suministro
elctrico y dos conexiones de agua de ajuste rpido. La conexin de
electricidad puede realizarse mediante un cable adecuado conectado a un
suministro elctrico r.f, por medio de una red equilibradora, o a un suministro
elctrico c.c. La instalacin al sistema de vaco se realiza por medio de un
orificio NW25 estndar o uno de 25,4 mm de dimetro. El posicionamiento
de la fuente relativa al portapieza es crtico para el desempeo del sistema de
pulverizacin catdica. La serie EPM cuenta con un ajuste radial sencillo. El
paso de vaco est compensado, lo que posibilita el ajuste de la posicin radial
del ctodo al rotar el cuerpo del electrodo alrededor del paso.
Funcionamiento por c.c. o r.f.

La serie de fuentes EPM est diseada para funcionar con c.c. o r.f. para una
pulverizacin catdica eficiente tanto de aisladores como de conductores.
Cada ctodo se suministra con aislamiento de electrodos para contener la
radiacin r.f. y brindar una instalacin segura. El funcionamiento de los diodos
se logra al remover los imanes y al usar una fuente de alimentacin adecuada.
75 l h-1 15 C
3 bar mnimo
8 mm di. ext. para tubera rgida
de niln
Tomas coaxiales tipo N
Conectores de potencia de salida

Cable recomendado
Tipo
PTFE aislado coaxial
Especificacin
RG213 o RG225
Gua de cables de vaco
Orificio de 25 mm (1 pulg.)
Espesor del blanco
5 6,4 mm
Dimetro del blanco
EPM75
75 77 mm
EPM100
100 102 mm
Utilizacin del blanco
EPM75
31%
EPM100
32%
Vida til aproximada del blanco
EPM75
8 kWh
EPM100
20 kWh
Potencia mxima
EPM75
1,5 kW c.c., 1,0 kW r.f.
EPM100
3,0 kW c.c., 1,5 kW r.f.
Dimetro general
EPM75
107 mm
EPM100
141 mm
Espesor mximo de la placa base
20 mm
Altura general, desde la placa base hasta el blanco
EPM75
123 mm
EPM100
127 mm
Altura general, desde la placa base hasta la parte
superior de la pantalla
EPM75
139 mm
EPM100
140 mm
Velocidad de pulverizacin catdica, aluminio*

30 mm desde la fuente hasta el sustrato
Velocidad de pulverizacin catdica, cobre 1
13,5 nm s-1
4,4 nm s-1
2,6 nm s-1
1,6 nm s-1
21,3 nm s-1
7,1 nm s-1
4,2 nm s-1
2,6 nm s-1
1 fuente EPM75, presin del proceso de 5 x 10-3 mbar, potencia de la pulverizacin catdica de 750 W r.f..

Fuente de pulverizacin catdica con magnetrn

EPM75
EPM100
Montaje del blanco

Un sencillo anillo de sujecin asegura el blanco al electrodo de respaldo de
cobre enfriado por agua, lo que permite cambiar el material del blanco rpida
y facilmente entre pasadas de pulverizacin catdica. Las fuentes EPM estn
diseadas para aceptar simples blancos circulares que son fciles de fabricar y,
por lo tanto, econmicos para producir. Los imanes de tierra rara de alta
resistencia se utilizan para enfocar el plasma y brindar rpidas velocidades de
deposicin y un uso eficiente del material de blanco.
NMERO DE PEDIDO
E09303000
E09304000
Datos sobre la deposicin fsica en fase vapor
DATOS SOBRE LA DEPOSICIN FSICA EN

FASE VAPOR
MATERIALES
DENSIDAD
SMBOLO
g cm3
IMPEDANCIA
ACSTICA
(Zf)
PUNTO
DE
FUSIN
qC
VELOCIDAD DE
EFICIENCIA DE RECUBRIMIENTO TIPO DE PULVERIZACIN
FUENTE
EVAPORACIN
DEL CRISOL
PULVERIZA
CATDICA
DE
DEL HAZ
DEL HAZ
CIN
RELATIVA
RESISTENCIA ELECTRNICO ELECTRNICO CATDICA APROXIMADA
Aluminio
Al
2,70
8,17
660
W, Ta
M. Buena
IM
C.c.
1,0
Antimonio
Sb
6.62
11,49
660
Mo, Ta
Pobre
IM
C.c.
2.7
BeO
3,01
2530
Buena
R.fr.
2,54
22.69
2100
Carbono
M. Buena
C,VC
R.f.
Cadmio
Cd
8.64
12.94
321
W, Mo
Pobre
C.c.
Sulfuro de cadmio
CdS
4.83
8.66
1750
W, Mo
Pobre
R.f.
14
PGINA
21
xido de berilio
Boro
CdTe
5.85
9,00
1098
Mo
R.f.
Fluoruro de calcio
CaF2
3,18
11,39
1360
W, Mo
R.f.
Carbono
2,25
2.71
3727
Buena
C.c.
Cerio
Ce
6.78
795
Buena
VC
C.c.
CeO2
7,13
2150
Buena
R.fr.
Cr
7,20
28.94
1890
Buena
C.c.
Cr2O3
5,21
2435
W, Mo
Buena
R.fr.
Cobalto
Co
8.71
25.73
1495
M. Buena
C.c. (m)
Cobre
Cu
8.93
20,20
1083
W, Mo
M. Buena
C, Mo
C.c.
GaAs
5,31
5,55
1238
Buena
R.f.
Germanio
Ge
5,35
17,10
937
W, Mo
M. Buena
C.c.
1,0
Oro
Au
19,30
23,17
1062
W, Mo
M. Buena
C.c.
2,3
Indio
In
7,30
10,49
157
W, Mo
M. Buena
Mo
C.c.
0,5
InSb
5.76
10.98
535
R.f.
In2O3
7,18
c,2200
Pobre
R.f.,R.fr./c.c.
Iridio
Ir
22,40
68,40
2459
Pobre
C.c.
Hierro
Fe
7.86
25,29
1535
M. Buena
C.c. (m)
Plomo
Pb
11,30
7.81
328
W, Mo
M. Buena
C.c.
Sulfuro de plomo
PbS
7,50
15,59
1114
R.f.
Fluoruro de litio
LiF
2.64
11,40
870
W, Mo
Buena
R.f.
Magnesio
Mg
1.72
12,18
651
W, Mo
Buena
C, VC
C.c.
Fluoruro de magnesio
MgF2
3,00
1266
Mo
M. Buena
R.f.
xido de magnesio
MgO
3,58
21,47
2800
Buena
R.f., r.fr.
Manganeso
Mn
7,20
23,41
1244
W, Mo
Buena
C.c.
1.8
Molibdeno
Mo
10,20
34,34
2610
M. Buena
C.c.
0.8
Nquel
Ni
8.91
26.66
1453
M. Buena
C.c. (m)
1,4
Niobio
Nb
8,57
17.90
2468
M. Buena
C.c.
0.6
Paladio
Pd
12,00
24.72
1550
Pobre
C.c.
1.9
Platino
Pt
21,40
36,06
1769
M. Buena
C.c.
1,3
KCl
1.98
4,30
776
R.f.
Oxido de cerio (IV)

Cromo
xido de cromo (III)
Arseniuro de galio
Antimoniuro de indio
xido de indio
Cloruro de potasio
0,1
1,1
1.8
0,3
2,5
Telururo de cadmio
MATERIALES
DENSIDAD
SMBOLO
g cm3
IMPEDANCIA
ACSTICA
(Zf)
PUNTO
DE
FUSIN
qC
VELOCIDAD DE
EFICIENCIA DE RECUBRIMIENTO TIPO DE PULVERIZACIN
PULVERIZA
CATDICA
DEL CRISOL
EVAPORACIN
FUENTE
CIN
RELATIVA
DEL HAZ
DEL HAZ
DE
RESISTENCIA ELECTRNICO ELECTRNICO CATDICA APROXIMADA
Selenio
Se
4.82
10,21
217
W, Mo
Buena
R.f.
Silicio
Si
2,32
12,39
1410
W, Ta
M. Buena
C.c., r.f.
0,5
Dixido de silicio
SiO2
2,20
8,25
1710
M. Buena
R.f.
0,1
Monxido de silicio
SiO
2,13
10,15
1703
W, Ta, Mo
M. Buena
R.f.
Plata
Ag
10,50
16.68
961
W, Mo
M. Buena
C.c.
Bromuro de plata
AgBr
6,47
7,48
432
Ta
Pobre
R.f.
14
Cloruro de plata
AgCl
5,56
6.68
455
Mo
Pobre
R.f.
PGINA
22
Cloruro de sodio
NaCl
2,17
5.62
801
W, Mo
Pobre
R.f.
Tantalio
Ta
16.60
33.68
2996
M. Buena
C.c.
Telurio
Te
6,00
9.80
452
W, Ta
Pobre
VC
R.f.
Estao
Sn
7,30
12,19
232
W, Ta
M. Buena
VC
C.c.
SnO2
6.95
1127
M. Buena
R.fr./c.c.
Ti
4,50
14,05
1657
W, Ta
M. Buena
C.c.
Dixido de titanio
TiO2
4,17
22,07
1640
W, Mo
Pobre
R.fr.
xido de titanio
TiO
4.90
1750
W, Mo
Buena
VC
R.f.
Tungsteno
19,30
54,14
3410
Buena
C.c.
WC
15.60
58,44
2860
M. Buena
R.f.
Vanadio
5.96
16.65
1890
Mo
M. Buena
C.c.
Ytrio
4,34
10,57
1509
W, Ta
M. Buena
R.f.
Cinc
Zn
7,04
17,17
419
W, Mo
M. Buena
C.c.
xido de cinc
ZnO
5.61
15.87
1975
Mo
Pobre
R.f.
Seleniuro de cinc
ZnSe
5,42
12,22
1526
Mo, Ta
R.f.
Sulfuro de cinc
ZnS
4,09
11,39
1830
Mo, Ta
Buena
R.f.
xido de estao
Titanio
Carburo de tungsteno
W Tungsteno
Mo Molibdeno
C Carbono
VC Carbono vtreo
IM Intermetlico
C.c. Pulverizacin catdica con

magnetrn por c.c.
R.f. Pulverizacin catdica con
magnetrn por r.f.
2.9
0,5
1,1
0,5
0,5
0.6
R.fr. Pulverizacin catdica reactiva con magnetrn por r.f.

(m) Magntico puede interferir con la pulverizacin
catdica con magnetrn
FILAMENTOS DE EVAPORACIN
TAMAO
NMERO DE PEDIDO
FILAMENTOS DE TUNGSTENO
A
A1
A2
A4
A8
A10
A12
19
19
25
9,5
44,5
52,5
4,8
4,8
6,5
4,8
9,5
8,5
1
3
3
1
3
3
0,5
0,5
0,5
0,5
0,5
0,5
15-20
40
40
20
40
50
10
10
10
10
25
10
H01401001
H01401002
H01401003
H01401004
H01401005
H01401012
B1
B2
B6
B7
14,5
16
19
16
2,4
4,8
13
6,5
1
3
2
3
0,5
0,5
1,0
0,5
15-20
30-40
50-60
40
10
10
10
10
H01401021
H01401022
H01401023
H01401024
F1
F2
22,3
22,3
3
3
0,5
0,75
30-40
80-120
10
10
H01401030
H01401031
Filamentos de evaporacin
CANOAS DE MOLIBDENO
A
C1
C3
C4
C5
19
31,8
25
25
4,8
9,5
13
13
6,5
11
14,5
16
0,05
0,1
0,1
0,1
25
80
100
100
10
10
10
10
H01401040
H01401041
H01401042
H01401043
C2
51
9,5
9,5
0,05
45
10
H01401044
12,7
0,05
70
10
H01401069
D= Espesor; E= Corriente de evaporacin, A; F= Cantidad por paquete
CANOAS DE TUNGSTENO
C6
47,6
12,7
CANOAS DE MOLIBDENO CUBIERTAS
Estas canoas son tiles para materiales que se dividen al calentarse (como el monxido
de silicio y el sulfuro de cadmio). G2 es la cobertura para la canoa G1.
B
G1
41,3
6,5
14,5
0,05
100
10
H01401046
G2
41,3
4,8
25
0,05
100
10
H01401047
Para evitar daar su sistema de recubrimiento, ajuste la fuente de evaporacin con el suministro elctrico, como se muestra
a continuacin.
SISTEMA DE RECUBRIMIENTO
12E
Auto 306, E12E, E306, E306A
18E
19E
CAPACIDAD LT
10 V a 60 A, 30 V a 20 A
10 V a 90 A, 30 V a 30 A
5 V a 200 A, 3 V a 350 A
20 V a 150 A
20 V a 190 A, 10 V a 380 A
C= Cantidad de filamentos; D= Dimetro del alambre;

E= Corriente de evaporacin, amps; F= Cantidad por paquete
14
PGINA
23
NOTAS
14
PGINA
24

Recubrimiento Al Vacio

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