Académique Documents
Professionnel Documents
Culture Documents
CONTROLE DE PROCESSO
Autor: Srgio Medeiros
ndice
Introduo Cura UV
Manuseio e Segurana
Refletores
Lmpadas
Radiometria
Onde medimos ?
Como medir ?
13
Limitaes
15
Cuidados na utilizao
16
Referncias Bibliogrficas
17
Introduo Cura UV
Entende-se por cura UV a converso instantnea de um lquido reativo em
um filme slido com o uso da radiao ultravioleta. Isso se d por meio de uma
reao qumica onde o fotoiniciador presente no revestimento absorve a energia
emitida pela lmpada gerando radicais livres que, por sua vez, iniciam a
polimerizao resultando assim em um filme slido em questo de segundos.
A utilizao de revestimentos curveis por UV muito ampla, podendo-se
destacar tintas e vernizes para madeira, papel, metais, vidros, componentes
eletrnicos, fibra ptica, restaurao dentria e adesivos.
Essa utilizao deve-se s inmeras vantagens do filme curado bem como
do prprio processo. Alto brilho, superfcie macia ao toque (soft touch), baixo
consumo de energia, alta resistncia fsica e qumica, alta velocidade de cura e a
baixa emisso de compostos orgnicos volteis (VOCs) so algumas dessas
vantagens.
Para se obter o mximo da tecnologia necessrio observar alguns
parmetros que influenciam diretamente no processo. Em primeiro lugar o
fotoiniciador utilizado deve ser condizente com a aplicao (clear ou pigmentado,
alta ou baixa camada). Ento deve-se analisar as lmpadas que, alm da
necessidade de emitir radiao no comprimento de onda absorvido pelos
fotoiniciadores, deve apresentar uma intensidade suficiente para que a formao
de radicais livres seja alcanada. Alm da intensidade preciso estar atento ao
tempo de exposio desse revestimento s lmpadas bem como o estado dos
refletores. Em resumo a temperatura, velocidade de esteira, espessura de
camada, componentes de formulao alm dos j mencionados lmpadas e
refletores so variveis do processo que influenciam diretamente na qualidade do
filme curado. A formulao de um revestimento curvel por UV utiliza basicamente
os seguintes componentes:
a) Fotoiniciador: Responsvel pelo incio da reao de cura. Deve ser
escolhido de acordo com a altura de camada, teor de pigmentao, etc.
b) Oligmero: o componente que confere ao filme curado propriedades
como dureza, flexibilidade, resistncia fsica e qumica alm de determinar a
velocidade de cura.
c) Monmero: Utilizado para o ajuste de viscosidade alm de contribuir em
propriedades como aderncia, flexibilidade, velocidade de cura e resistncia
fsica e qumica.
d) Aditivos: Conferem propriedades especiais ao filme curado como slip,
resistncia a abraso e aderncia em substratos como vidro, metal e
plstico. Tem-se ainda agentes de transferncia para aplicaes silk
screen, inibidor de polimerizao, inibidor de oxignio dentre outros.
GRAUNAGROUP IMP E EXP LTDA DIVISO ESPECIALIDADES QUMICAS
Av. Netuno, 29 Sala 10 Santana de Parnaba/SP 06541-015
Tel/Fax 11 4153 9283 www.graunagroup.com
sergio@graunagroup.com
Manuseio e Segurana
Conforme descrito abaixo os procedimentos de manuseio dos
revestimentos curveis por UV so simples e no diferem daqueles utilizados
regularmente para outros tipos de tintas e vernizes:
a) Armazenar em local seco e livre de umidade..
b) No deixar em contato com luz direta do sol evitando dessa forma o incio
da polimerizao do revestimento.
c) Manusear em local ventilado.
d) No comer, beber e fumar no local.
e) Em caso de contato com a pele lavar com sabo neutro e gua; trocar de
roupa para evitar contato contnuo com a pele o que pode causar irritao.
Em caso de contato com os olhos lavar com gua em abundncia.
f) No olhar diretamente para a fonte de luz UV.
Refletores
A limpeza de suma importncia uma vez que cerca de 80% da radiao
que chega ao revestimento provm dos refletores. A figura 1 abaixo compara a
diferena entre um refletor limpo e em refletor sujo:
Figura 1: Na primeira curva observa-se a medio feita antes da limpeza do refletor. O valor
encontrado foi de 178,5mW/cm. Na segunda curva observa-se a medio feita aps sua limpeza.
O valor encontrado foi de 241,2mW/cm que corresponde a um aumento de 35% em relao
primeira medio.
GRAUNAGROUP IMP E EXP LTDA DIVISO ESPECIALIDADES QUMICAS
Av. Netuno, 29 Sala 10 Santana de Parnaba/SP 06541-015
Tel/Fax 11 4153 9283 www.graunagroup.com
sergio@graunagroup.com
Figura 2: Observa-se que a radiao est concentrada em um determinado ponto que, conforme
dito acima, aumenta a velocidade de cura otimizando o processo.
Figura 4: Nesta comparao entre um refletor parablico e um elptico, sob mesmas condies,
observa-se uma intensidade de aproximadamente 250mW/cm para o refletor parablico e
350mW/cm para o refletor elptico.
Lmpadas
As lmpadas so de fundamental importncia para o processo de cura UV.
Tambm requerem cuidados como limpeza e o giro de 180 para evitar que fiquem
abauladas. A escolha das lmpadas deve seguir pr-requisitos como tamanho,
relao custo/benefcio, vida til, procedncia, suporte ps-venda, confiabilidade,
configurao eltrica compatvel com o equipamento a ser utilizado alm de,
obviamente, apresentar um espectro de emisso dentro daquele que o
revestimento necessita para curar perfeitamente.
O tipo mais utilizado a lmpada de mdia presso de mercrio. Dentre os
tipos disponveis a que requer menor investimento alm de cobrir boa parte do
espectro UV. Outra lmpada muito utilizada a de mdia presso de mercrio
dopada com glio. Utiliza-se em casos onde o revestimento necessita boa
concentrao de energia em faixas superiores a 390nm, como por exemplo,
sistemas pigmentados ou de alta camada.
To importante quanto a limpeza e o giro de 180 observar se a lmpada
encontra-se focada, pois, somente dessa maneira, possvel aproveitar toda a
radiao UV que essa lmpada oferece, aumentando dessa forma a produtividade
do sistema e a relao custo/benefcio da produo alm de evitar desperdcio de
energia. Exemplos nas figuras 5 e 6 a seguir:
Figura 5: Esta a curva caracterstica de uma lmpada focada. Nota-se apenas um pico o que
indica concentrao de radiao em um determinado ponto. Verifica-se ainda uma intensidade de
750mW/cm aproximadamente.
Figura 6: Esta a curva caracterstica de uma lmpada fora de foco, nota-se pico duplo. Isto
significa que no existe radiao concentrada em um determinado ponto. Verifica-se ainda uma
intensidade de 350mW/cm, aproximadamente 53% menor que no caso da lmpada focada.
Radiometria
Para o perfeito funcionamento do sistema e obteno de resultados
satisfatrios se faz necessrio controlar o processo de cura. Mas como isto pode
ser medido ou controlado ? Como saber se a lmpada est emitindo energia
suficiente no comprimento de onda desejado ? Como medir a quantidade de
energia que o material recebe durante a exposio ? Como estabelecer um
parmetro de cura para diferentes substratos e fornecedores ? Como estabelecer
o setup ideal do equipamento ? Como otimizar o processo ?
GRAUNAGROUP IMP E EXP LTDA DIVISO ESPECIALIDADES QUMICAS
Av. Netuno, 29 Sala 10 Santana de Parnaba/SP 06541-015
Tel/Fax 11 4153 9283 www.graunagroup.com
sergio@graunagroup.com
Figura 7: A dose neste caso indicada pela rea das figuras. O valor da dose o mesmo para os
trs casos. Nota-se que a intensidade diferente indicando dessa maneira que a cura no se dar
da mesma forma, ou seja, mesma dose no significa mesma cura.
Figura 8: Agora podemos observar que a intensidade a mesma nos dois casos (2.200mW/cm),
porm o tempo de exposio diferente. No primeiro caso mediu-se uma linha 20m/min e
obteve-se uma dose de 452mJ/cm, no segundo caso mediu-se uma linha 5m/min e obteve-se
2.064mJ/cm. Ou seja, mesma intensidade no significa mesma cura.
Tabela 1: Notao a ser utilizada neste texto. Algumas literaturas no adotam o UVV e sim o UVA
longo que vai de 320nm 450nm mas, para facilitar o controle do processo de cura UV, a
notao apresentada nesta tabela a mais indicada.
GRAUNAGROUP IMP E EXP LTDA DIVISO ESPECIALIDADES QUMICAS
Av. Netuno, 29 Sala 10 Santana de Parnaba/SP 06541-015
Tel/Fax 11 4153 9283 www.graunagroup.com
sergio@graunagroup.com
10
Figura 11: Comparando apenas o UVA observa-se que a lmpada analisada, com 600 horas de
uso, apresenta uma eficincia maior que a lmpada nova o que no justificaria sua troca.
Figura 12: Analisando o UVV das lmpadas conclui-se que a troca deve ser feita uma vez que o
valor encontrado para a lmpada nova quase o dobro daquele encontrado na lmpada antiga.
11
12
Como Medir ?
O controle do processo de cura UV s se mostra eficiente quando se tem
um parmetro para comparao, ou seja, valores mnimos e mximos ideais para
a cura. Estes parmetros so conhecidos por janela de cura e, estabelecer essa
janela, o primeiro passo para um controle eficaz. De nada adianta utilizar o
radimetro quando no se tem uma referncia do que aceitvel ou no na linha
de produo.
A determinao da janela de cura de fundamental importncia, pois tendo
conhecimento dos limites do revestimento a ser curado evita-se filmes com tack ou
sem aderncia no caso de radiao deficiente ou ainda filmes amarelados e
quebradios no caso de exposio excessiva.
Para a criao desse parmetro recomenda-se utilizar lmpadas e
refletores novos. Os valores so determinados a partir da variao de velocidade
da esteira e potncia das lmpadas (baixa, mdia e alta). A cada variao deve-se
anotar os valores de dose e intensidade encontrados e tambm observar se as
condies do revestimento curado esto dentro do padro desejado. Aps esse
procedimento consegue-se determinar com preciso os valores ideais de cura de
um determinado revestimento. Exemplo na figura 13 a seguir:
13
Figura 14: Diferena entre os valores encontrados nas extremidades e no meio da lmpada. Por
isso a importncia de controlar esses pontos.
GRAUNAGROUP IMP E EXP LTDA DIVISO ESPECIALIDADES QUMICAS
Av. Netuno, 29 Sala 10 Santana de Parnaba/SP 06541-015
Tel/Fax 11 4153 9283 www.graunagroup.com
sergio@graunagroup.com
14
Tabela 4: Exemplo de planilha para controle do processo de cura UV. A produo deve ser iniciada
somente se os valores encontrados na medio estiverem de acordo com a janela de cura (coluna
Total Requerido).
Limitaes
muito comum o usurio comparar os resultados obtidos entre diferentes
radimetros. Vale ressaltar que sempre haver diferena nos valores encontrados.
Isso se deve basicamente diferena entre os filtros, sensibilidade ao calor e
tambm taxa de amostragem.
A diferena nos valores encontrados mais acentuada quando se compara
equipamentos de diferentes fabricantes mas, quando a comparao e feita entre
radimetros de mesma origem, a diferena no deve exceder 10% que a
preciso tpica desses equipamentos. Quando isso ocorre geralmente deve-se
calibrao vencida.
Essa diferena entre os valores encontrados tambm pode ser atribuda
aos filtros pticos. Ao analisar os resultados obtidos com diversos equipamentos
tem-se que considerar o espectro de absoro dos filtros. Um equipamento que
analisa somente o UVA por exemplo, vai apresentar um resultado diferente de
outro que analisa somente o UVB.
GRAUNAGROUP IMP E EXP LTDA DIVISO ESPECIALIDADES QUMICAS
Av. Netuno, 29 Sala 10 Santana de Parnaba/SP 06541-015
Tel/Fax 11 4153 9283 www.graunagroup.com
sergio@graunagroup.com
15
Cuidados na utilizao
O radimetro um equipamento de longa durabilidade desde que manuseado
corretamente. Para garantir seu perfeito funcionamento deve-se seguir as
recomendaes abaixo:
Evitar quedas ou batidas.
Sempre transportar na maleta ou estojo que acompanha o equipamento.
No limpar com produtos abrasivos ou gua.
Evitar contato dos dedos com o filtro ptico.
No passar o radimetro com o display voltado para as lmpadas, caso isso no
seja possvel proteger o display.
Manter o radimetro sempre calibrado para garantir repetibilidade de resultados
e segurana nos valores obtidos.
Limpar o filtro ptico somente quando necessrio, utilizar um pano macio ou
algodo para evitar riscos e evitar respingos de tinta e/ou verniz no filtro ptico (ver
figura 15 abaixo):
16
Referncias Bibliogrficas
STOWE, R. W.; The Thin Red Line Basic Radiometry: What to Buy and What to
Measure. Radtech Report, pp.53-54, July/August 2001.
RAYMONT, J.; UV Measurement and Process Control Keeping the UV Monkey
off your back. Presented at EIT Instrument Markets, Sterling, Virginia, USA, July
2nd, 2002.
YAMASAKI, M. C. R.; A Cura de Tintas, Vernizes e Revestimentos por Ultravioleta
e Feixe de Eltrons. IPEN/CNEN-SP; ATBCR, 1997
MEDEIROS, S.; Geral sobre Radiometria. Presented at Feitintas 2004, September
16, 2004; Latincoat 2004, November 11, 2004, Abrafati 2005, September 14-16,
2005 and RadTech South America, November 22, 2006 So Paulo, Brazil.
MEDEIROS, S.; Artigo Radiometria Bsica. Revista Empresrio Serigrfico, #21,
pp. 12-13, November/December, 2003 and Revista Tintas & Vernizes, #213, pp.
61-62, June/July, 2004.
EFSEN, K.; RAYMONT J.; Radiometry as a tool: Trouble-shooting Production
Problems in a Kitchen Cabinet Manufacturing Plant. Radtech Report, pp. 29-34,
May/June 2003.
17