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materiales
Difraccin de rayos X
Ley de Bragg,
Clculo de parmetros de red
Microscopa ptica
Microestructura
Tamao de grano
Microscopa electrnica
SEM (Scanning Electron Microscopy)
TEM (Transmission Electron Microscopy)
Difraccin de Rayos X
Espectro electromagntico
Frecuencia Hz
Produccin de rayos X
ionizacin
L
N n=4
M n=3
L
n=2
n=1
Fenmeno de la difraccin
Dispersin
Onda 1
Interferencia
constructiva
Amplitud
Onda 1
Onda 2
Onda 2
Interferencia
destructiva
Onda 3
Onda 3
Distancia
extra
recorrida
por la onda 2
Distancia
entre
Planos (dhkl)
Ley de Bragg:
2 d Sen = n
La distancia entre dos planos atmicos paralelos adyacentes es funcin de los ndices
de Miller y del parmetro de red.
Para una estructura cbica:
Intensidad
Metalurgia de polvos
n
d=
2 sin c
Rayos-X
(del
detector)
c
La ley de Bragg es una condicin necesaria pero no suficiente para la difraccin de cristales
reales.
Especifica cundo ocurrir la difraccin para celdas que tienen tomos posicionados en los
vrtices.
Sin embargo, tomos situados en otras posiciones (como en la FCC o BCC) actan como
otros centros de dispersin que producen dispersin fuera de fase de a ciertos ngulos de
Bragg. El resultado es la ausencia de ciertos picos que de acuerdo con la ley de Bragg
deberan estar presentes.
Para que ocurra difraccin en una estructura BCC h + k + l debe ser par
FCC h, k, l deben ser todos pares o todos
impares
Intensidad (relativa)
c
a
x
c
b
y (110)
a
x
c
b
a
x (211)
(200)
ngulo de Difraccin 2
Difractmetro
Aparato para determinar
los ngulos a los cuales
se presenta el fenmeno
de la difraccin en la
muestra
Emisor
monocromtico
Detector
Ejemplo:
Calcule la distancia entre planos (220) y el ngulo de difraccin para el
hierro BBC. El parmetro de red para el hierro es 0.2866 nm. Tambin
asuma que la radiacin monocromtica tiene una longitud de onda de
0.1790 nm y que el orden de reflexin es 1.
n= Orden de reflexin
= Longitud de onda
a= Parmetro de red
hhkl= Distancia entre planos
= ngulo de difraccin
d hkl =
Intensidad
(del
detector)
0.2866nm
h +k +l
2 +2 +0
(1)(0.1790)
n
sin =
2d hkl
n = 2 dhkl sin c
Rayos-X
2(0.1013)
= 0.1013nm
Ejercicios
3.60 .El rodio tiene una estructura cristalina FCC. Si el ngulo de difraccin
para el conjunto de planos (311) esta a los 36.12 (para una reflexin de
primer orden) y una radiacin monocromtica con una longitud de onda de
onda de 0.0711 nm. Calcule lo siguiente:
a) La distancia entre planos para el conjunto de planos dado.
b) El radio atmico del rodio
Ejercicios
3.65 En la figura se muestran los primeros 5 picos de difraccin para el tungsteno
que tiene una estructura cristalina BCC. Se utiliza una radiacin monocromtica
cuya longitud de onda es 0.1542 nm. Determine:
a) Los planos hkl para cada uno de los picos
b) La distancia entre planos para cada uno de los picos
c) Para cada pico determine el radio atmico del Tungsteno
Microscopa
ptica
Electrnica
Barrido
Transmisin
Fuerza atmica
Estudio Microscpico
Cristalitas, (cristales, granos) y Fronteras de grano. Cambian
considerablemente en tamao. Pueden ser muy grandes
ej: Monocristal grande de cuarzo o diamante o Si
ej: Granos individuales: Barra de Aluminio o bote de basura
Cristales (granos) pueden ser muy pequeos (mm o menos)
Necesarios para observarlos con el microscopio
Resolucin de la Microscopa
Resolucin ptica. 10-7 m = 0.1 m = 100 nm
Para mayor resolucin se necesita mayor frecuencia
Rayos X.
Electrones
Longitud de onda 3 pm (0.003 nm)
(Magnificacin - 1,000,000X)
Microscopa ptica
Luz Polarizada
Anlisis metalogrficos a menudo utilizan luz polarizada para
incrementar el contraste
Tambin se emplea en muestras trasparentes como algunos
polmeros
Microscopa ptica
til hasta una magnificacin de 2000X
Pulido remueve las irregularidades de la superficie (e.g., rayas)
Ataque qumico cambia la reflexin, dependiendo de la orientacin
del cristal
Planos cristalogrficos
Micrografa del
Latn (Cu-Zn)
0.75mm
Microscopa ptica
Fronteras de Grano
son imperfecciones,
son ms susceptibles
al ataque,
Se revelan como lneas
obscuras,
cambio en la orientacin
del cristal de frontera a
frontera.
Superficie pulida
(a)
Ranura en la superficie
Frontera de grano
Tamao de
Grano ASTM
N = 2n-1
Fe-Cr alloy
(b)
nmero de granos/in2
Magnificacin de 100x
Ejercicio
Determine el tamao de grano bajo la norma ASTM para un espcimen
metlico cuya metalografa se muestra en la imagen. Y para este misma
muestra determine cuantos granos por pulgada cuadrada deben haber a 85X
log N = (n 1) log 2
N=Nmero de granos por pulgada cuadrada
n=Tamao de grano ASTM
log10 N
+1 = n
log10 2
Para una magnificacin distinta de 100X
2
100 X
1 pulgada
M
n 1
NM
=2
100
NM =Nmero de granos por pulgada cuadrada a
X magnificacin
M= Magnificacin
n=Tamao de grano ASTM
Microscopa electrnica
M. electrnica
Transmisin
Max Knoll and Ernst
Ruska en Alemania
1931
Barrido
1938 ( Von Ardenne)
Los
Emisores
Filamento
Emisores
Emisin
de campo
Filamento
Punta de emisin
Electrones
secundarios
Muestra
Vlumen de interaccin
Haz de electrones
Auger
Secundarios
Retrodispersados
Rayos X
5 kV
1 kV
15 kV
Detectores
Para reconstruir la imagen de MEB, se debe de utilizar el detector adecuado y as
convertir la radiacin que sale de la muestra en una seal elctrica apropiada de tal
forma que se pueda reconstruir una imagen para mostrarla en pantalla.
EDS
Secundarios
Retrodispersados
Detector
Electrones
retordispersados
Preparacin de muestras
Cinta doble cara (carbono o cobre)
Recubrir muestras no conductoras
Cada material tiene sus particularidades en
la preparacin
Para MEB
Sn-Zn
Fractura
Fibras de Asbesto
Mosca
Microscopa de transmisin
Emisor
Cmara
de
vaco
Ctodo
nodo
Arreglo espacial
Cristalografa
Lente
condensador
Lentes
objetivas
Muestra
Imagen
intermedia
Lente
de proyeccin
Imagen
final
Pantalla
fluorescente
Emisor
Haz de
electrones
E. Auger
E. secundarios
E. Absorbidos
E. difractados
Electrones
Transmitidos
Detector
Muestra
espesores
mnimos
Esfera de Ewald
Ley de Bragg
O
ko
2 d Sen = n
O
k
d= distancia interplanar
=longitud de onda
O rhkl
R= distancia entre El
haz mas intenso (haz
trasmitido) y cualquier
otro punto del patrn
O
Pantalla fluorescente
Tan 2 =R/L
2d=n
R
2 =R/L
R/L d =
R d = L
Constante
De cmara
Ejercicio
Voltaje de
aceleracin (kV)
Longitud de onda
(relativista) nm
Masa
X m0
Velocidad
C x 108 m/s
100
0.00370
1.196
1.644
120
0.00335
1.235
1.759
200
0.00251
1.391
2.086
R1
1.41 cm
R2
1.63 cm
R3
2.33 cm
R4
2.71cm
R5
2.83 cm
dhkl R= L
R3
R5
R4
R2
R1
Fichas JCPDS
indexado
220
R3
111
-111
R1
200
-200
R2
000
R4
-1-1-1
1-1-1
-2-20
En la MFA se emplea una viga flexible en voladizo (cantilever) que tiene, en su extremo libre, una
punta del orden de nanmetros. La viga tiene una constante de resorte del orden de 1 N/m y
cuando la punta se acerca lo suficiente a la superficie de un material comienza una interaccin
entre la punta y la superficie debida a las fuerzas de atraccin y repulsin. La fuerza de
interaccin entre la punta y la superficie de la muestra ocasiona pequeas deflexiones de la viga
siguiendo la ley de Hooke. Estas deflexiones son detectadas empleando distintos modos. Dentro
de los mas importantes tenemos el modo de contacto y el modo de no contacto
Puntas
Modos de operacin
Topografa
Contacto
En este modo la fuerza entre la muestra y la punta
es constante y provoca una deflexin muy pequea
y homognea al presionar la punta contra la
muestra. La fuerza aplicada es del orden de las
fuerzas interatmicas.
No contacto
Cuando se incrementa la separacin entre la punta
y la superficie de la muestra (10-100 nm)
nicamente se encuentran presentes fuerzas de
interaccin de largo alcance (fuerzas de Van Der
Waals, electrostticas y magnticas).
Contacto intermitente
Fuerza aplicada
10-7 a 10-9
Superfcie suave
Perfilometra
Identificacin de fases
Fuerza aplicada
10-9 a 10-13
Fuerza aplicada
10-9 a 10-10 N
Sensibilidad de AFM
Fuerza:
Desplazamiento:
Resolucin en el tiempo:
rea de contacto:
10-14N (picoNewtons!)
0.01nm (0.1 Angstroms)
Milisegundos - segundos
10 nm2