8vo CONGRESO INTERNACIONAL DE INGENIERA

ELECTROMECNICA Y DE SISTEMAS (CIIES 2016)

ARTCULO No. IM-63

ARTCULO

Estimacin de coeficientes fotoelsticos mediante un

interfermetro de Michelson
(Estimating photo-elastic coefficients using a Michelson
interferometer)
M. A. Hernndez Acosta1*; A. J. Pia-Daz1**; C. R. Torres-San Miguel1***,
Resumen.- En este trabajo se ha desarrollado un mtodo
diferente a los utilizados para medir los coeficientes fotoelsticos
experimentalmente.
El
mtodo
propuesto
combina
interferometra, usando un interfermetro de Michelson y la
tcnica de flexin en cuatro puntos para vigas, para una muestra
de vidrio de aluminosilicato. El diseo del interfermetro, los
procedimientos de medicin y el anlisis para el procesamiento de
los datos experimentales, tuvo xito y una alta precisin para la
medicin de los coeficientes fotoelsticos, presentando errores del
0.07%, confirmando el buen desempeo de la instrumentacin y el
mtodo.

El estudio de la interaccin acstico-ptica tiene un campo de

aplicacin muy grande que va desde el estudio de cristales para
su aplicacin en fotnica, como el uso de fibras pticas,
sensores de fibras pticas, moduladores fotoelsticos,
moduladores acstico-pticos. Hasta el estudio de las
propiedades elasto-plsticas en soldaduras. Se ha estudiado la
variacin de la birrefringencia en cristales de K2SO4 debido a
tensiones uniaxiales en relacin a su dispersin y temperatura
[2], as como su influencia en las variaciones espontneas en las
constantes piezoelctricas-pticas [3]. Estudios experimentales
determinan los coeficientes piezo-pticos en cristales de
CaWO4 y LiNbo 3, mostrando que este cristal es un material
prometedor acstico-ptico con una buena modulacin
fotoelstica [4-5]. Hoy en da se investigan los coeficientes
elasto-pticos en materiales multiferroicos como el BiFeO3 o
el PbTiO3, con la finalidad de ampliar el potencial de estos
materiales hacia el campo de la fotnica y dispositivos acsticopticos de pelcula fina [6]. Adems, se han investigado las
notables propiedades multifuncionales en el BiFeO3.
Actualmente se investiga sobre el efecto ptico-acstico
aplicado a las fibras pticas [7]. Cabe mencionar los trabajos
realizados por compaeros de la seccin de SEPI-ZAC, donde
se usaron tcnicas interferomtricas, desarrollaron trabajos
como la medicin de propiedades mecnicas en nanotubos de
carbono [8]. As como la evaluacin de los daos en estructuras
y sistemas donde intervienen procesos de ablacin por lser [9].
Una tcnica comn para la obtencin de los coeficientes
fotolasticos y elasto-pticos es mediante el uso de microscopia
para el estudio de su la estructura atmica, sin embargo estos
mtodos requieren el uso de equipos costosos. Es por esto que
en este trabajo se utiliza un mtodo interfermetrico, siendo
este una tcnica poco costosa y de fcil de montaje. Obteniendo
un mtodo efectivo de bajo costo. En este trabajo se analiz el
cambio en el patrn de interferencia para de un cristal de
silicatoaluminio, sometido a carga de 3.232 N (carga
transversal al haz lser sobre la muestra), mediante una
configuracin de viga en 4 puntos, para obtener los coeficientes
fotoelsticos en este. Un mtodo que permite analizar de
manera eficiente este comportamiento es el uso de
interfermetros, los cuales permiten estudiar el patrn de
interferencia formado entre la muestra y los haces del lser.

Palabras Clave.Interfermetro de Michelson, franjas de

interferencia, coeficientes fotoelsticos, viga en 4 puntos.
Abstract. - In this paper has developed a different method to
those used to measure the photoelastic coefficients experimentally.
The proposed method combines interferometry using a Michelson
interferometer and the technique of four point bending for beams,
for a sample of aluminosilicate glass. The design of the
interferometer, measurement procedures and experimental data
processing method proved successful and accuracy for measuring
the photoelastic coefficie nts, presenting low experimental errors of
the a 7%, confirming the good performance of instrumentation
and method.
Keywords. - Michelson interferometer, interference fringes, photoelastic coefficients, four point beam.

I. INTRODUCCIN

l efecto elasto-ptico (tambin llamado interaccin

acstico-ptica) se define como un cambio en el ndice de
refraccin de un material causado por un cambio geomtrico
debido a una perturbacin mecnica. Este efecto fue
descubierto a partir de la invencin del lser. La interaccin
acstico-ptica entre las ondas elsticas en la materia y las
ondas de luz fueron investigadas desde 1922 por Brillouin. Este
descubri que los haces de las ondas elsticas estn constituidos
por el cambio rpido del haz de luz, intensidad, direccin y
frecuencia. Convirtiendo a los haces de luz en una prueba ideal
para la medicin de caractersticas entre las ondas elsticas y un
slido, para poder determinar su homogeneidad y los patrones
de atenuacin y radiacin [1].
1 Seccin

de Estudios de Posgrado e Investigacin, ESIMEZAC, Instituto Politcnico Nacional, Mxico, Ciudad de

Mxico, C.P. 07738.
*marco.esime@hotmail.com
**armpi07@hotmail.com
***napor@hotmail.com
Mxico D.F., 17 al 21 de octubre 2016

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1
1 = 1 = ( 31 11 )1,
2

II. MATERIALES Y MTODOS

Siguiendo la configuracin establecida por Michelson se
posicionaron los espejos M1 y M2, a una distancia de 80 mm
uno del otro en relacin al espejo semitransparente Ms y
situando el haz lser de manera perpendicular a la cara del
espejo M2 (figura 1). Una vez montado el interfermetro se
procedi a probar el funcionamiento de este (figura 1). Para esto
primeramente fue necesario ajustar el espejo Ms, para alinear
los dos haces reflejados en los espejos M 1 y M2 hacia el lente
de aumento.

1
2 = __ 1 = ( 31 12 )1 3
2
Donde Kll y K_l_ son los coeficientes foroelasticos, 11 y 12 los
coeficientes piezoelctricos. Los coeficientes Kll y 11 pueden
derivarse cuando se trata con una polarizacin de entrada
horizontal, y los coeficientes K_l_ y 12 en polarizacin vertical.
Un cambio en el grosor de la muestra se puede expresar como:

= 1
4

- Descripcin del experimento

En este trabajo se utiliza un interfermetro de michelson
equipado con una cmara Full hd, para grabar el patrn de
interferencia producido por la deformacin de la mustra de
vidrio. (figura 1). Un lser que emite una luz polarizada (con
una longitud de onda = 660 nm y una potencia de 100 mW),
que pasa a travs de un polarizador circular. Las rotaciones de
este polarizado, se utiliza para cambiar entre la polarizacin
horizontal y vertical (S y P), dividiendo el haz en 2 canales. Un
divisor de haz, divide el haz lser en dos haces. Uno de los haces
generados por el divisor de haz, genera un haz de sondeo el cual
se propaga a travs de una muestra. Sobre la muestra se aplican
cargas transversales al haz de luz del lser, formando una viga
en 4 puntos. Los haces se reflejan por los espejos, tanto el haz
de sondeo como el haz de referencia se superponen en el divisor
de haz, formando un nico haz. Un lente de aumento construye
una imagen de la muestra la cual incidir sobre una pantalla, la
cual permite observar el patrn de interferencia formado.
Finalmente se usa una cmara de video para grabar los cambios
en el patrn de interferencia, causados por la deformacin de la
muestra. La cmara usada fue una cmara GoPro Hero4, la
cual tiene una calidad de video de, 12 MP a una velocidad
sorprendente de 30 fotogramas por segundo. El video obtenido
fue procesado mediante un programa computacional de anlisis
de movimiento. Esto se hizo con el fin de observar el efecto
producido por el fenmeno de interferencia, al doblar de
manera ligera una muestra de vidrio de silicatoaluminio, con
dimensiones (100 mm x 100 mm x 3 mm), produciendo un
cambio en el ndice de refraccin del material, causando a su
vez una variacin en la respuesta en el patrn de interferencia.

Figura 1.- Configuracin del interfermetro.

Se puede reducir a la forma.
2
[() + ( 1)]
=

Al combinar las ecuaciones 3, 4 y 5.

2 1 3

2
[ 1 11 ( 1)] 1 =
1 1

2 1 3

2
2 =
[ 1 12 ( 1)] 1 =
2 1 6

1 =

- Anlisis de franjas de interferencia

Para el anlisis de las franjas de interferencia se tom como
punto de origen una de las franjas de interferencia de las
observadas en la pantalla del interfermetro antes de deformar
la placa de acrlico y el vidrio con un espesor de 3 mm cada
uno. A continuacin se calibraron las distancias entre una lnea
y otra, debido a que el lser usado tiene una longitud de onda
de 630 nm se toma esta medida como la calibracin entre 2
franjas. Donde 630 sera el valor asignado para un pase completo
de franja M. Como siguiente punto se deform la placa, para
medir el desplazamiento de la franja de interferencia
seleccionada como punto de origen

- Obtenci n de la di ferenci a de fase pti ca

La diferencia de fase ptica se puede obtener a partir de las
distancias de los brazos del interfermetro y est definida por:
2
=
(2 1)
1

Donde b es el grueso de la muestra y n2 y n1 son los ndices de

refraccin del medio y de la muestra respectivamente. Siendo
n1=1. El incremento en la diferencia de fase se obtiene:
2
[( + ) + ( 1)] 2
=

Donde n es el incremento en el ndice de refraccin debido al

efecto piezoelctrico, y b es la elongacin de Poisson.

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Al Procesar, tabular y graficar los datos obtenidos, despus de

deformar las placas, se definen las distancias recorridas en la
franja de referencia propuesta. Para esto se usa le siguiente
ecuacin:

=
7
2
Dnde: d es la distancia recorrida por la franja de referencia y
N el nmero de franjas que van pasando por un punto fijo de la
pantalla, la longitud de onda. Por lo que N ser igual a:

=
8

III. RESULTADOS

- Anlisis del patrn en franjas de interferencia

En las grfica 2 se muestran las deformaciones obtenidas
despus de deformar las muestras de acrlico, a partir del
anlisis de las franjas de interferencia (figura 4 y 5).
Dezplazamiento en coordenada X, pixeles

6.20E+02

Dnde: Dfr es la distancia recorrida por la franja de

referencia despus de deformar las placas y Dc es la
distancia de calibracin, Dc = 660.
En la figura 2 se muestra el desplazamiento de la franja de
referencia, despus de deformar la placa. Las reas
seleccionadas en la figura 2.A corresponden a la regin bajo
anlisis.
A)

B)

6.10E+02
6.00E+02
5.90E+02

5.80E+02
5.70E+02
5.60E+02
5.50E+02

5.40E+02
5.30E+02
5.20E+02
0.00E+00 1.00E+00 2.00E+00 3.00E+00 4.00E+00 5.00E+00

Tiempo, segundos

Figura 4.- Medicin de desplazamiento de las franjas de

interferencia en una muestra de vidrio de 6 mm.
La muestra se coloc de manera transversal al eje de
transmisin del haz lser (quedando perpendicular al haz). Para
el vidrio de silicatoaluminio su mdulo de Yong E= 70 GPa,
relacin de Poisson =0.3 y densidad = 2490 Kg/m 3 (el vidrio
se puede considerar pticamente, como una aproximacin de un
material isotrpico). Tomando las ecuaciones 7 y 8 se
determina la elongacin sufrida por el material.
590
=
= 0.9365
630
9
(660 10 )(0.9365)
=
= 3.0905 107
2
Con las ecuaciones 9 y 10 se determin la deformacin unitaria
y el esfuerzo mximo en la muestra.

Figura 2.- (A) Patrn de franjas tpico obtenido; (B) Patrn de

franjas con muestra cargada.

- Mtodo de flexin a cuatro puntos

Un dibujo esquemtico que aclara la aplicacin de fuerzas en el
marco de este mtodo se muestra en la figura 3. Donde P es la
de carga, h y b la altura de la muestra y la profundidad,
respectivamente, a es la distancia entre los planos en que las
fuerzas actan.

3.0905 107
=
=
= 3.0905 106

0.1

1 = (3.0905 10 6 ) (70109 ) = 21.6333

Figura 3.- Vista esquemtica de la muestra geomtrica con

cargada, de acuerdo a la tcnica de flexin por 4 puntos.

El nmero asociado de franjas al movimiento de franjas

N= 0.9365 (figura 4), y la distancia recorrida es de 3.0905x10-7
m. Siendo la deformacin unitario obtenida = 3.0905x10-6.
Con un esfuerzo max = 21.633 KPa. La carga P ejercida por los
dedos en la placa de acrlico es de P= 3.232 N. Cabe mencionar
que los esfuerzos ejercidos sobre la muestra estn dentro del
rango del lmite de cedencia para un cristal de aluminio silicato.
Siendo el esfuerzo mximo obtenido de max = 21.633 KPa, en
comparacin a su lmite de cedencia de 70 GPa.

Para poder obtener el esfuerzo 1 (causado por los dedos) en

las placas. Se relacion la distancia obtenida de la ecuacin 10
con la elongacin sufrida en el material.
= =
9
Dnde: e es la elongacin sufrida en la placa deformada, es
la deformacin unitaria y L es la longitud de la placa. Para
obtener el esfuerzo 1, se utiliza la ley de Hooke:
1 =
10
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El procesamiento de los patrones de franjas comienza con la

seleccin de una regin de la imagen de la muestra (figura 5.A),
que se utiliza para el clculo de los datos apropiados. Los datos
de intensidad I para la primera fila de la regin seleccionada
est definido por una funcin sinusoidal, con una amplitud A,
perodo de w y una position extrema xm.

Despus los coeficientes fotoelsticos Kll y K_L se pueden

derivar a partir:

= 1 + ( 1) ; _ = 2 ( 1)
14

Por lo cual:
= . =
_ = . = .
El coeficiente ptico de resistencia K = Kll - K_L es un

2
( ))
11

Donde C es el nivel medio de intensidad. Se utilizan los

parmetros w y xm , obtenidos a partir del procedimiento de
ajuste en el clculo de la diferencia de fase ptica . Este valor
se calcula para un determinado xc de coordenadas.
2
( )
=
12

En este trabajo se eligi que la coordenada xc se encontrara
exactamente en el centro de la regin seleccionada (xc = 475
pxeles). El procedimiento se repite para cada fila de la regin
seleccionada y la dependencia de en la coordenada y es
obtenida. Calculando la dependencia en la coordenada y de
(y), para la muestra sin carga 10(y), y con carga 11(y).
Finalmente se obtienen las coordenadas de dependencia del
incremento de la diferencia de fase, (y) = 11(y) - 10(y).
Obteniendo la dependencia (y) mediante una funcin lineal
(y) = Ay + B, se pueden calcular los coeficientes
fotoelsticos efectivos.
= + (

parmetro estndar. Una vez calculados los coeficientes

fotoelsticos Kll y K_L, se clacula el coeficiente ptico de
resistencia K, para las dos configuraciones del
interfermetro. Siendo K = Kll - KL. Teniendo un valor de
K= 2.768 B. Los valores obtenidos para los coeficientes
Kll y K_L y K son en las unidades de Brewster (1 B = 10-12
Pa-1). En este trabajo tanto velocidad (frecuencia), as como la
temperatura generada por el haz lser. No afectan las
propiedades fsicas de la muestra. Esto debido a que se trabaj
con un lser de baja frecuencia y una potencia de 100 mW.
IV. CONCLUSIONES
En este trabajo se ha desarrollado un mtodo diferente a los
usados para medir los coeficientes fotoelsticos de manera
econmica y de fcil montaje. La tcnica usada combina la
interferometra por medio de un interfermetro de Michelson,
con la tcnica de cuatro puntos de flexin de una muestra de
vidrio de aluminiosilicato, con un coeficiente fotoelastico K de
2.77 B [12]. Los valores obtenidos para los coeficientes Kll y
K_L y K presentan en la Tabla 1, para ser comparados con datos
de referencia. AL comparar los resultados en relacin a los
datos de referencia se comprueba que estos estn dentro de los
intervalos de confianza para todos los coeficientes medidos
experimentalmente. Es importante que el error relativo para el
coeficiente ptico de resistencia K no exceda el 3%. El diseo
del interfermetro, los procedimientos de medicin y
procesamiento de datos experimental comprueban el xito del
mtodo, as como su precisin para la medicin de los
coeficientes fotoelsticos, con bajos errores experimentales
confirmando el buen desempeo de la instrumentacin.

, grados

Ecuacin: y = B*x + A
100
90
80
70
60
50
40
30
20
10
0
-1.6 -1.2 -0.8 -0.4
-10 -2
-20
-30
-40
-50
-60
-70
y = -18.944x - 71.173
-80
-90
R = 0.9921
-100
-110
(y)_vertical
Lineal ((y)_vertical )

y = -54.86x - 23.194
R = 0.9931
0

Y, pixeles

0.4

0.8

1.2

1.6

(y)_horizontal
Lineal ((y)_horizontal )

Tabla 1.- Coeficientes fotoelsticos del vidrio estndar,

calculadas con base en los experimentos y obtenidos.

(y)_vertical (S); A = -23.194; B = -54.86 x

(y)_horizontal (P); A = -71.173; B = -18.994 x

Coeficientes
fotoelsticos

Figura 5.- Coordenadas del incremento de la dependencia en

relacin a las diferencias de fase (y).
1 =

3
3
1 ; 2 =

12
12 2

Kll
K_L
K

13

Dnde: A1 y A2 son valores obtenidos a partir de las

coordenadas del incremento de la dependencia de la diferencia
de fase (y) (figura 5). Siendo A1 el valor obtenido de la
polarizacin vertical y A2 el valor obtenido de la polarizacin
horizontal. Por lo cual:

= .

= .
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Datos

Referencia

Unidades en Brewsters
3B
0.232 B
2.768 B
2.77 B [10]

Error
%

0.07 %

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V. AGRADECIMIENTOS
Los autores agradecen al Instituto Politcnico Nacional, a la
Seccin de estudios de Estudios de Posgrado e Investigacin de
la Escuela Superior de Ingeniera Mecnica y Elctrica Unidad
Zacatenco, al Consejo Nacional de Ciencia y Tecnologa y al
Instituto de Ciencia y Tecnologa del Distrito Federal por el
apoyo brindado.

VI. REFERENCIAS
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Gulf Professional Publishing, 1994.
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Gaba VM. Piezo-optic properties of K2SO4 crystals.
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laser
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ablation conditions, Journal of Physics, 2011.
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Mxico D.F., 17 al 21 de octubre 2016