Escuela Superior Politcnica Del Litoral

Facultad De Ingeniera En Electricidad y

Computacin

Construcciones Electrnicas

Proyecto

Perfeccionamiento de proceso
fotolitogrfico, revelado por splash (Na2CO3)
y grabado de cobre (FeCl3)

Integrantes: Gaston Grijalva

Jorge Jaramillo
Xavier Merino
Vicente Arauz

Paralelo #1
Prof.: Mg. Luis Centeno
2017-2018
 Resumen ii

Las finalidad de este proyecto es evaluar y determinar los parmetros y condiciones

ptimas para el desarrollo de microestructuras con pistas a 1thou (th) con un perfecto acabado
pasando por una buena preparacin del material una excelente laminacin y exposicin del
material fotosensible para su posterior sobrevivencia al revelado y gravado de cobre.

Abstract

The he purpose of this project is to evaluate and determine the optimum parameters and
conditions for the development of microstructures with 1thou (th) tracks with a perfect finish
through a good preparation of the material, excellent lamination and exposure of the photosensitive
material and a successful development And engraved copper.

Tabla de Contenidos

Introduccin .................................................................................................................................... 1
Ejecucin y descripcin del proyecto ............................................................................................. 2
Presentacin de resultados .............................................................................................................. 4
Tabla de resultados(revelado): ................................................................................................ 4
Tabla de resultados (grabado): ................................................................................................ 5
Conclusiones y Recomendaciones .................................................................................................. 6
Lista de referencias ......................................................................................................................... 7
Apndice ......................................................................................................................................... 8
 1

Introduccin

El proyecto se dio a lugar en el laboratorio de circuitos impresos, donde al inicio se

dio mucho nfasis en la buena preparacin del material a usarse para de esta manera

optimizar los resultados, se opt por realizar una secuencia de preparacin donde la placa

pasaba por un proceso mecnico-qumico-mecnico dndonos como resultado una perfecta

laminacin y exposicin del material. Los procesos principales involucrados en nuestro

proyecto se encuentran el de revelado de la pelcula fotosensible con carbonato de sodio

(Na2CO3) y grabado del cobre tambin llamado etching con cloruro frrico (FeCl 3). Se

cont con la supervisin del docente tcnico el Ingeniero En Electrnica y

Telecomunicaciones Luis Daniel Montaleza Ortiz.

Mediante la experimentacin se determin que para un perfecto revelado y grabado

se deba considerar ciertos parmetros.

Para el proceso de revelado se determin como parmetros principales la

concentracin del carbonato de sodio (Na2CO3) al 1%, su temperatura a 30 C y un tiempo

de sometimiento a revelado mediante splash de 3min.

Para el proceso de grabado de cobre por splash (etching) se consider los

parmetros de concentracin del cloruro frrico (FeCl3) al 30%, temperatura de 60 C y un

tiempo de sometimiento a splash de 1.5min.

 2

Ejecucin y descripcin del proyecto

Para el desarrollo del proyecto se tuvo en consideracin los mltiples factores que

minimizaran nuestros resultados, comenzando por imperfecciones en la superficie del

material, una mal adherencia de la pelcula fotosensible, la incorrecta exposicin a la luz y

el tiempo a someterse en splash el material tanto en el revelado como en el grabado.

Tomando en cuenta esto a continuacin se detallar pasos para solucionar y perfeccionar

el proceso del desarrollo de una microestructura de cobre.

Preparacin de Superficie

Es aconsejable tener en cuenta en los pequeos cambios en una superficie produce

grandes cambios en los resultados, la constante limpieza y correcta manipulacin una vez

que ha pasado por procesos de remocin de residuos ayudan a que estos inconvenientes

sean minimizados e incluso suprimidos, para esto es recomendable que la superficie pase

por un proceso mecanico-quimico-mecanico el cual ser descrito posteriormente (anexos).

Generacin de un fotolito negativo

Es necesario de prescindir de una excelente calidad en la generacin de dicho

fotolito, debido a que una mayor resolucin en esta mscara (film) limitara la cantidad de

luz que atravesara y quedara impregnada en nuestro diseo a implementarse, el tiempo

estimado para una buena resolucin se encuentra entre los 20 y 30seg.

Laminado
 3

Es uno de los procesos ms importantes donde la manipulacin del equipo y el buen

uso del material pueden ser decisivos, se recomienda lograr una perfecta tensin del rodillo

con el material fotosensible y mantener los rodillos a una temperatura constante cerca de

los 92 C.

Exposicin al vaco

Debemos asegurarnos que no existan burbujas de aire entre la mscara (film) y la

superficie foto sensibilizada del material, una buena exposicin asegura que la imagen

latente se forme de manera correcta por accin de la luz sin polimerizar material extra

perdiendo as resolucin.

Durante el proyecto se realiz pruebas variando el tiempo, temperatura y

concentracin para de esta manera crear un margen el cual achicando para concluir en

parmetros ptimos.

Para el proceso de exposicin se vari el tiempo de exposicin del material

fotosensible en un rango de 2 a 4 min el cual nos llev a un nuevo margen dentro de los 30

a 120 seg.

Para el proceso de revelado con carbonato de sodio (Na2CO3) se vari temperatura,

tiempo, concentracin dndonos como resultado una temperatura de 30 C concentracin

de 1% y un tiempo de 3min.

Para el proceso de grabado en cobre se us una concentracin del 30% de la

concentracin, temperatura a 60 grados C y en un tiempo de 1 a 1.5 minutos para

resultados satisfactorios.
 4

Presentacin de resultados

Tabla de resultados(revelado):

A continuacin, se presenta una tabla donde se muestra supervivencia, temperatura,

tiempo y movimiento de cada una de las muestras realizadas para este proceso.

Revel ado (Na2CO3)

#
Supervivencia Temperatura Tiempo Concentracion Exposicin al
muestra
[pistas (p)/th] [C] [min:seg] [%] vaco [min:seg]
1 30 3:15 1 3
2 30 3:10 1 2
3 30 3:00 1 0:30
4
5
6
7
8
9
10
11
12
13
14
15
16
17
18
19
20
21
22
Muestra 1
 5

Muestra 2

Muestra 3

Tabla de resultados (Etching)

 6

A continuacin, se presenta una tabla donde se muestra supervivencia, temperatura

y tiempo de cada una de las muestras realizadas para este proceso. Adems, los resultados

que arrojan cada muestra.

Etching (FeCl3)
#
muestra Supervivencia Temperatura Tiempo Concentracin Continuidad Aislamiento
[pistas (p)/th] [C] [m:s] [%]
1 60
2 60
3 60 2 30 SI SI
4
5
6
7
8
9
10
11
12
13
14
15
16
17
18
19
20
21
22
23
24
25
26
27
28
29
30

Conclusiones y Recomendaciones
 7

Aun no culminamos el proyecto

Lista de referencias

Seminario Todo.pdf

Anexos

Preparacin de material, proceso mecanico-quimico-mecanico

 8

Apndice

CANAL DE YOUTUBE DONDE ESTA SUBIDO LAS MUESTRAS

https://www.youtube.com/channel/UC-6RuSkVlkqRQpV2l-7f3ag