P220157 - FELIPE - 28-04-16 - 17 Horas Et 9

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Relatrio Descritivo da Patente de Inveno para:

COMPOSIO DE RESINA COM BASE EM POLISTER, E CORPO MOLDADO
USANDO A COMPOSIO DE RESINA."
CAMPO TCNICO
[01] A presente inveno refere-se a uma composio de resina
com base em polister e um artigo moldado usando a composio de
resina.
TCNICA ANTECEDENTE
[02] Polmeros obtidos usando um cido dicarboxlico aromtico
e um composto dial aliftico aliftico diol composto como monmeros,
por exemplo, polisteres tipificados por tereftalato de polietileno (PET)
e outros so excelentes em tranparncia, propriedades mecnicas,
melt stability, reteno de sabor, reciclabilidade, etc. Deste modo,
atualmente, tais polmeros so amplamente utilizados como vrios
materiais de envoltrios/acondicionantes tais como pelculas, folhas,
recipientes ocos, etc.
[03] No entanto, uma vez que polisteres no so sempre
suficientes em questo de desempenho como barreira aos gases
contra oxignio are not always sufficient in point of desempenho de
barreira aos gases against oxygen, dixido de carbono e similar, o uso
de polisteres como recipientes de empacotamento limitado.
[04] Foram empregados alguns mtodos para melhorar o
desempenho dos polisteres como barreira aos gases. Um mtodo
inclui o revestimento de um artigo moldado One method includes
coating um artigo moldado e um recipiente de embalagem feito de
polister com xido de alumnio ou dixido de silcio atravs de
deposio de vapor. Outro mtodo inclui revestir um artigo moldado e
um recipiente de embalagem feito de polister com uma resina que
tem desempenho de barreira aos gases mais elevada do que a do
polister. No entanto, tais mtodos de revestimento apresentam
problemas, tais como a adio de uma etapa complicada para
produo de artigos de polister alvos, e deficincia na reciclabilidade
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e propriedades mecnicas de produtos de polister. Desse modo,

limitao imposta na realizao de tais mtodos.
[05] Um mtodo para melhorar facilmente o desempenho de
barreira aos gases de polisteres enquanto resolve-se os problemas
acima mencionados inclui melt-mixing de uma resina de polister com
uma resina termoplstica que apresenta alto desempenho como
barreira aos gases. Um exemplo da resina que tem tal desempenho
elevado de barreira aos gases uma resina de copolmero de lcool
etileno-vinil. A resina de copolmero de lcool etileno-vinil tem fraca
compatibilidade com polister, devido a uma caracterstica intrnseca
da estrutura molecular dos mesmos. Quando as duas resinas so
misturadas em conjunto, a composio de resina formada assume um
estado turvo, dificultando a transparncia, o que um mrito do
polister. Quando uma resina de copolmero de lcool etileno-vinil
processada a uma temperatura adequada para o processamento de
tereftalato de polietileno, que um dos polisteres mais geralmente
utilizados, a resina de copolmero de etileno-vinil lcool deteriora-se
rapidamente. Em alguns casos, gelao e queima ocorrem, e a
matria indesejada formada incorporada nos produtos finais,
possivelmente prejudicando a aparncia e rendimento dos produtos.
Alm disso, afim de remover a matria indesejada de uma mquina de
produo, desmontagem e limpeza da mesma devem ser levadas em
conta. Portanto, dificuldade encontrada na realizao, em escala
industrial, da tcnica usando resina de copolmero de lcool etileno-
vinil.
[06] Exemplos de outras resinas barreiras de gases que no
etileno-vinil lcool copolmeros inclui poliamidas, tipicamente nylon 6 e
nylon 66.
[07] Entre tais resinas de poliamida, polimetaxililenoadipamida
(MXD6), a qual formada atravs da polimerizao de um
componente de diamina incluindo principalmente metaxililenodiamina e
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um componente de cido dicarboxlico incluindo principalmente cido

adpico, uma resina de poliamida, especialmente excelente no
desempenho de barreira aos gases. Polimetaxililenoadipamida tem
uma temperatura de transio de vidro, um ponto de fuso e uma
cristalinidade que so quase equivalentes aos do tereftalato
polietileno, que um dos polisteres mais geralmente usados e, alm
disso, a estabilidade ao calor do mesmo em fuso excelente e a
processabilidade do mesmo boa. A partir desses pontos, pode-se
dizer que polimetaxililenoadipamida uma resina particularmente
adequada como um material para melhorar o desempenho dos
polisteres como barreira aos gases.
[08] No entanto, um artigo moldado produzido usando-se uma
resina contendo em sua composio um polister e um
polimetaxililenoadipamida insuficiente no ponto de transparncia, e
seu uso em aplicaes que requerem alta transparncia , portanto,
limitativo.
[09] PTLs 1 e 2 descrevem uma composio de resina contendo
um polister e um polimetaxililenoadipamida, e pretende proporcionar
uma tal composio de resina capaz de resolver os problemas acima
mencionados e capaz de ser um material de moldagem para um artigo
moldado com alta transparncia pelo uso de um polister modificado,
que modificado com ciclo-hexanodimetanol (CHDM) ou spiroglicol
(SPG) como o polister.
LISTA DE CITAES
LITERATURA DE PATENTES
PTL 1: JP-T 2008-531830
PTL 2: Patente Japonesa 4573060
SUMRIO DE INVENO
PROBLEMA TCNICO
[010] Contudo, o artigo moldado usando a composio de resina
descrita em PTLs 1 e 2 podem ter relativamente boa transparncia na
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poro do mesmo apresentando um baixo draw ratio de menos do que

5 vezes, mas tem um problema no fato de que, na poro do mesmo
com um draw ratio de 5 vezes ou mais, a neblina (turbidez) aumenta e,
portanto, a transparncia pobre.
[011] Um objetivo da presente inveno fornecer uma
composio de resina com base em polister capaz de ser um material
de moldagem para um artigo moldado que tem transparncia
excelente, em qualquer poro do mesmo, apresentando um baixo
draw ratio ou um alto draw ratio, e com um bom desempenho de
barreira aos gases, e para fornecer um artigo moldado usando a
composio de resina.
SOLUO PARA O PROBLEMA
[012] Os presentes inventores realizaram estudos assduos e,
como resultado, descobriram que um artigo moldado usando uma
composio de resina que contm, juntamente com uma resina de
poliamida, dois tipos de resinas de polister cada um com unidades
especificas em um contedo predeterminado com excelente
transparncia, em qualquer poro do mesmo, tendo baixo draw ratio
ou alto draw ratio, mantendo o bom desempenho como barreira aos
gases.
[013] Expecificamente, a presente inveno refere-se aos
seguintes <1> a <17>:
<1> A composio de resina com base em polister
contendo uma resina de polister (A) que apresenta uma unidade de
cido dicarboxlico contend unidades selecionadas a partir de uma
unidade de cido sulfoftlico e uma unidade de sal de metal de cido
sulfoisoftlico em uma quantidade total de 0,01 a 15,0 mol% e uma
unidade de diol, uma resina de polister (B) com uma estrutura acetal
cclica ou uma estrutura de hidrocarboneto alicclica, e uma resina de
poliamida (C), Na qual o teor da resina de polister (B) na composio
de resina 0,5 a 15,0% por massa.
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<2> A composio de resina com base em polister de

acordo como acima exposto <1>, no qual a resina de polister (A) tem
uma unidade de cido dicarboxlico contendo unidedes selecionadas a
partir de uma unidade de cido sulfoisoftlico e uma unidade de sal de
metal de cido sulfoisoftlico em uma quantidade total de 0,01 a 15,0
mol% e uma unidade de cido tereftlico em uma quantidade de 70
mol% ou mais, e uma unidade de diol contendo uma unidade de glicol
aliftico com 2 a 24 atomos de carbono em uma quantidade de 70 mol
% ou mais.
acordo com ao exposto acima em <1> ou (2), tal que a resina de
polister (A) apresenta uma unidade de cido dicarboxlico contendo
um sal de metal de cido sulfoisoftlico em uma quantidade de 0,01 a
15,0 mol%, uma unidade de cido isoftlico em uma quantidade de 1 a
10 mol% e uma unidade de cido tereftlico em uma quantidade de 70
mol% ou mais, e uma unidade de diol contendo uma unidade de glicol
aliftico com 2 a 6 tomos de carbonos em uma quantidade de 70 mol
% ou mais.
acordo com qualquer dos expostos acima em <1> a <3>, tal que o teor
da resina de polister (A) na composio de resina 75,0 a 99,0% por
massa.
acordo com qualque dos apresentados acima em <1> a <4>, tal que a
resina de polister (B) uma resina de polister que apresenta pelo
menos um de uma unidade de cido dicarboxlico com uma estrutura
acetal cclica e uma unidade de diol com uma estrutura acetal cclica.
acordo com o apresentado acima em <5>, tal que a unidade de diol
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com uma estrutura acetal cclica derivada a partir de um composto

representado pela seguinte frmula geral (1) ou (2):
tal que cada R1 representa independentemente um grupo

orgnico divalente, selecionado a partir do grupo que consiste de um
grupo aliftico divalente tendo de 1 a 10 tomos de carbono, um grupo
alicclico divalente com 3 a 12 tomos de carbono, e um grupo
aromtico divalente com 6 a 18 tomos de carbono, e R 2
representando um grupo orgnico monovalente selecionado a partir
do grupo que consiste de um grupo aliftico monovalente com 1 a 10
tomos de carbono, um grupo alicclico monovalente com 3 ta 12
tomos de carbono, and um grupo aromtico monovalente com 6 a 18
tomos de carbono.
<7> A composio de resina com base em polister, de
acordo com o apresentado acima em <5>, tal que a unidade de cido
dicarboxlico com uma estrutura acetal cclica derivada a partir de um
composto representado pela seguinte frmula geral (3) ou (4):

orgnico divalente selecionado a partir do grupo que consiste de um
grupo aliftico divalente com 1 a 10 tomos de carbono, um grupo
alicclico divalente com 3 a 12 tomos de carbono, e um grupo
aromtico divalente com 6 a 18 tomos de carbono; cada R 4
representa independentemente a tomo de hidrognio, um grupo
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metilaa, um grupo etilaa, or um grupo isopropila; e R5 representa um

grupo orgnico monovalente selecionado a partir do grupo que
consiste em um grupo aliftico monovalente com 1 a 10 tomos de
carbono, um grupo alicclico monovalente com 3 a 12 tomos de
carbono, e um grupo aromtico monovalente com 6 a 18 tomos de
carbono.
acordo com qualquer dos apresentados acima em <1> a <4>, tal que a
resina de polister (B) uma resina de polister com pelo menos um
de uma unidade de cido dicarboxlico com uma estrutura de
hidrocarboneto alicclica e uma unidade de diol com uma estrutura de
hidrocarboneto alicclica.
acordo com o apresentado acima em <8>, tal que a estrutura de
hidrocarboneto alicclica uma estrutura cicloalcano com 3 a 10
tomos de carbono.
acordo com o apresentado acima em <8> ou <9>, tal que a unidade
diol tendo uma estrutura de hidrocarboneto alicclica derivada a partir
de um composto representado pela seguinte frmula geral (5):
Tal que cada R6 representa independentemente um grupo

aliftico divalente com 1 a 10 tomos de carbono; R 7 representa um
grupo orgnico monovalente selecionado a partir do grupo que
consiste em um grupo aliftico monovalente com 1 a 10 tomos de
carbono, um grupo alicclico monovalente com 3 a 12 tomos de
carbono, e um grupo aromtico monovalente com 6 a 18 tomos de
carbono; e um indica 0 ou 1, e quando a = 0, o grupo hidroxila liga-se
diretamente ao anel cicloexano; b indica um nmero inteiro de 0 a 4.
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acordo com o apresentado acima em <8> ou <9>, tal que a unidade de
cido dicarboxlico tendo uma estrutura de hidrocarboneto alicclica
derivada a partir de um composto representado pela seguinte frmula
geral (6):

aliftico divalente com 1 a 10 tomos de carbono; cada R 9 representa
independentemente um tomo de hidrognio, um grupo metilaa, um
grupo etilaa, ou um grupo isopropila; R10 representa um grupo orgnico
monovalente selecionado a partir do grupo que consiste em um grupo
aliftico monovalente com 1 a 10 tomos de carbono, um grupo
alicclico monovalente com 3 a 12 tomos de carbono, e um grupo
aromtico monovalente com 6 a 18 tomos de carbono; e c indica 0 ou
1, e quando c = 0, o grupo -COOR9 liga-se diretamente ao anel
cicloexano; d indica um nmero inteiro de 0 a 4.
acordo com qualquer dos apresentados acima em <1> a <11>, tal que
a resina de poliamida (C) um resina de poliamida (C1) que apresenta
uma unidade de diamina contendo uma unidade de
metaxililenodiamina em uma quantidade de 70 mol% ou mais e uma
unidade de cido carboxlico contendo um ,-aliftico cido
dicarboxlico em uma quantidade de 70 mol% ou mais.
acordo com qualquer dos apresentados acima em <1> a <12>, tal que
o teor da resina de poliamida (C) na composio de resina 0,5 a
10,0% por massa.
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<14> Um artigo moldado com pelo menos uma camada

formada da composio de resina com base em polister de qualquer
dos citados acima <1> a <13>.
<15> O artigo moldado de acordo com o apresentado
acima em <14>, que uma garrafa, uma xcara cup, uma pelcula ou
uma folha.
acima em <14> ou <15>, tal que o artigo moldado tem uma poro
estirada em um draw ratio de 5 a 20 vezes.
acima em <16>, tal que o valor mdio em nmero do maior dimetro
das partculas dispersas da resina de poliamida (C) na poro estirada
por 5 a 20 vezes de 1,0 a 8,0 m e o valor mdio em nmero do
menor dimetro das mesmas de 0,01 a 0,50 m.
EFEITOS VANTAJOSOS DA INVENO
[014] O artigo moldado usando a composio de resina com base
em polister da presente inveno tem excelente transparncia em
qualquer poro do mesmo com um baixo draw ratio ou com um alto
draw ratio, e apresenta bom desempenho de barreira aos gases.
DESCRIO DE MODALIDADES
[Composio de resina]
[015] A composio de resina com base em polister da presente
inveno (daqui em diante tambm referido como "a composio de
resina da presente inveno") contm uma resina de polister (A) que
tem uma unidade de cido dicarboxlico contendo unidades
selecionadas a partir de uma unidade de cido a unidade de cido
sulfoftlico e uma unidade de sal de metal de cido sulfoftlico em
uma quantidade total de 0,01 a 15,0 mol% e uma unidade de diol, uma
resina de polister (B) com uma estrutura acetal cclica ou uma
estrutura hidrocarboneto alicclica, e um resina de poliamida (C).
[016] A resina de polister (B) pode ser agrupada em uma resina
de polister (B1) com uma estrutura acetal cclica e uma resina de
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polister (B2) com uma estrutura de hidrocarboneto alicclica. Aqui, a

resina de polister (B2) no tem uma estrutura acetal cclica.
[017] A composio de resina da primeira modalidade da
presente inveno contem uma resina de polister (A) que apresenta
uma unidade de cido dicarboxlico contendo unidades selecionadas a
partir de uma unidade de cido sulfoftlico e uma unidade de sal de
metal de cido sulfoftlico em uma quantidade total de 0,01 a 15,0 mol
% e uma unidade de diol, uma resina de polister (B1) com uma
estrutura acetal cclica, e a resina de poliamida (C).
[018] A composio de resina da segunda modalidade da
presente inveno contm uma resina de polister (A) que tem uma
unidade de cido dicarboxlico contendo unidades selecionadas a
partir de uma unidade de cido sulfoftlico e uma unidade de sal de
metal de cido sulfoftlico em uma quantidade total de 0,01 a 15,0 mol
% e uma unidade de diol, uma resina de polister (B2) com uma
estrutura de hidrocarboneto alicclica (exceto aquelas que tm uma
estrutura acetal cclica), e uma resina de poliamida (C).
[019] A razo pela qual o artigo moldado usando a composio
de resina da presente inveno tem excelente transparncia em
qualquer poro com baixo draw ratio ou com um alto draw ratio no
sempre clara, mas pode ser presumida como se segue.
[020] No caso onde uma resina ordinary PET (resina de
tereftalato de polietileno) misturada com uma resina de poliamida (C)
(por exemplo, MXD6 tal como MX nylon etc.), a mistura resultante
transparente em um estado no estirado desde que o ndice de
refrao da resina de tereftalato de polietileno seja prximo daquele da
resina de poliamida (C). Quando estirado, porm, a diferena no
ndice de refrao entre os dois aumenta e como um resultado, a
mistura perde transparncia. Conformemente, quando a resina de
polister (B) com uma estrutura de hidrocarboneto alicclica usada
como uma resina de polister, a transparncia em um estado estirado
da mistura de reao melhorada, desde que, no estado estirado, o
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valor do ndice de refrao da resina de polister (B) seja prximo

daquela da resina de poliamida (C). Entretanto, em um estado no
estirado, a diferena no ndice de refrao entre a resina de polister
(B) e a resina de poliamida (C) seja grande, e portanto a mistura no
estado no estirado perca transparncia. Consequentemente, usando
a resina de polister (A) com pelo menos uma unidade de uma
unidade at least one unit of a unit de cido sulfoftlico e uma unidade
de sal de metal de cido sulfoftlico como uma resina de polister
adicional, a transparncia da mistura resultante em um estado no
estirado pode ser melhorado desde que o valor do ndice de refrao
da resina de polister (A) seja, em um estado no estirado, prximo
daquela da resina de poliamida (C). Por outro lado, em um estado
estirado, a diferena no ndice de refrao entre a resina de polister
(A) e a resina de poliamida (C) grande, como um resultado, a mistura
dever perder transparncia, mas a resina de poliamida (C)
finamente dispersada pela resina de polister (A) com pelo menos
uma unidade de uma unidade de cido sulfoftlico e uma unidade de
sal de metal de cido sulfoftlico e, como um resultado, presume-se
que, mesmo depois de estirada, a mistura ainda pode manter boa
transparncia.
[021] Os componentes constitudos contidos na composio de
resina da presente inveno so descritas abaixo.
<Resina de polister (A)>
[022] Do ponto de vista da obteno de uma composio de
resina que um material de moldagem capaz de melhorar a
transparncia do artigo moldado da mesma, a composio de resina
da presente inveno contm uma resina de polister (A) que
apresenta uma unidade de cido dicarboxlico contendo pelo menos
uma unidade de uma unidade de cido sulfoftlico e uma unidade de
sal de metal de cido sulfoftlico, com a quantidade total do mesmo
sendo de 0,01 a 15,0 mol%, e uma unidade de diol.
[023] O contedo total das unidades selecionadas a partir da
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unidade de cido sulfoftlico e da unidade de sal de metal de cido

sulfoftlico na resina de polister (A) 0,01 a 15,0 mol% relativo
quantidade total da unidades de cido dicarboxlico, mas de
preferencia entre 0,03 a 10,0 mol%, mais preferencialmente de 0,06 a
5,0 mol% e ainda mais preferencialmente de 0,08 a 1,0 mol%.
[024] Quando o contedo menor do que 0,01 mol%, a
transparencia do artigo moldado, usando a composio de resina
resultante, baixo. Por outro lado, quando mais do que 15,0 mol%, o
ponto de fuso da resina de polister (A) reduz e a cristalinidade
diminui. Como um resultado, a maneabilidade da moldagem da
composio de resina resultante piora.
[025] A resina de polister (A) contm no mnimo uma unidade de
uma unidade de cido sulfoftlico e uma nidade de sal de metal de
cido sulfoftlico, mas preferencialmente contm uma unidade de sal
de metal de cido sulfoftlico.
[026] A unidade de cido sulfoftlico ou a unidade de sal de metal
de cido sulfoftlico contido na resina de polister (A) uma unidade
representada pela seguinte frmula geral (I) ou (I'), respectivamente. A
unidade de cido sulfoftlico ou unidade de sal de metal de cido
sulfoftlico pode ser formada atravs da polimerizao para fornecer a
resina de polister (A) usando um composto tal como um cido
sulfoftlico ou um sal de metal do mesmo, um ster do mesmo ou
semelhantes como um monmero.
[027] Na frmula geral acima (I'), M representa um tomo de

metal. n indica a valncia atmica de M.
[028] Exemplos do tomo de metal de M incluem metais alcalinos
tais como ltio, sdio, potssio, etc.; metais alcalinos terrosos tais
como berlio, magnsio, clcio, estrncio, etc. Sobre tudo, metais
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alcalinos so preferidos, sdio ou ltio preferido, e sdio o mais

preferido. Quando n 2 ou maior, a unidade pode ser crosslinked com
qualquer outra unidade (por exemplo, a sulfo group de qualque outra
unidade de cido sulfoftlico ou unidade de sal de metal de cido
sulfoftlico) por meio de M.
[029] Na frmula geral acima (I) e (I'), RA representa um grupo
alquila substitudo ou no substitudo, ou um grupo arila substitudo ou
no substitudo. m indica um nmero inteiro de 0 a 3. Quando m 2
ou 3, os RA podem ser os mesmos ou diferentes uns dos outros.
[030] Exemplos do grupo alquila incluem um grupo metilaa, um
grupo etilaa, um grupo n-propilaa, um grupo isopropila, um grupo n-
butilaa, um grupo t-butila, um grupo n-octila, um grupo 2-etilhexila, etc.
Entre estes, um grupo alquila com 1 a 6 tomos de carbono
preferido, e um grupo alquila com 1 a 4 tomos de carbono mais
preferido.
[031] Exemplos do grupo arila incluem um grupo fenila, um grupo
naftila, etc. Entre estes, um grupo arila com 6 a 12 tomos de carbono
preferido, e a grupo fenila mais preferido.
[032] Exemplos do substituinte do grupo alquila e do grupo arila
acima podem incluir um tomo de halognio tal como um tomo de
cloro, um tomo de bromo, uma atomo de iodo, etc., um grupo alquila,
um grupo alquenila, um grupo arila, um grupo ciano, um grupo
hidroxila, um grupo nitro, um grupo alcxi, um grupo arilxi, um grupo
acila, um grupo amino, um grupo mercapto, um grupo alquiltio, um
grupo ariltio, etc. Entre os grupos, aqueles com um tomo de
hidrognio podem ainda serem substitudos com os substituintes
mencionados acima.
[033] Exemplos de RA incluem um grupo metila, um grupo etila,
um grupo n-propila, um grupo isopropila, um grupo n-butila, um grupo
t-butila, um grupo 1-metilpropila, um grupo 2-metilpropila, um grupo
hidroximetila, um grupo 1-hidroxietila, um grupo mercaprometila, um
grupo metiltioetila, um grupo fenila, um grupo naftila, um grupo bifenila,
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um grupo benzila, um grupo 4-hidroxibenzila; e dentre estes, um grupo

metila, um grupo etila e um grupo benzila so preferidos.
[034] Exemplos preferidos de RA so como descritos acima, mas
a unidade de cido sulfoftlico ou unidade de sal de metal de cido
sulfoftlico contida na resina de polister (A) preferencialmente
aquela onde m = 0, que , aquela na qual o anel de benzeno no tem
RA como um substituinte, ou seja, a unidade representada pela
seguinte frmula geral (Ia) ou (I'a).
[035] Na frmula geral acima (I'a), M e n so os mesmos que M e

n na frmula geral acima (I').
[036] Alm disso, a unidade de cido sulfoftlico representada
pela frmula geral acima (Ia), ou a unidade de sal de metal de cido
sulfoftlico representada pela frmula geral acima (I'a) incluem uma
estrutura de cido ftlico onde as duas ligaes (-CO-) esto em
posio orto uma com a outra, uma estrutura de cido isoftlico onde
as duas ligaes esto em posio mera uma com a outra, e uma
estrutura de cido tereftlico onde as duas ligaes esto em posio
para uma com a outra; e em todas acima, a estrutura de cido
isoftlico preferida. A saber, prefervel conter pelo menos uma
unidade de uma unidade de cido sulfoisoftlico representada pela
seguinte frmula geral (Ib), e uma unidade de sal de metal de cido
sulfoisoftlico representada pela seguinte frmula geral (I'b).
[037] Na frmula geral acima (I'b), M e n so os mesmo que M e

n na frmula geral acima (I').
[038] No que se refere a posio dos mesmos, o sulfo group na
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unidade de cido sulfoftlico ou a unidade de sal de metal de cido

sulfoftlico pode estar em qualquer posio entre 2, 4, 5 e 6, mas
aquela representada pela seguinte formula (Ic) ou (I'c), onde o sulfo
group est na posio 5, so preferidas.
[039] Na frmula geral acima (I'c), M e n so os mesmo que M e

n na frmula geral (I').
[040] Exemplos do compostos que podem constituir a unidade de
cido sulfoftlico ou a unidade de sal de metal de cido sulfoftlico
representada pela frmula geral acima (Ic) ou (I'c) na resina de
polister (A) incluem cido 5-sulfoisoftlico, 5-sulfoisoftalato de sdio,
5-sulfoisoftalato de ltio, 5-sulfoisoftalato de potssio, bis(5-
sulfoisoftalato) de clcio, dimetil 5-sulfoisoftalato de sdio, dietil 5-
sulfoisoftalato de sdio, etc.
[041] Exemplos de unidades de cido dicarboxlico que no
sejam a unidade de cido sulfoftlico e a unidade de sal de metal de
cido sulfoftlico para estarem contidas na resina de polister (A)
incluem uma unidade de cido dicarboxlico aromtico e uma unidade
de cido aliftico carboxlico diferentes da unidade de cido
sulfoftlico e da unidade de sal de metal de cido sulfoftlico, e uma
unidade de cido dicarboxlico aromtico contida preferencialmente.
[042] No caso onde a resina de polister (A) contm qualquer
outra unidade de cido dicarboxlico aromtico que no seja a unidade
de cido sulfoftlico e a unidade de sal de metal de cido sulfoftlico, o
teor das unidades de cido dicarboxlico aromtico incluindo a unidade
de cido sulfoftlico e a unidade de sal de metal de cido sulfoftlico
na unidade de cido dicarboxlicos preferencialmente 70 mol% ou
mais, mais preferencialmente 80 mol% ou mais, ainda mais prefervel
90 mol% ou mais, e preferencialmente 100 mol% ou menos.
[043] Exemplos de compostos que podem constituir as outras
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unidades de cido dicarboxlico aromtico, que no seja a unidade de

cido sulfoftlico e a unidade de sal de metal de cido sulfoftlico, na
resina de polister (A) incluem um cido dicarboxlico com um ncleo
aromtico tal como benzeno, naftaleno, difenil, oxidifenila,
sulfonildifenila, metilenodifenila ou semelhantes (cido dicarboxlico
aromtico) e um derivado do mesmo. Exemplos de derivados do cido
dicarboxlico aromtico incluem steres formados de um cido
dicarboxlico aromtico e um lcool com 1 a 3 tomos de carbono.
[044] Entre estes, cido tereftlico, cido isoftlico, cidos
naftalenodicarboxlico tais como 1,3-cido naftalenodicarboxlico, 1,4-
cido naftalenodicarboxlico, 1,5-cido naftalenodicarboxlico, 2,6-
cido naftalenodicarboxlico, 2,7-cido naftalenodicarboxlico, etc.,
e4,4'-cido bifenildicarboxlico, 3,4'-cido bifenildicarboxlico, 4,4'-cido
bifenilsulfonadicarboxlico, 4,4'-cido bifenileterdicarboxlico, 1,2-cido
bis(fenoxi)etano-p,p-dicarboxlico, cido antracenodicarboxlico e
semelhantes, e C1-3 alquil steres de cadeia curta desses cidos so
preferidos; cido tereftlico, cido isoftlico, 2,6-cido
naftalenodicarboxlico, 4,4'-cido bifenildicarboxlico e seus metil
steres e etil teres so mais preferidos; cido tereftlico, cido
isoftlico e seus metil steres so ainda mais prefereridos; e cido
tereftlico o mais preferido.
[045] De preferncia, do ponto de vista of funcionalidade de
moldagem, a resina de polister (A) contm uma unidade de cido
isoftlico juntamente com a unidade de cido sulfoftlico e a unidade
de sal de metal de cido sulfoftlico. No caso onde a resina de
polister (A) contm uma unidade de cido isoftlico, o contedo da
unidade de cido isoftlico na unidade de cido dicarboxlico
preferencialmente de 1 a 10 mol%, mais preferencialmente de 1 a 8
mol% e ainda mais preferencialmente 1 a 6 mol%.
[046] A resina de polister contendo uma unidade de cido
isoftlico na quantidade mencionada acima na unidade de cido
17 / 67
dicarboxlico therein can suitably lower the crystallinity thereof, portanto

melhorando a funcionalidade da modelagem da composio de resina
da presente inveno.
[047] Exemplos dos compostos que podem constituir a unidade
de cido dicarboxlico aliftico que esto contidas na resina de
polister (A) incluem cido sucnico, cido glutrico, cido adpico,
cido pimlico, cido subrico, cido azelaico, cido sebcico, cido
dodecanodicarboxlico, etc.
[048] A resina de polister (A) pode conter, dentro de uma faixa
no diminuidora dos efeitos vantajosos da presente inveno, uma
unidade de cido monocarboxlico derivado do cido benzico, cido
propionico, cido butrico ou semelhantes, e uma unidade de cido
policarboxlico derivado de cidos tri ou mais policarboxlicos ou
anidridos de cido tais como cido trimetlico, cido piromeltico,
anidrido trimetlico, anidrido piromeltico, etc., em adio unidade de
cido dicarboxlico.
[049] Como a unidade diol a ser contida na resina de polister
(A), a resina de polister (A) pode incluir uma unidade de glicol
aliftico, uma unidade de diol alicclica e uma unidade de diol
aromtico, uma unidade de glicol aliftico e uma unidade de diol
alicclica so preferidos, e uma unidade de glicol aliftico mais
preferido.
[050] No caso onde a resina de polister (A) contm uma unidade
de glicol aliftico, o teor da unidade de glicol aliftico neste , do ponto
de vista da cristalinidade da resina de polister e da facilidade de
secagem da resina antes do uso, preferencialmente 70 mol% ou mais,
mais preferencialmente 80 mol% ou mais, ainda mais
preferencialmente 90 mol% ou mais, e preferencialmente 100 mol%
ou menos, relativo quantidade total da unidades de diol.
[051] O nmero de carbono do glicol aliftico preferencialmente
2 a 24, mais preferencialmente 2 a 12, ainda mais preferencialmente 2
a 6. Exemplos especficos do composto que pode constituir a unidade
18 / 67
de diol aliftico incluem etileno glicol, 1,2-propileno glicol, 1,3-propileno

glicol, 1,4-butileno glicol, dietileno glicol, trietileno glicol, 1,2-butileno
glicol, 1,3-butileno glicol, 2,3-butileno glicol, 1,5-pentanodiol, neoglicol,
1,6-hexanodiol, etc. Acima de tudo, etileno glicol e 1,4-butileno glicol
so preferidos, e etileno glicol mais preferido.
[052] O numero de carbon do diol alicclico preferencialmente 6
a 24, mais preferencialmente de 6 a 12, ainda mais preferencialmente
6 to 10. Exemplos especficos do composto que pode constituir a
unidade de diol alicclico incluem 1,2-cicloexanodiol, 1,3-
cicloexanodiol, 1,4-cicloexanodiol, 1,2-cicloexanodimetanol, 1,3-
cicloexanodimetanol, 1,4-cicloexanodimetanol, 1,4-cicloexanodietanol,
etc.
[053] O nmero de carbono da unidade de diol aromtico
preferencialmente de 6 a 24, mais preferencialmente de 6 a 20.
Exemplos especficos do composto que pode constituir a unidade de
diol aromtico incluem hidroquinona, 4,4'-diidroxibisfenol, 1,4-bis(-
hidroxietxi)benzeno, 1,4-bis(-hidroxietoxifenil)sulfona, bis(p-
hidroxifenil) ter, bis(p-hidroxifenil)sulfona, bis(p-hidroxifenil)metano,
1,2-bis(p-hidroxifenil)etano, bisfenol A, bisfenol C, 2,5-naftalenodiol,
glicis produzidos por adding etilenoxido to these glicols, etc.
[054] A resina de polister (A) pode conter, dentro de uma faixa
unidade de monolcool derivado a partir do butil lcool, hexil lcool,
octil lcool, etc., uma unidade tri ou mais de polilcool derivado a partir
do trimetilolpropano, glicerina, pentaeritritol, etc., ou semelhantes, em
adio unidade de diol.
[055] A resina de polister (A) obtida atravs da
policondensao de um componente de cido dicarboxlico para
constituir uma unidade de cido dicarboxlico e um componente de diol
para constituir uma unidade diol, e para a sua produo, qualquer
mtodo conhecido de esterificao direta ou mtodo de
interesterificao empregavel.
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[056] Exemplos de catalisador de policondensao para uso na

produo da resina de polister (A) incluem compostos de antimnio
conhecidos tais como trixido de antimnio, pentxido de antimnio,
etc., compostos de germnio tais como xido de germnio, etc. Se
desejado, para aumento aumento do peso molecular da mesma, a
resina pode ser produzida atravs polimerizao em fase slida de
acordo com um mtodo convencionalmente conhecido.
[057] Na presente inveno, a resina de polister (A) contm
preferencialmente a unidade de cido dicarboxlico com unidades
selecionadas a partir de uma unidade de cido sulfoftlico e uma
unidade de sal de metal de cido sulfoftlico em uma quantidade total
de 0,01 a 15,0 mol% e uma unidade de cido tereftlico em uma
quantidade de 70 mol% ou mais, e uma unidade de diol contendo uma
unidade de glicol aliftico com 2 a 24 tomos de carbono em uma
quantidade de 70 mol% ou mais. Mais preferencialmente, a resina de
polister (A) um polister que contm uma unidade de cido
dicarboxlico contendo unidades selecionadas a partir de uma unidade
de cido sulfoftlico e uma unidade de sal de metal de cido
sulfoftlico em uma quantidade total de 0,01 a 15,0 mol%, uma
unidade de cido isoftlico em uma quantidade de 1 a 10 mol%, e uma
unidade de cido tereftlico em uma quantidade de 70 mol% ou mais,
e uma unidade de diol contendo uma unidade de glicol aliftico com 2
a 6 tomos de carbono em uma quantidade de 70 mol% ou mais.
[058] Exemplos preferidos da resina de polister (A) na presente
inveno incluem polisteres selecionados a partir do tereftalato de
polietileno, copolmero de etileno tereftalato-isoftalato, copolmero de
etileno-1,4-cicloexanodimetileno-tereftalato, polietileno-2,6-naftaleno-
dicarboxilato, copolmero de etileno-2,6-naftaleno-dicarboxilato-
tereftalato e copolmero de etileno-tereftalato-4,4'-bifenildicarboxilato, e
contendo no mnimo uma unidade de um cido sulfoftlico e uma
unidade de sal de metal de cido sulfoftlico.
20 / 67
[059] Entre estes, um polister com um cido sulfoftlico e/ou sua

unidade de sal de metal em tereftalato de polietileno, ou um polister
com um cido sulfoftlico e/ou sua unidade de sal de metal em um
copolmero de etileno-tereftalato-isoftalato so mais preferidos.
[060] A resina de polister (A) para uso na presente inveno
preferencialmente secada antes da utilizao de modo a apresentar
um teor de gua preferencialmente de 200 ppm ou menor, mais
preferencialmente 100 ppm ou menor, ainda mais preferencialmente
50 ppm ou menor.
[061] A viscosidade intrnseca (valor medido em um solvente
misto de fenol/1,1,2,2-tetracloroetano = 60/40 por massa, a 25C) da
resina de polister (A) par utilizao na presente inveno
preferencialmente 0,60 a 2,00 dl/g, mais preferencialmente 0,70 a 1,80
dl/g.
[062] Quando a viscosidade limitante cai dentro dos intervalos
acima, o peso molecular do polister suficientemente alto e a
viscosidade dos mesmos em fuso no demasiado elevado e,
portanto, compreendendo uma composio de resina com boa
funcionalidade de moldagem. Alm disso, as propriedades mecnicas
do artigo moldado usando a composio de resina tambm so boas.
[063] O teor da resina de polister (A) na composio de resina
da presente inveno preferencialmente de 75,0 a 99,0% por massa,
mais preferencialmente de 75,0 a 95,0% por massa, ainda mais
preferencialmente de 80,0 a 93,0% por massa e ainda mais de 85,0 a
92,5% por massa.
[064] Quando o teor de 75,0% por massa ou mais, a
funcionalidade de moldagem da composio de resina boa, e o
desempenho de barreira aos gases do artigo moldado usando a
composio de resina melhorado.
<Resina de polister (B)>
[065] A composio de resina da presente inveno contm, do
ponto de vista da concretizao de uma composio de resina para
ser um material de moldagem capaz de melhorar a transparncia do
21 / 67
artigo moldado da mesma, uma resina de polister (B) com uma

estrutura acetal cclica ou uma estrutura de hidrocarboneto alicclica
em uma quantidade de 0,5 a 15,0% por massa na composio de
resina. A composio de resina da primeira modalidade da presente
inveno contm, como a resina de polister (B), uma resina de
polister (B1) com uma estrutura acetal cclica, e a composio de
resina da segunda modalidade da presente inveno contm, como a
resina de polister (B), uma resina de polister (B2) com uma estrutura
hidrocarboneto alicclica (exceto aquelas com uma estrutura acetal
cclica). Especificamente, a resina de polister (B2) na segunda
modalidade da presente inveno uma resina de polister com uma
estrutura hidrocarboneto alicclica, mas com exceo daquelas que
apresentam uma estrutura acetal cclica.
(Resina de polister (B1))
[066] A resina de polister (B1) uma resina de polister com
pelo menos uma uma de uma unidade diol com uma estrutura acetal
cclica e uma unidade de cido dicarboxlico com uma estrutura acetal
cclica.
[067] A estrutura acetal cclica na resina de polister (B1) pode
ser introduzida como uma unidade diol derivada a partir de um
componente de diol ou uma unidade de cido dicarboxlico derivada a
partir de um componente de cido dicarboxlico, mas
preferencialmente introduzido como uma unidade diol derivada de um
componente de diol. A reason is because it is considered that the
estrutura acetal cclica is not always stable against acid.
[068] O componente de diol para constituir a unidade de diol com
uma estrutura acetal cclica na resina de polister (B1)
preferencialmente um composto representado pela seguinte frmula
geral (1) ou (2).
22 / 67
[069] Nas frmulas gerais acima (1) e (2), cada R1 representa

independentemente um grupo orgnico divalente selecionado a partir
do grupo que consiste de um grupo aliftico divalente com 1 a 10
tomos de carbono, um grupo alicclico divalente com 3 a 12 tomos
de carbono, e um grupo aromtico divalente com 6 a 18 tomos de
carbono.
[070] Na frmula geral acima (2), R2 representa um grupo
orgnico monovalente selecionado a partir do grupo que consiste de
um grupo aliftico monovalente com 1 a 10 tomos de carbono, um
grupo alicclico monovalente com 3 a 12 tomos de carbono, e um
grupo aromtico monovalente com 6 a 18 tomos de carbono.
[071] No caso onde R1 um grupo aliftico divalente, exemplos
do grupo aliftico divalente incluem um grupo alquenileno ou alquileno
de cadeia linear ou ramificada, etc. O nmero de carbono do grupo
aliftico divalente preferencialmente 1 a 10, mais preferencialmente
1 a 4. Por exemplo, so mencionados um grupo metileno, um grupo
etileno (-CH2CH2-), um grupo propilideno (CH3CH2CH=), um grupo
propileno, (-CH(CH3)CH2-), um grupo trimetileno (-CH2CH2CH2-), um
isogrupo propilideno ((CH3)2C=), um grupo tetrametileno (-
CH2CH2CH2CH2-), um grupo butilideno (CH3CH2CH2CH=), um grupo
isobutilideno ((CH3)2CHCH=), um grupo sec-butilideno
(CH3CH2C(CH3)=), um grupo isobutileno, (-C(CH3)2-CH2-), etc. Entre
estes, R1 preferencialmente um grupo isobutileno do ponto de vista
da transparncia da composio de resina da presente inveno.
[072] Quando R1 um grupo alicclico divalente, exemplos do
grupo alicclico divalente incluem um grupo cicloalquileno, etc. O
nmero de carbono do grupo alicclico divalente preferencialmente
de 3 a 12, mais preferencialmente de 6 a 9.
23 / 67
[073] Quando R1 um grupo aromtico divalente, exemplos do

grupo aromtico divalente incluem um grupo arileno tais como um
grupo fenileno, um bigrupo fenileno, um grupo naftileno, etc. O nmero
de carbono do grupo aromtico divalente preferencialmente de 6 a
18, mais preferencialmente de 6 a 12.
[074] Quando R2 um grupo aliftico monovalente, exemplos do
grupo aliftico monovalente incluem um grupo alquila ou grupo
alquenila de cadeia linear ou ramificada, etc. O nmero de carbono do
grupo aliftico monovalente preferencialmente 1 a 10, mais
preferencialmente 1 a 4. Por exemplo, so mencionados um grupo
metila, um grupo etila um grupo n-propila um grupo isopropila, um
grupo n-butila, a grupo sec-butila, um grupo isobutila, um grupo terc-
butila, etc.
[075] Quando R2 um grupo alicclico monovalente, exemplos do
grupo alicclico monovalente incluem um ciclogrupo alquila, etc. O
nmero de carbono do grupo alicclico monovalente
[076] Quando R2 um grupo aromtico monovalente, exemplos
do grupo aromtico monovalente incluem um grupo arila tais como um
grupo fenila, um grupo bifenila, um grupo naftila, etc. O nmero de
carbono do grupo aromtico monovalente preferencialmente de 6 a
[077] Os acima mencionados grupo aliftico, grupo alicclico e
grupo aromtico podem ainda ser trocados com um substituinte.
[078] Exemplos dos substituintes incluem um tomo de halognio
tais como um tomo de cloro, um tomo de bromo, uma atomo de
iodo, etc.; um grupo ciano, um grupo hidroxila, um grupo nitro, um
grupo alcxi, um grupo arilxi, um grupo acila, um grupo amino, etc.
[079] Exemplos especficos do composto representado pela
frmula geral (1) incluem 3,9-bis(1,1-dimetil-2-hidroxietil)-2,4,8,10-
tetroxaspiro[5,5]undecano, e exemplos especficos do composto
representado pela frmula geral (2) incluem 5-metilol-5-etil-2-(1,1-
24 / 67
dimetil-2-hidroxietil)-1,3-dioxano.
[080] No caso onde um resina de polister (B1) tem uma unidade
diol com uma estrutura acetal cclica, o teor da unidade de diol com
uma estrutura acetal cclica , do ponto de vista da manuteno da
cristalinidade da resina e manuteno da funcionalidade de moldagem
da mesma, preferencialmente 0,5 a 50 mol%, mais preferencialmente
2 a 40 mol%, ainda mais preferencialmente 5 a 30 mol%, relativo
quantidade total das unidades de diol.
[081] O componente de cido dicarboxlico para constituir a
unidade de cido dicarboxlico com uma estrutura acetal cclica na
resina de polister (B1) preferencialmente um composto
representado pela seguinte frmula geral (3) ou (4):
[082] Nas frmulas gerais acima (3) e (4), cada R3 representa

independentemente um grupo orgnico divalente selecionado a partir
do grupo que consiste de um grupo aliftico divalente com 1 a 10
tomos de carbono, um grupo alicclico divalente com 3 a 12 tomos
de carbono, e um grupo aromtico divalente com 6 a 18 tomos de
carbono; cada R4 representa independentemente um tomo de
hidrognio, um grupo metila, um grupo etila ou um grupo isopropila.
[083] Na frmula geral acima (4), R5 representa um grupo
orgnico monovalente selecionado a partir do grupo que consiste de
um grupo aliftico monovalente com 1 a 10 tomos de carbono, um
grupo alicclico monovalente com 3 a 12 tomos de carbono, e um
grupo aromtico monovalente com 6 a 18 tomos de carbono.
[084] No que diz respeito aos exemplos especficos dos acima
mencionados grupo aliftico divalente, grupo alicclico divalente e
grupo aromtico divalente, aqueles exemplificados por R1 nas frmulas
gerais (1) e (2) so mencionados; e em relao aos acima
25 / 67
mencionados grupo aliftico monovalente, grupo alicclico

monovalente e grupo aromtico monovalente, aqueles exemplificados
por R2 na frmula geral (2) so menionados.
frmula geral (3) incluem 3,9-bis(1,1-dimetil-2-carboxietil)-2,4,8,10-
tetroxaspiro[5,5]undecano, 3,9-bis(2-carboxietil)-2,4,8,10-
tetroxaspiro[5,5]undecano, etc.; e exemplos especficos do composto
representado pela frmula geral (4) incluem 5-carboxi-5-etil-2-(1,1-
dimetil-2-carboxietil)-1,3-dioxano, 5-carboxi-5-etil-2-(2-carboxietil)-1,3-
dioxano, etc.
[086] No caso onde a resina de polister (B1) apresenta uma
unidade de cido dicarboxlico com uma estrutura acetal cclica, o teor
da unidade de cido dicarboxlico com uma estrutura acetal cclica ,
do ponto de vista da manuteno da cristalinidade da resina e da
manuteno da funcionalidade de moldagem da mesma,
preferencialmente de 0,5 a 50 mol%, mais preferencialmente de 2 a 40
mol%, ainda mais preferencialmente de 5 a 30 mol%, relativo
quantidade total das unidades de cido dicarboxlico.
[087] A resina de polister (B1) para utilizao na presente
inveno pode conter uma unidade de cido dicarboxlico aromtico e
uma unidade de cido dicarboxlico aliftico como quaisquer outras
unidades de cido dicarboxlico que no a unidade de cido
dicarboxlico com uma estrutura acetal cclica, e contm
preferencialmente uma unidade de cido dicarboxlico aromtico.
[088] No caso onde a resina de polister (B1) contm uma
unidade de cido dicarboxlico aromtico, o teor da unidade de cido
dicarboxlico aromtico na unidade de cido dicarboxlico aqui,
preferencialmente 50 mol% ou mais, mais preferencialmente 60 mol%
ou mais, ainda mais preferencialmente 70 mol% ou mais, e
preferencialmente 100 mol% ou menos.
[089] O composto capaz de constituir a unidade de cido
dicarboxlico aromtico que pode estar contida na resina de polister
26 / 67
(B1), incluem um cido dicarboxlico com um ncleo aromtico tais

como benzeno, naftaleno, difenil, oxidifenil, sulfonildifenil,
metilenodifenil ou semelhantes, e derivados do mesmo. Exemplos de
derivados do cido dicarboxlico aromtico incluem steres formados
de um cido dicarboxlico aromtico e um lcool com 1 a 3 tomos de
carbono.
[090] Entre estes, cido tereftlico, cido isoftlico, cidos
cido naftalenodicarboxlico, 2,7-cido naftalenodicarboxlico, etc., e
4,4'-cido bifenildicarboxlico, 3,4'-cido bifenildicarboxlico, 4,4'-cido
semelhantes, e C1-3 alquil steres de cadeia curta destes cidos so
isoftlico e seus metil steres so ainda mais preferidos; e cido
tereftlico o mais preferido.
[091] Exemplos especficos do composto que pode constituir a
unidade de cido dicarboxlico aliftico que pode estar contida na
resina de polister (B1) incluem cido sucnico, cido glutrico, cido
adpico, cido pimlico, cido subrico, cido azelaico, cido sebcico,
cido dodecanodicarboxlico, etc.
[092] A resina de polister (B1) pode conter, dentro de uma faixa
unidade de cido monocarboxlico, uma unidadade de cido tri ou mais
policarboxlico, uma unidade de anidrido de cido carboxlico, etc.
[093] A resina de polister (B1) pode conter, como quaisquer
outras unidades de diol, que no a unidade de diol com uma estrutura
acetal cclica nela, uma unidade de glicol aliftico, um unidade de diol
alicclica e uma unidade de diol aromtico, e contm preferencialmente
27 / 67
uma unidade de glicol aliftico e uma unidade de diol alicclica, mais

preferencialmente uma unidade de glicol aliftico.
[094] No caso onde a resina de polister (B1) contm uma
unidade de glicol aliftico, o teor da unidade de glicol aliftico na
unidade de diol nele , do ponto de vista da cristalinidade da resina de
polister e da facilidade de secagem antes da sua utilizao,
preferencialmente de 50 mol% ou mais, mais preferencialmente 60 mol
% ou mais, ainda mais preferencialmente 70 mol% ou mais, e
preferencialmente 99,5 mol% ou menos.
[095] O nmero de carbono da unidade de glicol aliftico que
pode se estar contida na resina de polister (B1) preferencialmente 2
a 24, masi preferencialmente 2 a 6. Exemplos especficos do
composto que pode constituir a unidade de glicol aliftico incluem
etileno glicol, 1,2-propileno glicol, 1,3-propileno glicol, 1,4-butileno
glicol, dietileno glicol, trietileno glicol, 1,2-butileno glicol, 1,3-butileno
glicol, 2,3-butileno glicol, 1,5-pentanodiol, neopentil glicol, 1,6-
hexanodiol, etc. Acima de tudo, etileno glicol, propileno glicol e 1,4-
butileno glicol so preferidos, e etileno glicol mais preferido.
[096] O nmero de carbono da unidade de diol alicclica que pode
estar contida na resina de polister (B1) preferencialmente 3 a 24,
mais preferencialmente de 6 a 12, ainda mais preferencialmente 6 a
10. Exemplos especficos do composto que pode constituir a unidade
de diol alicclica incluem 1,2-cicloexanodiol, 1,3-cicloexanodiol, 1,4-
cicloexanodiol, 1,2-cicloexanodimetanol, 1,3-cicloexanodimetanol, 1,4-
cicloexanodimetanol, 1,4-cicloexanodietanol, etc.
[097] O nmero de carbono da unidade de diol aromtico que
pode estar contido na resina de polister (B1) preferencialmente de 6
a 24, mais preferencialmente de 6 a 20. Exemplos especficos do
composto que pode constituir a unidade de diol aromtico incluem
hidroquinona, 4,4'-diidroxibisfenol, 1,4-bis(-hidroxietoxi)benzeno, 1,4-
bis(-hidroxietoxifenil)sulfona, bis(p-hidroxifenil) ter, bis(p-
hidroxifenil)sulfona, bis(p-hidroxifenil)metano, 1,2-bis(p-
28 / 67
hidroxifenil)etano, bisfenol A, bisfenol C, 2,5-naftalenodiol, glicis

produzido por adio de etilenoxido a estes glicis, etc.
no diminuidora dos efeitos vantajosos da presente inveno, a
unidade monolcool mencionada acima, unidade polilcool, etc.
[099] A resina de polister (B1) obtida atravs da
policondensao de uma componente de cido dicarboxlico para
constituir a unidade de cido dicarboxlico e um componente de diol
para constituir a unidade de diol, e para sua produo, qualquer
interesterificao empregado.
[0100] Exemplos de catalisador de policondensao para
utilizao na produo da resina de polister (B1) incluem compostos
de antimnio conhecidos tais como trixido de antimnio, pentxido de
antimnio, etc., compostos de germnio tais como xido de germnio,
etc. Se desejado, para aumento do peso molecular da mesma, a
resina pode ser produzida atravs polimerizao em fase slida de
[0101] Na presente inveno, exemplos preferidos da resina de
polister (B1) incluem copolmero de etileno-3,9-bisisobutileno-
2,4,8,10-tetroxapispro[5,5]undecano-tereftalato, copolmero de etileno-
5-etil-2-isobutileno-5-metileno-1,3-dioxano-tereftalato, copolmero de
etileno-3,9-bisisobutileno-2,4,8,10-tetroxaspiro[5,5]undecano-isoftalato,
copolmero de etileno-5-etil-2-isobutileno-5-metileno-1,3-dioxano-
isoftalato, copolmero de etileno-3,9-bisisobutileno-2,4,8,10-
tetroxaspiro[5,5]undecano-2,6-naftaleno-dicarboxilato, copolmero de
etileno-5-etil-2-isobutileno-5-metileno-1,3-dioxano-2,6-naftaleno-
dicarboxilato, copolmero de etileno-3,9-bisisobutileno-2,4,8,10-
tetroxaspiro[5,5]undecano-tereftalato-4,4'-bifenildicarboxilato,
copolmero de etileno-5-etil-2-isobutileno-5-metileno-1,3-dioxano-
tereftalato-4,4'-bifenildicarboxilato, etc.
[0102] Entre esses, do ponto de vista de desempenho de barreira
29 / 67
aos gases, transparencia e disponibilidade, copolmero de etileno-3,9-

bisisobutileno-2,4,8,10-tetroxaspiro[5,5]undecano-tereftalato
preferido.
(Resina de polister (B2))
[0103] A resina de polister (b2) uma resina de polister com
pelo menos uma de uma unidade diol com um estrutura
hidrocarboneto alicclica e uma unidade de cido dicarboxlico com
uma estrutura hidrocarboneto alicclica.
[0104] A estrutura hidrocarboneto alicclica na resina de polister
(B2) pode ser introduzida como uma unidade diol derivada de um
componente de diol ou como uma unidade de cido dicarboxlico
derivado de um componente de cido dicarboxlico, mas
preferencialmente introduzida como uma unidade diol derivada de um
componente de diol.
[0105] A estrutura hidrocarboneto alicclica pode ser qualquer
estrutura monocclica ou policclica (cclico condensado, cclico
reticulado, espirocclico). O anel pode apresentar um substituinte.
[0106] A estrutura de hidrocarboneto alicclica monocclica incluem
uma estrutura de cicloalcano e uma estrutura de cicloalqueno, e
principalmente, uma estrutura de cicloalcano com 3 a 10 tomos de
carbono preferida, uma estrutura de cicloalcano com 4 a 8 tomos
de carbono mais preferida, e uma estrutura de cicloalcano com 4 a 6
tomos de carbono ainda mais preferida.
[0107] Exemplos especficos de estrutura de hidrocarboneto
alicclica policclica incluem biciclo[4,4,0]decano (outro nome:
decaidronaftaleno), biciclo[2,2,1]hept-2-eno (outro nome: norborneno),
triciclo[3,3,1,13,7]decano (outro nome: adamantano),
triciclo(5,2,1,02,6)decano (outro nome: tetrahidrodiciclopentadieno),
espiro[5,5]undecano (outro nome: espirobicicloexano), etc.
[0108] A estrutura de hidrocarboneto alicclica preferencialmente
monocclica. Acima de tudo, uma estrutura de cicloexano
especialmente preferido.
[0109] Exemplos especficos do componente de diol que pode
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constituir a unidade de diol com uma estrutura de hidrocarboneto

alicclica que pode estar contida na resina de polister (B2) incluem
1,2-ciclopropanodiol, 1,2-ciclobutanodiol, 1,3-ciclobutanodiol, 2,2,4,4-
tetrametil-1,3-ciclobutanodiol, 1,2-ciclopentanodiol, 1,3-
ciclopentanodiol, 3-metil-1,2-ciclopentanodiol, 1,2-cicloexanodiol, 1,3-
cicloexanodiol, 1,4-cicloexanodiol, decaidro-1,5-naftalenodiol,
decaidro-2,6-naftalenodiol, 1,3-adamantanodiol, 1,2-
ciclopropanodimetanol, 1,2-ciclobutanodimetanol, 1,3-
ciclobutanodimetanol, 2,2,4,4-tetrametil-1,3-ciclobutanodimetanol, 1,2-
ciclopentanodimetanol, 1,3-ciclopentanodimetanol, 3-metil-1,2-
ciclopentanodimetanol, 1,2-cicloexanodimetanol, 1,3-
cicloexanodimetanol, 1,4-cicloexanodimetanol, decaidro-1,5-
naftalenodimetanol, decaidro-2,6-naftalenodimetanol, 5-norborneno-
2,3-dimetanol, 1,3-adamantanodimetanol, triciclo(5,2,1,02,6)decano-4,8-
dimetanol, etc., contudo, o componente no est limitado a estes. No
caso onde estes tem atividade tica, eles podem ser ismeros.
[0110] Entre os componentes de diol acima mencionados, 1,2-
ciclopropanodiol, 1,2-ciclobutanodiol, 1,3-ciclobutanodiol, 2,2,4,4-
tetrametil-1,3-ciclobutanodiol, 1,2-ciclopentanodiol, 1,3-
ciclopentanodiol, 3-metil-1,2-ciclopentanodiol, 1,2-cicloexanodiol, 1,3-
cicloexanodiol, 1,4-cicloexanodiol, 1,2-ciclopropanodimetanol, 1,2-
ciclobutanodimetanol, 1,3-ciclobutanodimetanol, 2,2,4,4-tetrametil-1,3-
ciclobutanodimetanol, 1,2-ciclopentanodimetanol, 1,3-
ciclopentandimetanol, 3-metil-1,2-ciclopentanodimetanol, 1,2-
cicloexanodimetanol, 1,3-cicloexanodimetanol e 1,4-
cicloexanodimetanol so preferidos, os quais so compostos com uma
estrutura de hidrocarboneto alicclica monocclica.
[0111] Exemplos especficos do componente de cido
dicarboxlico que constituem a unidade de cido dicarboxlico com uma
estrutura hidrocarboneto alicclica, a qual pode estar contida na resina
de polister (B2), incluem 1,2-ciclopropanocido dicarboxlico, 1,2-
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ciclobutanocido dicarboxlico, 1,3-ciclobutanocido dicarboxlico,

2,2,4,4-tetrametil-1,3-ciclobutanocido dicarboxlico, 1,2-
ciclopentanocido dicarboxlico, 1,3-ciclopentanocido dicarboxlico, 3-
metil-1,2-ciclopentanocido dicarboxlico, 1,2-cicloexanocido
dicarboxlico, 1,3-cicloexanocido dicarboxlico, 1,4-cicloexanocido
dicarboxlico, decaidro-1,5-cido naftalenodicarboxlico, decaidro-2,6-
cido naftalenodicarboxlico, 1,3-adamantanocido dicarboxlico, e
seus steres; contudo, o componente no limitado a estes. Quando
estes apresentam atividade tica, eles podem ser ismeros ticos.
[0112] Entre os acima mencionados componetes de cido
dicarboxlico, 1,2-ciclopropanocido dicarboxlico, 1,2-ciclobutanocido
dicarboxlico, 1,3-ciclobutanocido dicarboxlico, 2,2,4,4-tetrametil-1,3-
ciclobutanocido dicarboxlico, 1,2-ciclopentanocido dicarboxlico,
1,3-ciclopentanocido dicarboxlico, 3-metil-1,2-ciclopentanocido
dicarboxlico, 1,2-cicloexanocido dicarboxlico, 1,3-cicloexanocido
dicarboxlico, 1,4-cicloexanocido dicarboxlico e seus steres so
preferidos, os quais so compostos com uma estrutura de
hidrocarboneto alicclica monocclica.
[0113] Como o componente de diol constitui a unidade de diol com
uma estrutura de hidrocarboneto alicclica que pode estar contida na
resina de polister (B2), um composto representado pela seguinte
frmula geral (5) preferido.
[0114] Na frmula geral acima (5), cada R6 representa

independentemente um grupo aliftico divalente com 1 a 10 tomos de
carbono; R7 representa um grupo orgnico monovalente selecionado a
partir do grupo que consiste em um grupo aliftico monovalente com 1
a 10 tomos de carbono, um grupo alicclico monovalente com 3 a 12
tomos de carbono, e um grupo aromtico monovalente com 6 a 18
tomos de carbono; a indica 0 ou 1, e quando a = 0, o grupo hidroxila
32 / 67
liga-se diretamente ao anel cicloexano; e b indica um nmero inteiro

de 0 a 4, e preferencialmente 0 do ponto de vista da transparncia
da composio de resina da presente inveno.
[0115] Exemplos do grupo aliftico divalente representado por R6
incluem um grupo alquenilene ou alquileno de cadeia linear ou
ramificada, etc. O nmero de carbono do grupo aliftico divalente
preferencialmente 1 a 10, mais preferencialmente 1 a 4. Por exemplo,
so mencionados um grupo metileno, um grupo etileno (-CH2CH2-), um
grupo propilideno (CH3CH2CH=), um grupo propileno, (-CH(CH 3)CH2-),
um grupo trimetileno (-CH2CH2CH2-), um isogrupo propilideno
((CH3)2C=), a grupo tetrametileno (-CH2CH2CH2CH2-), um grupo
butilideno (CH3CH2CH2CH=), um grupo isobutilideno ((CH3)2CHCH=),
um grupo sec-butilideno (CH3CH2C(CH3)=), um grupo isobutileno, (-
C(CH3)2-CH2-), etc. Entre estes, R6 preferencialmente um grupo
metileno do ponto de vista da transparncia da composio de resina
da presente inveno.
[0116] Quando R7 um grupo aliftico monovalente, exemplos do
grupo aliftico monovalente incluem grupo alquenila ou alquila de
cadeia linear ou ramificada, etc. O nmero de carbono do grupo
aliftico monovalente preferencialmente 1 a 10, mais
preferencialmente 1 a 4. Por exemplo, so mencionado um grupo
metila, um grupo etila um grupo n-propila um grupo isopropila, um
grupo n-butila, um grupo sec-butila, um grupo isobutila, um grupo terc-
butila, etc.
[0117] Quando R7 um grupo alicclico monovalente, exemplos do
grupo alicclico monovalente incluem um ciclogrupo alquila, etc. O
nmero de carbono do grupo alicclico monovalente
[0118] Quando R7 um grupo aromtico monovalente, exemplos
do grupo aromtico monovalente incluem um grupo arila tais como um
grupo fenila, um grupo bifenila, um grupo naftila, etc. O nmero de
carbono do grupo aromtico monovalente preferencialmente de 6 a
33 / 67

[0119] Entre esses, R7 preferencialmente um grupo alquila do
ponto de vista da transparncia da composio de resina da presente
inveno. Tambm do mesmo ponto de vista, mais preferencialmente
b = 0, isto , o anel cicloexano no substituido com R7.
[0120] Os acima mencionados grupo aliftico, grupo alicclico e
grupo aromtico podem ser ainda trocados por um substituinte.
[0121] Exemplos do substituinte incluem um tomo de halognio
tais como um tomo de cloro, um tomo de bromo, uma atomo de
iodo, etc.; um grupo ciano, um grupo hidroxila, um grupo nitro, um
grupo alcxi, um grupo arilxi, um grupo acila, um grupo amino, etc.
frmula geral (5) incluem 1,2-cicloexanodiol, 1,3-cicloexanodiol, 1,4-
cicloexanodiol, 1,2-cicloexanodimetanol, 1,3-cicloexanodimetanol, 1,4-
cicloexanodimetanol. Acima de tudo, 1,3-cicloexanodimetanol e 1,4-
cicloexanodimetanol so preferidos.
[0123] No caso onde a resina de polister (B2) tem uma unidade
diol com uma estrutura hidrocarboneto alicclica, o teor da unidade de
diol com uma estrutura hidrocarboneto alicclica , do ponto de vista da
manuteno da cristalinidade da resina e da manuteno da
funcionalidade de moldagem da mesma, preferencialmente de 0,5 a 50
mol%, mais preferencialmente de 3 a 40 mol%, ainda mais
preferencialmente de 6 a 35 mol%, relativo quantidade total das
unidades de diol nela.
[0124] A resina de polister (B2) pode conter, como outras
unidades de diol que no a unidade de diol com uma estrutura
hidrocarboneto alicclica nela, uma unidade de glicol aliftico e uma
unidade de diol aromtico, e contm preferencialmente uma unidade
de glicol aliftico.
[0125] No caso onde a resina de polister (B2) contem uma
unidade de glicol aliftico, o teor da unidade de glicol aliftico , do
ponto de vista da cristalinidade da resina de polister e da facilidade
de secagem antes da utilizao da mesma, preferencialmente 50 mol
34 / 67
% ou mais, mais preferencialmente 60 mol% ou mais, ainda mais

preferencialmente 70 mol% ou mais, relativo quantidade total das
unidades de diol nela. O limite superior do teor da unidade de glicol
aliftico, no caso onde a resina de polister (B2) no tem uma unidade
diol com uma estrutura hidrocarboneto alicclica, preferencialmente
100 mol% ou menos relativo quantidade total das unidades de diol,
mas no caso onde a resina de polister (B2) tem uma unidade diol
com uma estrutura hidrocarboneto alicclica, o limite superior da
mesma preferencialmente 99,5 mol% ou menos relativo
quantidade total das unidades de diol.
[0126] O nmero de carbono da unidade de glicol aliftico que
pode estar contida na resina de polister (B2) preferencialmente 2 a
24, mais preferencialmente 2 a 6. Exemplos especficos do composto
que pode constituir a unidade de glicol aliftico incluem etileno glicol,
1,2-propileno glicol, 1,3-propileno glicol, 1,4-butileno glicol, dietileno
glicol, trietileno glicol, 1,2-butileno glicol, 1,3-butileno glicol, 2,3-
butileno glicol, 1,5-pentanodiol, neopentil glicol, 1,6-hexanodiol.
Etileno glicol, propileno glicol e 1,4-butileno glicol so preferidos, e
etileno glicol mais preferido.
[0127] O nmero de carbono da unidade de diol aromtico que
pode estar contida na resina de polister (B2) preferencialmente de 6
a 24, mais preferencialmente de 6 a 20. Exemplos especficos do
composto que pode constituir a unidade de diol aromtico incluem
hidroquinona, 4,4'-diidroxibisfenol, 1,4-bis(-hidroxietoxi)benzeno, 1,4-
bis(-hidroxietoxifenil)sulfona, bis(p-hidroxifenil) eter, bis(p-
hidroxifenil)sulfona, bis(p-hidroxifenil)metano, 1,2-bis(p-
hidroxifenil)etano, bisfenol A, bisfenol C, 2,5-naftalenodiol, glicis
produzidos por adio de etilenoxido a estes glicis, etc.
unidade monolcool mencionada acima e uma unidade polilcool.
[0129] Como o componente de cido dicarboxlico contitui a
35 / 67
unidade de cido dicarboxlico com uma estrutura hidrocarboneto

alicclica que pode estar contida na resina de polister (B2), um
composto representado pela seguinte frmula geral (6) preferido.
[0130] Na frmula geral acima (6), cada R8 representa

independentemente um grupo aliftico divalente com 1 a 10 tomos de
carbono; cada R9 representa independentemente um tomo de
hidrognio, um grupo metila, um grupo etila ou um grupo isopropila;
R10 representa um grupo orgnico monovalente selecionado a partir do
grupo que consiste de um grupo aliftico monovalente com 1 a 10
tomos de carbono, um grupo alicclico monovalente com 3 a 12
tomos de carbono, e um grupo aromtico monovalente com 6 a 18
tomos de carbono; c indica 0 ou 1, e quando c = 0, o grupo -COOR 9
esta diretamente ligado ao anel cicloexano; e d indica um nmero
inteiro de 0 a 4, e preferencialmente 0 do ponto de vista da
transparncia da composio de resina da presente inveno.
[0131] Como exemplos especficos do grupo aliftico divalente, o
grupo alicclico divalente e o grupo aromtico divalente, aqueles
exemplificados pelos grupos de R6 na formula geral (5) so referidos; e
como o grupo aliftico monovalente, o grupo alicclico monovalente e o
grupo aromtico monovalente, aqueles exemplificados pelos grupos de
R7 na frmula geral (5) so referidos.
frmula geral acima (6) incluem 1,2-cicloexanocido dicarboxlico, 1,3-
cicloexanocido dicarboxlico, 1,4-cicloexanocido dicarboxlico, e
seus steres; e entre esses, 1,3-cicloexanocido dicarboxlico, 1,4-
cicloexanocido dicarboxlico e seus steres so preferidos.
[0133] No caso onde A resina de polister (B2) tem uma unidade
de cido dicarboxlico com uma estrutura de hidrocarboneto alicclica,
o teor da unidade de cido dicarboxlico com uma estrutura de
36 / 67
hidrocarboneto alicclica , do ponto de vista da manuteno da

cristalinidade da resina e da manuteno da funcionalidade de
moldagem da mesma, preferencialmente 0,5 a 50 mol%, mais
preferencialmente 3 a 40 mol%, ainda mais preferencialmente 6 a 35
mol%, relativo quantidade total unidades de cido dicarboxlico nela.
[0134] A resina de polister (B2) para utilizao na presente
inveno pode conter, como quaisquer outras unidades de cido
dicarboxlico que no a unidade de cido dicarboxlico com uma
estrutura hidrocarboneto alicclica, uma unidade de cido dicarboxlico
aromtico e uma unidade de cido dicarboxlico aliftico linear ou
ramificada, e contm preferencialmente uma unidade de cido
dicarboxlico aromtico.
[0135] No caso onde a resina de polister (B2) contem uma
unidade de cido dicarboxlico aromtico, o teor da unidade de cido
dicarboxlico aromtico preferencialmente 50 mol% ou mais, mais
preferencialmente 60 mol% ou mais, ainda mais preferencialmente 70
mol% ou mais, relativo quantidade total das unidades de cido
dicarboxlico nela. O limite superior do teor da unidade de cido
dicarboxlico aromtico , no caso onde a resina de polister (B2) no
contm a unidade de cido dicarboxlico com uma estrutura
hidrocarboneto alicclica, preferencialmente 100 mol% ou menos
relativo quantidade total das unidades de cido dicarboxlico na
resina, mas no caso onde a resina de polister (B2) contm a unidade
de cido dicarboxlico com uma estrutura de hidrocarboneto alicclica,
o teor preferencialmente de 99,5 mol% ou menor, relativo
quantidade total das unidades de cido dicarboxlico.
[0136] O composto capaz de constituir a unidade de cido
dicarboxlico aromtico que pode estar contida na resina de polister
(B2) incluem um cido dicarboxlico com ncleos aromticos tais como
benzeno, naftaleno, difenila, oxidifenila, sulfonildifenila, metilenodifenila
ou semelhantes, e derivados dos mesmos. Exemplos de derivados do
37 / 67
cido dicarboxlico aromtico incluem steres formados de um cido

dicarboxlico aromtico e um lcool com 1 a 3 tomos de carbono.
[0137] Entre esses, cido tereftlico, cido isoftlico, cidos
cido naftalenodicarboxlico, 2,7-cido naftalenodicarboxlico, etc., e
4,4'-cido bifenildicarboxlico, 3,4'-cido bifenildicarboxlico, 4,4'-cido
semelhantes, e C1-3 alquil steres de cadeia curta desses cidos so
isoftlico e seus metil steres so ainda mais preferidos; e cido
tereftlico mais preferido.
[0138] Exemplos especficos do composto que pode constituir a
unidade de cido dicarboxlico aliftico linear ou ramificada que pode
estar contida na resina de polister (B2) incluem cido sucnico, cido
glutrico, cido adpico, cido pimlico, cido subrico, cido azelaico,
cido sebcico, cido dodecanodicarboxlico, etc.
no diminuidora dos efeitos vantajosos da presente inveno,
unidades de cido monocarboxlico, unidades de cido tri ou mais
policarboxlico, uma unidade de anidrido de cido carboxlico, etc.
[0140] A resina de polister (B2) obtida atravs da
policondensao de um componente de cido dicarboxlico para
constituir uma unidade de cido dicarboxlico e um componente de diol
para constituir uma unidade diol, e para sua produco qualquer
interesterificao empregado.
[0141] Exemplos de catalisador de policondensao para
utilizao na produo da resina de polister (B2) incluem compostos
38 / 67
de antimnio conhecidos tais como trixido de antimnio, pentxido de

antimnio, etc., compostos de germnio tais como xido de germnio,
etc. Se desejado, para o aumento do peso molecular da mesma, a
resina pode ser produzida atravs de polimerizao em fase slida de
[0142] Exemplos preferidos da resina de polister (B2) para uso na
presente inveno incluem copolmero de etileno-1,4-
cicloexanodimetileno-tereftalato, copolmero de etileno-1,3-
cicloexanodimetileno-tereftalato, copolmero de etileno-1,4-
cicloexanodimetileno-isoftalato, copolmero de etileno-1,3-
cicloexanodimetileno-isoftalato, copolmero de etileno-1,4-
cicloexanodimetileno-2,6-naftalenodicarboxilato, copolmero de etileno-
1,4-cicloexanodimetileno-tereftalato-4,4'-bifenildicarboxilato, etc. Entre
esses, do ponto de vista do desempenho de barreira aos gases, da
transparncia e da disponibilidade dos mesmos, copolmero de etileno-
1,4-cicloexanodimetileno-isoftalato preferido.
[0143] Preferencialmente, aresina de polister (B) para utilizao
na presente inveno secados antes do uso apresentar um teor de
gua de preferencialmente 200 ppm ou menor, mais preferencialmente
100 ppm ou menor, mais preferencialmente 50 ppm ou menor.
[0144] A viscosidade intrnseca (valor medido em um solvente
misto de fenol/1,1,2,2-tetracloroetano = 60/40 por massa, a 25C) da
resina de polister (B) para uso na presente inveno
preferencialmente 0,3 a 2,0 dl/g, mais preferencialmente 0,4 a 1,8 dl/g.
[0145] Quando a viscosidade limitante cai dentro das faixas acima
referidas, o peso molecular do polister suficientemente alto e a
viscosidade do mesmo em fuso no demasiado alto, e portanto
concretiza uma composio de resina com boa funcionalidade de
moldagem. Alm disso, as propriedades mecnicas do artigo moldado
usando a composio de resina tambm so bons.
[0146] O teor da resina de polister (B) na composio de resina
da presente inveno preferencialmente de 0,5 a 15,0% por massa,
39 / 67
mais preferencialmente de 1,0 a 13,0% por massa, ainda mais

preferencialmente de 1,5 a 11,0% por massa, mais ainda
preferencialmente de 2,5 a 10,0% por massa, contudo ainda mais
preferencialmente de 3,0 a 8,0% por massa.
[0147] Quando o teor menor do que 0,5% por massa, a
transparncia na poro com uma taxa de estiramento de 5 vezes ou
mais no artigo moldado usando a composio de resina resultante no
poderia melhorar. Por outro lado, quando o teor mais do que 15%
por massa, a transparncia na poro tendo uma taxa de estiramento
menor do que 5 vezes no artigo moldado usando a composio de
resina resultante fraca e, alm disso, a composio de resina no
poderia obter o efeito de melhorar o desempenho de barreira aos
gases do mesmo a ser realizado por incorporao no interior da resina
de poliamida (C), e o desempenho de barreira aos gases do artigo
moldado usando a composio pobre.
<Resina de poliamida (C)>
[0148] Como a resina de poliamida (C) para uso na presente
inveno, qualquer resina de poliamida conhecida utilizvel,
incluindo aquelas preparadas atravs de policondensao de um cido
-aminocarboxlico, um lactam ou uma diamina e um cido
dicarboxlico como monmeros.
[0149] Exemplos especficos de monmeros de cido -
aminocarboxlico incluem cido 6-aminocaproico, cido 11-
aminoundecanico, cido 12-aminodecanico, etc.; e exemplos de
monmeros de lactam incluem -caprolactam, -laurolactam, etc.
Exemplos de outros cidos aminocarboxlicos aromticos incluem
cido paraaminometilbenzico.
[0150] Exemplos de monmeros de diamina incluem diaminas
alifticas tais como tetrametilenodiamina, hexametilenodiamina,
undecametilenodiamina, dodecametilenodiamina, 2,2,4-
trimetilhexametilenodiamina, 2,4,4-trimetilhexametilenodiamina, 5-
metilnonametilenodiamina, etc.; diaminas com um anl aromtico tais
40 / 67
como metaxililenodiamina, paraxililenediamina, etc.; diaminas com

uma estrutura alicclica tais como 1,3-bis(aminometil)cicloexano, 1,4-
bis(aminometil)cicloexano, 1-amino-3-aminometilhexano, 5,5-
trimetilcicloexano, bis(4-aminociclohexil)metano, bis(3-metil-4-
aminociclohexil)metano, 2,2-bis(4-aminociclohexil)propano,
bis(aminopropil)piperazina, aminoetilpiperazina, etc.; contudo, os
monmeros de diamina no so limitados a estes.
[0151] Exemplos de monmeros de cido dicarboxlico incluem
cidos alifticos dicarboxlicos tais como cido sucnico, cido
glutrico, cido adpico, cido pimlico, cido subrico, cido azelaico,
cido sebcico, cido dodecanodicarboxlico, etc.; cidos
dicarboxlicos com uma estrutura alicclica tais como cido
dicarboxlicocicloexano, cido dicarboxlicodecalina, cido
dicarboxliconorbornano, cido dicarboxlicotriciclodecano, cido
pentaciclododecanodicarboxlico, cido isoforonadicarboxlico, 3,9-
bis(2-carboxietil)-2,4,8,10-tetroxaspiro[5,5]undecano, etc.; cido
dicarboxlicos com um anel aromtico tais como cido tereftlico, cido
isoftlico, cido ftlico, cido 2-metiltereftlico, cido
naftalenodicarboxlico, cido bifenildicarboxlico, cido
tetralindicarboxlico, etc.; e seus alquil steres de cadeia curta;
contudo, os monmeros de cido dicarboxlico no so limitados a
estes. Especificamente, os alquil steres de cadeia curta incluem
aqueles com 1 a 3 tomos de carbono, que so, metil steres, etil
steres, propil steres e isopropil steres; e acima de tudo, metil
steres so preferidos.
[0152] Dentro de uma faixa no diminuidora dos efeitos vantajosos
da presente inveno, cidos tri ou mais policarboxlicos tais como
cido trimetlico, cido trimsico, cido piromeltico, cido tricarballico
e semelhantes podem tambm ser usados.
[0153] Alm disso, dentro de uma faixa no diminuidora dos
efeitos vantajosos da presente inveno, cidos monocarboxlicos tais
41 / 67
como cido benzico, cido propionico, cido butrico e semelhantes

podem tambm ser usados.
[0154] Entre as resinas de poliamida acima mencionadas, a resina
de poliamida (C1) que tem uma unidade de diamina contendo uma
unidade de metaxililenodiamina em uma quantidade de 70 mol% ou
mais e uma unidade de cido dicarboxlico contendo um cido
dicarboxlico ,-aliftico em uma quantidade de 70 mol% ou mais
preferida, do ponto de vista de obter um efeito de melhorar o
desempenho de barreira aos gases.
[0155] A unidade de diamina na resina de poliamida (C1) contm
uma unidade metaxililenodiamina preferencialmente em uma
quantidade de 70 mol% ou mais,mais preferencialmente 80 mol% ou
mais, ainda mais preferencialmente 90 a 100 mol%. Contendo a
unidade metaxililenodiamina em uma quantidade de 70 mol% ou mais
da unidade de diamina, o desempenho de barreira aos gases da
poliamida resultante pode ser eficientemente melhorada.
[0156] Exemplos de outros compostos capazes de constituir
qualquer outra unidade de diaminas que no a unidade de
diaminametaxilileno inclui uma diamina com um anel aromtico tal
como paraxililenodiamina, etc.: uma diamina com uma estrutura
alicclica tais como 1,3-bis(aminometil)cicloexano, 1,4-
bis(aminometil)cicloexano, etc.; uma diamina aliftica tal como
tetrametilenodiamina, hexametilenodiamina, nonametilenodiamina, 2-
metil-1,5-pentanodiamina, etc.; contudo, o composto no limitado a
estes.
da presente inveno, tri ou mais poliaminas tais como
bis(hexametileno)triamina e semelhantes podem tambm ser usados.
[0158] Alm disso, tambm dentro de uma faixa no diminuidora
dos efeitos vantajosos da presente inveno, monoaminas tais como
butilamina, hexilamina, octilamina e semelhantes podem tambm ser
usados.
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[0159] A unidade de cido dicarboxlico na resina de poliamida

(C1) contm uma unidade de cido dicarboxlico ,-aliftico
preferencialmente em uma quantidade de 70 mol% ou mais, mais
preferencialmente 75 mol% ou mais more, ainda mais
preferencialmente 80 a 100 mol%. Contendo o cido dicarboxlico
,-aliftico em uma quantidade de 70 mol% ou mais, o desempenho
de barreira aos gases da resina pode ser impedido de ser reduzido e a
cristalinidade da mesma pode tambm ser prevenida de ser muito
reduzida.
[0160] Exemplos do cido dicarboxlico ,-aliftico que podem
ser o material de partida incluem cido subrico, cido adpico, cido
azelaico, cido sebcico, etc. cido adpico e cido sebcico so
preferidos, e cido adpico mais preferido.
[0161] Exemplos de outras unidades de cido dicarboxlico que
no a unidade de cido dicarboxlico ,-aliftico incluem unidades
estruturais unidades estruturais derivadas de cidos dicarboxlicos
alicclicos tais como cido 1,3-cicloexanodicarboxlico, cido 1,4-
cicloexanodicarboxlico, etc.; unidades estruturais derivadas de cidos
dicarboxlicos aromticos tais como cido tereftlico, cido isoftlico,
ortocido ftlico, xilileno cido dicarboxlico, cido
naftalenodicarboxlico, etc.; contudo, as unidades no so limitados a
estes.
[0162] Como as unidades que constituem a resina de poliamida
(C1), unidades estruturais derivada de lactams tais como -
caprolactam, laurolactam, etc., e cidos aminocarboxlicos alifticos
tais como cido aminocaproico, cido aminoundecanico, etc., e
unidades estruturais derivadas de cidos aminocarboxlicos
aromticos tais como cido para-aminometilbenzico, etc. podem
tambm ser usados como unidades de copolimerizao, alm das
acima mencionadas unidade de diamina e unidade de cido
dicarboxlico, dentro de uma faixa no diminuidora dos efeitos
43 / 67
vantajosos da presente inveno.

[0163] Exemplos especficos da resina de poliamida (C) incluem
polimetaxililenoadipamida (poliamida MXD6),
poliparaxililenoadipamida, policaproamida (nylon 6),
poliexametilenoadipamida (nylon 66), poliexametilenosebacamida
(nylon 610), poliundecametilenoadipamida (nylon 116),
polihexametilenododecanamida (nylon 612), poliundecanamida (nylon
11), polidodecanamida (nylon 12) e suas amidas de copolimerizao,
etc. Uma isolada ou duas ou mais dessas poliamidas podem ser
usadas tanto isoladamentes quanto misturadas.
[0164] Resina de poliamida (C) produzida por meio de
policondensao por fuso (polimerizao por fuso).
[0165] Em um modo de policondensao por fuso, um sal de
nylon formado de uma diamina e um cido dicarboxlico aquecido na
presena de gua sob condies pressurizadas, e o sal de nylon
polimerizado em um estado fundido enquanto a gua adicionada e a
gua condensada so removidas.
[0166] Em um modo alternativo de policondensao por fuso,
uma diamina diretamente adicionada a uma fuso de cido
dicarboxlico, e a mistura policondensada. Nesse caso, afim de
manter o sistema reacional em um estado lquido homognio,
desejvel que a diamina seja continuamente adicionada ao cido
dicarboxlico durante a policondensao, enquanto o sistema reacional
aquecido de modo que a temperatura de reao no diminua os
pontos de fuso das oligoamidas e poliamidas formadas.
[0167] Ao sitema policondensao da resina de poliamida (C), um
composto contendo tomo de fsforo pode ser adicionado para
promover amidao e prevenir colorao durante a policondensao .
[0168] Exemplos do composto contendo tomo de fsforo incluem
cido dimetilfosfnico, cido hipofsforoso, hipofosfito de sdio,
hipofosfito de potssio, hipofosfito de ltio, hipofosfito de etila, cido
fenilfosforoso, fenilfosfonito de sdio, fenilfosfonito de etila, cido
44 / 67
fenilfosfnico, cido etilfosfnico, fenilfosfonato de sdio, fenilfosfonato

de dietila, etilfosfonato de sdio, etilfosfonato de potssio, cido
fsforoso, hidrogenofosfito de sdio, fosfito de sdio, fosfito de trietila,
fosfito de trifenila, cido pirofsforoso, etc. Contudo, o composto
contendo tomo de fsforo no limitado a estes compostos.
[0169] Destes, hipofosfitos de metal tais como hipofosfito de sdio,
hipofosfito de potssio, hipofosfito de ltio e semelhantes so
preferencialmente usados, uma vez que esses sais podem promover
efetivamente amidao e evitar a colorao.
[0170] A quantidade do composto contendo tomo de fsforo
adicionado ao sistema de policondensao da resina de poliamida (C)
preferencialmente 1 a 500 ppm, como reduzido concentrao do
tomo de fsforo da resina de poliamida (C), mais preferencialmente 5
a 450 ppm, ainda mais preferencialmente 10 a 400 ppm. Por meio do
controle da quantidade do composto contendo tomo de fsforo para
atender as condies acima, a colorao da poliamida durante a
policondensao e gelificao da poliamida pode ser prevenida.
Portanto, a aparncia dos artigos moldados usando a resina pode ser
mantida em um estado favorvel.
[0171] Alm disso, ao composto contendo tomo de fsforo, um
composto de metal alcalino preferencialmente adicionado ao sistema
de policondensao da resina de poliamida (C). Afim de evitar a
colorao da poliamida durante a policondensao , o composto
contendo tomo de fsforo deve ser usado na quantidade suficiente.
Contudo, o composto contendo tomo de fsforo pode promover a
gelificao de poliamida em alguns casos. Portanto, um composto de
metal alcalino ou um composto de metal alcalino terroso
preferencialmente caused to be co-present with the composto
contendo tomo de fsforo so as to control rate of amidao.
Exemplos of the composto include lcali metal/alkaline earth metal
hydrxidos such as ltio hydrxido, sdio hydrxido, potssio
45 / 67
hydrxido, magnsio hydrxido, clcio hydrxido, and barium

hydrxido; and lcali metal/alkaline earth metal acetates such as ltio
acetate, sdio acetate, potssio acetate, magnsio acetate, clcio
acetate, and barium acetate. However, the composto is not limited
these Exemplos especficos.
[0172] No caso onde the lcali metal composto is added to the
sistema de policondensao da resina de poliamida (C) , the ratio by
mole of the composto to the composto contendo tomo de fsforo is
preferencialmente adjusted to 0,5 to 2,0, more preferencialmente 0,6 to
1,8, further preferencialmente 0,7 to 1,5. Through controlling the ratio
to meet the above conditions, gel formation can be suppressed, while
amidao is promoted by the composto contendo tomo de fsforo.
[0173] Resina de poliamida (C) obtained through policondensao
por fuso is removed from the reactor, and then pelletized and dried
before use. Alternatively, polimerizao em fase slida may be carried
out in order to elevate the polimerization degree.
[0174] No particular limitation is imposed on the heating apparatus
for carrying out drying and polimerizao em fase slida, and any
known apparatus may be employed by a known method. Exemplos of
the heating apparatus which may be suitably employed in the invention
include a continuous mode heating drier; a rotary drum heating
apparatus called a tumble drier, a conical drier, a rotary drier, etc.; and
a conical heating apparatus having agitation blades therein, called
Nauta mixer.
[0175] Particularly when polimerizao em fase slida of poliamida
is carried out, among the aforementioned apparatuses, a rotary drum
heating apparatus is preferencialmente employed, since the rotary
drum heating apparatus realizes complete closure of the system, to
thereby carry out policondensao in a state where oxygen, a coloring
causal substance, is removed.
[0176] The resina de poliamida (C) produced through the
aforementioned steps is less colored and undergoes less gelation. Na
46 / 67
presente inveno, the resina de poliamida produced through the

aforementioned steps preferencialmente has a color difference test b*
value of JIS-K-7105 of 5 or less, more preferencialmente 3 or less,
further preferencialmente 1 or less. When the poliamida has a b* value
of 5 or less, um artigo moldado obtained through processing the resin
exhibits excellent whiteness, which ensures the value of the product.
[0177] Among indices of the polimerization degree of the resina de
poliamida (C), relative viscosity is generally employed.
[0178] Preferencialmente, the resina de poliamida (C) has a
relative viscosity of 1,50 to 4,20, more preferencialmente 1,60 to 3,60,
further preferencialmente 1,70 to 2,80.
[0179] Through controlling the relative viscosity of the resina de
poliamida (C) to meet the above conditions, consistent moldability can
be attained, to thereby produce molded articles of favorable
appearance.
[0180] Na presente inveno, the relative viscosity of the resina de
poliamida (C) means the value measured according to the method
described in the section of Exemplos.
[0181] O teor of the resina de poliamida (C) relativo quantidade
total of A composio de resina da presente inveno is
preferencialmente 0,5 to 10,0% por massa, more preferencialmente
1,0 to 8,0% por massa, ainda mais preferencialmente 2,0 to 6,0% por
massa.
[0182] When O teor is 0,5% por massa or more, O artigo moldado
using A composio de resina da presente inveno can have
improved desempenho de barreira aos gases. Por outro lado, when O
teor is 10,0% por massa or less, the influence of the resin on the
transparncia of O artigo moldado using A composio de resina da
presente inveno can be suppressed, and O artigo moldado can
therefore have boa transparncia.
[Other Resin Components than Resins (A) to (C)]
[0183] A composio de resina da presente inveno may contain
any other resin components than the resins (A) to (C) dentro de uma
47 / 67
faixa no diminuidora dos efeitos vantajosos da presente inveno.

[0184] Exemplos of such other resins include poliolefins and
modified resins thereof, elastomers having styrene inside the skeleton
thereof, etc.
<Additives>
da presente inveno, A composio de resina may contain additives
such as an anti-oxidant, a delustering agent, a heat stabilizer, a
weather stabilizer, a UV-absorber, a nucleating agent, a plasticizer, a
fire retardant, an antistatic agent, an anti-coloring agent, a lubricant, a
gelation inhibitor, an oxidation accelerator and the like, and clay such
as layered silicate or the like, nanofiller, etc.
(Oxidation Accelerator)
[0186] Adding an oxidation accelerator to A composio de resina
da presente inveno may further enhance the desempenho de
barreira aos gases of O artigo moldado using A composio de resina.
[0187] The oxidation accelerator may be any one capable of
exhibiting the above-mentioned effect, but do ponto de vista of
accelerating the oxidation of the resina de poliamida (C), those
containing a transition metal element are preferred. The transition
metal element is preferencialmente at least one selected from Group-
VIII transition metals in the periodic table of elements, manganese,
copper and zinc, and is, do ponto de vista of expressing oxygen
absorbability, more preferencialmente at least one selected from
cobalt, iron, manganese and nickel, ainda mais preferencialmente
cobalt.
[0188] As the oxidation accelerator of the type, the above-
mentioned metal elemental substances podem tambm ser usados in
the form of low-valence xidos, inorganic acid salts, organic acid salts
or complex salts thereof, in addition to the elemental substances. The
inorganic acid salts include halides such as chlorides, bromides, etc.;
carbonates, sulfates, nitrates, phosphates, silicates, etc. Por outro
lado, the organic acid salts include carboxilatos, sulfonates, fosfonatos,
48 / 67
etc. In addition, transition metal complexes with -diketones, -

ketoacid steres or the like are also usable.
[0189] In particular, na presente inveno, at least one selected
from carboxilatos, carbonates, acetylacetonate complexes, xidos and
halides containing the above-mentioned metal atom is
preferencialmente used, as capable of favorably expressing oxygen
absorbability, at least one selected from octanoates, neodecanoates,
naphthenates, stearates, acetates, carbonates and acetylacetonate
complexes is more preferencialmente used, and use of a cobalt
carboxilato such as cobalt octanoate, cobalt naphthenate, cobalt
acetate, cobalt stearate or the like is even more preferred.
[0190] One alone or two or more of the above-mentioned oxidation
accelerators may be used either singly or as combined.
[0191] No caso onde the oxidation accelerator is one containing a
transition metal element, O teor thereof is, do ponto de vista of
accelerating oxidation of the resina de poliamida (C) to enhance the
oxygen absorbability of molded articles, preferencialmente 10 to 1,000
ppm as the transition metal concentration in wrapping/packaging
materials, more preferencialmente 20 to 500 ppm, ainda mais
preferencialmente 40 to 300 ppm.
[0192] The transition metal concentration in molded articles may be
measured according to a known method, por exemplo, according to
ICP emission Spectrochemical analysis, ICP mass spectrometry,
fluorescent X-ray analysis, etc.
[0193] The above-mentioned oxidation accelerator functions not
only as a catalyst for accelerating oxidation of the resina de poliamida
(C) but also as a catalyst for oxidation of unsaturated carbon bond-
having organic compostos and compostos having a secondary or
tertiary tomo de hidrognio in the molecule. Consequently, in A
composio de resina da presente inveno, various compostos such
as polmeros of unsaturated hydrocarbons such as polibutadiene or
poliisoprene or oligomers thereof, compostos having a xililenodiamina
49 / 67
skeleton, and compostos added with a functional group for enhancing

the miscibility of those compostos with polisteres may be
incorporated, in addition to the above-mentioned oxidation accelerator,
for further enhancing oxygen absorbability.
[Method for Producing Composio de resina]
[0194] The method for producing A composio de resina is not
specifically limited. Por exemplo, A resina de polister (A), A resina de
polister (B) and the resina de poliamida (C) may be melt-kneaded in
an extruder to produce the composition. In doing so, the three may be
mixed and melt-kneaded all at a time, or for the purpose of enhancing
the kneading dispersibility of the resin component having a small
content ratio, a master batch may be previously prepared and again
the three are mixed and melt-kneaded to produce A composio de
resina da presente inveno.
[Molded Article]
[0195] A composio de resina da presente inveno may find a
variety of uses for which desempenho de barreira aos gases is
required, such as wrapping/packaging materials and industrial
materials. A composio de resina may be molded to give molded
articles such as films, sheets and containers of bottles, cups, etc.
[0196] O artigo moldado da presente inveno has at least one
layer formed of A composio de resina. O artigo moldado da presente
inveno may have a single-layer structure of A composio de resina,
or a laminate structure including at least one layer formed of A
composio de resina and, on at least one surface thereof, another
thermoplastic resin layer (e.g., uma resina de polister layer or an
adhesive resin layer). The laminate structure may be composed of two
or more layers formed of A composio de resina.
[0197] At least a part of O artigo moldado da presente inveno
may be stretched at a draw ratio of 5 to 20 times to give a secondary
molded article. The secondary molded article secures excellent
transparncia and desempenho de barreira aos gases even in the
50 / 67
stretched part thereof, and is therefore favorable for use that requires
desempenho de barreira aos gases and transparncia.
[0198] The method for producing O artigo moldado da presente
inveno is not specifically limited, and any known method is
employable. Por exemplo, films or sheets of A composio de resina
may be produced by extruding the melt of the composition by means of
an extruder through a T die, a circular die, or the like. The thus-
produced film may be stretched to provide a stretched film. A bottle-
shaped packaging container may be produced by injecting the melt of A
composio de resina from an injection molding machine to a die, to
thereby provide a preform, and blow-stretching the preform at a
stretching temperatura. In this case, the mouth and therearound of the
bottle is not stretched too much and therefore has uma taxa de
estiramento menor do que 5 vezes, while the bottle body part is
stretched in a draw ratio of 5 times or more. In any case, the bottle
formed of A composio de resina da presente inveno can have
excellent transparncia and excellent desempenho de barreira aos
gases in any portion thereof.
[0199] Containers such as trays and cups may be produced by
injecting the melt of A composio de resina from an injection molding
machine to a die, or through a molding technique such as vacuum
forming or air pressure forming. The method for producing a molded
product from A composio de resina da presente inveno is not
limited to the aforementioned techniques, and various other methods
may be applied.
[0200] O artigo moldado da presente inveno tem excelente
transparncia in any portion stretched at a high draw ratio or a low
draw ratio.
[0201] The haze of O artigo moldado da presente inveno in the
unstretched portion (where the draw ratio is 1) or na poro estirada at
uma taxa de estiramento menor do que 5 vezes is preferencialmente
5,0% or less, more preferencialmente 4,2% or less, ainda mais
51 / 67
preferencialmente 4,0% or less, still more preferencialmente 3,7% or

less, further more preferencialmente 3,3% or less.
[0202] The haze of O artigo moldado da presente inveno na
poro estirada at a draw ratio of 5 to 20 times is preferencialmente
4,2% or less, more preferencialmente 4,0% or less, ainda mais
preferencialmente 3,7% or less.
[0203] The haze value of O artigo moldado is one measured
according to the method described in the section of Exemplos.
[0204] Regarding the size of the disperse particles of the resina de
poliamida (C) in the portion of O artigo moldado da presente inveno
stretched at a draw ratio of 5 to 20 times, it is desirable that the major
diameter thereof is 1,0 to 8,0 m and the minor diameter thereof is 0,01
to 0,50 m. The major diameter and the minor diameter are measured
according to the method described in the section of Exemplos.
[0205] Na poro estirada at a draw ratio of 5 to 20 times, when
the disperse particles of the resina de poliamida (C) are dispersed to
have the size falling within the range, both the transparncia and the
desempenho de barreira aos gases can be realized in a more preferred
state.
[0206] O artigo moldado da presente inveno has good
desempenho de barreira aos gases.
[0207] The oxygen transmission coefficient of O artigo moldado da
presente inveno is, when A composio de resina da presente
inveno does not contain an oxidation accelerator, preferencialmente
1,50 [ccmm/(m2day0,21 atm)] or less, more preferencialmente 1,40
[ccmm/(m2day0,21 atm)] or less, ainda mais preferencialmente 1,30
[ccmm/(m2day0,21 atm)] or less.
[0208] The oxygen transmission coefficient of O artigo moldado da
presente inveno is, when A composio de resina da presente
inveno contains an oxidation accelerator, preferencialmente 0,10
[ccmm/(m2day0,21 atm)] or less, more preferencialmente 0,06
[ccmm/(m2day0,21 atm)] or less, ainda mais preferencialmente 0,05
52 / 67
[ccmm/(m2day0,21 atm)] or less, still more preferencialmente 0,03

[ccmm/(m2day0,21 atm)] or less.
[0209] The dixido de carbono transmission coefficient of O artigo
moldado da presente inveno is preferencialmente 30,0 [ccmm/
(m2day)] or less, more preferencialmente 27,0 [ccmm/(m2day)] or
less, ainda mais preferencialmente 25,0 [ccmm/(m2day)].
[0210] The oxygen transmission coefficient and the dixido de
carbono transmission coefficient of O artigo moldado are values
measured according to the description in the section of Exemplos.
[0211] Recipientes de empacotamente using A composio de
resina da presente inveno can be applied to keeping or storage of
various goods. Exemplos of such goods include beverages,
seasonings, food grains, liquid and solid processed foods requiring
aseptic packaging or heat sterilization, chemicals, liquid commodities,
pharmaceuticals, semiconductor integrated circuits, electronic devices,
etc.
EXEMPLOS
[0212] A presente inveno will next be described in more detail by
way of exemplos, which should not be construed as limiting the
invention thereto. Materials, analysis and measurement methods, and
molded article production methods employed in the Exemplos and
Comparative Exemplos are described below.
1. Materials
[0213] The following materials were employed as pellets in
Exemplos and Comparative Exemplos.
<Resina de polisters>
[0214] The following resina de polisters were used. In use,
pellets of each material dried at 150C for 6 hours, using a
dehumidifying drier, to have a water content of 30 ppm were used.
[0215] PET (A-1): Manufactured by INVISTA Corporation, trade
name "Polishield 2400", viscosidade intrnseca = 0,80 dl/g,
copolmeroized PET resin containing 0,1 mol% of sdio sulfoisoftalato
unit and 3,3 mol% of cido isoftlico unit relative to 100 mol% of the
53 / 67
unidade de cido dicarboxlico therein (resin corresponding to A resina

de polister (A) na presente inveno).
[0216] PET (A-2): Manufactured by INVISTA Company, trade name
"Polishield 2300K", viscosidade intrnseca = 0,80 dl/g, copolmeroized
PET resin containing 0,1 mol% of sdio sulfoisoftalato unit and 3,3 mol
% of cido isoftlico unit relative to 100 mol% of the unidade de cido
dicarboxlicos therein and containing 80 ppm of cobalt metal (resin
corresponding to A resina de polister (A) na presente inveno).
[0217] PET (R): Manufactured by Japan Unipet Company, trade
name "UNIPET BK-2180", viscosidade intrnseca = 0,83 dl/g,
copolmeroized PET resin containing 1,5 mol% of cido isoftlico unit
relative to 100 mol% of the unidade de cido dicarboxlicos therein
(used in Comparative Exemplos).
[0218] PET (B-1): Manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Co.,
Ltd., trade name "ALTESTER", viscosidade intrnseca = 0,71 dl/g,
copolmeroized PET resin containing 20 mol% of spiroglicol unit
relative to 100 mol% of the unidade de diols therein (resin
corresponding to A resina de polister (B), especially to A resina de
polister (B1) in the first embodiment da presente inveno).
[0219] PET (B-2): Manufactured by Eastman Chemical Company,
trade name "Eastar Copolister 6763", viscosidade intrnseca = 0,75
dl/g, copolmeroized PET resin containing 33 mol% of 1,4-
cicloexanodimetanol unit relative to 100 mol% of the unidade de diols
therein (resin corresponding to A resina de polister (B), especially to A
resina de polister (B2) in the second embodiment da presente
inveno).
<Resina de poliamida>
[0220] PA1: Manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd.,
trade name "MX Nylon", polimetaxililenoadipamida, relative viscosity =
2,1, b* value: -3 (resin corresponding to the resina de poliamida (C) na
presente inveno).
2. Analytical Method and Measurement Method
[0221] The physical properties of the materials and the polister
54 / 67
containers used in Exemplos and Comparative Exemplos were

analyzed and measured according to the following methods.
(1) Viscosidade intrnseca of Resina de polister
[0222] According to JIS K7367-1, resina de polister was dissolved
in a mixed solvent of fenol/1,1,2,2-tetracloroetano = 60/40 (ratio by
mass), kept at 25C, and measured using a Cannon-Fenske
viscometer.
(2) Relative Viscosity of Resina de poliamida
[0223] 0,2 g of resina de poliamida was weighed accurately, and
dissolved in 20 ml of 96 mass% sulfuric acid with stirring at 20 to 30C.
After completely dissolved, 5 ml of the solution was immediately taken
in a Cannon-Fenske viscometer, left in a constant-temperatura bath at
25C for 10 minutes, and then the dropping time (t) of the solution was
measured. The dropping time (t0) of 96 mass% sulfuric acid was
measured similarly. Using the measured values of t and t 0, the relative
viscosity of the resina de poliamida was calculated according to the
following equation.
Relative Viscosity = t/t0
(3) Thickness of Bottle Body
[0224] The thickness of the body of the bottle produced in
Exemplos and Comparative Exemplos was measured as follows.
[0225] The thickness of the part at a position of 70 mm from the
bottle bottom was measured using a magnetic thickness meter
(manufactured by Olympus Corporation, trade name: "MAGNAMIKE
8500" in 4 directions (0, 90, 180, 270), and the mean value of the
found data was referred to as the thickness of the bottle body.
(4) Haze of Molded Article (bottle)
[0226] The haze of the bottle produced in Exemplos and
Comparative Exemplos was measured, at a portion thereof where the
draw ratio was less than 5 times and at a portion where the draw ratio
was 5 times or more, according to JIS K7105.
[0227] As the portion where the draw ratio was less than 5 times, a
test piece prepared by longitudinally dividing the mouth of the bottle
into two (draw ratio: 1 time, that is, unstretched part) was used; and as
55 / 67
the portion where the draw ratio was 5 times or more, a test piece
prepared by cutting the bottle body into a size of 5 cm 5 cm (draw
ratio: 12,3 times) was used. Using a color/turbidity meter
(manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd., trade name
"COH-400"), these samples were analyzed to measure the haze
thereof.
(5) Disperse Particle Size of Resina de poliamida in Molded Article
(bottle)
[0228] The average major diameter L (m) and the average minor
diameter W (m) of the disperse particles of the resina de poliamida in
the bottle produced in Exemplos and Comparative Exemplos were
measured as follows.
[0229] The mouth (portion where the areal draw ratio was less than
5 times) and the body (portion where the areal draw ratio was 5 times
or more) of the bottle produced in Exemplos and Comparative
Exemplos were cut out, and the piece was buried in an epoxy resin in
such a manner that the cross section thereof could be in the thickness
direction and the MD direction of the bottle.
[0230] Next, using an ultra-microtome (manufactured by Boeckeler
Instruments Corporation, trade name "CR-X Power Tome XL"), a
ultrathin piece for observation having a thickness of 0,1 m was cut out
of the buried sample. The thus-prepared ultrathin piece was stained
with ruthenium chloride, and observed on a copper mesh with an
electronic microscope. Based on the density difference between the
stained resina de poliamida and resina de polister, the dispersion
condition of the sample was observed.
[0231] Among the individual disperse particles of the resina de
poliamida existing in a size of 5 m in length and 5 m in width (area
25 m2) of each sample of the bottle mouth and the bottle body, two
parallel tangent lines were drawn at both sides of the longest part, and
the distance between the tangent lines was referred to as the major
diameter L. Next, a line crossing each particle in parallel to the two
56 / 67
tangent lines was drawn, and the length of the longest line overlapping
with the particle was measured, and the length was referred to as the
minor diameter W. In that manner, 300 disperse particles of the resina
de poliamida were analyzed to measure the major diameter L and the
minor diameter W of each particle of the resina de poliamida. The
number average values of the major diameter and the minor diameter
thus measured are shown in Tables 1 to 3.
<Observation Condition>
Electronic microscope: scanning electronic microscope, manufactured
by Hitachi High-Technologies Corporation, trade name "S4800"
Accelerating voltage: 30 kV
Current: 10 mA
Measurement magnification: 25,000 times
Measurement mode: TEM
(6) Measurement of Oxygen Transmission Rate

[0232] An oxygen transmission rate measuring device
(manufactured by MOCON Inc., trade name "OX-TRAN 2/61") was
used.
[0233] 100 mL of water was put into a 500-mL bottle produced in
Exemplos 1 to 12 and Comparative Exemplos 1 to 21, and under the
condition at an oxygen partial pressure of 0,21 atm, 1-atm nitrogen was
circulated inside the bottle at a flow rate of 20 mL/min, under the
condition of a bottle inside humidity of 100 %RH (relative humidity), an
outside humidity of 50 %RH and a temperatura of 23C, and after 200
hours, the oxygen amount in the nitrogen having been circulated inside
the bottle was detected with a coulometric sensor to determine the
oxygen transmission rate. The measured value of the oxygen
transmission rate was converted into the oxygen transmission
coefficient according to the following equation.
[0234] Oxygen transmission coefficient [ccmm/(m2day0,21 atm)]
= oxygen transmission rate [cc/(day0,21 atm)] bottle mean thickness
[mm]/surface area [m2]/0,21 [atm] (surface area = 0,04 m2)
[0235] Regarding the bottles produced in Exemplos 13 to 18 and
57 / 67
Comparative Exemplos 22 to 25, the oxygen transmission rate thereof

was measured in the same manner as above except that the period of
200 hours was changed to 90 days, and the oxygen transmission
coefficient after 90 days was calculated.
(7) Measurement of Dixido de carbono Transmission Rate
[0236] A dixido de carbono measuring device (manufactured by
MOCON Inc., trade name "PERMATRAN-C MODEL 10") was used.
[0237] After bottle production, 500 ml of water and 3,95 g of dry ice
were put into each bottle in such a controlled manner that the dixido
de carbono dissolution amount in water inside the bottle could be 4,0
gas volume, the bottle was capped and left in an environment at 23C
and 50 %RH (relative humidity) for 24 hours.
[0238] Subsequently, the dixido de carbono transmission rate of
the bottle [cc/day] was measured, and converted into the dixido de
carbono transmission coefficient according to the following equation.
[0239] Dixido de carbono transmission coefficient [ccmm/
(m2day)] = dixido de carbono transmission rate [cc/day] bottle mean
thickness [mm]/surface area [m2] (surface area = 0,04 m2)
Exemplos 1 to 18, Comparative Exemplos 1 to 25
[0240] Resins of the kind and the amount shown in Tables 1 to 3
were mixed at room temperatura (25C) for 10 minutes, and extruded
using a twin-screw extruder (manufactured by Toshiba Machine Co.,
Ltd., Model "TEM37-BS") under the condition at a temperatura of
280C and an extrusion rate of 15 kg/h while the cylinder was
depressurized with a vacuum pump, and the extruded strands were
pelletized, and dried in vacuum under the condition of 150C for 6
hours to give pellets of A composio de resina da presente inveno.
[0241] Next, using an injection-molding machine (Injection-Molding
Machine Model "KS-100TI" manufactured by Kata Systems Co., Ltd.,
eight-shot molding), the above-mentioned pellets were injection-
molded into a single-layer preform (total length: 95 mm, outer diameter:
22 mm, thickness: 2,8 mm).
(Single-Layer Preform Molding Condition)
58 / 67
Injection cylinder temperatura: 280C

Resin channel temperatura in mold: 280C
Mold cooling water temperatura: 15C
[0242] Further, after cooled, the formed single-layer preform was
blow-molded in a mode of biaxially stretching, using a blow-molding
machine (manufactured by Frontier, Inc., Model "EFB1000ET"),
thereby giving a single-layer bottle (height: 223 mm, body diameter: 65
mm, volume: 500 mL, wall thickness: 250 m, mass: 20,5 g).
(Biaxially-stretching blow-molding condition)
Preform heating temperatura: 103C
Pressure to stretching rod: 0,5 MPa
Primary blow pressure: 0,5 MPa
Secondary blow pressure: 2,5 MPa
Primary blow delay time: 0,32 sec
Primary blow time: 0,28 sec
Secondary blow time: 2,0 sec
Blow exhaust time: 0,6 sec
Mold temperatura: 30C
[0243] The single-layer bottles produced in the manner as above
were measured to determine the properties thereof de acordo com o
apresentado acima em-mentioned methods. The results are shown in
Tables 1 to 3.
Table 1
Ingredients of Composio de resina Test Results
Resina
de Transparnci Domain Size of Resina de poliamida Desempenho de
Resina de polisters
poliamid a (C) barreira aos gases
a
Resin Resin Dixido
- Resin (C) Haze Areal Draw Ratio
(A) (B) Oxygen de
Transmi carbono
ssion Transmi
PET PET PET Areal Draw portion at less portion at 5 times
PA1 Coeffici ssion
(R) (A-1) (B-1) Ratio than 5 times or more
ent Coefficie
nt
portion
portion at major minor major minor
at less
(mass (mass 5 times or diame diamet diamet diamet
(mass%) (mass%) than 5 (*1) (*2)
%) %) more ter er er er
times
(%) (m) (m) (m) (m)
(%)
Exemplo 1 - 92,5 2,5 5,0 2,7 4,1 0,7 0,5 1,3 0,08 1,12 20,8
Exemplo 2 - 90,0 5,0 5,0 3,1 3,4 0,7 0,6 1,3 0,08 1,18 21,9
Exemplo 3 - 85,0 10,0 5,0 4,2 3,1 0,7 0,6 1,2 0,08 1,24 24,3
Exemplo 4 - 94,5 2,5 3,0 2,1 3,1 0,7 0,6 1,2 0,08 1,22 22,0
59 / 67
Exemplo 5 - 92,0 5,0 3,0 2,6 2,8 0,7 0,6 1,1 0,08 1,29 23,2
Exemplo 6 - 87,0 10,0 3,0 4,1 2,5 0,7 0,6 1,2 0,08 1,35 25,8
Exemplo
Comparativo 97,0 - - 3,0 2,5 4,4 0,8 0,7 1,3 0,11 1,38 27,1
1
Exemplo
Comparativo 95,0 - - 5,0 3,7 7,1 0,9 0,7 1,2 0,12 1,26 25,5
2
Exemplo
Comparativo - 95,0 - 5,0 3,6 5,1 0,7 0,6 1,1 0,08 1,07 19,5
3
Exemplo
Comparativo - 75,0 20,0 5,0 5,1 2,5 0,7 0,6 1,1 0,08 1,34 27,0
4
Exemplo
Comparativo - 55,0 40,0 5,0 8,2 1,8 0,7 0,6 1,2 0,08 1,60 35,8
5
Exemplo
Comparativo 92,5 - 2,5 5,0 2,8 6,2 0,8 0,7 1,3 0,11 1,28 15,8
6
Exemplo
Comparativo 90,0 - 5,0 5,0 3,6 5,0 0,8 0,7 1,3 0,11 1,32 26,1
7
Exemplo
Comparativo 85,0 - 10,0 5,0 4,1 4,4 0,8 0,7 1,3 0,11 1,29 25,3
8
Exemplo
Comparativo 75,0 - 20,0 5,0 6,5 3,1 0,8 0,7 1,3 0,11 1,34 29,4
9
Exemplo
Comparativo 55,0 - 40,0 5,0 9,3 2,7 0,8 0,7 1,3 0,11 1,61 35,8
10
Exemplo
Comparativo 100,0 - - - 0,6 0,5 - - - - 1,88 37,3
11
Exemplo
Comparativo - 100,0 - - 0,7 0,7 - - - - 1,88 37,4
12
Exemplo
Comparativo - - 100,0 - 0,7 0,6 - - - - 4,12 88,2
13
(*1) unit of oxygen transmission rate: ccmm/(m2day0,21 atm)
(*2) unit of dixido de carbono transmission rate: ccmm/(m2day)
60/3
Table 2
Resina de Transparn Domain Size of Resina de poliamida Desempenho de
Resina de polisters
poliamida cia (C) barreira aos gases
Resin Resin Dixido
- Resin (C) Haze Areal Draw Ratio
(A) (B) Oxygen de
Transmis carbono
sion Transmis
PET PET PET Areal Draw portion at less portion at 5
PA1 Coefficie sion
(R) (A-1) (B-2) Ratio than 5 times times or more
nt Coefficien
t
port port
ion ion
at at 5
major minor major minor
less tim
(mas (mas (mas diamet diamet diame diame
(mass%) tha es (*1) (*2)
s%) s%) s%) er er ter ter
n5 or
(m) (m) (m) (m)
tim mor
es e
(%) (%)
Exemplo 7 - 92,5 2,5 5,0 2,6 4,2 0,7 0,5 1,3 0,08 1,14 21,1
Exemplo 8 - 90,0 5,0 5,0 3,0 3,5 0,7 0,6 1,3 0,08 1,20 22,2
Exemplo 9 - 85,0 10,0 5,0 4,1 3,2 0,7 0,6 1,2 0,08 1,26 24,7
Exemplo 10 - 94,5 2,5 3,0 2,0 3,2 0,7 0,6 1,2 0,08 1,24 22,4
Exemplo 11 - 92,0 5,0 3,0 2,5 2,9 0,7 0,6 1,1 0,08 1,31 23,6
Exemplo 12 - 87,0 10,0 3,0 4,0 2,6 0,7 0,6 1,2 0,08 1,37 26,1
Exemplo
Comparativo - 75,0 20,0 5,0 5,0 2,6 0,7 0,6 1,1 0,08 1,36 27,4
14
Exemplo
Comparativo - 55,0 40,0 5,0 8,1 1,9 0,7 0,6 1,2 0,08 1,62 36,3
15
Exemplo
Comparativo 92,5 - 2,5 5,0 2,7 6,3 0,8 0,7 1,3 0,11 1,30 16,0
16
Exemplo
Comparativo 90,0 - 5,0 5,0 3,5 5,1 0,8 0,7 1,3 0,11 1,34 26,5
17
Exemplo
Comparativo 85,0 - 10,0 5,0 4,0 4,5 0,8 0,7 1,3 0,11 1,31 25,7
18
Exemplo
Comparativo 75,0 - 20,0 5,0 6,4 3,2 0,8 0,7 1,3 0,11 1,36 29,8
19
Exemplo
Comparativo 55,0 - 40,0 5,0 9,2 2,8 0,8 0,7 1,3 0,11 1,63 36,3
20
Exemplo
Comparativo - - 100,0 - 0,7 0,6 - - - - 4,18 89,5
21
(*1) unit of oxygen transmission rate: ccmm/(m2day0,21 atm)
(*2) unit of dixido de carbono transmission rate: ccmm/(m2day)
Table 3
Resina
de Transparnci Domain Size of Resina de poliamida Desempenho de barreira
Resina de polisters
poliamid a (C) aos gases
a
Resin Resin Oxygen Dixido de
- Resin (A) Haze Areal Draw Ratio Transmissio carbono
(B) (C)
n Coefficient Transmissio
PET (R) PET (A- PET (A- PET (B- PA1 Areal Draw portion at less portion at 5 times
(after 90 n Coefficient
1) 2) 1) Ratio than 5 times or more
days)
61/3
portio portio
n at n at 5 major minor major minor
(mass (mass (mass (mass less times diamete diamete diamete diamete
(mass%) (*1) (*2)
%) %) %) %) than 5 or r r r r
times more (m) (m) (m) (m)
(%) (%)
Exemplo 13 - - 92,5 2,5 5,0 2,7 4,1 0,7 0,5 1,3 0,08 0,02 20,9
Exemplo 14 - - 90,0 5,0 5,0 3,1 3,4 0,7 0,6 1,3 0,08 0,02 21,9
Exemplo 15 - - 85,0 10,0 5,0 4,2 3,1 0,7 0,6 1,2 0,08 0,02 24,4
Exemplo 16 - - 94,5 2,5 3,0 2,1 3,1 0,7 0,6 1,2 0,08 0,02 22,1
Exemplo 17 - - 92,0 5,0 3,0 2,6 2,8 0,7 0,6 1,1 0,08 0,02 23,2
Exemplo 18 - - 87,0 10,0 3,0 4,1 2,5 0,7 0,6 1,2 0,08 0,02 25,8
Exemplo
Comparativ - - 95,0 - 5,0 3,6 5,1 0,7 0,6 1,1 0,08 0,02 19,6
o 22
Exemplo
Comparativ - - 75,0 20,0 5,0 5,1 2,5 0,7 0,6 1,1 0,08 0,02 27,0
o 23
Exemplo
Comparativ - - 55,0 40,0 5,0 8,2 1,8 0,7 0,6 1,2 0,08 0,02 35,8
o 24
Exemplo
Comparativ - - 100,0 - - 0,7 0,7 - - - - 1,89 37,6
o 25
(*1) unit of oxygen transmission coefficient: ccmm/ (m2day0,21 atm)
(*2) unit of dixido de carbono transmission coefficient: ccmm/ (m2day)
[0244] The bottles produced using A composio de resina da

presente inveno in Exemplos 1 to 18 all had a low haze and were
excellent in transparncia in any portion thereof where the stretching
draw ratio was 5 times or more or was less than 5 times, and in
addition, the bottles all had good "passive" desempenho de barreira
aos gases. In particular, the bottles produced using A composio de
resina da presente inveno in Exemplos 13 to 18 were not only
excellent in transparncia but also exhibited excellent oxygen
absorbability.
[0245] Por outro lado, the bottles produced Nos Exemplos
Comparativos 1, 2, 3 and 22 using a composio de resina not
containing A resina de polister (B) had poor transparncia in the
portion thereof where the stretching draw ratio was 5 times or more.
[0246] Nos Exemplos Comparativos 4, 5, 14, 15, 23 and 24, the
amount da resina de polister (B) incorporated in A composio de
resina was large, and therefore, the produced bottles had boa
transparncia in the portion thereof where the stretching draw ratio was
5 times or more, but had poor transparncia in the portion thereof
62/3
where the stretching draw ratio was less than 5 times.

[0247] Nos Exemplos Comparativos 6, 7, 8, 16, 17 and 18, a
composio de resina using a polister (R) not containing a sulfocido
isoftlico unit and a sal de metal de cido sulfoisoftlico unit, in place
da resina de polister (A), was used, and therefore the transparncia of
the produced bottles in the portion thereof where the stretching draw
ratio was 5 times or more was worse than that of the bottles in
Exemplos.
[0248] No caso onde a composio de resina using a polister (R)
not containing a sulfocido isoftlico unit and sal de metal de cido
sulfoisoftlico unit in place da resina de polister (A), and where the
amount da resina de polister (B) incorporated in A composio de
resina was increased, as Nos Exemplos Comparativos 9, 10, 19 and
20, the transparncia of the produced PET bottles in the portion thereof
where the stretching draw ratio was 5 times or more was bettered but
was poor in the portion thereof where the draw ratio was less than 5
times.
[0249] Nos Exemplos Comparativos 11, 12, 13, 21 and 25, a
composio de resina not containing the resina de poliamida (C) was
used, and therefore the desempenho de barreira aos gases of the
produced bottles was poor.
INDUSTRIAL APPLICABILITY
[0250] A composio de resina and O artigo moldado da presente
inveno satisfy both excellent desempenho de barreira aos gases and
excellent transparncia, and are useful as sheets, films, containers
such as bottles, cups, etc., and also as various molded products,
composite materials (for exemplo, multilayer films, multilayer
containers), etc.
1/4
REIVINDICAES
1. A composio de resina com base em polister comprising uma
resina de polister (A) that has a unidade de cido dicarboxlico contendo unidades
selecionadas a partir de uma unidade de cido sulfoftlico and a unidade de sal de
metal de cido sulfoftlico em uma quantidade total de 0,01 to 15,0 mol% e uma
unidade de diol, uma resina de polister (B) having uma estrutura acetal cclica or
an estrutura hidrocarboneto alicclica, and a resina de poliamida (C), wherein O teor
da resina de polister (B) na composio de resina 0,5 to 15,0% por massa.
2. A composio de resina com base em polister according to
claim 1, tal que a resina de polister (A) has a unidade de cido dicarboxlico
containing units selected from a sulfocido isoftlico unit and a sal de metal de
cido sulfoisoftlico unit em uma quantidade total de 0,01 to 15,0 mol% and a
unidade de cido tereftlico em uma quantidade de 70 mol% or more, e uma
unidade de diol containing uma unidade de glicol aliftico having 2 to 24 tomos de
carbono em uma quantidade de 70 mol% or more.
claim 1 or 2, tal que a resina de polister (A) has a unidade de cido dicarboxlico
containing a sal de metal de cido sulfoisoftlico unit em uma quantidade de 0,01 to
15,0 mol%, an cido isoftlico unit em uma quantidade de 1 to 10 mol% and a
unidade de cido tereftlico em uma quantidade de 70 mol% or more, e uma
unidade de diol containing uma unidade de glicol aliftico having 2 to 6 tomos de
carbono em uma quantidade de 70 mol% or more.
4. A composio de resina com base em polister according to any
of claims 1 to 3, wherein O teor da resina de polister (A) na composio de resina
75,0 to 99,0% por massa.
of claims 1 to 4, tal que a resina de polister (B) is uma resina de polister having at
least one of a unidade de cido dicarboxlico having uma estrutura acetal cclica e
uma unidade de diol having uma estrutura acetal cclica.
claim 5, wherein the unidade de diol having uma estrutura acetal cclica is derived
from um composto representado pela seguinte frmula geral (1) or (2):
2/4
wherein R1 each representa independentemente a grupo orgnico

divalente selecionado a partir do grupo consisting of a grupo aliftico divalente com
1 a 10 tomos de carbono, um grupo alicclico divalente com 3 a 12 tomos de
carbono, and um grupo aromtico divalente com 6 a 18 tomos de carbono; and R2
represents um grupo orgnico monovalente selecionado a partir do grupo consisting
of a grupo aliftico monovalente com 1 a 10 tomos de carbono, um grupo alicclico
monovalente com 3 a 12 tomos de carbono, and um grupo aromtico monovalente
com 6 a 18 tomos de carbono.
claim 5, wherein the unidade de cido dicarboxlico having uma estrutura acetal
cclica is derived from um composto representado pela seguinte frmula geral (3) or
(4):
wherein R3 each representa independentemente a grupo orgnico

divalente selecionado a partir do grupo consisting of a grupo aliftico divalente com
1 a 10 tomos de carbono, um grupo alicclico divalente com 3 a 12 tomos de
carbono, and um grupo aromtico divalente com 6 a 18 tomos de carbono, R4
each representa independentemente a tomo de hidrognio, a grupo metila, an
grupo etila or um grupo isopropila; and R5 represents um grupo orgnico
monovalente selecionado a partir do grupo consisting of a grupo aliftico
monovalente com 1 a 10 tomos de carbono, um grupo alicclico monovalente com
3 a 12 tomos de carbono, and um grupo aromtico monovalente com 6 a 18
tomos de carbono.
of claims 1 to 4, tal que a resina de polister (B) is uma resina de polister having at
least one of a unidade de cido dicarboxlico com uma estrutura hidrocarboneto
alicclica e uma unidade de diol com uma estrutura hidrocarboneto alicclica.
claim 8, wherein the estrutura hidrocarboneto alicclica is a estrutura de cicloalcano
having 3 to 10 tomos de carbono.
3/4

claim 8 or 9, wherein the unidade de diol com uma estrutura hidrocarboneto
alicclica is derived from um composto representado pela seguinte frmula geral (5):
wherein R6 each representa independentemente a grupo aliftico

divalente com 1 a 10 tomos de carbono; R7 represents um grupo orgnico
monovalente selecionado a partir do grupo consisting of a grupo aliftico
monovalente com 1 a 10 tomos de carbono, um grupo alicclico monovalente com
3 a 12 tomos de carbono, and um grupo aromtico monovalente com 6 a 18
tomos de carbono; a indicates 0 or 1, and when a = 0, the grupo hidroxila directly
bonds to the anel cicloexano; and b indica um nmero inteiro de 0 to 4.
claim 8 or 9, wherein the unidade de cido dicarboxlico com uma estrutura
hidrocarboneto alicclica is derived from um composto representado pela seguinte
frmula geral (6):
wherein R8 each representa independentemente a grupo aliftico

divalente com 1 a 10 tomos de carbono; R9 each independently a tomo de
hidrognio, a grupo metila, an grupo etila or um grupo isopropila; R10 represents um
grupo orgnico monovalente selecionado a partir do grupo consisting of a grupo
aliftico monovalente com 1 a 10 tomos de carbono, um grupo alicclico
monovalente com 3 a 12 tomos de carbono, and um grupo aromtico monovalente
com 6 a 18 tomos de carbono; c indicates 0 or 1, and when c = 0, the group
-COOR9 directly bonds to the anel cicloexano; and d indica um nmero inteiro de 0
to 4.
of claims 1 to 11, tal que a resina de poliamida (C) is a resina de poliamida (C1) that
has a unidade de diamina containing a metaxililenounidade de diamina em uma
quantidade de 70 mol% or more and a carboxlico acid unit containing an ,-
aliftico cido dicarboxlico em uma quantidade de 70 mol% or more.
4/4

of claims 1 to 12, wherein O teor of the resina de poliamida (C) na composio de
resina 0,5 to 10,0% por massa.
14. Um artigo moldado having at least one layer formed of A
composio de resina com base em polister of any of claims 1 to 13.
15. O artigo moldado according to claim 14, which is a bottle, a cup,
a film or a sheet.
16. O artigo moldado according to claim 14 or 15, wherein O artigo
moldado has a portion stretched in a draw ratio of 5 to 20 times.
17. O artigo moldado according to claim 16, wherein the number
average value of the major diameter of the disperse particles of the resina de
poliamida (C) na poro estirada by 5 to 20 times is 1,0 to 8,0 m and the number
average value of the minor diameter thereof is 0,01 to 0,50 m.
1/1
RESUMO
Patente de Inveno para: COMPOSIO DE RESINA COM BASE EM
POLISTER, E CORPO MOLDADO USANDO A COMPOSIO DE RESINA."
fornecida uma composio de resina com base em polister que
contm (A) uma resina de polister tendo unidades de diol e unidades de cido
cido dicarboxlicico que contm um total de 0,01 a 15,0 %mol de unidades
selecionadas entre unidades de cido sulfoftlico e unidades de sal de metal de
cido sulfoftlico, (B) uma resina de polister tendo uma estrutura de acetal cclica
ou estrutura de hidrocarboneto alicclica, e (C ) uma resina de poliamida, em que o
teor da resina de polister (B) na composio de resina de 0,5 a 15,0% massa.

P220157 - FELIPE - 28-04-16 - 17 Horas Et 9

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1 / 67

Relatrio Descritivo da Patente de Inveno para:

e propriedades mecnicas de produtos de polister. Desse modo,

um componente de cido dicarboxlico incluindo principalmente cido

poro do mesmo apresentando um baixo draw ratio de menos do que

<2> A composio de resina com base em polister de

com uma estrutura acetal cclica derivada a partir de um composto

tal que cada R1 representa independentemente um grupo

tal que cada R3 representa independentemente um grupo

metilaa, um grupo etilaa, or um grupo isopropila; e R5 representa um

Tal que cada R6 representa independentemente um grupo

<11> A composio de resina com base em polister de

tal que cada R8 representa independentemente um grupo

<14> Um artigo moldado com pelo menos uma camada

polister (B2) com uma estrutura de hidrocarboneto alicclica. Aqui, a

valor do ndice de refrao da resina de polister (B) seja prximo

unidade de cido sulfoftlico e da unidade de sal de metal de cido

[027] Na frmula geral acima (I'), M representa um tomo de

alcalinos so preferidos, sdio ou ltio preferido, e sdio o mais

um grupo benzila, um grupo 4-hidroxibenzila; e dentre estes, um grupo

[035] Na frmula geral acima (I'a), M e n so os mesmos que M e

[037] Na frmula geral acima (I'b), M e n so os mesmo que M e

unidade de cido sulfoftlico ou a unidade de sal de metal de cido

[039] Na frmula geral acima (I'c), M e n so os mesmo que M e

unidades de cido dicarboxlico aromtico, que no seja a unidade de

dicarboxlico therein can suitably lower the crystallinity thereof, portanto

de diol aliftico incluem etileno glicol, 1,2-propileno glicol, 1,3-propileno

[056] Exemplos de catalisador de policondensao para uso na

[059] Entre estes, um polister com um cido sulfoftlico e/ou sua

artigo moldado da mesma, uma resina de polister (B) com uma

[069] Nas frmulas gerais acima (1) e (2), cada R1 representa

[073] Quando R1 um grupo aromtico divalente, exemplos do

[082] Nas frmulas gerais acima (3) e (4), cada R3 representa

mencionados grupo aliftico monovalente, grupo alicclico

(B1), incluem um cido dicarboxlico com um ncleo aromtico tais

uma unidade de glicol aliftico e uma unidade de diol alicclica, mais

hidroxifenil)etano, bisfenol A, bisfenol C, 2,5-naftalenodiol, glicis

aos gases, transparencia e disponibilidade, copolmero de etileno-3,9-

constituir a unidade de diol com uma estrutura de hidrocarboneto

ciclobutanocido dicarboxlico, 1,3-ciclobutanocido dicarboxlico,

[0114] Na frmula geral acima (5), cada R6 representa

liga-se diretamente ao anel cicloexano; e b indica um nmero inteiro

18, mais preferencialmente de 6 a 12.

% ou mais, mais preferencialmente 60 mol% ou mais, ainda mais

unidade de cido dicarboxlico com uma estrutura hidrocarboneto

[0130] Na frmula geral acima (6), cada R8 representa

hidrocarboneto alicclica , do ponto de vista da manuteno da

cido dicarboxlico aromtico incluem steres formados de um cido

de antimnio conhecidos tais como trixido de antimnio, pentxido de

mais preferencialmente de 1,0 a 13,0% por massa, ainda mais

como metaxililenodiamina, paraxililenediamina, etc.; diaminas com

como cido benzico, cido propionico, cido butrico e semelhantes

[0159] A unidade de cido dicarboxlico na resina de poliamida

vantajosos da presente inveno.

fenilfosfnico, cido etilfosfnico, fenilfosfonato de sdio, fenilfosfonato

hydrxido, magnsio hydrxido, clcio hydrxido, and barium

presente inveno, the resina de poliamida produced through the

faixa no diminuidora dos efeitos vantajosos da presente inveno.

etc. In addition, transition metal complexes with -diketones, -

skeleton, and compostos added with a functional group for enhancing

preferencialmente 4,0% or less, still more preferencialmente 3,7% or

[ccmm/(m2day0,21 atm)] or less, still more preferencialmente 0,03

unidade de cido dicarboxlico therein (resin corresponding to A resina