rea de longitud. Proyecto TRAZASURF.

CARACTERIZACIN DE PATRONES Y
SUPERFICIES EN MICRO Y NANOTECNOLOGA
CON TRAZABILIDAD AL PATRN NACIONAL
DE LONGITUD

Laura Carcedo Cerezo

Laboratorio de Calidad Superficial

Proyecto TRAZASURF noviembre 2010

 Contenido

INTRODUCCIN

OBJETIVOS

RESULTADOS, NUEVOS SERVICIOS Y NUEVAS

LINEAS

PERSPECTIVAS FUTURAS

INTRODUCCIN
 Aplicaciones en Ingeniera
Aplicaciones en Nanotecnologa
Superficie de levas
Vstagos y asientos
de vlvulas
Caras pistn
Bruido de camisas
Importancia Nanotubos de Nanodispositivos
Bielas medidas de carbono mviles
Cigeal rugosidad

Aplicaciones en Medicina Aplicaciones en Metrologa

Patrones de
densidad

Pesas
Implantes Celulas de HeLa
Osteointegrados

INTRODUCCIN
 Patrones en medida de superficies
Coordenada Z: patrones de amplificacin/ranura.

Transversal a todas las medidas, patrones F.

Patrn tipo A2 negativo Patrn tipo A1 positivo

Coordenada X patrones peridicos tipo C, tb evalan Z.

Fig. 19: Patrn C1: perfil peridico sinusoidal Fig. 20: Patrn C2: perfil peridico triangular issceles

Fig. 21:Patrn C3, perfil peridico sinusoidal simulado Fig. 22: Patrn C4, perfil peridico en arco

Patrn tipo C
Evaluacin global del equipo, patrones aperidicos tipo D.

Patrn tipo D1 Patrn tipo D2

Patrones especiales para nanotecnologa

INTRODUCCIN
 REALIZACIN PRCTICA DE P4: OBJETIVOS TRAZASURF
LA UNIDAD METRO

Trazabilidad directa
Trazabilidad
en el eje z interna
Interf. Fizeau Interf. Twyman-Green

Patrones de transferencia
Diseo de
Tcnicas de medida de patrones
superfice de contacto y
no contacto
Perfilmetro de Contacto Microscopio Interferencial
Ampliacin de
Patrones de transferencia
servicios 3D
Tcnicas de medida
de superfice de
contacto y no
contacto Microscopio de Fuerza Atmica Rugosmetro de Contacto

OBJETIVOS
 Trazabilidad

rea mxima
MI de medida
Construccin
de patrones
de prueba.
Microscopio Interferencial

DISPERSIN
VALORES
Las medidas obtenidas en DEMASIADO
el rea mxima MI ALTA
Interf. Twyman-Green presentan incertidumbres
muy altas.

DIFICIL
Solape entre reas de MEDIR
medida con distintas AREA -MI
tcnicas es insuficiente.
Interfermetro Fizeau

RESULTADOS
 Trazabilidad
Adquisicin de patrones

PATRONES SOFTWARE

Uso de patrones generados por el NIST y NPL, para

validar los software de los equipos.

RESULTADOS
 Mejora tcnicas de medida de superficies
Perfilometra de contacto : patrones de amplificacin

Ventajas P6 frente Dektak.

Medidas en 3D.
Mayor rango medida en Z,
327 m.
Trazados en x hasta 60 mm.
Dektak ST
KLA-Tencor P6

Estudio comportamiento del equipo BILAT CEM-NPL

Patrn de amplificacin: nominal 14500 nm. Patrn de amplificacin: nominal 1800 nm.

13530 1810
13515 1805
13500 1800
13485 1795
13470 1790
H en nm
H en m

13455 1785
13440 1780
13425 1775
13410 1770
13395 1765
13380 1760
CEM NPL CEM NPL
n/s: 810-001-017C n/s:5233- 03- 04

RESULTADOS
 Br U (k=2) en nm
az
il -IN

-40
-35
-30
-25
-20
-15
-10
-5
0
5
10
15
20
25
30
35
40
ME
TR
O

Ch
Cz ina
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ep
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d-M U
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NP
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RESULTADOS
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Sp UM
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Sw ed
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an
d-N
Tu IM
rke T
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it.K ME
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PL
Incertidumbre expandida 95%, U(k=2) en nm, para H= 0,25 m

US
A-
NIS
T

Br
az U (k=2) en nm
il-I
-40
-35
-30
-25
-20
-15
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0
5
10
15
20
25
30
35
40

NM
ET
RO
Ch
ina
Fi n -N
lan IM
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IK
ES
Ind
ia-
NP
Ita LI
Perfilometra de contacto CMCs: patrones de amplificacin

ly-
Mejora tcnicas de medida de superficies

IN
RI
Sp M
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Th ET
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an
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para H= 0,025 m

IM
Tu
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it.K ME
ing
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PL
US
Incertidumbre expandida 95%, U(k=2) en nm,

A-
NI
ST
 Mejora tcnicas de medida de superficies
Perfilometra de contacto : patrones rugosidad

Estudio comportamiento del equipo: ruido

a) antes de la sustitucin de la columna de movimiento vertical

Perthometer Mahr b) despus de la sustitucin de columna

RESULTADOS

U (k=2) en nm
Ca

-75
-60
-45
-30
-15
0
15
30
45
60
75
na
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-N

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-60
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30
45
60
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hR
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RESULTADOS
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-M Sw
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Th en
a il Sw -S P
an itz
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IM -M
T ET
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a il
Incertidumbre expandida 95% U (k=2) en nm, para Ra = 0,5 m

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M E IM
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Ki Tu T
ng rke
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L ing
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Incertidumbre expandida 95%, U (k=2) en nm, para Rz = 0,5 m

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A- NP
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US
A-
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U (k=2) en nm
Ca
-75
-60
-45
-30
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0
15
30
45
60
75

U (k=2) en nm na
da
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10
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70
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Cz IM ina
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ep hR
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nm nm
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o-C Ko INR
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S EN
Po Ne AM
Perfilometra de contacto CMCs: patrones de rugosidad

lan the
d-G rla
UM nd
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Po
Po L
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Q UM
Po
Mejora tcnicas de medida de superficies

Sp rtu
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-C l-IP
EM Sin Q
ga
Sw p -A
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en AR
Sw -SP Sp
itz ain
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-M AIN
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Th en
a il Sw -S P
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d-N erl
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Tu Th AS
Incertidumbre expandida 95% U (k=2) en nm, para Ra = 1 m

rke a il
y -U an
U. M E
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IM
Ki
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do rke
m- y -U
NP
L U.K ME
Incertidumbre expandida 95%, U (k=2) en nm, para Rz = 1 m

ing
US do
A- m-
NI NP
ST L
US
A-
NIS
T
 Mejora tcnicas de medida de superficies
Microscopio Interferencial
Estudio comportamiento del equipo: linealidad

Marca MicroXAM

RESULTADOS
 Mejora tcnicas de medida de superficies
Microscopio Interferencial
Mejora del comportamiento del equipo: linealidad

CCD

Espejo

Lser
Divisor de haz

Iluminacin
Espejo de referencia
Veeco NT9800
Espejo desplazamiento
Tcnicas PSI, VSI.
Objetivos interferomtricos:
2.5X, 10X, 20X, 50X
Lentes 0.55X y 2X.

Rango en Z, 10 mm.

Sistema Interferomtrico
Lser (SIL) mov. en Z en VSI.

RESULTADOS
 U (k=2) en nm

-20
-16
-12
-8
-4
0
4
8
12
16
20
Au
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BE

V
Ch
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RESULTADOS
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para H = 0,25 um

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Incertidumbre expandida U(k=2) en nm,

Sw
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U (k=2) en nm
-20
-16
-12
-8
-4
0
4
8
12
16
20

Au
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BE
V
Ch
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Fin IM
lan
d-M
IKE
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nd
-VS
L
Po
para H = 1 um

lan
d -G
UM
Sp
ain
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Sw EM
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Incertidumbre expandida U(k=2) en nm,

-M
ET
AS

U (k=2) en nm
-20
-16
-12
-8
-4
0
4
8
12
16
20

Au
str
ia-
BE
V
Microscopa interferencial CMCs: patrones de amplificacin
Mejora tcnicas de medida de superficies

Ch
ina
-N
Fin IM
lan
d-M
IKE
Ge S
rm
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y-P
TB
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pa
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MI
Ne J
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rla
nd
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L
Po
para H = 0,025 um

lan
d -G
UM
Sp
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-C
EM
Incertidumbre expandida U(k=2) en nm,

Sw
itz
erl
-M
ET
AS
 Mejora tcnicas de medida de superficies
Microscopa Hologrfica Digital (DHM)

Datos de fase

Lynce Tec DHM R1003

Longitudes de onda simple y dual, con DHM

Reconstruccin topografa
lseres de 682.7 nm y 650 nm.
Objetivos pticos: 1.25X, 5X, 10X, 50X.
Apto para muestras de baja reflectividad.
Rango 10 mm.

Longitud de onda sinttica

RESULTADOS
 Mejora tcnicas de medida de superficies
Microscopa de Fuerza Atmica

CLASIFICACIN METROLGICA AFMs Registro datos medida Lazo

cerrado

Tipo A SILs 3 ejes (MAFMs) Si

Tipo C
Tipo B Tipo B Sensores asociados a PZTs Si
+97 +76 Tipo A
Deviation from reference value (nm)

Tipo C Voltaje aplicado PZTs

40
30 AFM Marca SIS:
20 Tipo C en X e Y
10 Tipo B en Z (galga)

0 Device
5 10
-10 Scan ranges: 9 Conocer el funcionamiento y posibilidades
-20 100 m x 100 m de la tcnica para desarrollos futuros
50 m x 50 m
-30 20 m x 20 m 9 Elaboracin de guas de medida
-40 5 m x 5 m
9 Medida de muestras, ej. nanopartculas
partner's (left) and uniform evaluation
with standard deviations

RESULTADOS
 Mejora tcnicas de medida de superficies
Microscopa de Fuerza Atmica: MAFM (tipo A) en INMs.

under development

Gran
Rango

PERSPECTIVAS FUTURAS
 NUEVA
PIRMIDE DE REALIZACIN PRCTICA
TRAZABILIDAD DE LA UNIDAD METRO

Proyecto n 8
MAFM, con trazabilidad
directa en los tres ejes
Microscopio de Fuerza Atmica Metrolgico

Patrones de
transferencia

Perfilometra
Tcnicas de medida de Contacto

de superfice de
contacto y no Microscopa
Microscopa
contacto Microscopa de Fuerza
Hologrfica
Interferencial Atmica
Digital

PERSPECTIVAS FUTURAS
 CARACTERIZACIN DE SUPERFICIES
EN 3D: PARTICIPACIN EN EL JRP 05i

Desarrollo de nuevos patrones para la

materializacin de parmetros 3D.

Desarrollo de estrategias de medida de

parmetros 3D para instrumentos
pticos y de contacto.

Comparacin internacional usando los

nuevos patrones con las distintas
tcnicas disponibles.

Provisin de algoritmos de anlisis que

sirvan para el desarrollo de las normas
ISO 16610 e ISO 25178.

PERSPECTIVAS FUTURAS
 Gracias por
vuestra atencin

noviembre 2010 Laura Carcedo