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Manuel de référence

des algorithmes de
photonthérapie et
d'électronthérapie
Eclipse

13485 P1023035-001-A AVRIL 2017


ID du document P1023035-001-A

Titre du Manuel de référence des algorithmes de photonthérapie et d'électronthérapie Eclipse


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2 Manuel de référence des algorithmes de photonthérapie et


d'électronthérapie Eclipse
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document suivant :
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Codes et termes de la CIM-10 utilisés avec l'autorisation de l'OMS et tirés du
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3
Table des matières

CHAPITRE 1 INTRODUCTION ............................................................................................................ 12


Informations contenues dans ce manuel .................................................................................................. 12
Public visé .......................................................................................................................................................... 12
Symboles visuels .............................................................................................................................................. 13
Publications connexes .................................................................................................................................... 13
Nouveautés des algorithmes Eclipse ..........................................................................................................14
Contacter l'assistance technique Varian ................................................................................................... 16

CHAPITRE 2 INFORMATIONS GÉNÉRALES SUR LES ALGORITHMES ECLIPSE ........................ 18


Utilisation des données faisceaux configurées d'Eclipse ...................................................................... 18
Algorithmes et données d'image scanner d'Eclipse ............................................................................... 18
Précision des algorithmes de calcul de la dose d'Eclipse ......................................................................20

CHAPITRE 3 IMPLÉMENTATION DES ALGORITHMES AAA ET ACUROS XB DANS ECLIPSE


........................................................................................................................................................................ 24
À propos de l'implémentation des algorithmes AAA et Acuros XB dans Eclipse ............................24
Calcul des unités moniteur ....................................................................................................................25
normalisation ........................................................................................................................................... 28
Options de calcul ...................................................................................................................................... 31
Calcul de la dose pour Siemens mARC ............................................................................................... 38
Calcul de dose pour des machines au cobalt ....................................................................................39

CHAPITRE 4 MODÈLE DE SOURCE DE FAISCEAUX DE PHOTONS ........................................... 40


À propos du modèle de source de faisceaux de photons .....................................................................40
Modélisation du faisceau clinique des faisceaux de photons ............................................................ 40
Source primaire ........................................................................................................................................ 42
Source secondaire ....................................................................................................................................42
Contamination électronique ................................................................................................................ 43
Diffusion de photons à partir du filtre en coin .................................................................................43
Modèle d'espaces de phases ........................................................................................................................ 43
Modélisation de la source primaire .................................................................................................... 44
Spectre énergétique des photons ................................................................................................44
Énergie moyenne ..............................................................................................................................45
Profil d'intensité ............................................................................................................................... 46
Modélisation de la source secondaire ................................................................................................ 47
Fluence énergétique de la source secondaire ........................................................................... 47
Paramètres de la source secondaire ............................................................................................48
Modélisation de la contamination électronique ....................................................................................48
Modificateurs de faisceau dans le modèle de faisceau de traitement ............................................. 49
Limites connues des algorithmes AAA et Acuros XB ............................................................................. 50
Configuration des faisceaux de photons ................................................................................................... 51
Prise en charge des champs de petite taille ......................................................................................54
Mesures recommandées pour le faisceau à champ ouvert ...................................................54
4 Manuel de référence des algorithmes de photonthérapie et
d'électronthérapie Eclipse
Réglage des paramètres de la taille effective du spot .............................................................55
Mesures des données faisceaux pour des faisceaux de photons ................................................ 55
Mesures de données faisceaux du modèle de source requises pour les champs
ouverts .................................................................................................................................................55
Mesures des doses absolues en un point ...................................................................................58
Mesures requises pour les champs avec filtre en coin ............................................................59
Mesures facultatives pour les champs avec filtre en coin ......................................................61
Mesures requises pour les champs de compensateur ............................................................63
Mesures requises pour le modulateur de faisceau Elekta ............................................................ 63
Mesures de champ ouvert pour le modulateur de faisceau Elekta .....................................63
Mesures des facteurs d'ouverture du collimateur pour le modulateur de faisceau
Elekta ...................................................................................................................................................65
Mesures des champs avec filtre en coin pour le modulateur de faisceau Elekta ............ 65
Paramètres de configuration pour les faisceaux de photons .......................................................67
paramètres généraux ......................................................................................................................67
Paramètres AAA et Acuros XB .......................................................................................................68
Paramètres de faisceau à champ ouvert .................................................................................... 74
Paramètres de filtre en coin fixe ...................................................................................................76
Paramètres Enhanced Dynamic Wedge (EDW) .........................................................................78
Paramètres de filtre en coin motorisé Elekta (MW) .................................................................78
Paramètres de filtre en coin virtuel Elekta ................................................................................ 80
Paramètres SVW (Siemens Virtual Wedge) ................................................................................81
Paramètres de compensateur ....................................................................................................... 82
Paramètres de MLC ..........................................................................................................................84
Paramètres des facteurs d'ouverture du collimateur ..............................................................85
Bibliothèque des paramètres de la machine pour les faisceaux de photons ...................86
Paramètres de dosimétrie absolue dans les données faisceaux Varian Eclipse ...............87
Filtres en coin dans les données faisceaux Varian Eclipse ..................................................... 87
Programme de configuration pour les faisceaux de photons ..................................................... 89
Adaptation des mesures dans la configuration .......................................................................90
Étapes de configuration du modèle de source ......................................................................... 93
Données faisceaux générées pour les champs ouverts .........................................................96
Données faisceaux générées pour les champs avec filtre en coin .......................................97
Données faisceaux générées pour le filtre en coin motorisé Elekta ...................................98
Données faisceaux générées pour le compensateur ..............................................................98
Paramètres de dosimétrie absolue ..............................................................................................99
Géométries de configuration et de mesure pour les faisceaux de photons ............................99
Géométrie de mesure .....................................................................................................................99
Géométrie des facteurs d'ouverture du collimateur ............................................................ 100
Géométrie de dosimétrie absolue .............................................................................................. 101
Configuration des faisceaux de photons dans Beam Configuration ........................................103
Configurer l'algorithme AAA ou Acuros XB à l'aide de données faisceaux ASCII
mesurées ...........................................................................................................................................103
Configurer l'algorithme AAA ou Acuros XB à l'aide de données faisceaux Eclipse
existantes ......................................................................................................................................... 104
Configurer l'algorithme Acuros XB à l'aide de données faisceaux AAA ........................... 105
Configuration de l'algorithme AAA ou Acuros XB à l'aide de données faisceaux
Varian Eclipse ...................................................................................................................................105
Évaluation des données du modèle de source configurées ........................................................108
Évaluation de la courbe de contamination électronique pour les faisceaux à champ
ouvert et les filtres en coin fixes .................................................................................................108
Évaluation du tableau des facteurs de rétrodiffusion due au collimateur ..................... 109

Table des matières 5


Évaluation de la courbe de transmission de filtre en coin ...................................................109
Évaluation du spectre d'énergie ................................................................................................. 109
Évaluation de l'énergie radiale .................................................................................................... 110
Évaluation des histogrammes d'erreur Gamma ..................................................................... 110

CHAPITRE 5 ALGORITHME ANALYTIQUE ANISOTROPE (AAA) POUR LES PHOTONS ......... 112
À propos de l'algorithme analytique anisotrope (AAA) ........................................................................112
Calcul de la dose dans l'algorithme analytique anisotrope (AAA) .....................................................113
Modèle de diffusion patient .................................................................................................................113
Noyaux de diffusion ........................................................................................................................113
Beamlets ................................................................................................................................................... 114
Calcul de la dose volumétrique ...........................................................................................................116
Modèles de convolution .................................................................................................................117
Calcul de la dose de photons ........................................................................................................ 117
Électrons de contamination ..........................................................................................................121
Superposition ...................................................................................................................................122
Conversion en dose .........................................................................................................................123

CHAPITRE 6 ALGORITHME ACUROS DE RADIOTHÉRAPIE (ACUROS XB) POUR LES


PHOTONS ..............................................................................................................................................124
À propos de l'algorithme Acuros de radiothérapie (Acuros XB) .........................................................124
Calcul de dose avec l'algorithme Acuros XB ....................................................................................124
Présentation des étapes de calcul ...............................................................................................125
Origines de l'algorithme Acuros XB ................................................................................................... 127
Méthodes de solution Acuros XB .............................................................................................................. 128
Sources de photons et d'électrons ..................................................................................................... 133
Discrétisation spatiale .......................................................................................................................... 136
Discrétisation de l'énergie ....................................................................................................................137
Discrétisation angulaire ........................................................................................................................137
Seuil de coupure de transport spatial ............................................................................................... 138
Conversion fluence/dose ......................................................................................................................138
Propriétés des matières ...............................................................................................................................140
Mappage scanner/matière ...................................................................................................................141
Chevauchement de plages de densités dans le mappage scanner/matière ................... 142
Manipulation de structures avec des affectations de densité et de matière ..................142
Matières prises en charge .............................................................................................................142
Contrôle de la grille de dose de sortie ..................................................................................................... 149
Erreurs de discrétisation ..............................................................................................................................149
Facteurs ayant une influence sur le temps d'exécution et la consommation de mémoire ....... 150

CHAPITRE 7 ALGORITHME DE CALCUL DE LA DOSE DU CÔNE (CDC) ................................... 153


Modèle de calcul de la dose ........................................................................................................................ 153
Présentation du calcul de la dose ....................................................................................................... 153
Matrice de dose .......................................................................................................................................155
Calcul des unités moniteur ..................................................................................................................156
Limites du modèle de calcul de la dose ............................................................................................ 156
Configuration de l'algorithme CDC .......................................................................................................... 158
Paramètres de configuration généraux ...........................................................................................160
Paramètres d'étalonnage de dose absolue .....................................................................................160

6 Manuel de référence des algorithmes de photonthérapie et


d'électronthérapie Eclipse
Mesures de données faisceaux requises .......................................................................................... 161
Méthodes de mesure ......................................................................................................................161
Mesures de dosimétrie absolue ..................................................................................................162
Mesures de facteur d'ouverture du collimateur ..................................................................... 162
Mesures du Rapport Tissu-Maximum ....................................................................................... 163
Mesures du rapport hors axe .......................................................................................................163
Adaptation des mesures dans la configuration .............................................................................164
Génération de données de configuration TMR à partir de données mesurées adaptées ... 165
Génération de données de configuration OAR à partir de données mesurées adaptées ...166
Données générées dans la Configuration ........................................................................................167
Configuration de l'algorithme CDC en important de nouvelles données mesurées ............167
Configurer l'algorithme CDC à l'aide de nouvelles données mesurées ............................168
Évaluation des données CDC configurées ....................................................................................... 170
Évaluation des données adaptées ..............................................................................................170
Évaluation des histogrammes d'erreur Gamma .....................................................................170
Configurer les applicateurs à cône dans RT Administration ...............................................................172

CHAPITRE 8 ALGORITHME ELECTRON MONTE CARLO (EMC) ................................................174


Algorithme electron Monte Carlo (eMC) ................................................................................................. 174
Modèle de transport (MMC) ................................................................................................................ 175
Calculs de géométrie locale ..........................................................................................................175
Base de données MMC ...................................................................................................................175
Prétraitement du volume scanner .............................................................................................. 177
Transport de particules primaires et dépôt d'énergie ........................................................... 179
Transport de particules secondaires et dépôt d'énergie .......................................................182
Imprécision statistique ..................................................................................................................183
Lissage de dose ................................................................................................................................183
Options de calcul dans l'algorithme eMC ................................................................................ 184
Modèle de source de faisceaux d'électrons .................................................................................... 186
Source primaire ...............................................................................................................................186
Source des mâchoires .................................................................................................................... 187
Sources d'insert ...............................................................................................................................188
Électrons de bord ............................................................................................................................189
Photons de transmission ..............................................................................................................189
Paramètres relatifs au type de machine dans le modèle de source de faisceaux
d'électrons ........................................................................................................................................190
Calcul des UM et normalisation de la dose ..................................................................................... 195
Limites connues de l'algorithme eMC ..............................................................................................196
Configuration de l'algorithme eMC ..........................................................................................................197
Mesures de champ ouvert ................................................................................................................... 197
Mesures avec applicateur .................................................................................................................... 197
Paramètres de configuration pour les faisceaux d'électrons ..................................................... 198
Données faisceaux créées à partir des mesures ............................................................................199
Configurer l'algorithme eMC dans Eclipse .....................................................................................200
Configurer l'algorithme eMC à l'aide de données faisceaux existantes .................................202

CHAPITRE 9 ALGORITHMES D'OPTIMISATION DE DOSE ........................................................203


Informations générales concernant les algorithmes d'optimisation de dose .............................. 203
Dose Calculation ....................................................................................................................................203
Algorithme Multi-Resolution Dose Calculation (MRDC) ....................................................................204

Table des matières 7


Spectre d'énergie .................................................................................................................................. 204
Profil d'intensité .................................................................................................................................... 205
Contamination électronique .............................................................................................................. 205
Modélisation de la source secondaire ..............................................................................................205
Algorithme Fourier Transform Dose Calculation (FTDC) .................................................................... 206
Modèle de calcul de la dose ............................................................................................................... 206
Algorithme Photon Optimization (PO) ................................................................................................... 208
Bolus et dispositifs porte-patient ...................................................................................................... 210
Masquage du volume cible ................................................................................................................. 210
Structure d'évitement ...........................................................................................................................210
Objectifs dose-volume ...........................................................................................................................211
Objectifs de lissage ................................................................................................................................ 212
Objectif UM ..............................................................................................................................................212
objectif pour tissus normaux .............................................................................................................. 212
Forme de l'objectif pour tissus normaux .................................................................................. 213
Paramètres de l'objectif pour tissus normaux ........................................................................ 214
Objectif automatique pour tissus sains ........................................................................................... 215
Objectifs gEUD biologiques ................................................................................................................ 216
Objectif de dose moyenne ................................................................................................................... 217
Lissage automatique .............................................................................................................................218
Aperture Shape Controller .................................................................................................................. 220
Gestion des grands champs ............................................................................................................... 220
Algorithme Photon Optimization et IMRT .......................................................................................221
Algorithme Photon Optimization et VMAT ..................................................................................... 221
Résolution progressive ..................................................................................................................222
Secteurs d'évitement pour VMAT ...............................................................................................223
Suivi des mâchoires pour VMAT ................................................................................................. 224
Algorithme Photon Optimization et HyperArc .............................................................................. 225
Objectif pour tissus normaux en radiochirurgie stéréotaxique pour HyperArc ............ 225
Objectif de dose inférieure automatique pour des HyperArc .............................................227
Analyse de la dose cible pour des plans HyperArc .................................................................228
Dose intermédiaire ............................................................................................................................... 230
Relancement de l'optimisation ........................................................................................................... 231
Mode Convergence lors de l'optimisation ....................................................................................... 231
Options de calcul de l'algorithme PO ............................................................................................... 232
Configuration du système pour l'optimisation de dose ..................................................................... 234
Mesures de données faisceaux pour l'optimisation de dose ..................................................... 234
Configuration de l'algorithme PO dans Beam Configuration .................................................... 235
Configurer l'algorithme PO en fonction d'un algorithme AAA/Acuros XB configuré ...236
Configurer l'algorithme PO à partir de données faisceaux mesurées ..............................236

CHAPITRE 10 ALGORITHME D'ESTIMATION HDV POUR RAPIDPLAN .................................. 238


Algorithme d'estimation HDV pour RapidPlan ..................................................................................... 238
Composant de configuration de modèle .........................................................................................239
Phase d'extraction de données ...................................................................................................239
Phase d'apprentissage de modèle .............................................................................................240
Composant d'estimation HDV ........................................................................................................... 243
Phase de génération d'estimations ........................................................................................... 243
Phase de définition d'objectifs d'optimisation .......................................................................245
Mesure GED (dose attendue en fonction de la géométrie) ........................................................ 247
Mesures aberrantes .............................................................................................................................. 250

8 Manuel de référence des algorithmes de photonthérapie et


d'électronthérapie Eclipse
CHAPITRE 11 EXPLORATION DES COMPROMIS BASÉE SUR L'OPTIMISATION
MULTICRITÈRES ....................................................................................................................................251
Optimisation multicritères ..........................................................................................................................251
Contexte de l'optimisation multicritères ................................................................................................ 251
Algorithme de génération de plan ........................................................................................................... 252
Objectifs d'optimisation originaux et plan équilibré ................................................................... 252
Calcul de plans alternatifs ................................................................................................................... 253
Amélioration des objectifs OAR ......................................................................................................... 254
Amélioration des objectifs cibles ...................................................................................................... 256
Algorithme Photon Optimization dans Plan Generation ...........................................................258
Algorithme Trade-Off Exploration ............................................................................................................ 258
À propos des curseurs ..........................................................................................................................258
L'espace de plans ................................................................................................................................... 259
Valeurs de l'objectif de compromis pour l'exploration ................................................................ 259
Mécanisme de sélection ..................................................................................................................... 260
Mécanisme de restriction .................................................................................................................... 261
Optimisation de plan administrable ........................................................................................................ 261

CHAPITRE 12 ALGORITHMES DE MODÉLISATION D'IRRADIATION DE FLUENCES .............262


Caractéristiques générales des algorithmes de modélisation d'irradiation de fluences ........... 262
Transmission dans les algorithmes de modélisation d'irradiation de fluences .................... 263
Leaf Gap dosimétrique dans les algorithmes de modélisation d'irradiation de fluences .. 263
Modélisation Tongue and Groove dans les algorithmes de modélisation d'irradiation de
fluences ................................................................................................................................................... 264
Leaf Motion Calculator (LMC) ................................................................................................................... 266
Méthode Modulation d'Intensité Dynamique .............................................................................. 266
Exemple de cas de Modulation d'Intensité Dynamique ...................................................... 268
Grand champ DMLC ........................................................................................................................271
Calcul de la fluence réelle .............................................................................................................273
Calcul du facteur UM ..................................................................................................................... 273
Calcul du facteur UM pour Smart LMC ..................................................................................... 274
Méthode Modulation d'Intensité Statique pour les dispositifs MLC Varian ...........................275
Vue d'ensemble de l'algorithme ................................................................................................. 275
Calcul du facteur UM ..................................................................................................................... 275
Méthode Modulation d'Intensité Statique dans Smart LMC ..................................................... 276
Méthode Modulation d'intensité statique pour les dispositifs MLC Siemens et Elekta ..... 276
Capacité de suivi des mâchoires de Smart LMC .............................................................................277
Calcul d'UM dans le LMC ......................................................................................................................277
Calcul du total des UM dans Smart LMC ..................................................................................279
Normalisation de la fluence ........................................................................................................ 279
Champs d'arcthérapie dans l'irradiation de fluences ......................................................................... 280
Configuration du système pour la modélisation d'irradiation de fluences .................................. 280
Configuration de la technique par défaut du LMC .......................................................................280
Configurer la technique LMC par défaut .................................................................................. 281
Configuration du mode Modulation d'Intensité Dynamique .................................................... 282
Modulation d'intensité dynamique en mode Normal ..........................................................283
Modulation d'intensité dynamique en mode Fixed ..............................................................284
Configurer le mode Modulation d'Intensité Dynamique .................................................... 284
Configuration du mode Modulation d'Intensité Statique .......................................................... 285

Table des matières 9


Configurer le mode Modulation d'Intensité Statique .......................................................... 286
Configuration des modes Modulation d'Intensité Dynamique et Modulation d'Intensité
Statique pour Smart LMC ....................................................................................................................286
Configurer le mode Modulation d'Intensité Dynamique pour Smart LMC .....................287
Configurer le mode Modulation d'Intensité Statique pour Smart LMC .......................... 288
Configuration des paramètres MLC .........................................................................................................288
Configurer le Leaf Gap dosimétrique ...............................................................................................289
Mesure du facteur de transmission des lames ............................................................................. 290
Mesurer le facteur de transmission des lames ....................................................................... 291
Mesurer le Leaf Gap dosimétrique ....................................................................................................292

CHAPITRE 13 ALGORITHMES DE DOSE PORTALE ...................................................................... 293


Algorithmes de dose portale ..................................................................................................................... 293
Workflow de Portal Dosimetry pour IMRT et VMAT ..................................................................... 293
Algorithme PDIP ............................................................................................................................................295
Paramètres de l'algorithme PDIP .......................................................................................................297
Correction avec profil d'intensité et facteur UM ...........................................................................298
Facteur de diffusion due au fantôme .............................................................................................. 298
Calcul des données faisceaux configurées pour l'algorithme PDIP ......................................... 299
Précision de l'algorithme PDIP .......................................................................................................... 300
Modules préconfigurés de l'algorithme PDIP ................................................................................300
Fonctionnalité de calcul de dose portale de l'algorithme AAA ......................................................... 301
Précision de la fonctionnalité de calcul de dose portale de l'algorithme AAA .......................301
Configuration d'un modèle de calcul AAA pour Portal Dosimetry ........................................... 302
Paramètres de la fonctionnalité de calcul de dose portale de l'algorithme AAA .......... 302
Configuration système requise pour la dosimétrie IMRT, VMAT et de stéréotaxie ..................... 303
Workflow de configuration du système pour Portal Dosimetry ............................................... 303
Étalonnage du détecteur pour l'acquisition dosimétrique ........................................................ 305
Étalonner le détecteur en mode de numérisation IMRT ..................................................... 306
Étalonnage du détecteur en mode absolu .............................................................................. 307
Étalonner le détecteur en mode de stéréotaxie .................................................................... 309
Mesures requises pour la configuration de l'algorithme PDIP ...................................................310
Création d'un plan test pour la détermination des noyaux ................................................ 310
Mesure des facteurs d'ouverture du collimateur ................................................................... 314
Configuration de l'algorithme PDIP .................................................................................................. 319
Données des noyaux dans Beam Configuration .....................................................................319
Configurer l'algorithme PDIP ...................................................................................................... 320
Vérifier la configuration ....................................................................................................................... 323
Comparer les doses prédites et mesurées .......................................................................................324

CHAPITRE 14 ALGORITHMES ECLIPSE DIVERS ........................................................................... 325


Algorithme de localisation de radiochirurgie stéréotaxique (SRS) .................................................. 325
Détection des différentes positions des tiges dans les coupes scanner ................................. 326
Identification du modèle de localisation .........................................................................................326
Localisation des coupes scanner ........................................................................................................326
Validation de la localisation ................................................................................................................328
Création d'un volume stéréotaxique ................................................................................................329
Vérification de la profondeur effective ................................................................................................... 329
Calcul de la profondeur effective ...................................................................................................... 329
Données de dose de champs DMLC étendus ..........................................................................................331

10 Manuel de référence des algorithmes de photonthérapie et


d'électronthérapie Eclipse
Algorithme Ajuster et protéger ................................................................................................................. 332
Estimation de la distance minimale approximative de l'outil de géométrie de faisceau
d'arcthérapie ...................................................................................................................................................333
Distance entre la tête de la machine de traitement et le patient ............................................. 333
Distance entre la tête de la machine de traitement et la table de traitement ...................... 333
Optimisation de l'angle du collimateur pour des plans HyperArc ................................................... 334
Algorithme de compensation des surfaces irrégulières ..................................................................... 336
Construction de volume pour la compensation des surfaces irrégulières .............................. 337
Espacement de l'isocentre dans Cone Planning .................................................................................... 337

ANNEXE A ACRONYMES ET ABRÉVIATIONS ..............................................................................339


Acronymes et abréviations .........................................................................................................................339

ANNEXE B DÉFINITION DE LA GÉOMÉTRIE DES CHAMPS ...................................................... 341


Définition de la géométrie des champs ...................................................................................................341

ANNEXE C FORMATS DE FICHIERS POUR LES DONNÉES FAISCEAUX MESURÉES ............ 344
Format de fichier w2CAD ............................................................................................................................344
Caractères initiaux et séparation entre les mesures ....................................................................344
Fichiers w2CAD pour les algorithmes AAA et Acuros XB .............................................................345
Fichiers w2CAD pour l'algorithme CDC ........................................................................................... 348
Fichiers w2CAD pour l'algorithme eMC ............................................................................................ 351
Format de fichier de données de courbe d'atténuation du compensateur ....................................355

ANNEXE D FORMATS D'ENTRÉE DE TABLE ................................................................................. 357


Format de la table des facteurs d'ouverture du collimateur pour AAA et Acuros XB .................. 357
Format de la table des facteurs d'ouverture du collimateur pour l'algorithme PDIP ..................359
Format de fichier de doses absolues en un point pour AAA et Acuros XB .....................................360

ANNEXE E FORMULAIRES DE MESURES DE DONNÉES FAISCEAUX .....................................363


Formulaires d'enregistrement des mesures de données faisceaux .................................................363

INDEX .......................................................................................................................................................373

Table des matières 11


Chapitre 1 Introduction

Informations contenues dans ce manuel


Le présent manuel comporte des informations et des instructions de référence qui
sont utiles pour la configuration de l'algorithme de calcul des doses de photons et
d'électrons spécifiques, de l'algorithme d'optimisation et d'autres algorithmes utilisés
dans le système de planification de traitement Eclipse. Instructions relatives à
l'utilisation de Beam Configuration pour la configuration des algorithmes : Manuel de
référence Beam Configuration.

Public visé
Ce manuel est rédigé principalement à l'attention des physiciens et autres utilisateurs
responsables de la mise en œuvre, de la configuration et de la validation des données
faisceaux.
Le système de planification des traitements Eclipse (SPT Eclipse) est conçu pour la
planification de traitements par radiothérapie d'affections bénignes ou malignes. Le
système SPT Eclipse permet la planification de radiothérapies par faisceaux de
photons, d'électrons et de protons, ainsi que de curiethérapies. Par ailleurs,
l'algorithme Eclipse Proton Eye (Protonthérapie oculaire Eclipse) est spécifiquement
recommandé pour la programmation des traitements de tumeurs de l'œil.
Il ne doit être utilisé que par des professionnels médicaux qualifiés.

Remarque : Assurez-vous que les personnes autorisées à exécuter les fonctions de planification
de traitement ont été dûment formées en conséquence.

Remarque : Tous les rapports de plan de traitement doivent être approuvés par une personne
qualifiée avant d'utiliser les informations qu'ils contiennent à des fins de traitement de
radiothérapie.

ATTENTION : Il est de la responsabilité de l'utilisateur de s'assurer de la validité et de


l'intégrité des données d'entrée, et de comprendre que la qualité de sortie dépend
considérablement de la qualité d'entrée. Toute anomalie ou incertitude concernant les
données d'entrée, leurs unités, leur identification ou leur qualité de quelque nature que
ce soit doit être examinée avec soin avant utilisation.

12 Manuel de référence des algorithmes de photonthérapie et


d'électronthérapie Eclipse
AVERTISSEMENT : Les essais d'acceptance réalisés au cours de l'installation ne constituent
pas des mesures appropriées pour l'acceptance clinique du système. Vous devez faire la
recette de chaque algorithme et donnée faisceau avec des essais supplémentaires, et ce,
de manière séparée.

Symboles visuels
Ce document utilise les symboles visuels suivants pour vous aider à repérer et à
identifier certaines informations :

AVERTISSEMENT : Un avertissement signale des actions ou situations pouvant entraîner


des blessures graves, voire mortelles.

ATTENTION : Une mise en garde signale des actions ou situations dangereuses pouvant
entraîner des blessures légères ou modérées.

AVIS : Un avis signale des actions ou situations pouvant endommager l'équipement ou


entraîner la perte de données.

Remarque : Une remarque contient des informations pouvant concerner certaines situations,
certains lecteurs ou certains établissements uniquement.

Conseil : Un conseil contient des informations facultatives mais utiles (un raccourci, un rappel
ou une suggestion) qui ont pour but d'aider à optimiser les performances de l'équipement ou du
logiciel.

Publications connexes
■ Manuel de référence de photonthérapie et d'électronthérapie Eclipse- Contient des
informations de base et des instructions détaillées concernant la création de plans
de traitement externes.
■ Manuel de référence Beam Configuration - Fournit des informations et des
procédures de référence concernant la configuration des données faisceaux
requises pour exécuter les calculs de dose des plans de traitement externes.

Chapitre 1 Introduction 13
Nouveautés des algorithmes Eclipse
Les algorithmes Eclipse comportent les modifications suivantes : en plus des
éléments présentés ci-dessous, plusieurs améliorations mineures ont été insérées :
■ Il est désormais possible de définir un MLC en tant qu'accessoire. Le facteur de
transmission MLC et l'écart interlame dosimétrique peuvent également être
configurés pour des données de faisceaux de modèle de calcul AAA et Acuros XB
individuel. Pour ce faire, l'utilisateur doit créer un nouvel accessoire de type MLC
dans Beam Configuration.
■ Eclipse utilise le calcul d'unité centrale (UC) pour l'optimisation et le calcul de la
dose. De plus, il est désormais possible d'utiliser, en option, un calcul du
processeur graphique (GPU) pour l'optimisation IMRT et un calcul de dose
Acuros XB.
■ L'algorithme Fourier Transform Dose Calculation (FTDC) est utilisé dans le calcul
du processeur graphique pour l'estimation de la dose dans l'algorithme PO.
■ Des améliorations ont été apportées au modèle de source du faisceau de photons
et à son programme de configuration pour les petites ouvertures et le calcul du
processeur graphique. En conséquence, les versions 15.5 du calcul de dose AAA et
Acuros XB et des algorithmes d'optimisation PO doivent être reconfigurées.
■ L'objectif pour tissus normaux en radiochirurgie stéréotaxique (NTO SRS) est une
fonction d'optimisation spécifique à HyperArc qui a été spécifiquement conçue
pour la radiochirurgie stéréotaxique intracrânienne dans le but de contrôler le
paysage de dose en dehors des multiples volumes cibles. Il génère une diminution
rapide de la dose à partir des prescriptions spécifiques au volume cible jusqu'à
atteindre un niveau de dose asymptotique faible.
■ En présence de plans HyperArc, le nouvel objectif de dose inférieure automatique
(ALDO) de l'algorithme PO automatise la préservation d'une couverture
volumétrique relative égale de 98 % parmi tous les volumes cibles aux niveaux de
dose spécifiques à la cible pour un seul ou plusieurs volumes cibles.
■ Pour des plans HyperArc, le système d'optimisation de l'angle du collimateur
(OAC) trouve un angle de collimation fixe pour chaque arc de façon à ce qu'une
paire de lames de MLC donnée délimite un volume cible uniquement chaque fois
que cela est possible dans la Beam’s Eye View. Le système OAC optimise les
positions des mâchoires de façon à ce que tous les volumes cibles soient inclus
dans l'ouverture du champ, au niveau de tous les points de contrôle de l'arc.
■ L'analyse de la dose cible offre un moyen d'évaluer la distribution de dose sur les
cibles intracrâniennes dans des plans HyperArc sous la forme de mesures de la
qualité spécifiques à la cible.
■ La résolution du calcul de dose pour des plans SRS et HyperArc est désormais
automatiquement définie sur 0,125 cm pour les algorithmes AAA, Acuros XB et
PO.

14 Manuel de référence des algorithmes de photonthérapie et


d'électronthérapie Eclipse
■ L'algorithme PO présente désormais un lissage automatique qui créé des
gradients de dose lisses dans des plans avec plusieurs isocentres sur lesquels les
champs de traitement se chevauchent. La fonctionnalité de lissage automatique
s'efforce de réduire l'erreur provoquée par les inexactitudes dans la position du
patient en ajoutant un ensemble d'objectifs d'optimisation spatiale à l'objectif
défini dans le plan lors de l'étape de pré-traitement de l'algorithme
d'optimisation. Le lissage automatique est disponible pour les machines de
traitement Varian TrueBeam et Edge.
■ Une nouvelle fonction de structure d'évitement dans l'algorithme PO permet à
l'utilisateur de désigner une structure comme structure devant être évitée, soit par
la dose d'entrée, soit par la dose d'entrée et la dose de sortie. La fonctionnalité
contribuera à réduire la quantité de dose absorbée par la structure désignée.
■ L'Aperture Shape Controller (Contrôleur de la forme d'ouverture, ASC) est une
nouvelle option de calcul dans l'algorithme PO. En moyenne, ASC augmente la
taille et réduit la complexité de l'ouverture du MLC. ASC n'est pas disponible
pour les MLC ne prenant pas en charge l'interdigitation.
■ Le mode Convergence est une nouvelle option de calcul dans l'algorithme PO
pour VMAT. Grâce à cette option, l'utilisateur peut demander au système
d'optimisation de réaliser un échantillonnage plus élaboré de l'espace de la
solution et définir un critère strict sur la convergence de l'optimisation.
■ Il est désormais possible de définir le niveau multirésolution auquel l'optimisation
est relancée. Les options disponibles sont MR3 et MR4.
■ Le suivi des mâchoires Y est amélioré. Pendant une séquence MLC d'un plan de
traitement, certaines paires de lames peuvent être stationnées par intermittence en
dehors de l'ouverture du champ sous les mâchoires X. Les mâchoires Y (qui se
déplacent perpendiculairement à la direction des lames du MLC) couvrent et
découvrent désormais les paires de lames postées si les contraintes mécaniques
du dispositif le permettent. Auparavant, le suivi à l'aide des mâchoires Y était
basé sur les projections des volumes cibles, contrairement à la séquence actuelle
du MLC.
■ Trade-Off Exploration vous permet d'explorer les compromis entre des objectifs
d'optimisation dans des plans IMRT, VMAT et HyperArc sans avoir à modifier
manuellement les objectifs d'optimisation. Dans Eclipse, Trade-Off Exploration
n'est pas un algorithme distinct en soi, mais il comporte plusieurs traits d'un
algorithme, notamment la génération de l'ensemble de plans, l'algorithme sous-
jacent à l'exploration des compromis et la génération du plan administrable final.
■ Les structures de petite taille sont désormais mieux modélisées par l'algorithme
d'estimation de HDV. La présentation de la structure est basée sur la segmentation
et utilise la résolution de structure réelle au lieu d'une mise à l'échelle à 2,5 mm.
L'ACP et la technique de régression sont effectuées deux fois, une fois pour les
histogrammes dose-volume et une fois pour les histogrammes volume-dose, puis
la meilleure option des deux est sélectionnée pour chaque structure
individuellement.

Chapitre 1 Introduction 15
■ L'algorithme d'estimation du HDV prend en charge des niveaux de dose
spécifiques à la dose qui doivent être définis au cours de l'optimisation. Des
niveaux de dose spécifiques au volume cible sont utilisés dans le calcul de la GED,
la définition de l'objectif cible et la modélisation du chevauchement OAR-cible.
■ Modélisation de chevauchement OAR-volume cible améliorée dans l'algorithme
d'estimation HDV. La région de chevauchement OAR-volume cible est subdivisée
en régions de chevauchement spécifiques au volume cible, et les HDV sont mis à
l'échelle selon le niveau de dose de chacune de ces régions.
■ L'objectif linéaire a changé de façon à ce que le chevauchement avec chaque cible
soit géré séparément. L'objectif linéaire est désormais appelé l'« objectif linéaire
avec préférence de la cible ». Un objectif de ligne supplémentaire a été ajouté ; il
est appelé l'« objectif linéaire avec préférence de l'OAR ».

Contacter l'assistance technique Varian


L'assistance technique Varian est disponible sur Internet, par courrier électronique et
par téléphone. Nos services d'assistance sont disponibles gratuitement pendant la
période de garantie initiale.
Le site Web MyVarian présente les coordonnées de contact, la documentation et
d'autres ressources pour tous les produits Varian.
1. Accédez au site www.MyVarian.com.
2. Effectuez l'une des opérations suivantes :
■ Si vous avez déjà un compte, saisissez vos informations d'identification
(adresse électronique et mot de passe).
■ Si vous n'avez pas encore de compte, cliquez sur Create New Account (Créer
un compte), puis suivez les instructions. La mise en place d'un compte peut
prendre jusqu'à deux jours ouvrables.
3. Cliquez sur Contact Us (Nous contacter) en haut de la fenêtre pour afficher les
options d'assistance technique et de formation, ainsi que les adresses
électroniques et numéros de téléphone internationaux.
4. Sur la page Contact Us (Nous contacter), effectuez l'une des opérations
suivantes :
■ Appelez l'assistance Varian Medical Systems à l'aide du numéro d'assistance
téléphonique correspondant à votre zone géographique.
■ Renseignez le formulaire correspondant à votre demande en préparation de
l'entretien téléphonique avec un représentant Varian ; suivez ensuite les
instructions pour établir la connexion à distance.
Vous pouvez commander des documents par téléphone, demander une
assistance pour un produit ou une application et signaler des problèmes liés à un
produit. Les liens présents sur le site Web MyVarian permettent d'accéder à
d'autres ressources d'assistance pour les produits, les services et la formation.

16 Manuel de référence des algorithmes de photonthérapie et


d'électronthérapie Eclipse
5. Pour rechercher des documents, cliquez sur Product Documentation
(Documentation produit).
Les documents en ligne au format PDF comprennent les bulletins techniques
(CTB), les manuels et les notes de mise à jour (CRN).

Chapitre 1 Introduction 17
Chapitre 2 Informations générales sur les
algorithmes Eclipse

Utilisation des données faisceaux configurées d'Eclipse


Les données faisceaux d'Eclipse, disponibles uniquement pour les algorithmes AAA
et Acuros XB, sont valides pour les accélérateurs linéaires médicaux Varian
Clinac 21/23EX Series et d'autres Clinac conformes aux spécifications de faisceaux
détaillées dans les sections 1.0 et 2.0 des spécifications du Clinac 21/23EX (Document
RAD 4205), les spécifications de l'accélérateur Clinac iX (Document RAD 9510), les
spécifications de l'accélérateur Trilogy (Document RAD 9515) et la mise en
correspondance de faisceaux Clinac (Document RAD 2055). Ces spécifications
incluent tous les accélérateurs Clinac iX, tous les accélérateurs Trilogy, les
accélérateurs Clinac 2100C/CD/EX dont le numéro de série est 865 ou supérieur et les
accélérateurs Clinac 2300CD/EX dont le numéro de série est 146 ou supérieur. Pour
les machines plus anciennes ayant été mises à niveau selon les spécifications EX, il
convient de vérifier que le numéro de pièce du cône égalisateur du champ de
photonthérapie 6-MV est le P/N 1103282.
Comparez les données faisceaux dosimétriques acquises pour la machine de
traitement au niveau du site avec celles utilisées dans la configuration des données
faisceaux préconfigurées et veillez à ce que les écarts ne dépassent pas la tolérance
utilisateur. Si la tolérance est dépassée, utilisez les données faisceaux dosimétriques
acquises au niveau du site pour la configuration de l'algorithme de calcul.

Algorithmes et données d'image scanner d'Eclipse


Les données d'image scanner sont traitées différemment dans les différents
algorithmes de calcul de dose d'Eclipse. Les valeurs UH dans l'image sont converties
en densité des électrons, en densité massique ou en pouvoir d'arrêt des protons en
fonction du type de plan et d'algorithme utilisés. La conversion est réalisée selon les
courbes d'étalonnage scanner configurées dans Beam Configuration. Plusieurs
scanners peuvent être configurés dans le système et chacun dispose de son propre
ensemble de courbes d'étalonnage.
Pour chaque scanner les courbes suivantes sont disponibles :
■ Densité des électrons : cette courbe est utilisée par les algorithmes AAA, MRDC et
FTDC pour convertir les valeurs UH en densité relative des électrons.
■ Densité massique : cette courbe est utilisée par les algorithmes Acuros XB et eMC
pour convertir les valeurs UH en densité massique. À partir de la densité

18 Manuel de référence des algorithmes de photonthérapie et


d'électronthérapie Eclipse
massique dérivée, Acuros XB et eMC déterminent la composition matérielle des
voxels dans l'image. Plus d'informations sur la méthode de conversion des
densités massiques en matériaux employée par l'algorithme Acuros XB : Mappage
scanner/matière à la page 141. Plus d'informations sur la méthode de conversion
des densités massiques en matériaux employée par l'algorithme eMC :
Prétraitement du volume scanner à la page 177.
■ Pouvoir d'arrêt des protons : cette courbe est utilisée par l'algorithme PCS pour
convertir des valeurs UH en pouvoir d'arrêt des protons (par rapport à l'eau).
Autres informations : Manuel de référence des algorithmes de protonthérapie Eclipse.
Pour réaliser des calculs de dose précis, il est primordial de définir une courbe
d'étalonnage scanner valide pour chaque scanner figurant dans Beam Configuration.
Pour chaque image scanner importée dans le système, le nom du scanner figurant
dans l'en-tête de l'image est comparé aux noms de scanner stockés dans la base de
données. Si une correspondance est trouvée, la courbe d'étalonnage scanner
personnalisée est utilisée pour tous les calculs de doses. Si aucun scanner
correspondant n'est trouvé, vous devez définir manuellement celui à utiliser pour les
séries d'images. Toutes les courbes d'étalonnage scanner doivent être approuvées.
Instructions pour l'approbation d'une courbe d'étalonnage scanner : Manuel de
référence Beam Configuration.
Les courbes d'étalonnage sont définies jusqu'à une certaine valeur UH maximale.
Vous pouvez modifier ces courbes et étendre leur plage définie de valeurs UH. Il est
possible que les valeurs UH trouvées dans des images scanner soient supérieures à la
valeur UH maximale pour laquelle les courbes d'étalonnage sont définies.
Instructions pour la modification des courbes d'étalonnage scanner : Manuel de
référence Beam Configuration.
Pour vérifier que la courbe d'étalonnage scanner est correctement configurée, prenez
une image scanner du fantôme d'étalonnage, importez-la dans le système et vérifiez
que les valeurs affichées par l'outil Physical Property (Propriété physique) sont
correctes. (Informations sur l'outil Physical Property [Propriété physique] : Manuel de
référence de photonthérapie et d'électronthérapie Eclipse.)
Le tableau suivant décrit la façon dont les algorithmes Eclipse traitent les valeurs UH
situées hors de la plage de valeurs couverte par les courbes d'étalonnage scanner.

Chapitre 2 Informations générales sur les algorithmes Eclipse 19


Tableau 1 Algorithmes et données d'image scanner d'Eclipse

Algorithme Mode de traitement des images scanner

AAA L'algorithme AAA tronque toutes les valeurs UH supérieures à la


valeur UH maximale définie dans la courbe d'étalonnage scanner à
la valeur maximale de densité des électrons. Un avertissement est
affiché dans la fenêtre d'état du DCF et enregistré dans les notes de
calcul de champ lorsqu'une telle situation se produit. En outre, la
densité des électrons maximale modélisée dans AAA est de 15. Les
densités électroniques supérieures à cette valeur sont tronquées à la
valeur maximale (c'est-à-dire que la valeur 15 est utilisée).

Acuros XB L'algorithme Acuros XB arrête le calcul si une valeur UH de l'image


scanner est supérieure ou égale à la valeur UH maximale définie
dans la courbe d'étalonnage scanner. Le volume couvert par les pi-
xels de l'image scanner dont la densité massique (dérivée de la va-
leur UH de l'image ou affectée à une structure) dépasse la densité
massique maximale des matières utilisées dans la conversion auto-
matique (3,0 g/cm3) est calculé. Si ce volume est supérieur à un vo-
lume maximal défini par l'utilisateur pour l'affectation automatique
de matière à des artefacts de forte densité, le calcul est impossible
jusqu'à l'affectation d'une matière via une structure. Pour des vo-
lumes plus réduits, la conversion automatique en matière définie
par l'utilisateur est effectuée. Ce procédé évite l'affectation d'un ma-
tériau incorrect à un volume important d'un matériau haute densité.

MRDC et FTDC Les algorithmes MRDC et FTDC tronquent toutes les valeurs UH
supérieures à la valeur UH maximale définie dans la courbe d'éta-
lonnage scanner à la valeur maximale de densité des électrons.
Aucun message d'avertissement ne s'affiche si une troncature est
réalisée. En outre, pour des raisons de vitesse et de mémoire, les va-
leurs de densité électronique sont compartimentées afin que pour
chaque voxel de calcul, les algorithmes utilisent une valeur de den-
sité dont la moyenne est calculée sur un faible volume secondaire,
généralement 4x4x4 voxels.

eMC L'algorithme eMC tronque toutes les valeurs UH supérieures à la


valeur UH maximale définie dans la courbe d'étalonnage scanner à
la valeur maximale de densité massique. Un avertissement est af-
fiché dans la fenêtre d'état du DCF et enregistré dans les notes de
calcul de champ lorsqu'une telle situation se produit.

Précision des algorithmes de calcul de la dose d'Eclipse


Les informations suivantes sont fournies à titre de référence et indiquent les
méthodes utilisées pour évaluer la précision des algorithmes d'Eclipse. Ces
informations sont fournies à titre d'exemple et un ensemble de données plus
détaillées est nécessaire afin de tester la précision de ces algorithmes pour un usage
clinique.

20 Manuel de référence des algorithmes de photonthérapie et


d'électronthérapie Eclipse
La précision des algorithmes de calcul de la dose est évaluée en comparant les
données mesurées aux résultats des calculs obtenus dans la même géométrie de
champ et pour les mêmes valeurs UM. Les mesures d'évaluation de la précision et les
données faisceaux utilisées pour configurer les algorithmes de calcul de la dose
doivent être obtenues à partir de la même machine, afin que la machine conserve le
même étalonnage et des propriétés de faisceau identiques entre les mesures.
La précision des algorithmes est quantifiée en termes d'erreur Gamma. L'erreur
Gamma est définie comme la distance la plus courte dans un espace
quadridimensionnel dans lequel la dose relative représente la quatrième dimension.
Pour la mesure Gamma, les unités de distance et de dose sont mises à l'échelle : la
dose est donnée en pourcentage de la dose maximale et la distance est donnée en
mm. Par exemple, avec une échelle Gamma de 3 % et de 3 mm, une erreur Gamma
inférieure à 1 garantit qu'à ce point de mesure, l'écart de dose ne dépasse pas les 3 %
ou que la distance ne dépasse pas les 3 mm. L'objectif de précision du calcul de la
dose défini par l'échelle d'erreur Gamma est considéré comme rempli lorsque l'erreur
Gamma ne dépasse pas la valeur de 1 pour 95 % des points de mesure examinés.
L'objectif de précision est évalué séparément pour deux régions (ensembles de points
de mesure) : la région à haute dose est composée des points de mesure présentant
des doses supérieures à 20 % de la dose maximale mesurée. La région globale est
composée des points de mesure supérieurs à 3 % de la dose maximale dans notre
exemple. Il est également nécessaire que l'erreur Gamma soit supérieure à 1,67 dans
cet exemple.
Dans ce qui suit, les exemples de comparaison de dose présentés concernent des
courbes de dose en profondeur mesurées pour des champs statiques, avec DSP =
100 cm. Le tableau ci-dessous résume les géométries de champ ainsi que les échelles
d'erreur Gamma qui établissent la précision des algorithmes dans ces conditions. Les
résultats des comparaisons sont présentés dans les graphiques ci-dessous et la source
des données mesurées est indiquée avant chaque graphique.

Tableau 2 Précision des algorithmes de calcul de la dose d'Eclipse

Algorithme Configuration des champs Échelle d'erreur Figure


Gamma

AAA Champ ouvert, 10 cm × 10 cm, DSP 2 %, 2 mm Figure 1 à la


= 100 cm page 22

Acuros XB Champ ouvert, 10 × 10 cm, DSP = 2 %, 2 mm Figure 2 à la


100 cm page 22

CDC Collimateur conique 20 mm, DSP = 2 %, 1 mm Figure 3 à la


100 cm page 23

Chapitre 2 Informations générales sur les algorithmes Eclipse 21


Algorithme Configuration des champs Échelle d'erreur Figure
Gamma

eMC Champ d'applicateur, 2 %, 2 mm1 Figure 4 à la


10 cm × 10 cm, DSP = 100 cm page 23
1. Notez que, généralement, la précision de l'algorithme eMC est de 3 %. Autres informations : Limites con-
nues de l'algorithme eMC à la page 196.

La dose est calculée à l'aide de l'algorithme AAA avec une résolution de calcul de
0,25 cm. La courbe de dose en profondeur est mesurée sur Elekta SL18, dans un
fantôme d'eau avec une chambre d'ionisation IC15.

Figure 1 Comparaison de la courbe de dose en profondeur pour l'algorithme AAA

La dose est calculée à l'aide de l'algorithme Acuros XB avec une résolution de calcul
de 0,25 cm. La courbe de dose en profondeur est mesurée sur Elekta SL18, dans un
fantôme d'eau avec une chambre d'ionisation IC15.

Figure 2 Comparaison de la courbe de dose en profondeur pour l'algorithme Acuros XB

22 Manuel de référence des algorithmes de photonthérapie et


d'électronthérapie Eclipse
La dose est calculée à l'aide de l'algorithme CDC avec une résolution de calcul de
0,1 cm et une grille de calcul fine. La courbe de dose en profondeur est mesurée sur
Varian TrueBeam, dans un fantôme d'eau avec une diode SRS et une chambre
d'ionisation CC01-IC.

Figure 3 Comparaison de la courbe de dose en profondeur pour l'algorithme CDC

La dose est calculée à l'aide de l'algorithme eMC, avec les options de calcul
suivantes : résolution de calcul de 0,25 cm, imprécision statistique de 1, seuil de dose
pour l'imprécision de 50, pas de lissage. La courbe de dose en profondeur est
mesurée sur Varian TrueBeam, dans un fantôme d'eau avec une chambre d'ionisation
IC15.

Figure 4 Comparaison de la courbe de dose en profondeur pour l'algorithme eMC

Chapitre 2 Informations générales sur les algorithmes Eclipse 23


Chapitre 3 Implémentation des algorithmes AAA
et Acuros XB dans Eclipse

À propos de l'implémentation des algorithmes AAA et


Acuros XB dans Eclipse
Les algorithmes de calcul de dose AAA et Acuros XB sont des fonctionnalités Eclipse
soumises à des licences distinctes. Le modèle de source de faisceaux de photons,
utilisé par AAA et Acuros XB, est configuré dans Beam Configuration. La résolution
de la grille de calcul de dose peut être sélectionnée dans une plage de valeurs de 1 à
5 mm pour AAA et de 1 à 3 mm pour Acuros XB lors de la planification de
traitements dans Eclipse External Beam Planning.
Le calcul de la dose dans External Beam Planning à l'aide d'AAA et d'Acuros XB
prend entièrement en charge l'utilisation des modificateurs de faisceaux, notamment
les caches, les filtres en coin fixes, les filtres en coin dynamiques améliorés, les filtres
en coin motorisés, les compensateurs, les MLC et l'IMRT (Intensity Modulated
Radiation Therapy, radiothérapie conformationnelle avec modulation d'intensité)
avec MLC dynamique (DMLC). Les algorithmes prennent également en charge le
calcul des champs VMAT (Volumetric Modulated Arc Therapy, arcthérapie modulée
volumétrique) et tiennent compte des dispositifs porte-patient (par exemple, les
structures de table) et du bolus associé à un champ dans le calcul de la dose. La dose
à l'intérieur d'un bolus est visualisée, contrairement à celle à l'intérieur des structures
de support. AAA et Acuros XB traitent l'ensemble des pixels situés à l'extérieur du
corps, y compris ceux des structures de contour telles que l'air, sauf pour le bolus et
les porte-patient.
Le calcul de la dose dans IRREG Planning avec l'algorithme AAA prend en charge
l'utilisation des champs ouverts, des champs avec caches, avec MLC statique, avec
filtres en coin fixes et avec filtres en coin dynamiques améliorés (les filtres en coin
motorisés Elekta et les filtres Elekta OmniWedge ne sont pas pris en charge). Vous ne
pouvez pas utiliser Acuros XB dans IRREG Planning. Dans IRREG Planning,
l'algorithme AAA calcule la dose en un point donné en se basant sur la DSP et les
informations de profondeur. Le résultat correspond à une mesure dans le fantôme
d'eau pour ce point, avec le champ perpendiculaire à la surface du fantôme,
considérée comme plate. Dans le cas de champs multiples, la contribution de chaque
champ à un point donné est calculée de manière indépendante et ajoutée à la dose
totale en ce point. Dans le cas de points multiples, cette opération est répétée pour
chaque point.

24 Manuel de référence des algorithmes de photonthérapie et


d'électronthérapie Eclipse
L'algorithme de calcul de dose AAA prend en charge l'utilisation des machines de
traitement au cobalt dans External Beam Planning et IRREG Planning. Il permet de
configurer des caches et des filtres en coin standard pour les machines au cobalt.
Informations sur la sélection d'un modèle de calcul de la dose dans Eclipse : Manuel
de référence de photonthérapie et d'électronthérapie Eclipse. Informations sur la
configuration du modèle de source : Configuration des faisceaux de photons à la
page 51. Informations sur l'utilisation de Beam Configuration : Aide en ligne RT
and Imaging ou Manuel de référence Beam Configuration.

Calcul des unités moniteur


Le calcul des UM (unités moniteur) s'appuie sur les mesures de facteur d'ouverture
du collimateur réalisées pour différentes tailles de champ dans une géométrie de
référence donnée (plus d'informations : Géométrie des facteurs d'ouverture du
collimateur à la page 100) et sur les calculs d'étalonnage effectués pour la taille de
champ de référence.
Le changement du facteur d'ouverture du collimateur, en tant que fonction de la
taille de champ, est dû à des modifications de la diffusion dans le fantôme, de la
diffusion dans la tête et de la rétrodiffusion due au collimateur dans la chambre
moniteur. Les effets de la diffusion dans le fantôme et dans la tête sont représentés
par le modèle de source de faisceaux de photons et l'algorithme de calcul de dose
volumétrique (AAA ou Acuros XB). Le changement restant des facteurs d'ouverture
du collimateur est attribué à la rétrodiffusion due au collimateur. Celle-ci est estimée
à partir de la table des facteurs d'ouverture du collimateur mesurés selon l'équation
suivante.

Équation 1

OFref D′ X, Y
CBSF X, Y = OF X, Y
× D′ref

X, Y = Paramètres de collimateur (X = X2-X1, Y = Y2-Y1)

CBSF(X, Y) = Facteur de rétrodiffusion due au collimateur pour un champ ouvert avec


les mêmes paramètres de collimateur.

OFref = Valeur tabulée du facteur d'ouverture du collimateur pour la taille de


champ de référence. Cette valeur est normalement de 1,0. La taille de
champ de référence est donnée par le paramètre Absolute Dose Reference
Field Size (Taille de champ de référence de dose absolue), défini dans les
paramètres AAA et Acuros XB (plus d'informations : Tableau 12 à la
page 68).

Chapitre 3 Implémentation des algorithmes AAA et Acuros XB dans 25


Eclipse
OF(X, Y) = Valeur tabulée du facteur d'ouverture du collimateur pour la taille de
champ X,Y.

D′(X, Y) = Dose au point de référence calculée par l'algorithme AAA ou Acuros XB


pour la taille de champ X,Y et la géométrie de référence, en ignorant l'effet
de rétrodiffusion due au collimateur.

D′ref = Dose calculée par l'algorithme AAA ou Acuros XB pour les conditions de
référence dans la géométrie de référence (plus d'informations : Géométrie
des facteurs d'ouverture du collimateur à la page 100), en ignorant l'effet
de rétrodiffusion due au collimateur.

La géométrie du champ de référence, utilisée dans la mesure de la table des facteurs


d'ouverture du collimateur, est indiquée par le paramètre Source-Phantom
Distance (Distance Source-Fantôme) défini dans la table des facteurs d'ouverture
du collimateur dans Beam Configuration (plus d'informations : Tableau 5 à la
page 56). La profondeur du point de référence, en partant de la surface du fantôme,
est fournie par le paramètre Detector depth from phantom surface
(Profondeur de détection à partir de la surface du fantôme) également défini dans la
table de facteurs d'ouverture du collimateur.
Les UM finales sont calculées à partir de la dose prescrite, de la normalisation de
plan, de la pondération de champ, de la normalisation de champ et d'un facteur de
normalisation, déterminé par l'algorithme de calcul de la dose. Le facteur de
normalisation déterminé par AAA et Acuros XB est le nombre d'UM pour 1 Gy sur
100 % du champ actif. AAA et Acuros XB calculent les unités moniteur au point de
normalisation UMnorm pour les champs ouverts, les filtres en coin fixes, les filtres
dynamiques améliorés et les compensateurs physiques comme dans l'équation
suivante :

Équation 2

MU calib Dref 1
MUnorm = CBSF X, Y × Dcalib
× Dnorm X, Y
× WCF X, Y

CBSF(X, Y) = Facteur de rétrodiffusion due au collimateur pour un champ ouvert avec


les mêmes paramètres de collimateur (plus d'informations : Équation 1 à
la page 25).
Dans le cas des machines de traitement dans lesquelles le MLC définit la
taille de champ (Elekta, par exemple), le facteur de rétrodiffusion due au
collimateur est calculé à partir de la taille de champ effective dans les di-
rections X et Y, et non à partir des paramètres de mâchoires du collima-
teur (X, Y).

26 Manuel de référence des algorithmes de photonthérapie et


d'électronthérapie Eclipse
MUcalib = Valeur définie par l'utilisateur du paramètre Reference Dose In MU
at Calibration Depth (Dose de référence en UM pour la profondeur
d'étalonnage). (Pour les filtres en coin fixes, ce paramètre est extrait des
paramètres de filtre en coin.) Plus d'informations : Paramètres de filtre en
coin fixe à la page 76.)

Dcalib = Valeur définie par l'utilisateur du paramètre Reference Dose In Gy


at Calibration Depth (Dose de référence en Gy à la profondeur
d'étalonnage). (Pour les filtres en coin fixes, ce paramètre est extrait des
paramètres de filtre en coin.) Plus d'informations : Paramètres de filtre en
coin fixe à la page 76.)

Dref = Dose calculée par l'algorithme AAA ou Acuros XB pour les conditions de
référence (plus d'informations : Géométrie des facteurs d'ouverture du
collimateur à la page 100) à la profondeur d'étalonnage, qui correspond à
la valeur du paramètre Absolute Dose Scaling Factor (Facteur de
mise à l'échelle de la dose absolue). (Pour les filtres en coin fixes, ce para-
mètre est extrait des paramètres de filtre en coin.

Dnorm(X, Y) = Dose calculée par AAA ou Acuros XB au point de normalisation du


champ, selon la méthode de normalisation de champ sélectionnée.

WCF(X, Y) = Facteur de correction de filtre en coin pour les champs avec filtre en coin
fixe avec les paramètres de mâchoire du collimateur (X,Y).
Lorsque le champ comporte un cache ou un MLC, le facteur de correction
de filtre en coin est calculé en fonction de la taille de champ effective dans
les directions X et Y plutôt que des paramètres de mâchoires du collima-
teur (X, Y).

Le calcul de la dose de référence est identique au calcul UM. AAA et Acuros XB


calculent un facteur de dose de référence conformément à l'équation suivante. La
dose de référence (Réf. D), telle qu'elle apparaît dans la Info Window (Fenêtre
d'info), est calculée à partir de ce facteur de dose de référence, en tenant compte de la
dose prescrite, de la normalisation de plan, de la pondération de champ, de la
normalisation de champ et d'un facteur de normalisation déterminé par l'algorithme
de calcul de dose. Notez que la dose de référence n'est pas calculée si l'axe central se
trouve en dehors ou à la limite de l'ouverture du champ ou s'il est bloqué par un
MLC ou un cache. Elle n'est pas calculée non plus pour un champ d'arcthérapie ou
lorsque le mode de calcul de dose de plan est utilisé pour Acuros XB.

Équation 3

Dd
Ref_dose = Dnorm
max

Chapitre 3 Implémentation des algorithmes AAA et Acuros XB dans 27


Eclipse

Dd = Dose maximale le long de l'axe central


max

Dans le cas d'un champ IMRT, le LMC définit les UM de champ. Il doit pour cela
obtenir auprès de l'algorithme AAA ou Acuros XB le paramètre MUGY10 et le facteur
de rétrodiffusion due au collimateur pour un champ ouvert. Informations sur le LMC
et le calcul des UM pour les champs IMRT : Calcul d'UM dans le LMC à la page 277.
Informations sur la définition du facteur de rétrodiffusion due au collimateur dans
l'algorithme AAA : Équation 1 à la page 25.

normalisation
Les modes de normalisation utilisés dans AAA et Acuros XB pour le calcul de dose
volumétrique peuvent être sélectionnés dans Beam Configuration, dans les
Calculation Options (Options de calcul) du modèle de calcul. Le mode de
normalisation de champ sélectionné est utilisé pour tous les champs, à quelques
exceptions près. Si les résultats avec le mode de normalisation sélectionné ne sont pas
acceptables, ou si le mode ne peut pas être utilisé pour un certain champ, un autre
type de normalisation de champ est automatiquement sélectionné pour ce champ.
Le tableau présente les modes de normalisation de champ disponibles et les cas dans
lesquels la sélection change automatiquement.

28 Manuel de référence des algorithmes de photonthérapie et


d'électronthérapie Eclipse
Tableau 3 Méthodes de normalisation de champ dans AAA et Acuros XB

Mode Norm. Signification Exceptions

No field normali- La dose de champ est IMRT field (Champ IMRT) : la méthode de nor-
zation (Aucune normalisée à 100 % à malisation passe automatiquement à IMRT field
normalisation de 1 Gy/100 UM. normalization (Normalisation du champ IMRT).
champ)

100% to isocenter La dose de champ est Isocentre dans l'air/isocentre couvert par un
(100 % sur l'iso- normalisée à 100 % sur cache/faible* dose à l'isocentre :
centre) l'isocentre.
Champs statiques : la dose est normalisée sur un
point du plan d'isocentre comportant la plus
forte dose. Si la dose est faible au point en ques-
tion, la méthode de normalisation est modifiée à
100% to field central axis Dmax (100 % au Dmax
de l'axe central du champ).
Champs d'arcthérapie standard/champs d'arc-
thérapie conformationnelle : la méthode de nor-
malisation est remplacée par « 100% to field
Dmax » (100 % sur champ Dmax).
*La dose au niveau de l'isocentre est considérée
comme faible si elle est inférieure à 10 % de la
dose maximum de champ. Dans le cas des
champs ne correspondant pas à des composants
d'Elekta Motorized Wedge ou Elekta Omni-
Wedge, la dose est également considérée comme
faible si elle est inférieure à 50 % de la dose
maximum sur le plan d'isocentre.

Fixed SSD field (champ à DSP fixée) : la méthode


de normalisation est modifiée à 100% to field
central axis Dmax (100 % au Dmax de l'axe cen-
tral du champ).

IMRT field (champ IMRT) : la méthode de nor-


malisation passe automatiquement à IMRT field
normalization (normalisation du champ IMRT).

Champ VMAT et AAA ou Acuros XB : la mé-


thode de normalisation est automatiquement
remplacée par No field normalization (Aucune
normalisation de champ).

Acuros XB et calcul de la dose de plan (champs


non-IMRT) : la méthode de normalisation est au-
tomatiquement remplacée par No field normali-
zation (Aucune normalisation de champ).

Chapitre 3 Implémentation des algorithmes AAA et Acuros XB dans 29


Eclipse
Mode Norm. Signification Exceptions

100% to field cen- La dose de champ est Axe central complet dans l'air/axe central cou-
tral axis Dmax normalisée à 100 % de vert par un cache/faible** dose le long de l'axe
(100 % au Dmax la dose maximale le central : la méthode de normalisation est rem-
de l'axe central long du CAX. placée par « 100% to field dmax » (100 % sur
du champ) champ Dmax).
** Dose inférieure à 10 % de la dose maximum
de champ.

IMRT field (Champ IMRT) : la méthode de nor-


malisation passe automatiquement à IMRT field
normalization (Normalisation du champ IMRT).

Champs d'arcthérapie et AAA ou Acuros XB : la


méthode de normalisation est automatiquement
remplacée par No field normalization (Aucune
normalisation de champ).

Acuros XB et calcul de la dose de plan : la mé-


thode de normalisation est automatiquement
remplacée par No field normalization (Aucune
normalisation de champ).

100% to field La dose de champ est IMRT field (champ IMRT) : la méthode de nor-
Dmax (100 % sur normalisée à 100 % de malisation passe automatiquement à IMRT field
champ Dmax) la dose maximum de normalization (Normalisation du champ IMRT).
champ.
Champs d'arcthérapie et AAA ou Acuros XB : la
méthode de normalisation est automatiquement
remplacée par No field normalization (Aucune
normalisation de champ).

Acuros XB et calcul de la dose de plan : la mé-


thode de normalisation est automatiquement
remplacée par No field normalization (Aucune
normalisation de champ).

IMRT field nor- Pour les champs IMRT, Cette méthode de normalisation ne peut pas être
malization (Nor- le calcul d'unités moni- sélectionnée dans Beam Configuration. Elle est
malisation de teur est exécuté par le automatiquement sélectionnée par les algo-
champ IMRT) séquenceur (LMC). rithmes AAA et Acuros XB pour les champs
L'algorithme AAA IMRT.
normalise la dose de
champ pour la rendre Acuros XB et calcul de la dose de plan : la mé-
compatible avec les thode de normalisation est automatiquement
UM calculées par le remplacée par No field normalization (Aucune
LMC. Plus d'informa- normalisation de champ).
tions sur le calcul des
UM pour les champs
IMRT : Calcul d'UM
dans le LMC à la
page 277.

30 Manuel de référence des algorithmes de photonthérapie et


d'électronthérapie Eclipse
La figure suivante illustre la manière dont AAA et Acuros XB changent le mode de
normalisation de champ 100% to isocenter (100 % de l'isocentre) sélectionné par
l'utilisateur lorsqu'il n'est pas applicable au champ.

100 % vers l'isocentre


du champ
Cache sur l'axe central du champ
Isocentre en dehors du contour
externe
Dose faible à l'isocentre
Champ Oui

Champ à DSP fixée


d'arcthérapie

Acuros XB et dose de plan (non IMRT)


Champ VMAT

Non

100 % vers la dose

Champ IMRT
maximale au plan
d'isocentre
Plan d'isocentre dans l'air
Dose faible au plan d'isocentre

100 % vers la Dmax


de l'axe central
Cache sur l'axe central du champ
Dose faible le long de l'axe central
du champ
100 % vers la Dmax
du champ
Dose faible

Pas de normalisation
de champ

Normalisation IMRT

Figure 5 Sélection de la normalisation de champ dans AAA et Acuros XB

Options de calcul
Les options de calcul suivantes peuvent être configurées pour AAA et Acuros XB :
■ Calculation resolution (Résolution de calcul)
■ Calculation resolution for SRS and HyperArc plans (Résolution de calcul pour
plans SRS et HyperArc)
■ Heterogeneity correction (Correction de l'hétérogénéité)

Chapitre 3 Implémentation des algorithmes AAA et Acuros XB dans 31


Eclipse
■ Field normalization (Normalisation de champ)
■ Angular resolution in conformal arc and VMAT calculations (Résolution angulaire
dans les calculs d'arcthérapie conformationnelle et VMAT)
■ Dose reporting mode (Mode de rapport de dose) (Acuros XB uniquement)
■ Plan dose calculation (Calcul de dose de plan) (Acuros XB uniquement)
■ GPU calculation (Calcul du processeur graphique) (Acuros XB uniquement)
■ Automatic high-density material (Matériel haute densité automatique)
(Acuros XB uniquement)
■ Maximum automatic high-density volume in cm3 (Volume haute densité
automatique maximal en cm3) (Acuros XB uniquement)
Les options de calcul par défaut sont définies dans Beam Configuration. La
résolution angulaire dans les calculs d'arcthérapie conformationnelle et VMAT est
définie dans les paramètres DCF.

Résolution de calcul
Pour l'alignement de la grille de calcul sur la grille de l'image, Acuros XB utilise une
méthode plus élaborée que l'algorithme AAA. Cela peut aboutir à une légère
différence entre les grilles de calcul des algorithmes AAA et Acuros XB.
La résolution de calcul peut prendre n'importe quelle valeur entre 1 et 5 mm pour
l'algorithme AAA, et n'importe quelle valeur comprise entre 1 et 3 mm pour
l'algorithme Acuros XB. Dans le cas de l'utilisation de grilles denses (taille de voxel
inférieure à 2 mm), la taille des matrices de dose peut entraîner des problèmes de
mémoire insuffisante de l'ordinateur.
Durant le calcul de la dose, l'algorithme AAA calcule d'abord la dose dans une
matrice de dose divergente (divergent dose matrix). La largeur de la matrice de dose
différente dépend des positions des mâchoires. Une marge supplémentaire est
ajoutée afin de pouvoir calculer également la région de faible dose pouvant résulter
du rayonnement de la tête et du fantôme. Cette marge dépend de la taille du champ
et de la résolution de calcul sélectionnée. La marge par défaut est de 12 cm. La marge
est toutefois réduite de sorte que le nombre de points de calcul au plan d'isocentre ne
dépasse pas 74 000, c'est-à-dire :

FS_X + 2 × M × FS_Y + 2 × M
h×h
≤ 74000

où :

FS_X = Taille de champ en cm dans la direction X.

FS_Y = Taille de champ en cm dans la direction Y.

32 Manuel de référence des algorithmes de photonthérapie et


d'électronthérapie Eclipse
M = Taille de la marge supplémentaire en cm. La marge mesure toujours
au moins 7 cm.

h = Résolution de calcul en cm.

Ainsi, pour l'algorithme AAA, la matrice de dose différente ainsi que les fluences
d'entrée (fluence 2D pour la source primaire, fluences 3D pour la source secondaire,
contamination des électrons et rayonnement du filtre en coin) dépassent de 7 à 12 cm
le bord du champ au plan d'isocentre. Pour Acuros XB, la même marge que celle
employée par AAA pour les fluences d'entrée est utilisée. Toutefois, puisque le dépôt
de dose est réalisé dans le système de coordonnées qui couvre l'intégralité du volume
de calcul (à la différence du système différent pour AAA), le rayonnement du
fantôme peut être plus important dans Acuros XB que dans AAA, où la dose atteint
la valeur de zéro en dehors de la marge.
Dans chaque plan d'image, la résolution du calcul de la dose correspond à la valeur
définie. Avec AAA, l'angle de l'un des voxels de la matrice de dose qui est renvoyée
au client Eclipse après le calcul de dose se trouve en un point dont les coordonnées
DICOM X et Y sont identiques à celles de l'isocentre du premier champ du plan. Si
l'isocentre se trouve en dehors du volume de calcul, cela s'applique également au
maillage de la grille de dose qui s'étend au-delà du volume de calcul.
Avec Acuros XB, si la taille de pixel des coupes d'images correspond à 0,01 mm près
à la résolution de calcul, ou à la résolution de calcul divisée ou multipliée par un
entier, la matrice de dose renvoyée au client Eclipse est alignée sur l'image et la
résolution de calcul est automatiquement modifiée (par l'ajout ou le retrait de
0,01 mm ou moins) de manière à obtenir une correspondance exacte. Cela signifie
que la limite d'un voxel de dose coïncide avec celle d'un pixel d'image, dans la
mesure du possible. Si ce n'est pas possible, le centre de l'un des voxels de la matrice
de dose qui est renvoyée au client Eclipse après le calcul de dose se trouve en un
point dont les coordonnées DICOM X et Y sont identiques à celles de l'isocentre du
premier champ du plan. Si l'isocentre se trouve en dehors du volume de calcul, cela
s'applique également au maillage de la grille de dose qui s'étend au-delà du volume
de calcul.

Chapitre 3 Implémentation des algorithmes AAA et Acuros XB dans 33


Eclipse
Dans l'axe perpendiculaire aux coupes d'images, AAA et Acuros XB adaptent la
résolution de la grille de façon à ce que la dose soit toujours calculée exactement
comme sur les coupes d'images. Si l'épaisseur de coupe est supérieure à la résolution
définie, AAA et Acuros XB peuvent calculer la dose sur les plans situés entre les
coupes d'images. Si l'espacement entre les coupes est inférieur à la résolution définie,
AAA et Acuros XB peuvent omettre le calcul de la dose sur certaines coupes. Pour
une épaisseur de coupe d'image, IS, AAA et Acuros XB calculent IS/n...IS/3,
IS/2, IS, IS × 2, ΙS × 3...ΙS × n et définissent l'espacement entre les
plans de dose sur la valeur la plus proche de la résolution définie. Des exemples sont
présentés dans la figure. Notez que lorsque la séparation des coupes est supérieure à
la résolution définie, AAA et Acuros XB produisent également une image interne
avec une séparation des coupes plus réduite. Lorsque l'épaisseur de coupe est divisée
par un nombre pair selon la procédure ci-dessus, l'une de ces coupes
supplémentaires est placée exactement au centre entre deux coupes d'origine. Ainsi,
si l'image d'origine (fantôme) présente une limite nette, celle-ci sera rendue « floue »
par la présence d'une coupe supplémentaire de densité intermédiaire.

1. Plans de dose entre les coupes


2. Résolution de la grille

Figure 6 Résolutions de la grille et de la matrice de dose dans AAA et Acuros XB

34 Manuel de référence des algorithmes de photonthérapie et


d'électronthérapie Eclipse
Résolution de calcul pour des plans SRS et HyperArc
Résolution de calcul en cm pour des plans SRS et HyperArc. La valeur minimale est
0,1 cm et la valeur maximale est 0,3 cm. La valeur par défaut pour des plans SRS et
HyperArc est 0,125 cm.

Heterogeneity Correction
La correction de l'hétérogénéité peut être activée ou désactivée :
■ Activée : l'hétérogénéité à l'intérieur du corps est prise en compte dans le calcul de
la dose. Le bolus et les structures de support, le cas échéant, utilisent des valeurs
scanner et/ou des mappages de matériel spécifiques.
■ Désactivée : l'ensemble du corps est traité comme s'il s'agissait d'eau. Cependant,
le bolus et les structures de support, le cas échéant, utilisent leurs valeurs scanner
spécifiques.

Field Normalization
Informations supplémentaires : normalisation à la page 28.

Angular Resolution in Conformal Arc and VMAT Calculations


Cette option spécifie la résolution angulaire en degrés pour les calculs de champ
d'arcthérapie. Elle intègre les points de contrôle existants de la machine dans des
faisceaux placés le long de l'arc selon l'intervalle défini. Pour les champs
d'arcthérapie conformationnelle et VMAT, la valeur OFF (ARRÊT) indique que les
faisceaux utilisés pour calculer l'arc coïncident avec les points de contrôle de la
machine. Pour les champs d'arcthérapie standard, OFF (ARRÊT) indique que la
résolution angulaire est de 5 degrés.
Cette option est définie dans les paramètres de calcul DCF globaux ou locaux. Pour y
accéder, choisissez Tools > Workstation Configuration > Settings for Distributed
Calculation Framework (Outils > Configuration du poste de travail > Paramètres
pour système de calcul réparti) et sélectionnez les paramètres globaux ou locaux.
Pour de plus amples informations sur la configuration des données faisceaux :
Manuel de référence Beam Configuration.

Chapitre 3 Implémentation des algorithmes AAA et Acuros XB dans 35


Eclipse
Dose Reporting Mode
Cette option détermine si Acuros XB doit afficher la dose dans le milieu ou la dose
dans l'eau. Le calcul du transport d'Acuros XB demeure identique, quel que soit le
mode sélectionné. Seule l'étape de post-traitement diffère. Dans un cas comme dans
l'autre, la fluence dépendante de l'énergie calculée par Acuros XB est multipliée par
une fonction de réponse pour obtenir la dose locale. Pour la dose dans l'eau, on
utilise la même fonction de réponse (que celle de l'eau) partout. Pour la dose
appliquée à un milieu, on utilise la réponse de dose du matériau dans la grille de
voxels de sortie. Plus d'informations sur la dose dans l'eau et la dose dans le milieu :
Conversion fluence/dose à la page 138.

Plan Dose Calculation


Cette option détermine si la dose de plan doit être calculée. Le calcul de dose de plan
peut être activé ou désactivé.
Calcul de dose de plan activé : la dose totale de tous les champs du plan est calculée
avec une seule exécution d'Acuros XB. Grâce à cette option, on peut n'obtenir qu'une
seule matrice de dose par plan, sans que les matrices de doses de champ ne soient
calculées.
Calcul de dose de plan désactivé : les doses de champ individuelles sont obtenues par
différentes exécutions d'Acuros XB. Avec cette option, les matrices de dose de champ
sont obtenues en plus de la matrice de dose du plan. Cela permet, par exemple, de
modifier les pondérations de champ sans recalculer la dose du plan avec Acuros XB.
Si les doses de champ ne sont pas requises et si une seule machine est disponible
pour le calcul de dose, il est plus rapide de calculer un plan à champs multiples en
activant le calcul de dose de plan. En revanche, la désactivation de cette fonctionnalité
pour les plans RapidArc à arcs multiples peut accélérer le calcul lorsque plusieurs
ordinateurs sont disponibles via le DCF. Dans ce cas, chaque arc est calculé sur une
machine distincte, ce qui permet la parallélisation du modèle de source et du tracé de
rayon des sources dans le patient. Puisque ces deux composants sont proportionnels
au nombre de champs, ils peuvent devenir conséquents pour les plans RapidArc à
arcs multiples.
Le calcul de dose de plan Acuros XB a lieu uniquement lorsque les conditions
suivantes sont réunies :
■ L'option de calcul de plan de dose est activée.
■ Le plan comporte plusieurs champs.
■ Tous les champs du plan utilisent les mêmes machine de traitement, type de
particule, énergie et mode de fluence principal.
■ Aucun des champs du plan ne comporte de filtre en coin motorisé ou
d'Omniwedge.

36 Manuel de référence des algorithmes de photonthérapie et


d'électronthérapie Eclipse
■ Le calcul de dose n'a pas été demandé pour des valeurs de point de référence fixes
(boîte de dialogue Calculate Dose with Preset Values [Calculer la dose avec des
valeurs prédéfinies]).
■ Le plan n'est pas un plan de vérification.
■ Le plan comporte uniquement des champs IMRT ou VMAT ou aucun de ces
champs.
■ Si le plan comporte un bolus, ce dernier doit être attribué à tous les champs du
plan.
Lorsque le calcul de plan de dose est activé, l'option de normalisation de champ No
field normalization (Aucune normalisation de champ) est utilisée. Pour les champs
IMRT, la normalisation IMRT normale est utilisée. Les UM des champs seront donc
proportionnelles à la pondération des champs. Si vous calculez le même plan en
activant et en désactivant le calcul de dose de plan, vous pouvez obtenir des UM de
champ, et donc des distributions de dose de plan, différentes. Lorsque le calcul de
dose de plan est utilisé, les UM souhaitées sont connues à l'avance, contrairement au
facteur de normalisation global potentiel. Vous pouvez alors calculer le volume avec
des valeurs prédéfinies et définir les UM souhaitées ou définir des pondérations de
champs proportionnelles aux UM souhaitées dans la Info Window (Fenêtre d'info).

GPU Calculation
Cette option détermine si le processeur graphique (GPU) est utilisé pour accélérer le
calcul de la dose Acuros XB. Les hôtes de calcul nécessitent un matériel spécifique
pour exécuter le calcul du processeur graphique.

Automatic High Density Material


Cette option définit le matériau affecté automatiquement aux pixels haute densité de
l'image, pour lesquels aucun matériau n'a été affecté manuellement. L'option de
calcul Maximum automatic high-density volume in cm3 (Volume haute densité maximum
automatique en cm3) limite le volume dans lequel un matériau haute densité est
affecté automatiquement. Lors de l'affectation automatique de matériau, la densité
par défaut de chaque matériau est utilisée. Cette option peut être modifiée dans
Beam Configuration.

Tableau 4 Matériaux haute densité automatiques

ID matériau Description

Bone Nom du matériau1 : Bone (Os). Densité par défaut 1,85 g/cm3.

Muscle_Skeletal Nom du matériau : Muscle Skeletal (Squelette muscle). Densité


par défaut 1,05 g/cm3.

Stainless_Steel Nom du matériau : Stainless Steel (Acier inoxydable). Densité


par défaut 8,00 g/cm3.

Chapitre 3 Implémentation des algorithmes AAA et Acuros XB dans 37


Eclipse
ID matériau Description

Ti6Al4V_ELC Nom du matériau : Titanium alloy (Alliage de titane). Densité


par défaut 4,42 g/cm3.
1. Notez que les ID matériau sont toujours identiques, mais que les noms changent en fonction de la langue
sélectionnée.

Les pixels haute densité sont les pixels dont la densité massique (dérivée de la valeur
UH de l'image) dépasse la densité massique maximale des matériaux utilisés dans la
conversion automatique (3,0 g/cm3). Liste des matériaux pour la conversion
automatique des valeurs scanner en matériaux : Mappage scanner/matière à la
page 141.

Maximum Automatic High-Density Volume in cm3


Cette option définit le volume maximal dans lequel l'affectation automatique d'un
matériau haute densité peut être effectuée. Cette option peut être modifiée dans
Beam Configuration.

Calcul de la dose pour Siemens mARC


Pour un champ Siemens mARC, la dose est déterminée en calculant un champ
statique à chaque point d'optimisation. La distribution de dose n'est pas calculée si
un ou plusieurs arclets couvrent plus de 5 degrés. Dans ce cas, un message d'erreur
apparaît.
Les arclets mARC sont administrés à l'aide de l'un des trois modes suivants
sélectionné automatiquement par la console de commande :
■ Burst/Single Speed Mode (Mode par salves/vitesse unique) (mode de préférence) :
l'arclet est administré avec une vitesse du bras identique à celle utilisée pendant
l'intervalle d'arrêt du faisceau. Cela n'est possible que si le nombre d'UM de
l'arclet est suffisamment faible pour pouvoir être administré dans les limites de
l'angle de celui-ci défini par le plan de traitement. Si possible, l'arclet est
administré sur un angle inférieur à celui défini par le plan de traitement.
■ Burst/Dual Speed Mode (Mode par salves/double vitesse) : si le nombre d'UM de
l'arclet est trop important pour pouvoir être administré dans les limites de la taille
nominale de celui-ci à la vitesse du bras configurée, la vitesse du bras est réduite
pendant l'administration de l'arclet.
■ Hybrid Mode (Mode hybride) : plusieurs arclets sont administrés à un angle fixe
du bras au même point d'optimisation. Le premier arclet d'un traitement ou d'une
reprise de traitement mARC est toujours administré à un angle fixe du bras.
Dans les modes Burst (Salves), la dose n'est déposée que pendant les arclets de courte
durée à proximité des points médians entre chaque paire de points de contrôle dont
la courbe de poids n'est pas nulle.

38 Manuel de référence des algorithmes de photonthérapie et


d'électronthérapie Eclipse
Pour les champs mARC, des modes d'énergie de photons avec et sans égalisation
avec des débits de dose pouvant atteindre 2 000 UM/min sont disponibles. Eclipse
prend en charge les modes d'énergie suivants pour les champs mARC :
■ Mode STANDARD : 6X, 10X, 15X, 18X
■ Mode UF (sans égalisation) : 7X, 11X, 14X, 17X

Calcul de dose pour des machines au cobalt


L'algorithme AAA prend en charge le calcul de dose pour des machines de
traitement au cobalt. Pour ces machines, le mode d'énergie photonique est 1X. Au
lieu d'unités moniteur, AAA renvoie un réglage de la minuterie (exprimé en
secondes ou en minutes, selon ce qui a été défini pour la machine dans RT
Administration). Le réglage de la minuterie affiché est corrigé pour tenir compte de
la décroissance de la radioactivité du cobalt et utilise l'activité de la source au
moment du calcul. La date d'étalonnage du cobalt et la demi-vie du cobalt doivent
être définies (pour de plus amples informations : Tableau 15 à la page 73). Pour
chaque calcul de dose avec AAA, les dates d'étalonnage et de calcul apparaissent
dans le Dose Calculation Log (fichier Log du calcul de dose) ainsi que dans les
impressions de sorte à favoriser les contrôles manuels.

AVERTISSEMENT : Vérifiez le calcul des doses et les doses affichées à l'aide de méthodes
de calcul manuelles pour les machines au cobalt afin de vérifier que la décroissance de la
source utilisée dans le calcul correspond à la décroissance réelle de la source.

Chapitre 3 Implémentation des algorithmes AAA et Acuros XB dans 39


Eclipse
Chapitre 4 Modèle de source de faisceaux de
photons

À propos du modèle de source de faisceaux de photons


Le modèle de source de faisceaux de photons est utilisé par les algorithmes de calcul
de dose AAA et Acuros XB uniquement. Lors de la configuration d'Acuros XB, les
données faisceaux configurées pour AAA peuvent être importées et reconfigurées à
l'aide du programme de configuration d'Acuros XB et inversement. Informations sur
AAA : Chapitre 5 Algorithme analytique anisotrope (AAA) pour les photons à la
page 112. Informations sur Acuros XB : Chapitre 6 Algorithme Acuros de
radiothérapie (Acuros XB) pour les photons à la page 124.

Modélisation du faisceau clinique des faisceaux de


photons
Un modèle paramétré précis du débit de rayonnement des accélérateurs linéaires
médicaux a été développé à partir des résultats publiés précédemment, à la suite des
simulations Monte Carlo de la tête de la machine de traitement. Pour chaque faisceau
clinique, les paramètres du modèle sont modifiés afin de construire un espace de
phases personnalisé spécifique au faisceau clinique à modéliser. Le faisceau clinique
est représenté à l'aide d'un modèle de source de faisceaux de photons, possédant les
principaux composants ou sources suivants : source primaire de photons, source
secondaire de photons, source des électrons de contamination et photons diffusés à
partir du filtre en coin fixe (source de diffusion du filtre en coin). Les sources sont
caractérisées à l'aide de plusieurs paramètres dérivés de la configuration du modèle
de source. Informations supplémentaires : Configuration des faisceaux de photons à
la page 51.
Le faisceau clinique global est subdivisé en beamlets de taille limitée β , comme
illustré dans la figure. La taille du beamlet est fonction de la résolution de calcul. En
outre, les différents composants photons et électrons ont chacun une intensité de
beamlet différente.

40 Manuel de référence des algorithmes de photonthérapie et


d'électronthérapie Eclipse
3
4
5

1
10

2 11

1. Beamlet β .
2. Grille de voxels de calcul.
3. Source.
4. Cible.
5. Collimateur primaire.
6. Cône égalisateur.
7. Chambre d'ionisation.
8. Mâchoires.
9. Caches, MLC, DMLC (IMRT).
10. Filtre en coin fixe.
11. Patient.

Figure 7 Composants de la machine de traitement, Subdivision du faisceau global

Chapitre 4 Modèle de source de faisceaux de photons 41


Source primaire
Dans le modèle de source de faisceaux de photons, la source primaire est une source
ponctuelle qui se trouve dans le plan de la cible. Les effets physiques de la taille
limitée de la source primaire sont modélisés par les paramètres de la taille effective
du foyer cible (Paramètres AAA et Acuros XB à la page 68). La source modélise les
photons de rayonnement de freinage créés dans la cible qui n'interagissent pas dans
la tête de la machine de traitement . Les spectres des photons initiaux après la cible
sur l'axe central du faisceau ont été simulés avec BEAMnrc à l'aide de matériaux et
d'épaisseurs cibles réalistes. Le durcissement du faisceau dans le cône égalisateur est
modélisé en atténuant le spectre initial à l'aide d'une quantité, variable en fonction du
rayon, du matériau du cône égalisateur. Des spectres énergétiques distincts pour
chaque ligne en éventail du faisceau global sont dérivés de la courbe d'énergie
moyenne (Figure 9 à la page 46). La fluence énergétique non uniformisée des
photons est modélisée par une courbe de profil d'intensité variant radialement
(Figure 10 à la page 46).

Source secondaire
La source secondaire est une source plane gaussienne située sur le plan inférieur du
cône égalisateur. Elle modélise les photons résultant des interactions dans la tête de
l'accélérateur en dehors de la cible (essentiellement dans le cône égalisateur, dans les
collimateurs primaires et dans les mâchoires secondaires). En raison de la position
inférieure de la source secondaire, la divergence de son rayonnement est supérieure à
celle du rayonnement de la source primaire et, de ce fait, l'effet est plus perceptible
hors du faisceau défini par la source primaire. La modélisation de la source
secondaire a été désactivée pour les faisceaux sans cône égalisateur (FFF) pour toutes
les machines de traitement, à l'exception des machines Elekta Versa HD, car la source
la plus importante de diffusion du rayonnement n'est pas présente dans la ligne du
faisceau. La modélisation de la source secondaire a également été désactivée pour les
filtres en coins mécaniques, sauf pour le filtre en coin fixe Elekta.

42 Manuel de référence des algorithmes de photonthérapie et


d'électronthérapie Eclipse
Contamination électronique
La source de contamination électronique décrit la dose déposée dans la région de
mise en équilibre et non prise en compte par les contributions de photons primaires
et extra-focaux. La contamination électronique est également utilisée pour la
modélisation de la contamination des photons (photons créés au cours d'interactions
d'électrons). La contamination électronique est modélisée à l'aide d'une courbe
dépendant de la profondeur radiologique qui décrit la quantité totale de dose de
contamination électronique à une certaine profondeur radiologique. Les paramètres
de contamination électronique pour les filtres en coin fixes sont configurés dans
Beam Configuration.

Diffusion de photons à partir du filtre en coin


Chaque point du filtre en coin sert de source auxiliaire de diffusion. L'intensité du
rayonnement de diffusion à partir de chaque point est supposée être proportionnelle
au taux de rayonnement primaire sur ce point. Le rayonnement de diffusion est
supposé avoir une distribution directionnelle légèrement orientée vers l'avant. Ce
modèle est implémenté avec un double modèle gaussien dans lequel la largeur du
noyau gaussien augmente en s'éloignant du filtre en coin.

Modèle d'espaces de phases


Le faisceau est modélisé à l'aide de paramètres physiques. Ces paramètres
fournissent une description de l'espace de phases des particules dont est formé le
faisceau de traitement. Un modèle reposant sur des paramètres physiques permet un
calcul de la dose précis dans des conditions différentes de celles de mesure, une
approche qui diffère donc de celles des modèles semi-empiriques. Le modèle ne
nécessite qu'un minimum d'informations techniques concernant la construction de la
tête de la machine de traitement. Les paramètres du modèle peuvent être adaptés
facilement et rapidement à un accélérateur individuel.

Chapitre 4 Modèle de source de faisceaux de photons 43


Pour un faisceau spécifique ayant un angle de bras statique, modulé par des
mâchoires et éventuellement un MLC statique ou dynamique, le modèle de source
génère un espace de phases, qui est envoyé à l'algorithme de calcul de la dose. La
transmission des mâchoires physiques est considérée comme nulle, excepté pour le
calcul du filtre en coin virtuel Elekta, pour lequel la transmission doit être définie
dans Beam Configuration. L'espace de phases se compose d'un espace de phases de
source primaire et d'un ou de plusieurs espaces de phases de sources non primaires.
L'espace de phases primaire se compose d'une grille de fluence énergétique à deux
dimensions et d'une grille de spectre à deux dimensions. L'espace de phases non
primaire se compose d'une grille de fluence énergétique à trois dimensions (c'est à
dire, d'une grille de fluence énergétique à deux dimensions qui varie en fonction de
la distance de la source) et d'un spectre unique. Pour un champ d'arcthérapie, le
modèle de source calcule plusieurs espaces de phases de faisceaux statiques.

Modélisation de la source primaire


Pour que le modèle de source de faisceaux de photons puisse générer l'espace de
phases de la source primaire, il faut renseigner la matrice de rapport d'ouverture
principale (ouverture mâchoire statique/MLC ou fluence réelle pour un champ
IMRT/segment d'arc), ainsi que les paramètres de modèle de source suivants :
■ Spectre énergétique des photons
■ Énergie radiale moyenne
■ Profil d'intensité

Spectre énergétique des photons


Les algorithmes de calcul de la dose pour des faisceaux de photons nécessitent des
informations relatives au spectre énergétique des photons primaires dans le faisceau.
Les spectres de photons initiaux ont été déterminés pour une machine générique à
partir de simulations Monte Carlo du spectre de rayonnement de freinage des
électrons frappant la cible. La figure suivante illustre un exemple de spectre de
photons initial d'un faisceau de 6 MV.

44 Manuel de référence des algorithmes de photonthérapie et


d'électronthérapie Eclipse
3

1. Fluence relative des particules


2. Énergie [MeV]
3. Spectre

Figure 8 Exemple de spectre de photons 6 MV

Énergie moyenne
L'énergie moyenne, en fonction du rayon à partir du CAX (axe central) du faisceau,
est un autre paramètre important qui affecte le spectre d'énergie utilisé par le modèle
de source. La figure suivante illustre un exemple d'énergie radiale moyenne d'un
faisceau de 6 MV. Cette courbe est utilisée par le modèle de source pour déterminer
l'effet de durcissement du faisceau du cône égalisateur dans le spectre de photons.
Selon la courbe d'énergie moyenne et le matériau du cône égalisateur spécifié par
l'utilisateur, le modèle de source détermine le spectre d'énergie du faisceau en tant
que fonction de la distance radiale à partir du CAX (axe central) du faisceau. Pour les
faisceaux sans cône égalisateur (FFF), la courbe d'énergie radiale moyenne modélise
la variation hors axe dans le spectre de rayonnement de freinage initial.

Chapitre 4 Modèle de source de faisceaux de photons 45


3

1. Énergie moyenne [MeV]


2. Distance radiale [mm]
3. Énergie radiale moyenne

Figure 9 Exemple de l'énergie moyenne en tant que fonction de la distance du CAX (axe central)
d'un faisceau de photons 6 MV

Profil d'intensité
L'intensité du faisceau de photons varie légèrement à travers le champ de traitement.
La variation de la fluence de photons est modélisée à l'aide d'un paramètre nommé
courbe de profil d'intensité. Le profil d'intensité est calculé sous forme de fluence
d'énergie de photons (valeur × énergie de photons) en fonction de la distance radiale
à partir du CAX (axe central).
La figure suivante illustre un exemple de profil d'intensité d'un faisceau de 18 MV :

1. Intensité
2. Rayon [mm]
3. Profil d'intensité

Figure 10 Exemple de profil d'intensité d'un faisceau de 18 MV

La figure suivante illustre un exemple de profil d'intensité d'un faisceau de 10 MV


sans cône égalisateur (FFF) :

46 Manuel de référence des algorithmes de photonthérapie et


d'électronthérapie Eclipse
3

1. Intensité relative [%]


2. Distance hors axe [mm]
3. Profil d'intensité

Figure 11 Exemple de profil d'intensité d'un faisceau dépourvu de filtre égalisateur de 10 MV

Modélisation de la source secondaire


Le rayonnement de photons extra-focal (tous les photons provenant d'en dehors de la
cible) est modélisé à l'aide d'une source secondaire de taille limitée située sur la
surface inférieure du cône égalisateur. Cette source virtuelle est nommée source
secondaire. La source secondaire a une distribution d'intensité gaussienne. Sa
distribution de fluence énergétique est plus large que celle de la source primaire, car
elle est située plus près du patient dans la ligne du faisceau. La fluence énergétique
est également floue à proximité des bords en raison de la taille limitée de la source.

Fluence énergétique de la source secondaire


La fluence de source secondaire sur un plan arbitraire est calculée en ajoutant la
contribution de chaque élément de la source pour chaque pixel dans la matrice de
fluence de destination. Ces contributions varient selon que le faisceau atteint les
mâchoires du collimateur ou les lames du MLC. Le calcul modélise les bords
supérieur et inférieur des mâchoires du collimateur, et le MLC en tant que plan
individuel. Cette contribution est mise à l'échelle par pondération gaussienne de
l'élément source, par l'inverse carré de la distance entre les éléments de la source et le
plan de destination et par le cosinus de l'angle du rayon.

Chapitre 4 Modèle de source de faisceaux de photons 47


Paramètres de la source secondaire
Le modèle de source secondaire intègre un spectre dont l'énergie à l'axe est mise à
l'échelle pour obtenir une énergie moyenne donnée. La variation hors axe dans le
spectre de la source secondaire n'est pas modélisée. L'intensité relative de la source
secondaire par rapport à la source de photons primaire, la largeur de la gaussienne
sur le plan de la source (taillle de la source secondaire) et l'énergie moyenne sont des
paramètres libres. Informations sur la façon dont ces paramètres sont dérivés :
Programme de configuration pour les faisceaux de photons à la page 89. La
distance de la cible à la source secondaire et les distances entre la cible et chaque
collimateur sont lues dans la bibliothèque au début de la configuration. Ces
paramètres sont définis dans la configuration conformément à la géométrie de la
machine et ne sont pas modifiés au cours du processus d'optimisation. Les
paramètres de distance peuvent être modifiés par l'utilisateur pour les faire
correspondre à la machine de traitement proprement dite avant de commencer la
configuration.

Modélisation de la contamination électronique


La contamination électronique est modélisée à l'aide d'une courbe dépendante de la
profondeur qui décrit la dose de contamination électronique intégrée latéralement à
différentes profondeurs. Acuros XB nécessite en outre un spectre énergétique pour
les électrons de contamination. Ce dernier est déterminé en modélisant un ensemble
de doses en profondeur d'électrons monoénergétiques à une courbe dépendante de la
profondeur.
La forme de la fluence électronique est obtenue par convolution de la forme de
l'ouverture et d'un noyau 2D comprenant deux composants gaussiens. Le composant
gaussien dont la valeur sigma effective est la plus petite permet au modèle de source
de faisceaux de photons de mieux modéliser la diffusion électronique qui se produit
dans l'air.
Dans les données faisceaux, la largeur de ces composants gaussiens est représentée à
l'aide des paramètres de contamination électronique Sigma0 et Sigma1, et leur
rapport de pondération mutuel est décrit par le paramètre Relative fraction
of sigma0 (Fraction relative de Sigma0).
La figure suivante illustre un exemple de courbe de contamination électronique.

48 Manuel de référence des algorithmes de photonthérapie et


d'électronthérapie Eclipse
3

1. Dose relative d'électrons


2. Profondeur [mm]
3. Contamination électronique

Figure 12 Exemple de courbe de contamination électronique

Modificateurs de faisceau dans le modèle de faisceau de


traitement
La plupart des accessoires modifiant le faisceau n'ont d'effet que sur la fluence du
faisceau utilisée pour le calcul de la dose. Les caches, les plaques et les MLC utilisent
un facteur de transmission défini par l'utilisateur pour modéliser le rayonnement
émis à travers l'accessoire. Les compensateurs, les filtres en coin dynamiques
améliorés et les champs IMRT modifient également la fluence du faisceau. Les effets
de diffusion de tête sont pris en compte en utilisant une source secondaire de taille
limitée sur la surface inférieure du filtre égalisateur (Modélisation de la source
secondaire à la page 47). La contribution des électrons de contamination dépend
également de la forme de la fluence du faisceau de photons.
Les filtres en coin fixes modifient la fluence et les caractéristiques spectrales du
faisceau. Le programme de configuration détermine ces effets à partir des mesures de
rendement en profondeur et de profil pour plusieurs tailles de champ. Les effets du
filtre en coin sont dérivés simultanément vers les effets ci-dessus pendant la
configuration du faisceau. Le matériau du filtre en coin défini par l'utilisateur et la
transmission de filtre en coin dérivée au cours du processus de configuration sont
utilisés afin de déterminer le spectre énergétique 2D après le filtre en coin, à partir du
spectre énergétique du champ ouvert configuré.

Chapitre 4 Modèle de source de faisceaux de photons 49


Les compensateurs physiques (également appelés compensateurs standard par
opposition à la compensation de faisceau dynamique avec MLC) modifient la fluence
et les caractéristiques spectrales du faisceau. La fluence est modifiée en fonction de la
matrice d'épaisseur du compensateur et des coefficients d'atténuation linéaire
effectifs (EAC). La diffusion du compensateur est prise en compte via les EAC
dépendants de la taille de champ déterminés par le programme de configuration. Si
un cache est placé sous le compensateur dans un faisceau de traitement, le calcul de
la taille de champ équivalent visant à définir la valeur EAC ignore tous les caches,
même si certains se trouvent au-dessus du compensateur. Dans ce cas, aucun cache
n'est pris en compte pour la diffusion du compensateur et un avertissement est
consigné dans le fichier Log de calcul. Le spectre du faisceau compensé est durci en
fonction de l'épaisseur du compensateur et des propriétés de ses matériaux définies
par l'utilisateur.
AAA ou Acuros XB utilise les valeurs EAC dans le calcul de la dose. Ce facteur
d'atténuation linéaire doit correspondre à la valeur EAC moyenne calculée pour un
matériau de compensateur configuré donné dans RT Administration.

Remarque : Pour le calcul des doses et la visualisation des champs, External Beam Planning
modélise les collimateurs de la machine de traitement par photons comme un système de
mâchoires X et Y avec des caches ou des MLC. Dans le cas des machines de traitement
Siemens, ce modèle n'est pas totalement précis, car le dispositif MLC remplace les mâchoires X
du collimateur.

Limites connues des algorithmes AAA et Acuros XB


Précision de l'algorithme AAA au niveau du poumon
Pour les énergies de 4 à 6 MV et les tailles de champ supérieures ou égales à 5×5 cm2,
AAA a tendance à sous-estimer la dose dans le poumon et à la surestimer dans le
tissu équivalent-eau après le poumon. Pour les énergies de 6 MV, les erreurs sont
inférieures à 3 % de la dose maximale du champ sur l'axe central. Cependant, l'erreur
de dose locale peut être beaucoup plus importante si cette dernière est faible par
rapport à la dose maximale.
Pour les modes d'énergie de 10 à 20 MV et les tailles de champ inférieures ou égales à
5×5 cm2, AAA a tendance à surestimer la dose dans le poumon. Les erreurs sont plus
importantes lorsque la taille de champ et la densité pulmonaire baissent. Dans les
géométries de plaques multicouches, des différences importantes (dépassant à la fois
5 % de la dose maximale et un écart de dose de 5 mm) entre les calculs AAA et Monte
Carlo dans les plaques pulmonaires ont été signalées pour les petites tailles de champ
(2,5×2,5 cm2) et une énergie élevée (18X).1

50 Manuel de référence des algorithmes de photonthérapie et


d'électronthérapie Eclipse
Précision d'AAA et Acuros XB pour les champs MLC statiques
Pour les énergies de 18 MV, AAA et Acuros XB ont tendance à sous-estimer la dose à
des profondeurs superficielles pour certaines formes de MLC statiques. À une
profondeur de 3 cm, l'erreur peut atteindre 3 % de la dose locale.
Pour les énergies de 6 MV, AAA et Acuros XB peuvent sous-estimer la dose à des
profondeurs importantes (supérieures ou égales à 20 cm) pour certaines formes de
MLC statiques. Les erreurs sont plus prononcées pour les ouvertures de forme
allongée (en H, par exemple). Les erreurs peuvent atteindre environ 4 % de la dose
locale.

Précision d'AAA et Acuros XB pour les filtres en coin fixes


La précision est généralement comprise dans une plage de 3 % de la dose maximale
ou de 3 mm dans les zones de gradient à haute dose. Des erreurs plus importantes
peuvent être observées dans la zone d'établissement de l'équilibre électronique pour
les énergies nominales faibles (4 MV) et élevées (18 et 20 MV). Pour les faisceaux de
photons à haute énergie, des écarts de dose plus importants peuvent également être
observés au-delà du bord du champ pour les grandes tailles de champ (supérieures
ou égales à 15x15 cm2).

Configuration des faisceaux de photons


Les simulations Monte Carlo du rayonnement généré par la tête de traitement ont été
utilisées pour déterminer le modèle fondamental d'accélérateur linéaire médical
utilisé dans le modèle de source de faisceaux de photons. Les paramètres du modèle
sont adaptés pour chaque faisceau clinique à l'aide du programme de configuration
du modèle de source. Ces paramètres déterminent un espace de phases personnalisé
qui définit la fluence et le spectre d'énergie spécifiques à chaque unité de traitement
et énergie.
L'entrée du programme de configuration du modèle de source est constituée de
données faisceaux mesurées bien spécifiques et de valeurs de paramètres qui ont été
soit définies par l'utilisateur soit lues dans la bibliothèque de paramètres. Les
paramètres décrivent la géométrie de mesure et les caractéristiques physiques du
faisceau.

1 Tao et al. : Dosimetric comparison of Acuros XB deterministic radiation transport method with Monte
Carlo and model-based convolution methods in heterogeneous media. Medical Physics 38 (5), 2651-2664,
May 2011.

Chapitre 4 Modèle de source de faisceaux de photons 51


Les fichiers des données faisceaux mesurées peuvent être importés dans Eclipse pour
la configuration du modèle de source, ou vous pouvez utiliser les données faisceaux
Varian Eclipse. Informations sur la configuration : Configuration des faisceaux de
photons dans Beam Configuration à la page 103. Informations détaillées sur
l'utilisation de Beam Configuration : système d'aide en ligne Eclipse ou Manuel de
référence Beam Configuration. Informations sur la sélection d'un modèle de calcul de la
dose dans Eclipse : Manuel de référence de photonthérapie et d'électronthérapie Eclipse.

52 Manuel de référence des algorithmes de photonthérapie et


d'électronthérapie Eclipse
Remarque : Lors de la réalisation de mesures et de la configuration du modèle de source de
faisceaux de photons, veuillez noter les points suivants :
■ Les instructions relatives aux mesures des données faisceaux ne constituent que des
recommandations. Varian Medical Systems ne pourra être tenu responsable en cas de
mesures incorrectes ou de configuration imprécise provenant de mesures erronées.
■ Les physiciens médicaux responsables des mesures doivent toujours se fier à leur propre
jugement pour décider du niveau de précision acceptable des mesures relatives aux calculs,
et adopter les compromis nécessaires pour chaque accélérateur en ce qui concerne les
mesures.
■ Il est important de configurer le système de sorte qu'il corresponde aux caractéristiques de
la machine de traitement. Les filtres en coin doivent être configurés avec un soin
particulier.
■ Effectuez régulièrement des mesures de suivi et comparez-les aux données faisceaux
dosimétriques utilisées pour la configuration du faisceau. Si les fluctuations sont
importantes et que les données faisceaux configurées ne représentent plus le faisceau
moyen produit par la machine, reconfigurez les données faisceaux à l'aide des données
faisceaux dosimétriques plus récentes.
■ Mesurez toutes les données faisceaux dosimétriques dans les conditions de stabilité les plus
favorables possible.
■ Exécutez des mesures aussi précises que possible dans tous les cas. Il est à noter toutefois
que le programme de configuration du modèle de source est en mesure de rectifier les
légères erreurs de mesure dans les fichiers d'entrée, telles qu'un léger décalage latéral
(tolérance +/− 3,2 mm) ou bruit.
■ Utilisez les mêmes conventions de dénomination de fichier dans les mesures de données
faisceaux (fichiers d'entrée) et dans Beam Configuration (nom de la machine de
traitement), et renommez les fichiers d'entrée afin de faciliter la mise en correspondance des
données faisceaux et de la machine de traitement lors du processus de configuration.
■ Exécutez la correction de point de mesure effectif. Le modèle de source n'exécute pas
automatiquement cette correction. Or, si elle est négligée, les positions de la dose maximale
mesurées seront décalées. Il en résultera une erreur dans le module de contamination
électronique.
■ Lors de la mesure des profils, en particulier avec une taille de champ importante, utilisez la
largeur de fantôme disponible de la manière la plus efficace possible. Évitez de procéder aux
mesures à proximité des parois du fantôme : un volume d'eau manquant à proximité du
point de mesure implique également une diffusion manquante dans les profils. Au lieu
d'utiliser des points de mesure à proximité de la paroi fantôme, repositionnez le fantôme de
façon à ce que la largeur totale du profil mesuré tienne à l'intérieur du fantôme.
■ Il est recommandé d'utiliser une chambre d'ionisation pour toutes les mesures de données
faisceaux du modèle de source.

Chapitre 4 Modèle de source de faisceaux de photons 53


Prise en charge des champs de petite taille
Remarque : Si les données faisceaux incluent des mesures pour des tailles de champ très
réduites, le détecteur sélectionné doit être adapté à la mesure de petits champs. Le fantôme et le
détecteur doivent être positionnés avec soin.

Un seul élément de données faisceaux contenant des mesures pour les petites et les
grandes tailles de champ est attendu pour produire des résultats précis pour toutes
les tailles de champ. Il n'est pas nécessaire de créer des modèles distincts pour le
calcul de petites et de grandes tailles de champ.
Reportez-vous à la littérature pour en savoir plus sur les champs de petite taille dans
le modèle de source de faisceaux de photons.2

Mesures recommandées pour le faisceau à champ ouvert


Effectuez les mesures suivantes pour les petites tailles de champ :
■ Courbes et profils de dose en profondeur pour une taille de champ comprise entre
3 × 3 cm2 et la taille maximale administrable avec la machine (par exemple,
40 × 40 cm2).
L'ensemble de mesures doit comporter des tailles de champ atteignant au moins
10 × 10 cm2.
L'ajout de mesures pour des tailles de champ inférieures à 3 × 3 cm2 n'a aucun
effet significatif sur les paramètres de données faisceaux calculés. Le modèle de
faisceau devrait être précis même si les données de mesure ne contiennent pas de
très petites tailles de champ (1 × 1 cm2 et 2 × 2 cm2). Remarquez également que la
courbe de dose en profondeur et les mesures de profil pour les tailles de champ
inférieures à 2 × 2 cm2 sont ignorées par le programme de configuration.
■ Profils diagonaux pour la taille de champ maximale.
■ Facteurs d'ouverture du collimateur pour les tailles de champ comprises entre 3
× 3 cm2 et la taille maximale administrable avec la machine. Il est possible
d'inclure des facteurs d'ouverture du collimateur pour les tailles de champ de
1 × 1 cm2 et 2 × 2 cm2. Ces tailles n'ont toutefois aucun impact sur les résultats des
calculs pour les petits champs à collimation MLC dans les machines de traitement,
où le MLC est situé sous les mâchoires (Varian, par exemple). Cela est dû au fait
que dans ce cas, la rétrodiffusion est déterminée par la taille d'ouverture des
mâchoires. Si de petits champs collimatés avec des mâchoires sont utilisés dans
les traitements, l'ajout de mesures du facteur d'ouverture du collimateur pour ces
petites tailles de champ peut améliorer la précision.

2 T. Torsti, L. Korhonen, V. Petäjä: Using Varian Photon Beam Source Model for Dose Calculation of Small
Fields. Clinical Perspectives, Varian Medical Systems, September 2013.

54 Manuel de référence des algorithmes de photonthérapie et


d'électronthérapie Eclipse
Réglage des paramètres de la taille effective du spot
Les données faisceaux incluent les paramètres Effective target spot size
in X-direction (Taille effective du spot cible dans la direction X) et Effective
target spot size in Y-direction (Taille effective du spot cible dans la
direction Y), qui ont un effet significatif sur le niveau de dose absolue calculé pour de
très petites tailles de champ (<= 1 × 1 cm2) et pour la forme de la pénombre calculée
pour toutes les tailles de champ.
Ces paramètres doivent être réglés manuellement pour chaque machine de
traitement en fonction de mesures haute résolution (film, par exemple). Lorsque vous
modifiez la valeur du paramètre, veillez à vérifier la validité de la dose absolue pour
les petites tailles de champ et de la région de pénombre pour toutes les tailles de
champ.
Pour plus d'informations sur les paramètres de la taille effective du spot : Paramètres
AAA et Acuros XB à la page 68.

Mesures des données faisceaux pour des faisceaux de photons


Le modèle de source de faisceaux de photons requiert des données faisceaux
mesurées spécifiques pour procéder aux calculs de distribution de dose. Toutes les
données faisceaux doivent être mesurées dans les mêmes conditions de configuration
(Figure 13 à la page 100).

Mesures de données faisceaux du modèle de source requises pour les champs


ouverts
Pour pouvoir configurer correctement le modèle de source en fonction des champs
ouverts, vous devez au minimum mesurer les données répertoriées dans le tableau
suivant et les importer dans Beam Configuration. Exécutez les mesures de données
faisceaux pour les champs ouverts en procédant de la manière suivante :
■ Mesurez les courbes de profils et de rendements en profondeur à l'aide des mêmes
tailles de champ. La correction du point de mesure effectif doit être appliquée aux
courbes de rendement en profondeur mesurées avant l'importation des données
dans Beam Configuration.
■ Toutes les mesures de profil peuvent être effectuées sur l'axe des X ou des Y.
■ Utilisez une Distance Source-Fantôme (DSF) unique comprise entre 70 et 140 cm pour
toutes les mesures. Pour les machines au cobalt, la DSF minimale est de 50 cm.
Le programme de configuration du modèle de source de faisceaux de photons peut
utiliser uniquement un sous-ensemble des tailles de champ mesurées. Plus
d'informations : Adaptation des mesures dans la configuration à la page 90.

Chapitre 4 Modèle de source de faisceaux de photons 55


Les mesures de champ ouvert obligatoires pour le modulateur de faisceau Elekta
sont légèrement différentes des autres mesures de champ ouvert du modèle de
source de faisceaux de photons. Plus d'informations : Mesures requises pour le
modulateur de faisceau Elekta à la page 63.

Tableau 5 Champ ouvert, mesures obligatoires des données faisceaux

Paramètres mesurés Axe/profondeur Taille de champ en cm2


de coupe scanner

Depth dose curves (Courbes de rende- CAX (axe central) Tailles de champ inférieures à
ment en profondeur)1 10×102

10×10

Taille(s) de champ(s) intermé-


diaire(s)

Plus grande taille de champ

Profiles (Profils)1, 3 Profondeur Tailles de champ inférieures à


dmax., 5 cm, 10×102
10 cm, 20 cm,
30 cm4 10×10

Taille(s) de champ(s) intermé-


diaire(s)

Plus grande taille de champ

Diagonal profile (Profil diagonal) Profondeur Plus grande taille de champ


dmax., 5 cm,
10 cm, 20 cm,
30 cm4

Output factors (Facteurs d'ouverture du Profondeur 5 cm Tableau 6 à la page 58


collimateur) pour ≤ 15 MV
Profondeur 10 cm
pour > 15 MV
1. Le même ensemble de tailles de champ doit être utilisé pour les mesures de profil et de courbe de rende-
ment en profondeur. Les mesures de tailles de champ qui apparaissent uniquement dans les mesures de
courbe de rendement en profondeur ou les mesures de profil sont exclues de la configuration.
2. Il est obligatoire d'inclure des mesures de profil et de rendement en profondeur pour au moins deux
tailles de champ valides inférieures à 10×10 cm2.
3. Mesurez les profils à 35 mm au moins après les 50 % du point du CAX (axe central).
4. Il s'agit des profondeurs recommandées. D'autres profondeurs peuvent également être utilisées. Une
taille de champ est considérée comme valide si elle contient au moins trois mesures de profil valides et une
mesure de courbe de rendement en profondeur valide.

56 Manuel de référence des algorithmes de photonthérapie et


d'électronthérapie Eclipse
Le tableau suivant répertorie les tailles de champ ouvert pour lesquelles les facteurs
d'ouverture du collimateur sont mesurés. Exécutez les mesures de facteur
d'ouverture du collimateur en procédant de la manière suivante :
■ La profondeur de mesure correcte est de 5 ou 10 cm, selon l'énergie. N'exécutez pas de
mesure de facteur d'ouverture du collimateur à dmax.
■ Mesurez le facteur d'ouverture du collimateur de chaque taille de champ à l'aide
des mêmes DSF et profondeur de détection. Il est interdit de modifier la profondeur
de détection (pour faire correspondre la valeur dmax de chaque taille de champ
par exemple).
■ Indiquez les tailles de champ en centimètres pour qu'elles soient affichées
correctement dans Beam Configuration.
■ Mesurez les tailles de champ obligatoires. Les tailles de champ X et Y requises
pour les mesures de facteur d'ouverture du collimateur sont la taille de champ de
référence, la taille de champ maximale, au moins deux tailles de champ
inférieures à la taille de champ de référence, et N tailles de champ intermédiaires
entre cette dernière et la taille de champ maximale. Si la différence entre les tailles
de champ de référence et maximale est supérieure à 200 mm, N = 2. De même, si
la différence est supérieure à 100 mm, N = 1. Pour les différences inférieures à
100 mm, N = 0. Informations sur la sélection des tailles de champ pour la
rétrodiffusion due au collimateur : Adaptation des mesures dans la configuration
à la page 90.
■ En général, il n'est pas nécessaire de mesurer les facteurs d'ouverture du
collimateur d'une taille de champ inférieure à 2 cm dans toutes les directions,
puisque ces petites ouvertures sont généralement délimitées par le collimateur
multilame au lieu des mâchoires du collimateur. Cependant, s'ils sont mesurés, un
soin tout particulier doit être apporté à la sélection du dispositif de mesure et à la
réalisation des mesures. Si la taille de champ des mâchoires est inférieure à la plus
petite taille de champ utilisée pour la mesure des facteurs d'ouverture du
collimateur, un avertissement indiquant que l'UM ou le réglage de la minuterie
est peut-être incorrect s'affiche dans le fichier Log de calcul lors du calcul de la
dose finale dans External Beam Planning.
Le tableau présente un exemple de tailles de champ pour les mesures de facteur
d'ouverture du collimateur de champ ouvert lorsque la taille de champ de référence
est de 10×10 cm2 et la taille de champ maximale est de 40×40 cm2.

Chapitre 4 Modèle de source de faisceaux de photons 57


Tableau 6 Tailles de champ pour les mesures de facteur d'ouverture du collimateur de
champ ouvert

Largeur (FX)

3 5 7 10 15 20 30 40

3 3×3 3×5 3×7 3×10 3×15 3×20 3×30 3×40

5 5×3 5×5 5×7 5×10 5×15 5×20 5×30 5×40

7 7×3 7×5 7×7 7×10 7×15 7×20 7×30 7×40


Hauteur (FY)

10 10×3 10×5 10×7 10×10 10×15 10×20 10×30 10×40

15 15×3 15×5 15×7 15×10 15×15 15×20 15×30 15×40

20 20×3 20×5 20×7 20×10 20×15 20×20 20×30 20×40

30 30×3 30×5 30×7 30×10 30×15 30×20 30×30 30×40

40 40×3 40×5 40 ×7 40×10 40×15 40×20 40×30 40×40

Outre les facteurs d'ouverture du collimateur des différentes tailles de champ, des
paramètres supplémentaires sont utilisés pour déterminer la géométrie des mesures
de facteur d'ouverture du collimateur (Paramètres des facteurs d'ouverture du
collimateur à la page 85).
Chaque valeur de la table des facteurs d'ouverture du collimateur indique le taux de
la dose mesurée à la profondeur de détection pour chaque taille de champ mesurée et
la dose à la profondeur de détection pour la taille de champ de référence en utilisant
les UM de référence et le réglage de la minuterie. Informations sur les formats de
facteur d'ouverture du collimateur : Annexe D Formats d'entrée de table à la
page 357.

Mesures des doses absolues en un point


La configuration du modulateur de faisceau Elekta nécessite la mesure des doses
absolues en un point pour un ensemble de champs asymétriques. Le programme de
configuration utilise ces valeurs pour optimiser les paramètres d'énergie radiale
moyenne, de profil d'intensité et de source secondaire en minimisant l'erreur
Gamma.
Ce type de données est recommandé pour toutes les machines Elekta. Pour tous les
autres fournisseurs et modèles de machine, les doses absolues en un point sont
facultatives.

58 Manuel de référence des algorithmes de photonthérapie et


d'électronthérapie Eclipse
Vous pouvez importer les doses absolues en un point prises en charge par le
programme de configuration de modèle de source dans Beam Configuration dans un
fichier de mesures distinct. Vous devez créer manuellement le fichier destiné à
l'importation. Pour pouvoir être lu par Beam Configuration, ce fichier doit utiliser un
format spécifique. Informations sur le format de fichier et exemples de fichiers :
Annexe C Formats de fichiers pour les données faisceaux mesurées à la page 344.
Pour chaque champ mesuré, la table indique les positions de mâchoires asymétriques
(X1, X2, Y1, Y2) en millimètres, la position du détecteur (X, Y, Z) en millimètres et la
dose en un point mesurée sur le détecteur en GY/UM.
L'ensemble de mesures recommandé est le suivant :
■ Une petite taille de champ (par exemple, 4 × 4 cm2) aux positions d'extrémité des
mâchoires ouvertes du collimateur dans les directions X et Y, et dans quelques
positions intermédiaires entre ces deux extrêmes.
■ Une plus grande taille de champ (par exemple, 10 × 10 cm2) aux positions
d'extrémité des mâchoires ouvertes du collimateur dans les directions X et Y, et
dans quelques positions intermédiaires.
La géométrie de mesure recommandée est la suivante :
■ Distance Source-Fantôme (DSF) = 950 mm
■ Profondeur du détecteur (Z) = 50 mm. La profondeur augmente de la surface
supérieure du fantôme vers le sol. Des mesures supplémentaires à d'autres
profondeurs peuvent également être utilisées.
■ La position du détecteur (X, Y, Z) est définie à l'aide de coordonnées orthogonales.
L'origine du système de coordonnées est à la surface du fantôme, sur l'axe central
du faisceau.
Les positions asymétriques des mâchoires sont indiquées sur l'échelle de la norme
CEI 61217.

Mesures requises pour les champs avec filtre en coin


L'ensemble minimal de données mesurées requis pour les champs de filtres en coin
physiques, afin de configurer correctement le modèle de source de faisceaux de
photons, est décrit dans le tableau ci-après.

Chapitre 4 Modèle de source de faisceaux de photons 59


Tableau 7 Champ avec filtre en coin, mesures de données faisceaux requises

Paramètres me- Axe de coupe Taille de champ en cm2 Statut


surés scanner

Depth doses CAX (axe central) 4×4 Recommandé


(Doses en profon-
deur)1 10×10 Recommandé

15×15 Recommandé pour les


filtres en coin d'une lar-
geur de 20 cm

20×20 Recommandé pour les


filtres en coin d'une lar-
geur de 30 cm

Taille de champ carré Obligatoire


max

Taille de champ max. Recommandé


dans les deux directions2

Output factors Profondeur 5 cm Tableau 6 à la page 58 Obligatoire


(Facteurs d'ou- pour ≤ 15 MV
verture du colli-
Profondeur 10 cm
mateur)3
pour > 15 MV

Profiles (Profils)1, Profondeur dmax., 4×4 Recommandé


4 5 cm, 10 cm, 20 cm,
30 cm 10×10 Recommandé

15×15 Recommandé pour les


filtres en coin d'une lar-
geur de 20 cm

20×20 Recommandé pour les


filtres en coin d'une lar-
geur de 30 cm

Taille de champ carré Obligatoire


max.

Taille de champ max. Recommandé


dans les deux directions2

Longitudinal Profondeur dmax., Taille de champ carré Obligatoire à une pro-


profil (Profil lon- 5 cm, 10 cm, 20 cm, max. ou taille de champ fondeur (par ex., 5 cm) ;
gitudinal)1 30 cm max. dans les deux direc- recommandé à d'autres
tions2 profondeurs

60 Manuel de référence des algorithmes de photonthérapie et


d'électronthérapie Eclipse
Paramètres me- Axe de coupe Taille de champ en cm2 Statut
surés scanner
1. La plus grande taille de champ pour ce qui est des doses de profondeur, profils et profils longitudinaux
peut être soit la taille de champ carré maximale, soit la taille de champ maximale dans les deux directions.
Toutefois, la plus grande taille de champ doit être identique pour les profils et les profils longitudinaux.
2. La taille de champ ne doit pas être spécifiée en terme de taille de champ équivalent pour la configura-
tion du modèle de source. La taille de champ peut être spécifiée dans w2CAD, par exemple sous la forme
%FLSZ 400*200 ou %FLSZ 200*400. Tous les types de mesures doivent suivre le même ordre (PDD, pro-
fils). Notez que si la dose est calculée pour des tailles de champ avec filtre en coin supérieures à la taille de
champ carré maximale, et que la courbe de dose en profondeur pour « max field size to both directions »
(taille de champ max. dans les deux directions) n'est pas présente dans Beam Configuration, un avertisse-
ment signalant une éventuelle dégradation de la précision du calcul de la dose apparaît dans les notes de
calcul.
3. La position requise des filtres en coin pour toutes les mesures de facteur d'ouverture du collimateur cor-
respond à une rotation du collimateur de 0°. Les facteurs d'ouverture du collimateur peuvent être mesurés
avec n'importe quelle rotation du filtre en coin.
4. Tous les profils de filtre en coin doivent être mesurés dans la même direction, ce qui signifie que la dose
augmente de gauche à droite ou de droite à gauche dans tous les profils. Le mélange des deux types de
profils n'est pas autorisé.

Mesures facultatives pour les champs avec filtre en coin


En plus des mesures de données faisceaux requises (Tableau 7 à la page 60), vous
pouvez réaliser des mesures facultatives pour la configuration des filtres en coin pour
le modèle de source. Les mesures facultatives sont nécessaires pour exécuter les
dernières étapes de configuration des filtres en coin (configuration de facteurs de
correction avec filtre en coin pour différentes DSP). Cette dernière étape permet
d'améliorer la précision avec des DSP courtes et longues pour les champs avec filtre
en coin. Il faut pour cela modifier la contamination électronique et la diffusion avec
filtre en coin à partir des mesures supplémentaires.
Les mesures facultatives sont les suivantes :
■ Doses en profondeur avec filtre en coin mesurées pour DSP = 80 cm et
DSP = 120 cm
■ Doses absolues en un point à différentes DSP (distances source-peau) —
Nécessaires si les doses en profondeur de filtre en coin pour différentes DSP sont
importées.
Définir les mesures de doses en profondeur avec filtre en coin
Des doses en profondeur de filtre en coin peuvent être mesurées pour DSP = 80 cm et
DSP = 120 cm.
1. Mesurez les doses en profondeur avec filtre en coin pour 1 à 5 tailles de champ ; il
doit s'agir des tailles de champ ou d'un sous-ensemble des tailles de champ

Chapitre 4 Modèle de source de faisceaux de photons 61


utilisées pour la DSF par défaut (plus d'informations : paramètres généraux à la
page 67). Utilisez les mêmes tailles de champ pour les deux DSP.
2. Afin de pouvoir importer les courbes, modifiez le fichier W2CAD. Changez le
type de rendement en profondeur de WDD soit en WDD_SSD80 soit en
WDD_SSD120.
3. Dans la Context Window (Fenêtre de contexte) de Beam Configuration,
sélectionnez un filtre en coin.
4. Pour importer les doses en profondeur mesurées pour le filtre en coin
sélectionné, choisissez Import > Measured Wedge Depth Doses for SSD 80 cm
(Importer > Doses en profondeur avec filtre en coin mesurées pour DSP 80 cm)
ou Import > Measured Wedge Depth Doses for SSD 120 cm (Importer > Doses
en profondeur avec filtre en coin mesurées pour DSP 120 cm).
Définir les doses absolues en un point à différentes DSP
Les doses absolues en un point à différentes DSP sont nécessaires si les doses en
profondeur avec filtre en coin pour différentes DSP sont importées dans Beam
Configuration. Les doses absolues en un point à différentes DSP sont données dans
un tableau, qui contient les DSP et une dose mesurée en GY/UM pour chaque taille
de champ.
1. Pour ajouter un tableau vierge, dans la Context Window (Fenêtre de contexte),
sélectionnez un filtre en coin, puis choisissez Insert > New Absolute point doses
at different SSDs (Insérer > Nouvelles doses absolues en un point à différentes
DSP).
2. Dans le tableau vierge, pour chaque mesure (Meas<n>), saisissez la DSP, la taille
de champ dans la direction X (FSX), la taille de champ dans la direction Y (FSY)
et la dose mesurée (pour DSP = 800 mm ou DSP = 1 200 mm). La figure présente
des exemples.

1. Valeurs des mesures effectuées pour 4 tailles de champ et DSP = 800.


2. Valeurs des mesures effectuées pour 4 tailles de champ et DSP = 1 200.
3. Cellules des tailles de champ pour lesquelles aucune mesure n'a été effectuée.

62 Manuel de référence des algorithmes de photonthérapie et


d'électronthérapie Eclipse
Si vous avez mesuré moins de 5 tailles de champ, saisissez « 0,0 » dans les
cellules supplémentaires..
3. Dans la Parameter View (Vue des paramètres) en dessous du tableau, définissez
la profondeur du détecteur en millimètres et l'orientation du filtre en coin.

Mesures requises pour les champs de compensateur


Des mesures de dose en un point des compensateurs sont requises pour cinq tailles
de champ carré différentes (par exemple, 2 cm, 5 cm, 10 cm, 20 cm et 30 cm), avec et
sans plaque dans le faisceau. Par ailleurs, l'épaisseur du compensateur doit être
définie dans les paramètres de compensateur. Toutes ces mesures de dose en un
point doivent être effectuées dans la même géométrie de mesure, par exemple,
DSP = 95 cm et profondeur = 5 cm. Il est recommandé d'effectuer les mesures à une
profondeur supérieure à celle de la dose maximale. Pour plus de clarté, il est
également recommandé d'appliquer la même quantité d'UM à chaque mesure de
dose en un point.
Les tailles de champ utilisées dans les mesures doivent couvrir la plage de tailles de
champ utilisée dans le traitement. Les données de dose en un point mesurées, les
tailles de champ et la géométrie de mesure sont définies dans un tableau dans Beam
Configuration.
Définir les données de dose en un point et les tailles de champ des compensateurs
1. Dans la Context Window (Fenêtre de contexte), sélectionnez Measured
compensator data (Données de compensateur mesurées).
2. Dans la colonne FS[mm], saisissez les tailles de champ en millimètres.
3. Dans la colonne Open[cGy/MU] (Ouvert[cGy/UM]), saisissez les doses en un
point mesurées pour les champs ouverts en cGy/UM.
4. Dans la colonne Comp[cGy/MU] (Comp[cGy/UM]), saisissez les doses en un
point mesurées pour les champs avec le compensateur plat en cGy/UM.
5. Dans la Parameter View (Vue des paramètres) sous le tableau, définissez la
distance source de mesure-fantôme et la profondeur de mesure en millimètres.

Mesures requises pour le modulateur de faisceau Elekta


Le modèle de source de faisceaux de photons requiert des données faisceaux
mesurées spécifiques pour procéder aux calculs de distribution de dose. Pour le
modulateur de faisceau Elekta, des mesures de champ ouvert, de facteur d'ouverture
du collimateur et de champ avec filtre en coin doivent être réalisées.

Mesures de champ ouvert pour le modulateur de faisceau Elekta


Le tableau répertorie les mesures de champ ouvert requises pour la configuration du
modulateur de faisceau Elekta.

Chapitre 4 Modèle de source de faisceaux de photons 63


Les tailles de champ requises sont déterminées par la largeur des lames de
modulateur de faisceau Elekta (4 mm). Exemples de tailles de champ :
■ Direction FX : 2,4, 3,2, 4,0, 5,6, 8,0, 10,4, 12,0, 16,0 et 21,0 cm
■ Direction FY : 2,4, 3,2, 4,0, 5,6, 8,0, 10,4, 12,0 et 16,0 cm.

Tableau 8 Modulateur de faisceau Elekta, mesures de champ ouvert obligatoires

Paramètres me- Axe/profondeur Taille de champ en cm2


surés de coupe
scanner

Depth dose curves CAX (axe cen- Tailles de champ inférieures à 10,4 × 10,42
(Courbes de dose tral)
en profondeur)1 10,4×10,4

Taille(s) de champ(s) intermédiaire(s)

21,0×16,0
(plus grande taille de champ rectangulaire)3

Profiles (Profils)1, 4 Profondeur Tailles de champ inférieures à 10,4 × 10,42


dmax., 5 cm,
10 cm, 20 cm, 10,4×10,4
30 cm5
Taille(s) de champ(s) intermédiaire(s)

21,0×16,0
(plus grande taille de champ rectangulaire)3

Diagonal profile Profondeur 21,0×16,0 (plus grande taille de champ rectangulaire)3


(Profil diagonal)6 dmax., 5 cm,
10 cm, 20 cm,
30 cm5
1. Le même ensemble de tailles de champ doit être utilisé pour les mesures de profil et de courbe de dose
en profondeur. Les mesures de tailles de champ qui apparaissent uniquement dans les mesures de courbe
de dose en profondeur ou les mesures de profil sont exclues de la configuration.
2. Il est obligatoire d'inclure des mesures de profil et de dose en profondeur pour au moins deux tailles de
champ valides inférieures à 10,4 × 10,4 cm2.
3. La mesure de la plus grande taille de champ rectangulaire doit être enregistrée en respectant cet ordre
dans le fichier w2CAD (la syntaxe correcte est %FLSZ 210*160).
4. Mesurez les profils à 35 mm au moins après les 50 % du point du CAX (axe central).
5. Il s'agit des profondeurs recommandées. D'autres profondeurs peuvent également être utilisées. Une
taille de champ est considérée comme valide si elle contient au moins trois mesures de profil valides et une
mesure de courbe de dose en profondeur valide.
6. Le profil diagonal doit toujours être mesuré d'un angle de champ vers l'autre. Dans le cas du modulateur
de faisceau Elekta, l'angle entre le profil diagonal et le profil de ligne d'intersection ne sera pas de 45 degrés
car la taille de champ maximale n'est pas un carré.

64 Manuel de référence des algorithmes de photonthérapie et


d'électronthérapie Eclipse
Mesures des facteurs d'ouverture du collimateur pour le modulateur de
faisceau Elekta
Les facteurs d'ouverture du collimateur pour le modulateur de faisceau Elekta
peuvent être importés dans Beam Configuration au sein d'un fichier distinct. Pour
pouvoir être lu par Beam Configuration, ce fichier doit utiliser un format spécifique.
Informations sur le format de fichier et exemples de fichiers : Annexe D Formats
d'entrée de table à la page 357.
Le tableau répertorie les tailles de champ à utiliser pour les mesures de facteur
d'ouverture du collimateur pour le modulateur de faisceau Elekta.

Tableau 9 Tailles de champ pour la mesure des facteurs d'ouverture du collimateur du mo-
dulateur de faisceau Elekta

Largeur (FX) à l'échelle CEI 61217

2,4 3,2 4 5,6 8 10,4 12 16 21


2,4 2,4×2,4 2,4×3,2 2,4×4 2,4×5,6 2,4×8 2,4×10,4 2,4×12 2,4×16 2,4×21
Hauteur (FY) à l'échelle CEI 61217

3,2 3,2×2,4 3,2×3,2 3,2×4 3,2×5,6 3,2×8 3,2×10,4 3,2×12 3,2×16 3,2×21
4 4×2,4 4×3,2 4×4 4×5,6 4×8 4×10,4 4×12 4×16 4×21
5,6 5,6×2,4 5,6×3,2 5,6×4 5,6×5,6 5,6×8 5,6×10,4 5,6×12 5,6×16 5,6×21
8 8×2,4 8×3,2 8×4 8×5,6 8×8 8×10,4 8×12 8×16 8×21
10,4 10,4×2,4 10,4×3,2 10,4×4 10,4×5,6 10,4×8 10,4×10,4 10,4×12 10,4×16 10,4×21
12 12×2,4 12×3,2 12×4 12×5,6 12×8 12×10,4 12×12 12×16 12×21
16 16×2,4 16×3,2 16×4 16×5,6 16×8 16×10,4 16×12 16×16 16×21

Mesures des champs avec filtre en coin pour le modulateur de faisceau Elekta
Le tableau répertorie les mesures des champs avec filtre en coin requises pour le
modulateur de faisceau Elekta.

Chapitre 4 Modèle de source de faisceaux de photons 65


Tableau 10 Mesures des champs avec filtre en coin requises pour le modulateur de fais-
ceau Elekta

Paramètres me- Axe de coupe Taille de champ en cm2 Statut


surés scanner

Depth dose CAX (axe central) 3,2×3,2 Recommandé


curves (Courbes
de dose en pro- 5,6×5,6 Recommandé
fondeur)
8,0×8,0 Recommandé

10,4×10,4 Recommandé

16×16 Obligatoire

21×16 Recommandé
(plus grande taille de champ
rectangulaire)1

Output factors Profondeur 5 cm Tableau 9 à la page 65 Obligatoire


(Facteurs d'ou-
verture du colli-
mateur)2

Profiles (Profils) Profondeur dmax., 3,2×3,2 Recommandé


5 cm, 10 cm, 20 cm,
30 cm 5,6×5,6 Recommandé

8,0×8,0 Recommandé

10,4×10,4 Recommandé

16×16 Obligatoire à 10 cm
de profondeur ; re-
commandé aux au-
tres profondeurs

Longitudinal pro- Profondeur dmax., 21×16 (16×16 est également Obligatoire à 5 cm de


file (Profil longi- 5 cm, 10 cm, 20 cm, autorisé) profondeur ; recom-
tudinal) 30 cm mandé aux autres
profondeurs
1. La mesure de la plus grande taille de champ rectangulaire doit être enregistrée en respectant cet ordre
dans le fichier w2CAD (la syntaxe correcte est %FLSZ 210*160).
2. La position requise des filtres en coin pour toutes les mesures de facteur d'ouverture du collimateur cor-
respond à une rotation du collimateur de 0°. Les facteurs d'ouverture du collimateur peuvent être mesurés
avec n'importe quelle rotation du filtre en coin.

66 Manuel de référence des algorithmes de photonthérapie et


d'électronthérapie Eclipse
Paramètres de configuration pour les faisceaux de photons
Beam Configuration utilise des données faisceaux mesurées et plusieurs valeurs de
paramètres pour calculer les données faisceaux configurées. Ces valeurs de
paramètre sont lues en partie à partir de RT Administration et en partie à partir des
fichiers de paramètres de l'algorithme.
Si vous utilisez des données faisceaux Varian Eclipse sans aucune modification des
valeurs des paramètres ou sans utiliser vos propres données faisceaux mesurées, il
vous suffit de saisir les paramètres de dosimétrie absolue (Paramètres AAA et
Acuros XB à la page 68 et Paramètres de filtre en coin fixe à la page 76) et de
vérifier les paramètres contenus dans les données ; aucune modification n'est requise
à moins que les valeurs des paramètres ne soient manifestement incorrectes.

paramètres généraux
Le modèle de source de faisceaux de photons nécessite que les paramètres généraux
de la machine de traitement suivants soient lus à partir de RT Administration ou
définis dans Beam Configuration. Certaines valeurs par défaut sont lues à partir du
fichier de spécification du type de données de l'algorithme. Lors de la configuration
du modèle de source, vérifiez que les paramètres lus à partir de RT Administration
sont corrects et assurez-vous qu'aucun paramètre requis n'est manquant.

Paramètres généraux lus à partir de RT Administration


■ Énergie nominale en MV
L'énergie nominale peut être indiquée selon les spécifications BJR-11 ou BJR-17,
qui fournissent l'une comme l'autre des résultats de même précision dans les
calculs de dose. L'énergie nominale selon les spécifications BJR-11 est censée être
égale à l'énergie du faisceau d'électrons monoénergétique qui atteint la cible et
produit ainsi des photons de rayonnement de freinage. Le spectre de ces photons,
qui a été précalculé par la simulation Monte Carlo pour toutes les énergies
nominales disponibles, est enregistré dans la bibliothèque de données de la
machine. Les énergies nominales selon les spécifications BJR-17 sont associées en
interne à celles des spécifications BJR-11.

Tableau 11 Énergies BJR-11 et BJR-17

BJR-11 BJR-17

6 MV 6 MV

10 MV 10 MV

15 MV 16 MV

Chapitre 4 Modèle de source de faisceaux de photons 67


BJR-11 BJR-17

18 MV 23 MV

20 MV 25 MV

■ Distance source-fantôme par défaut pour les mesures de dose en profondeur et


des profils, exprimée en cm
Définissez la DSF utilisée dans les mesures réelles des données faisceaux dans
Beam Configuration.
■ Distance source-axe, exprimée en cm

Paramètres généraux définis dans Beam Configuration


■ Therapy unit name (Nom de la machine de traitement)
■ Type de rayonnement (doit être « photon »)
■ Fournisseur
■ Distance source-fantôme utilisée pour les mesures de données faisceaux,
exprimée en cm
■ Plus grande taille de faisceau à champ ouvert dans les directions X et Y
Pour le modulateur de faisceau Elekta, définissez la taille maximale dans la
direction X à 21 cm et dans la direction Y, à 16 cm.
■ Nombre de profils (minimum 3, maximum 5)
■ Profondeur du 1er au 5e profil en cm

Paramètres AAA et Acuros XB


AAA et Acuros XB nécessitent la définition des paramètres suivants dans Beam
Configuration.

Tableau 12 Paramètres AAA et Acuros XB

Paramètre Description

Absolute dose reference field Taille du champ de référence utilisée dans la configuration,
size [mm] (Taille du champ exprimée en millimètres. Normalement, ce doit être la même
de référence de dose absolue taille que celle utilisée pour normaliser le tableau des me-
[mm]) sures de facteurs d'ouverture du collimateur (c'est-à-dire, la
taille de champ pour laquelle le facteur d'ouverture du colli-
mateur est égal à 1,0).

68 Manuel de référence des algorithmes de photonthérapie et


d'électronthérapie Eclipse
Paramètre Description

Absolute dose calibration Profondeur du point de référence utilisée dans la configura-


depth [mm] (Profondeur tion, exprimée en millimètres. La profondeur recommandée
d'étalonnage de la dose ab- est de 50 mm pour 6 MV, 10 MV et 15 MV et de 100 mm pour
solue [mm]) 18 MV et 20 MV. (Illustration de la géométrie : Figure 15 à la
page 102.)

Absolute dose calibration Distance comprise entre la source et la surface du fantôme


source-phantom distance (DSF) utilisée pendant l'étalonnage de dose absolue, ex-
(Distance Source-fantôme primée en millimètres. (Illustration de la géométrie : Fi-
d'étalonnage de dose absolue) gure 15 à la page 102.)

Reference dose at calibration Dose absolue dans l'eau pour la taille du champ de référence,
depth [Gy] (Dose de référence au point de référence et à la profondeur d'étalonnage, ex-
à la profondeur d'étalonnage primée en Gray.
[Gy])
N'introduisez pas de correction « dose to muscle » (dose déli-
vrée au muscle) avec Acuros XB. Lorsque l'option calcul de
dose appliquée à un milieu est sélectionnée, Acuros XB rap-
porte la dose appliquée au muscle, et tout autre milieu. Si des
valeurs comportant une correction « dose to muscle » (dose
appliquée au muscle) sont utilisées dans Beam
Configuration, une double correction est alors effectuée dans
la distribution des doses.

Reference MU at calibration UM fournies pour produire la dose de référence à l'étalon-


depth [MU] (UM de référence nage.
à la profondeur d'étalonnage
[UM])

Machine type (Type de ma- Type de machine de traitement.


chine)
AAA et Acuros XB prennent en charge plusieurs types de
machines de traitement.
Ce paramètre spécifie également les énergies nominales
prises en charge par la machine de traitement sélectionnée.
Les niveaux d'énergie disponibles dépendent de chaque ma-
chine de traitement particulière.

Effective target spot size in X- Modélise l'élargissement de la pénombre dans la direction X1.
direction [mm] (IEC 61217) La modélisation est réalisée en appliquant un lissage gaus-
(Taille effective du spot cible sien à la fluence énergétique des photons primaires.
dans la direction X [mm]
Ce paramètre est égal à la largeur de la distribution gaus-
[CEI 61217])
sienne dans la direction X (échelle de la norme CEI 61217) au
plan d'isocentre, exprimée en millimètres.

Effective target spot size in Y- Modélise l'élargissement de la pénombre dans la direction Y1.
direction [mm] (IEC 61217) La modélisation est réalisée en appliquant un lissage gaus-
(Taille effective du spot cible sien à la fluence énergétique des photons primaires.
dans la direction Y [mm]
Ce paramètre est égal à la largeur de la distribution gaus-
[CEI 61217])
sienne dans la direction Y (échelle de la norme CEI 61217) au
plan d'isocentre, exprimée en millimètres.

Chapitre 4 Modèle de source de faisceaux de photons 69


Paramètre Description

Leaf transmission for Elekta Modulateur de faisceau Elekta uniquement.


Beam Modulator (Transmis-
Transmission relative des lames de MLC pour la conception
sion de lame pour le modula-
de tête du modulateur de faisceau Elekta. Ce paramètre n'est
teur de faisceau Elekta)
utilisé que dans la configuration de l'algorithme de calcul de
la dose, et non dans le calcul de la dose. Les paramètres MLC
pour le calcul de la dose suivante sont définis en tant que
données dosimétriques dans RT Administration (onglet
Radiation and Imaging Devices > MLC [Systèmes d'irradia-
tion et d'imagerie > MLC]).

Open field profile measure- Direction des mesures de profil de champ ouvert dans
ment direction (IEC 61217) l'échelle CEI 61217. Les valeurs possibles sont « Collima-
(Direction de mesure de teur X » et « Collimateur Y ».
profil de champ ouvert
[CEI 61217])
1. En plus de la taille limitée de la cible du rayonnement de freinage, les dispositifs de limitation du faisceau
peuvent contribuer aux effets modélisés. Par exemple, les extrémités des lames MLC arrondies peuvent être
modélisées à l'aide d'une taille effective du spot cible elliptique. Par conséquent, il sera nécessaire de saisir
des valeurs différentes pour la taille effective du spot cible pour les champs dédiés au MLC et aux mâ-
choires. En ce qui concerne les champs IMRT, il est également important de noter que Smart LMC prend en
compte les extrémités des lames arrondies dans le calcul de la fluence, alors que les autres algorithmes LMC
ne le font pas. Notez également que comme la taille effective du spot cible est définie dans le système de
coordonnées du collimateur, elle ne peut pas être utilisée pour décrire précisément un point focal elliptique
dans le plan cible.

Définition du type de machine


Le type de machine sélectionné influe sur certains paramètres issus de la
bibliothèque de données de la machine lors de la première étape de configuration
d'un faisceau à champ ouvert. Ces paramètres peuvent être modifiés manuellement à
l'issue de cette étape, avant le lancement de la configuration effective. La sélection
influe particulièrement sur les distances de la source secondaire, des mâchoires et du
MLC par rapport à la cible (spécifiée dans les Open Beam Parameters [Paramètres de
faisceau à champ ouvert]) et sur le spectre initial utilisé dans la configuration. Le
tableau répertorie les valeurs de distance définies dans la bibliothèque de données
des différents types de machine de traitement.

70 Manuel de référence des algorithmes de photonthérapie et


d'électronthérapie Eclipse
L'impact du modèle de machine sélectionné sur le processus de configuration est très
réduit. Il influe par exemple sur les vérifications effectuées pour s'assurer que les
données d'entrée obligatoires sont disponibles. La sélection influe également sur la
détermination du facteur de rétrodiffusion due au collimateur (CBSF) pendant le
calcul de dose suivant. Pour les machines de traitement sur lesquelles le MLC est le
collimateur supérieur (Elekta), la taille de champ pour la table de conversion du
CBSF est déterminée en fonction de l'ouverture du MLC dans les directions X et Y.
Pour les machines de traitement sur lesquelles les mâchoires constituent les
collimateurs supérieurs, et sur lesquelles il existe des mâchoires X et Y (Varian), la
taille de champ pour la table de conversion du CBSF est déterminée en fonction de
l'ouverture de la mâchoire dans les directions X et Y. Pour les machines de traitement
qui ne disposent pas de mâchoires X et sur lesquelles les mâchoires Y constituent les
collimateurs supérieurs (Siemens), la taille de champ pour la table de conversion du
CBSF est déterminée en fonction de l'ouverture de la mâchoire Y et la taille de champ
pour la table de conversion du CBSF dans la direction X est déterminée en fonction
de l'ouverture du MLC.
Si le modèle de machine utilisé est pris en charge par l'algorithme mais ne figure pas
dans la liste, sélectionnez le modèle le plus proche ou le modèle Generic (Générique).
Vérifiez ensuite les paramètres de distance présentés dans le tableau et le spectre
avant de lancer la configuration effective.

Remarque : La distance entre le filtre en coin fixe et le volume cible varie pour les différents types
de machine de traitement. La valeur appropriée doit être indiquée dans les paramètres Hard
Wedge Parameters (Paramètres de filtre en coin fixe) ou Elekta Motorized Wedge (MW)
Parameters (Paramètres de filtre en coin fixe motorisé Elekta).

Tableau 13 Valeurs de distance pour différents types de machines de traitement définis


dans la bibliothèque de données de la machine

Varian Elekta ElektaBM MLC Elekta Siemens


Agility 160

Distance de la source se- 125 158 151,5 159 94,6


condaire par rapport à la
cible [mm]

Distance of Y-jaw top 280 431 376 432 197


surface from target [mm]
(Distance cible-surface
supérieure de mâchoire
Y [mm])

Distance of Y-jaw bottom 358 509 468 509 275


surface from target [mm]
(Distance cible-surface
inférieure de mâchoire Y
[mm])

Chapitre 4 Modèle de source de faisceaux de photons 71


Varian Elekta ElektaBM MLC Elekta Siemens
Agility 160

Distance of X-jaw top 367 396 479,9 309 283


surface from target [mm]
(Distance cible-surface
supérieure de mâchoire
X [mm])

Distance of X-jaw bottom 445 426 522,7 401,8 359


surface from target [mm]
(Distance cible-surface
inférieure de mâchoire X
[mm])

Distance of MLC from 509 336 425,3 349,3 283


target [mm] (Distance
cible-MLC [mm])

Ajustement des paramètres du point cible


Les paramètres Effective target spot size in the X- and Y-
direction (Taille effective du point cible dans les directions X et Y) ne sont pas
optimisés automatiquement. Au lieu de cela, ces paramètres doivent être ajustés
manuellement en fonction des caractéristiques de la machine de traitement
individuelle.
Les paramètres de la taille du point ont un effet important sur la dose absolue
calculée pour des champs très petits (d'une largeur inférieure à 1 cm dans la direction
x ou y) et sur les profils calculés dans la zone de pénombre pour toutes les tailles de
champ. De ce fait, les paramètres de la taille du point peuvent être ajustés en faisant
correspondre les mesures et les calculs dans ces situations.
Cependant, pour les deux types de mesures, il convient de prendre un soin tout
particulier lors de la sélection du dispositif de mesure afin d'éviter que des artéfacts
ne surviennent, par exemple d'effets de moyenne de volume. Il est par exemple
possible d'utiliser un film pour ces types de mesures.

Tableau 14 Exemples de valeurs pour les paramètres de la taille du point cible

Algorithme / Machine de traitement Taille du point dans la Taille du point dans la


direction X [mm] direction Y [mm]

AAA / Machine de traitement Varian 0,0 0,0


1,0 si MLC dans le 0,0 si MLC dans le
champ champ

Acuros XB / Machine de traitement Varian 1,0 1,0


1,5 si MLC dans le 0,0 si MLC dans le
champ champ

72 Manuel de référence des algorithmes de photonthérapie et


d'électronthérapie Eclipse
Algorithme / Machine de traitement Taille du point dans la Taille du point dans la
direction X [mm] direction Y [mm]

AAA / Modulateur de faisceau Elekta 2.5 0,0

Acuros XB / Modulateur de faisceau Elekta 2.5 0,0

AAA / Autres machines de traitement Elekta 0,0 0,0


1,0 si MLC dans le 0,0 si MLC dans le
champ champ

Acuros XB / Autres machines de traitement 1,0 1,0


Elekta
1,5 si MLC dans le 0,0 si MLC dans le
champ champ

AAA / Machines de traitement Siemens 2,0 2,0

Acuros XB / Machines de traitement Siemens 2.5 2.5

Dans tous les cas, un ajustement précis des valeurs des paramètres de la taille du
point peut être réalisé en fonction de la correspondance des mesures et des calculs.
Paramètres de l'algorithme AAA pour les machines au cobalt
Si la machine de traitement a été définie comme étant une machine au cobalt dans RT
Administration, l'algorithme AAA nécessite des paramètres décrivant l'étalonnage
absolu de la source radioactive. Ces paramètres sont requis et viennent s'ajouter aux
paramètres mentionnés dans le Tableau 12 à la page 68.

Tableau 15 Paramètres de l'algorithme AAA pour les machines au cobalt

Paramètre Description

Time required to deliver refe- Réglage de la minuterie (en secondes) requis pour produire la
rence dose at calibration [s] dose de référence à la date de l'étalonnage.
(Temps nécessaire pour admi-
nistrer la dose de référence à
l'étalonnage [s])

Calibration Date Date à laquelle la source a été étalonnée. Ce paramètre est ob-
[dd.mm.yyyy] (Date d'étalon- ligatoire pour corriger la décomposition au moment de cal-
nage [jj.mm.aaaa]) culer le réglage de la minuterie requis. Le format à respecter
est le suivant : « jour.mois.année ». Par exemple, si la source a
été étalonnée le 15 juin 2012, vous devez saisir « 15.6.2012 ».

Half-life of radioactive source Demi-vie radioactive de la source exprimée en années.


in years (Demi-vie de la
source radioactive en années)

Chapitre 4 Modèle de source de faisceaux de photons 73


Pour les machines au cobalt, la taille efficace des spots de la source est plus grande
que pour les accélérateurs linéaires. La taille des spots influe sur la largeur de la
pénombre. Ces paramètres doivent être ajustés de façon à ce que les profils des
faisceaux calculés et des faisceaux mesurés correspondent.

Paramètres de faisceau à champ ouvert


Le modèle de source de faisceaux de photons nécessite la définition de paramètres de
faisceau à champ ouvert dans Beam Configuration pour modéliser le rayonnement
extra-focal du champ ouvert. Les paramètres de faisceau à champ ouvert sont lus
depuis la bibliothèque des paramètres de la machine (Bibliothèque des paramètres de
la machine pour les faisceaux de photons à la page 86). Les valeurs lues depuis la
bibliothèque peuvent également être modifiées manuellement.
Le tableau utilise les noms de mâchoire conformément à la norme CEI 61217.

Tableau 16 Paramètres de faisceau à champ ouvert

Paramètre Description

Distance of second Distance comprise entre la source secondaire virtuelle et la source


source from primary primaire, exprimée en millimètres. La distance est définie par la géo-
source [mm] (Distance métrie de la tête de traitement. Le faisceau émergeant de la source
source primaire- secondaire est plus divergent que celui de la source primaire.
source secondaire
La source secondaire est une source de rayonnement virtuelle, située
[mm])
par défaut à la même distance que le plan inférieur du cône égalisa-
teur (plus d'informations : Modélisation du faisceau clinique des
faisceaux de photons à la page 40 et Modificateurs de faisceau dans
le modèle de faisceau de traitement à la page 49).

Distance of Y-jaw top Distance comprise entre la source primaire et la surface supérieure
surface from target de la mâchoire Y du collimateur, exprimée en millimètres. La dis-
[mm] (Distance cible- tance est définie par la géométrie de la tête de traitement. Si la dis-
surface supérieure de tance change avec l'ouverture de la mâchoire, utilisez la distance à
mâchoire Y [mm]) laquelle la mâchoire est aussi près que possible de l'axe central.
Ce paramètre influe sur la définition de la pénombre d'un faisceau
issu de la source secondaire.

Distance of Y-jaw Distance comprise entre la source primaire et la surface inférieure de


bottom surface from la mâchoire Y du collimateur, exprimée en millimètres. La distance
target [mm] (Distance est définie par la géométrie de la tête de traitement. Si la distance
cible-surface infé- change avec l'ouverture de la mâchoire, utilisez la distance à laquelle
rieure de mâchoire Y la mâchoire est aussi près que possible de l'axe central.
[mm])
Ce paramètre influe sur la définition de la pénombre d'un faisceau
issu de la source secondaire.

74 Manuel de référence des algorithmes de photonthérapie et


d'électronthérapie Eclipse
Paramètre Description

Distance of X-jaw top Distance comprise entre la source primaire et la surface supérieure
surface from target de la mâchoire X du collimateur, exprimée en millimètres. La dis-
[mm] (Distance cible- tance est définie par la géométrie de la tête de traitement. Si la dis-
surface supérieure de tance change avec l'ouverture de la mâchoire, utilisez la distance à
mâchoire X [mm]) laquelle la mâchoire est aussi près que possible de l'axe central.
Ce paramètre influe sur la définition de la pénombre d'un faisceau
issu de la source secondaire.

Distance of X-jaw Distance comprise entre la source primaire et la surface inférieure de


bottom surface from la mâchoire X du collimateur, exprimée en millimètres. La distance
target [mm] (Distance est définie par la géométrie de la tête de traitement. Si la distance
cible-surface infé- change avec l'ouverture de la mâchoire, utilisez la distance à laquelle
rieure de mâchoire X la mâchoire est aussi près que possible de l'axe central.
[mm])
Ce paramètre influe sur la définition de la pénombre d'un faisceau
issu de la source secondaire.

Distance of MLC from Distance comprise entre la source primaire et le MLC, exprimée en
target [mm] (Distance millimètres. La distance est définie par la géométrie de la tête de trai-
cible-MLC [mm]) tement. Si la distance change avec l'ouverture de la mâchoire, utilisez
la distance à laquelle les lames sont aussi près que possible de l'axe
central.
Si les extrémités des lames du MLC sont arrondies, utilisez la dis-
tance au milieu des lames. Dans le cas de MLC à double foyer dont
les extrémités de lame ne sont pas arrondies, utilisez la distance à la
surface supérieure des lames.
Ce paramètre influe sur la définition de la pénombre d'un faisceau
issu de la source secondaire.

Size of second source Taille de la source secondaire, exprimée en millimètres. Définit la


[mm] (Taille de la taille de la distribution de la source de forme gaussienne, définie au
source secondaire niveau du plan de la source. La formule de la distribution est :
[mm])
x2 + y2

1 2σ2
k x, y; σ = e
2πσ2

où σ correspond au paramètre de taille. Cette formule détermine la


forme et la plage de valeurs de l'effet de la source secondaire, et la
taille du champ depuis lequel cet effet est visible. Plage de valeurs
courantes 20 à 80 mm.

Chapitre 4 Modèle de source de faisceaux de photons 75


Paramètre Description

Relative intensity of Intensité du rayonnement émergeant de la source secondaire par


second source (Inten- rapport à la source primaire. Affecte la hauteur des profils, en parti-
sité relative de la culier dans les zones de queue.
source secondaire)
Plage de valeurs courante 0,02 à 0,10.

Mean energy of se- Énergie moyenne du rayonnement émergeant de la source secon-


cond source [MeV] daire, exprimée en mégaélectronvolts. Détermine la courbe de dose
(Énergie moyenne de en profondeur de la source secondaire. L'énergie est généralement
la source secondaire plus basse que l'énergie moyenne de la source primaire. La valeur
[MeV]) traditionnelle est d'environ 1,0 MeV.

Paramètres de filtre en coin fixe


Les paramètres de filtre en coin mécanique (ou fixe) sont répertoriés dans le tableau.

Tableau 17 Paramètres de filtre en coin mécanique

Paramètre Description

Wedge length [mm] (Lon- Taille maximale de filtre en coin dans la direction longitudi-
gueur du filtre en coin [mm]) nale du filtre en coin, exprimée en millimètres. Habituelle-
ment, cette valeur est de 400 mm.

Wedge width [mm] (Largeur Taille maximale du filtre en coin dans la direction latérale du
du filtre en coin [mm]) filtre (direction dans laquelle est dirigée la pointe du filtre),
exprimée en millimètres. Habituellement, cette valeur est de
150, 200 ou 300 mm.

Wedge angle [degrees] (Angle Angle de filtre en coin utilisé par le programme de configura-
filtre en coin [degrés]) tion pour déterminer les paramètres de diffusion du filtre en
coin. Il détermine également l'angle de filtre en coin en fonc-
tion des profils de filtre en coin mesurés, de manière automa-
tique.

Wedge material [Fe, Cu, Pb] Matériau du filtre en coin


(Matériau du filtre en coin
Fe = Fer
[Fe, Cu, Pb])
Cu = Cuivre
Pb = Plomb

76 Manuel de référence des algorithmes de photonthérapie et


d'électronthérapie Eclipse
Paramètre Description

Wedge orientation in output Mesures de l'orientation du filtre en coin dans le tableau des
factor table (IN/OUT/LEFT/ facteurs d'ouverture du collimateur, exprimées par rapport à
RIGHT) (Orientation du filtre la machine de traitement :
en coin dans le tableau des
INT = orientation interne du bord fin (système de coordon-
facteurs d'ouverture du colli-
nées CEI 61217 - filtre en coin physique : 0°)
mateur [INT/EXT/GAUCHE/
DROITE])1 EXT = orientation externe du bord fin (système de coordon-
nées CEI 61217 - filtre en coin physique : 180°)
GAUCHE = orientation gauche du bord fin (système de coor-
données CEI 61217 - filtre en coin physique : 270°)
DROITE = orientation droite du bord fin (système de coor-
données CEI 61217 - filtre en coin physique : 90°)

Reference dose for hard Dose absolue dans l'eau, au point de référence, à la profon-
wedge at calibration depth deur d'étalonnage et taille de champ à la DSP (distance
[Gy] (Dose de référence pour source-peau), exprimée en Gray.
filtre en coin mécanique à la
profondeur d'étalonnage
[Gy])

Reference MU or timer setting UM ou réglage de la minuterie en secondes pour les ma-


for hard wedge at calibration chines au cobalt fournis pour produire la dose de référence à
depth [MU] or [s] (UM de ré- l'étalonnage.
férence ou réglage de la mi-
nuterie pour filtre en coin mé-
canique à la profondeur de
l'étalonnage [UM] ou [s])

Distance of wedge from pri- Distance entre le filtre en coin et la source primaire.
mary source [mm] (Distance
filtre en coin-source primaire
[mm])

Relative intensity of wedge Intensité relative de la source de diffusion du filtre en coin.


scatter source (Intensité rela-
tive de la source de diffusion
avec filtre en coin)

Mean energy of wedge scatter Énergie moyenne du rayonnement émergeant de la source de


source [MeV] (Énergie diffusion du filtre en coin, exprimée en mégaélectronvolts.
moyenne de la source de dif-
fusion du filtre en coin
[MeV])
1. Notez que les orientations du filtre en coin GAUCHE et DROITE sont inversées dans w2CAD et CEI 61217.

Chapitre 4 Modèle de source de faisceaux de photons 77


Paramètres Enhanced Dynamic Wedge (EDW)
Les paramètres Enhanced Dynamic Wedge (Filtre dynamique amélioré) (EDW) sont
répertoriés dans le tableau.

Tableau 18 Paramètres EDW

Paramètre Description

Size of second source Taille de la source secondaire, exprimée en millimètres. Autres in-
[mm] (Taille de la source formations : Tableau 16 à la page 74.
secondaire [mm])

Relative intensity of se- Intensité relative du rayonnement émergeant de la source secon-


cond source (Intensité re- daire. Autres informations : Tableau 16 à la page 74.
lative de la source secon-
daire)

Mean energy of second Énergie moyenne du rayonnement émergeant de la source secon-


source [MeV] (Énergie daire, exprimée en mégaélectronvolts. Autres informations : Ta-
moyenne de la source se- bleau 16 à la page 74.
condaire [MeV])

Ces paramètres sont copiés à partir des paramètres de champ ouvert en exécutant
l'étape de configuration Copy second source parameters from open field (Copier les
paramètres de la seconde source du champ ouvert).

Paramètres de filtre en coin motorisé Elekta (MW)


Les paramètres de filtre en coin motorisé (MW) Elekta sont répertoriés dans le
tableau.

Tableau 19 Paramètres MW

Paramètre Description

Wedge length [mm] (Longueur Taille maximale de filtre en coin dans la direction longitudi-
du filtre en coin [mm]) nale du filtre en coin, exprimée en millimètres. Habituelle-
ment, cette valeur est de 400 mm.

Wedge width [mm] (Largeur Taille maximale du filtre en coin dans la direction latérale du
du filtre en coin [mm]) filtre (direction dans laquelle est dirigée la pointe du filtre),
exprimée en millimètres. Habituellement, cette valeur est de
150, 200 ou 300 mm.

78 Manuel de référence des algorithmes de photonthérapie et


d'électronthérapie Eclipse
Paramètre Description

Wedge material [Fe, Cu, Pb] Matériau du filtre en coin


(Matériau du filtre en coin [Fe,
Fe = Fer
Cu, Pb])
Cu = Cuivre
Pb = Plomb

Wedge orientation in output Mesures de l'orientation du filtre en coin dans le tableau des
factor table (IN/OUT/LEFT/ facteurs d'ouverture, exprimées par rapport à la machine de
RIGHT) (Orientation du filtre traitement :
en coin dans le tableau des fac-
INT = orientation interne du bord fin (système de coordon-
teurs d'ouverture du collima-
nées CEI 61217 - filtre en coin physique : 0°)
teur (INT/EXT/GAUCHE/
DROITE)) Pour les filtres en coin motorisés, seule la direction INT est
possible.

Reference dose for hard wedge Dose absolue dans l'eau, au point de référence, dans la géo-
at calibration depth [Gy] (Dose métrie d'étalonnage définie pour le champ ouvert, exprimée
de référence pour filtre en coin en Gray.
mécanique à la profondeur
d'étalonnage [Gy])

Reference MU for hard wedge UM fournies pour produire la dose de référence à l'étalon-
at calibration depth [MU] (UM nage.
de référence pour filtre en coin
mécanique à la profondeur
d'étalonnage [UM])

Size of second source [mm] Taille de la source secondaire, exprimée en millimètres. In-
(Taille de la source secondaire formations supplémentaires : Tableau 16 à la page 74.
[mm])

Relative intensity of second Intensité du rayonnement émergeant de la source secon-


source (Intensité relative de la daire par rapport à la source primaire. Informations supplé-
source secondaire) mentaires : Tableau 16 à la page 74.

Mean energy of second source Énergie moyenne du rayonnement émergeant de la source


[MeV] (Énergie moyenne de la secondaire, exprimée en mégaélectronvolts. Informations
source secondaire [MeV]) supplémentaires : Tableau 16 à la page 74.

Distance of wedge from pri- Distance entre le filtre en coin et la source primaire, ex-
mary source [mm] (Distance primée en millimètres.
filtre en coin-source primaire
[mm])

Chapitre 4 Modèle de source de faisceaux de photons 79


Paramètre Description

Relative intensity of wedge Intensité relative de la source de diffusion du filtre en coin.


scatter source (Intensité rela-
tive de la source de diffusion
avec filtre en coin)

Mean energy of wedge scatter Énergie moyenne de la source de diffusion du filtre en coin,
source [MeV] (Énergie exprimée en mégaélectronvolts.
moyenne de la source de diffu-
sion du filtre en coin [MeV])

Paramètres de filtre en coin virtuel Elekta


Les filtres EVW (Elekta Virtual Wedge, filtre virtuel Elekta) sont similaires aux filtres
EDW (Enhanced Dynamic Wedge, filtre dynamique amélioré) Varian et SVW
(Siemens Virtual Wedge, filtre virtuel Siemens) en ce qui concerne la distribution de
dose oblique qui est produite par le déplacement de la mâchoire d'un collimateur.
Dans ce cas, seul le diaphragme de secours qui se déplace dans la même direction
que les lames du MLC, peut être déplacé.
Un champ EVW est l'un des composants qui forment les champs Elekta OmniWedge.
Ces composants sont les suivants :
■ Composant de champ ouvert
■ Composant de filtre en coin virtuel Elekta
■ Composant de champ avec filtre en coin motorisé Elekta
Les champs Elekta OmniWedge contenant un filtre en coin dans des directions et des
angles aléatoires sont produits via l'association de différents composants.3 Le
diaphragme de secours possède une transmission finie, dont la valeur dépend du
mode d'énergie.

Tableau 20 Paramètres de filtre en coin virtuel Elekta

Paramètre Description

Transmission of Backup dia- Transmission (entre 0 et 1) du diaphragme de secours. Cette va-


phragm [1] (Transmission leur doit être ajustée manuellement pour chaque mode
du diaphragme de secours d'énergie, afin d'obtenir une bonne concordance entre les
[1]) champs EVW calculés et mesurés. Les bons points de départ
sont les suivants :
4X—Départ à 0,09
6X—Départ à 0,10
15X—Départ à 0,12

3 Plus d'informations sur Elekta OmniWedge : M.H. Phillips et al.: Dynamic and omni wedge
implementation on an Elekta SL linac. Medical Physics 27, 1623—1634, 2000.

80 Manuel de référence des algorithmes de photonthérapie et


d'électronthérapie Eclipse
Configurer Elekta OmniWedge
Pour configurer Elekta OmniWedge, vous devez ajouter des filtres en coin dans RT
Administration et Beam Configuration. Plus d'informations sur l'utilisation de RT
Administration : Manuel de référence RT Administration. Plus d'informations sur
l'utilisation de Beam Configuration : Manuel de référence Beam Configuration.
1. Dans RT Administration, créez un filtre dynamique pour la machine de
traitement Elekta. Dans la boîte de dialogue Dynamic Wedge Properties
(Propriétés de filtre dynamique), cochez la case Enhanced (Amélioré).
2. Créez un filtre en coin standard. Dans la boîte de dialogue Standard Wedge
Properties (Propriétés de filtre en coin standard), cochez la case Omniwedge et la
case Motorized (Motorisé).
3. En plus des filtres en coin ci-dessus, vous pouvez également créer un second
filtre en coin standard. Dans la boîte de dialogue Standard Wedge Properties
(Propriétés de filtre en coin standard), cochez la case Motorized (Motorisé). Les
deux filtres en coin motorisés seront dotés de limites différentes de position des
mâchoires.
4. Dans Beam Configuration, créez un filtre en coin motorisé et un filtre dynamique
amélioré.
5. Comparez et assignez les accessoires de filtre en coin. Associez le filtre
dynamique amélioré au filtre en coin dont la case Enhanced (Amélioré) est
cochée dans RT Administration.

Paramètres SVW (Siemens Virtual Wedge)


Avec les filtres en coin virtuels Siemens (SVW) comme avec les filtres dynamiques
améliorés Varian (EDW), la distribution de dose oblique est créée par le déplacement
des collimateurs pendant que le faisceau est actif.4 Bien que le programme de
configuration du modèle de source ne nécessite pas de paramètres de filtre en coin
virtuel, ces paramètres sont utilisés dans le calcul de dose pour produire la
distribution de la dose en angle.
Dans la planification du traitement, les filtres en coin virtuels sont utilisés de la même
façon que les filtres EDW. Eclipse permet de calculer des angles de filtre en coin
virtuel de 0 à 60°. Le modèle de source a la capacité de calculer le filtre en coin virtuel
dans les deux directions FX et FY, mais il est possible que l'accélérateur ne le puisse
pas.
Les paramètres SVW (Siemens Virtual Wedge) sont répertoriés dans le tableau.

4 Pour une description plus détaillée du filtre en coin virtuel Siemens : J. P. C. van Santvoort: Dosimetric
evaluation of the Siemens Virtual Wedge. Physics in Medicine and Biology 43, 2651–2663, 1998.

Chapitre 4 Modèle de source de faisceaux de photons 81


Tableau 21 Paramètres SVW

Paramètre Description

Effective linear attenua- Coefficient efficace d'atténuation linéaire (fourni par Siemens) du
tion coefficient [1/cm] filtre en coin virtuel pour l'énergie nominale du faisceau. La
(Coefficient efficace d'at- fluence sur l'ensemble du champ peut s'exprimer selon la formule
ténuation linéaire [1/cm]) g x = ec ∙ μ ∙ x ∙ tanα, où c = facteur de correction d'atténuation, μ
= coefficient efficace d'atténuation linéaire, x = distance à l'axe
central et α = angle du filtre en coin souhaité. L'unité est 1/cm.

Attenuation correction Facteur de correction (fourni par Siemens) pour spécifier avec pré-
factor (Facteur de correc- cision l'atténuation linéaire pour une énergie et un accélérateur
tion d'atténuation) spécifiques. Le même facteur d'atténuation doit être configuré
pour le filtre en coin virtuel tel qu'il est utilisé dans l'accélérateur.

Maximum overtravel for Utilisé pour calculer la taille de l'écart des grands champs lors-
X-jaws [mm] (Course to- qu'un filtre en coin de direction FX est utilisé. Ce paramètre est de
tale maximale des mâ- 5 mm plus petit que la distance de course normale, ce qui signifie
choires X [mm]) que la course totale du filtre en coin dans la direction FX est de
15 mm par défaut. Vous pouvez vérifier la course totale dans votre
machine de traitement Siemens et la modifier en conséquence
dans Beam Configuration.

Maximum overtravel for Utilisé pour calculer la taille de l'écart des grands champs lors-
Y-jaws [mm] (Course to- qu'un filtre en coin virtuel de direction FY est utilisé. Ce para-
tale maximale des mâ- mètre est inférieur de 5 mm à la distance de course totale normale,
choires Y [mm]) ce qui signifie que la course totale du filtre en coin virtuel dans la
direction FY est de 95 mm par défaut.

Minimum gap [mm] Avant de délivrer un champ utilisant un filtre en coin, la mâchoire
(Écart minimal [mm]) dynamique est placée près de la mâchoire opposée statique.
Lorsque le faisceau est activé, les mâchoires restent statiques pen-
dant les toutes premières UM afin de créer un bord plus aigu au
niveau du talon du filtre en coin. L'écart minimal définit la largeur
minimale de l'espace laissé entre les mâchoires avant l'irradiation
du champ.

Paramètres de compensateur
Les paramètres requis pour la configuration du compensateur sont répertoriés dans
le tableau.

82 Manuel de référence des algorithmes de photonthérapie et


d'électronthérapie Eclipse
Tableau 22 Paramètres de compensateur

Paramètre Description

Attenuation curve for Courbe d'atténuation du matériau d'un compensateur. Si la valeur


compensator material Brass (Laiton), Cerrobend, Al ou Cu est sélectionnée, la courbe
(Courbe d'atténuation d'atténuation par défaut correspondante est utilisée. Les données
du matériau du com- d'atténuation de toutes les autres courbes doivent également être
pensateur) importées à l'aide de la commande Read from file (Lire à partir
d'un fichier).

Attenuation curve data Données de courbe d'atténuation définies par l'utilisateur pour le
(Données de courbe compensateur. Définissez le chemin d'accès complet au fichier de
d'atténuation) données pour l'importation des données de courbe d'atténuation
définies par l'utilisateur. Les données sont lues à partir du fichier
lors de la configuration du compensateur. Une fois que les données
ont été lues, cette zone de texte est vidée.
Le fichier de données de courbe d'atténuation doit être un fichier
texte contenant deux colonnes séparées par un espace. La première
colonne est dédiée à l'énergie (en MeV) et la seconde au coefficient
d'atténuation massique μ/ρ (en cm2/g). Une seule valeur d'atténua-
tion massique est autorisée pour chaque valeur d'énergie. Exemple
de fichier de données de courbe d'atténuation : Format de fichier
de données de courbe d'atténuation du compensateur à la
page 355.
Les données de courbe d'atténuation massique sont accessibles à
l'adresse http://www.nist.gov/pml/data/xraycoef/index.cfm.

Compensator mass den- Densité massique du compensateur. Ce paramètre affecte les pro-
sity [g/cm3] (Densité priétés de durcissement du faisceau du compensateur.
massique du compensa-
teur [g/cm3])

Compensator thickness Épaisseur du compensateur plat utilisé dans les mesures de confi-
[mm] (Épaisseur du guration, exprimée en millimètres.
compensateur [mm])

Source-to-compensator Distance entre la source et la plaque du compensateur, exprimée


tray distance [mm] (Dis- en millimètres. La valeur doit correspondre à la distance source-
tance source-plaque de plaque indiquée dans la section Slot (Glissière) de la boîte de dia-
compensateur [mm]) logue Compensator Properties (Propriétés du compensateur).

Chapitre 4 Modèle de source de faisceaux de photons 83


Paramètre Description

Compensator mounting La valeur peut être PATIENT_SIDE (CÔTÉ_PATIENT) ou


position (Position de SOURCE_SIDE (CÔTÉ_SOURCE). Les valeurs de la section Tray
montage du compensa- (Plaque) de la boîte de dialogue Compensator Properties (Pro-
teur) priétés du compensateur) sont les suivantes :
Case Above tray (Au-dessus de la plaque) cochée : SOURCE_SIDE
(CÔTÉ_SOURCE).
Case Above tray (Au-dessus de la plaque) non cochée :
PATIENT_SIDE (CÔTÉ_PATIENT).

Beam hardening correc- Le facteur de correction du durcissement du faisceau est un para-


tion factor for EAC mètre facultatif qui permet de modifier les EAC pour les épais-
[1/cm2] (Facteur de cor- seurs de compensateur qui s'écartent des valeurs de la configura-
rection du durcissement tion. La valeur par défaut est 0,0.
du faisceau pour EAC
[1/cm²])

Le compensateur modifie la fluence comme suit :

Équation 4

a = b x exp[-c x [d+e x (c-f)]]

a = Fluence avec compensateur à (x, y)

b = Fluence sans compensateur à (x, y)

c = Épaisseur de compensateur à (x, y), exprimée en cm

d = Coefficient d'atténuation effectif (EAC) pour la taille de champ donnée


interpolé à partir des valeurs EAC calculées définies dans Beam
Configuration, exprimé en 1/cm

e = Facteur de correction du durcissement du faisceau pour EAC, exprimé


en 1/cm2

f = Épaisseur du compensateur plat utilisé dans les mesures de configura-


tion, exprimée en cm

Paramètres de MLC
Les paramètres dosimétriques d'un MLC peuvent être ajoutés aux données de
faisceaux. Les paramètres sont répertoriés dans le tableau. Le MLC peut être
sélectionné en tant qu'accessoire pour les données de faisceaux.

84 Manuel de référence des algorithmes de photonthérapie et


d'électronthérapie Eclipse
Tableau 23 Paramètres de MLC

Paramètre Description

Dosimetric Leaf Gap Correction pour la conséquence dosimétrique des extrémités de


[cm] [Écart interlame lames arrondies. Informations supplémentaires : Leaf Gap dosimé-
dosimétrique (en cm)] trique dans les algorithmes de modélisation d'irradiation de
fluences à la page 263.

Leaf Transmission Facteur de transmission en dessous des MLC (verrouillés/ouverts).


(Transmission des Informations supplémentaires : Transmission dans les algorithmes
lames) de modélisation d'irradiation de fluences à la page 263.

L'accessoire de MLC est facultatif et n'exige pas une reconfiguration ni aucun calcul
supplémentaire des données de faisceaux. Si un accessoire de MLC est présent dans
les données de faisceaux, les algorithmes AAA et Acuros XB utiliseront les
paramètres dosimétriques de MLC définis dans les données de faisceaux au lieu des
paramètres définis dans RT Administration. Si aucun accessoire de MLC n'est
présent dans les données de faisceaux, les paramètres dosimétriques du MLC définis
pour l'accessoire dans RT Administration seront utilisés. Il est obligatoire de définir
les paramètres du MLC dans RT Administration.
Pour pouvoir utiliser le MLC comme accessoire :
1. Assurez-vous qu'un MLC est présent pour la machine dans RT Administration.
2. Dans Beam Configuration, insérez un nouvel accessoire de type MLC.
3. Faites correspondre l'accessoire de MLC au matériau de MLC approprié dans la
base de données.
4. Définissez les paramètres Dosimetric Leaf Gap (Écart interlame dosimétrique) et
Leaf transmission (Transmission des lames) dans les données de faisceaux.
5. Approuvez les données de faisceaux.

Paramètres des facteurs d'ouverture du collimateur


En plus des facteurs d'ouverture du collimateur des différentes tailles de champ
(Tableau 6 à la page 58), les paramètres suivants sont utilisés dans Beam
Configuration afin de déterminer la géométrie utilisée pour les mesures de facteur
d'ouverture du collimateur :
■ Source-Phantom Distance [mm] (Distance source-fantôme [mm])—Distance
comprise entre la source de la machine de traitement et la surface du fantôme
pendant les mesures des facteurs d'ouverture du collimateur.
■ Detector depth from phantom surface [mm] (Profondeur du détecteur depuis la
surface du fantôme [mm])—Distance comprise entre la surface du fantôme et le
détecteur de dose pendant les mesures des facteurs d'ouverture du collimateur.

Chapitre 4 Modèle de source de faisceaux de photons 85


Remarque : Pour que Beam Configuration puisse traiter des tailles de champ non entières
exprimées en centimètres, les facteurs d'ouverture du collimateur pour la tête du modulateur de
faisceau Elekta doivent être importés à l'aide de la commande Import > Output Factors for
Elekta Beam Modulator (Importer > Facteurs d'ouverture du collimateur pour le modulateur
de faisceau Elekta).

Bibliothèque des paramètres de la machine pour les faisceaux de photons


L'installation d'AAA et d'Acuros XB inclut une bibliothèque contenant des
paramètres qui décrivent le type de machine de traitement et l'énergie. Ces
paramètres sont utilisés pour l'optimisation et produisent un effet non négligeable
sur l'optimisation des paramètres de machine. Les paramètres peuvent aussi inlcure
des hypothèses de départ pour certains paramètres de la machine de traitement.
Les paramètres de la bibliothèque sont utilisés comme entrée dans la configuration,
et les valeurs de paramètre lues dans la bibliothèque sont affichées dans Beam
Configuration. Les valeurs de paramètres issues de la bibliothèque peuvent différer
selon les niveaux d'énergie et les constructeurs.
La bibliothèque des paramètres de la machine de modèle de source contient les
hypothèses de départ pour les paramètres suivants de la machine :
■ Spectre énergétique des photons
■ Énergie radiale moyenne
■ Emplacement de la source secondaire virtuelle, des mâchoires X et Y du
collimateur et du MLC
■ Intensité relative de la deuxième source, énergie et taille de la deuxième source
■ Matériau du filtre égalisateur
Les matériaux disponibles pour le filtre égalisateur sont Iron (Fer, Fe), Copper
(Cuivre, Cu), Lead (Plomb, Pb), Tungsten (Tungstène, W), Varian High Energy
Material (Matériau haute énergie Varian, VHEM) et None [Aucun] (dans le cas
des faisceaux sans filtre égalisateur). Le matériau du filtre égalisateur par défaut
dépend de la machine de traitement et de l'énergie de faisceau sélectionnée. Par
exemple, pour la machine Siemens Artiste avec une énergie 6X, le matériau par
défaut est le cuivre (Cu), et pour la machine Elekta Versa HD avec une
énergie 18X, le matériau par défaut est le fer (Fe).
L'épaisseur du filtre égalisateur et l'énergie radiale moyenne compensent les
écarts éventuels de la courbe d'atténuation du matériau du filtre égalisateur. En
fonction des données de faisceaux importées et du matériau sélectionné,
l'épaisseur du filtre égalisateur sera déterminé en interne. La combinaison du
matériau sélectionné et du profil d'épaisseur du filtre égalisateur est utilisée dans
le modèle de source, et se reflétera dans le spectre du faisceau modélisé.

86 Manuel de référence des algorithmes de photonthérapie et


d'électronthérapie Eclipse
Paramètres de dosimétrie absolue dans les données faisceaux Varian Eclipse
Le tableau décrit les paramètres de dosimétrie absolue utilisés pour les données
faisceaux Varian Eclipse. Les paramètres Reference Dose at calibration
depth (Dose de référence à la profondeur d'étalonnage) et Reference MU at
calibration depth (UM de référence à la profondeur d'étalonnage) doivent être
ajustés de manière à refléter l'étalonnage spécifique de la machine.
Varian EBD définit le tableau des facteurs d'ouverture du collimateur dans la
géométrie de champ isocentrique. Il est recommandé d'utiliser cette même géométrie
pour la configuration de la dosimétrie absolue, auquel cas les valeurs de paramètres
du tableau doivent être utilisées pour toutes les énergies.

Tableau 24 Paramètres de dosimétrie absolue

Paramètre Énergie Valeur

Absolute Dose Calibration Source-Phantom Dis- 6, 10, 15 MV, 950


tance [mm] (Distance source d'étalonnage de dose 6 MV SRS
absolue-fantôme [mm])
18, 20 MV 900

Absolute dose reference field size [mm] (Taille du 6, 10, 15 MV, 100
champ de référence de dose absolue [mm]) 6 MV SRS

18, 20 MV 100

Absolute Dose Calibration Depth [mm] (Profon- 6, 10, 15 MV, 50


deur d'étalonnage de la dose absolue [mm]) 6 MV SRS

18, 20 MV 100

Reference Dose At Calibration Depth [Gy] (Dose 6, 10, 15, 18, 20 MV, À mesurer
de référence à la profondeur d'étalonnage [Gy]) 6 MV SRS

Reference MU At Calibration Depth [MU] (UM de 6, 10, 15, 18, 20 MV, À définir
référence à la profondeur d'étalonnage [UM]) 6 MV SRS

Filtres en coin dans les données faisceaux Varian Eclipse


Les données faisceaux Varian Eclipse pour les faisceaux de photons contiennent
13 ensembles de données de mesure pour chaque mode d'énergie : un pour
l'ensemble de mesures pour le champ ouvert et un pour chacun des 12 filtres en coin.
Elles ne contiennent cependant aucune donnée relative aux filtres en coin pour le
mode d'énergie 6 MV à débit de dose élevé stéréotaxique (6 MV SRS).
Les caractéristiques des données sont les suivantes :
■ Open field (Champ ouvert) : identifié par le code 00

Chapitre 4 Modèle de source de faisceaux de photons 87


■ Wedge (Filtre en coin) :
■ Les machines de traitement équipées d'un MLC sont dotées de deux glissières
(glissière inférieure et supérieure) et d'un filtre en coin séparé pour chaque
glissière.
■ Les machines de traitement non équipées d'un MLC ont une seule glissière.
■ La taille de filtre en coin pour les filtres de 15 et 30 degrés : 20 et 30 cm dans la
direction du filtre, 40 cm dans la direction longitudinale. Les tailles des filtres
en coin de 45 et 60 degrés dans la direction du filtre sont toujours de 20 et
15 cm, respectivement.
Le tableau répertorie les angles de filtre en coin et les tailles correspondant aux codes
d'identification utilisés dans les données faisceaux Eclipse, répartis dans six ensemble
de filtres en coin.

Tableau 25 Angles, tailles et codes de filtre en coin dans les données faisceaux Eclipse

Machines avec MLC Machines sans MLC

Angle Taille Code de filtre en coin Angle Taille Code de


filtre en
coin

Jeu de filtres en coin supérieur (20 cm) Jeu de filtres en coin 20 cm

15° 20 01 15° 20 01

30° 20 02 30° 20 02

45° 20 03 45° 20 03

60° 15 04 60° 15 04

Jeu de filtres en coin supérieur (30 cm) Jeu de filtres en coin 30 cm

15° 30 09 15° 30 09

30° 30 10 30° 30 10

45° 20 03 45° 20 03

60° 15 04 60° 15 04

Jeu de filtres en coin inférieur (20 cm)

15° 20 05

30° 20 06

45° 20 07

60° 15 08

88 Manuel de référence des algorithmes de photonthérapie et


d'électronthérapie Eclipse
Machines avec MLC Machines sans MLC

Angle Taille Code de filtre en coin Angle Taille Code de


filtre en
coin

Jeu de filtres en coin inférieur (30 cm)

15° 30 11

30° 30 12

45° 20 07

60° 15 08

Programme de configuration pour les faisceaux de photons


Le processus d'optimisation utilisé par le programme de configuration des données
des faisceaux de photons est particulièrement adapté aux algorithmes basés sur un
modèle tels qu'AAA et Acuros XB. Le modèle de source de faisceaux de photons
utilise un jeu de paramètres (Bibliothèque des paramètres de la machine pour les
faisceaux de photons à la page 86) pour décrire les caractéristiques du faisceau et, par
conséquent, la distribution de dose calculée dans un fantôme d'eau. Le programme
de configuration du faisceau de photons optimise ces paramètres pour comparer la
distribution calculée avec la distribution mesurée (traitée) aussi précisément que
possible.
Le processus d'optimisation utilise une fonction objectif qui consiste en deux termes :
■ Erreur Gamma totale des points de données calculés par rapport aux courbes
mesurées (terme principal).5 Cette mesure d'erreur est utilisable à la fois dans les
régions à gradient de dose haut et bas. La mesure d'erreur Gamma est définie par
deux constantes de mise à l'échelle, la distance unité-axe (3 mm par défaut) et la
dose relative axe-unité (1 % par défaut) (Évaluation des histogrammes d'erreur
Gamma à la page 110).
■ Terme de pénalité (terme secondaire) pour, par exemple, filtrer le bruit à partir du
profil et de la courbe de la moyenne d'énergie, ou pour tempérer les effets de
certains artefacts de mesure. La fonction de pénalité consiste en des pénalités pour
le bruit, une courbe de moyenne d'énergie croissante et un profil d'intensité
croissante (à l'extérieur du bord de champ), et des paramètres de source
secondaire virtuelle.

5 Daniel A. Low, William B. Harms, Sasa Mutic, and James A. Purdy: A technique for the quantitative
evaluation of dose distributions. Medical Physics 25 (5), 656–661 (1998).

Chapitre 4 Modèle de source de faisceaux de photons 89


La fonction objectif totale est une conversion de l'ensemble de paramètres en un seul
nombre réel. Cette fonction objectif peut être donnée à une routine d'optimisation
multi-dimensionnelle standard qui retourne le jeu de paramètres en donnant,
approximativement, le minimum de la fonction objectif. Le programme de
configuration de modèle de source utilise la méthode de Powell dans l'optimisation
multi-dimensionnelle et une optimisation quadratique simple et rapide pour des
recherches de ligne uni-dimensionnelle au sein de la méthode de Powell.6
En raison de leur nature, les paramètres associés à la contamination électronique sont
exclus du processus d'optimisation. Ils sont optimisés séparément des autres
paramètres. En pratique, toutes les régions de distribution de dose subissant un effet
significatif des électrons contaminants sont initialement exclues du premier tour
d'optimisation et les paramètres de contamination électronique sont optimisés par la
suite. Finalement, le processus d'optimisation est redémarré en utilisant des données
de mesure complètes pour maintenir la cohérence.

Adaptation des mesures dans la configuration


Avant de réaliser l'optimisation des paramètres de la machine, le programme de
configuration de modèle de source vérifie les mesures des données faisceaux et, si
possible, adapte les valeurs mesurées. Vous pouvez examiner les mesures originales
et adaptées dans l'espace de travail Beam Data (Données faisceaux) de Beam
Configuration (Évaluation des données du modèle de source configurées à la
page 108).
Le programme de configuration du modèle de source procède aux détections et
adaptations suivantes dans l'ordre ci-dessous :
1. No measured diagonal profiles (Pas de profil diagonal mesuré) : l'optimisation
s'arrête et vous êtes invité à importer des profils diagonaux.
2. Mandatory field sizes not measured (Tailles de champ obligatoires non
mesurées) : la configuration s'arrête.
3. Depth dose curves or profiles saturate into a constant value before the
measurement ends (Les courbes de dose en profondeur ou les profils saturent en
une valeur constante avant la fin des mesures) : ces valeurs sont supprimées.
4. Depth dose curves or profiles drop to zero before the measurements end (Les
courbes de dose en profondeur ou les profils chutent à zéro avant la fin des
mesures) : ces valeurs sont supprimées des mesures.
5. Profiles measured deeper than the corresponding depth dose curve (Les profils
sont mesurés plus profondément que la courbe de dose en profondeur
correspondante) : la courbe des doses en profondeur est extrapolée à la
profondeur requise. Une notification est générée.

6 M. J. D. Powell: An efficient method for finding the minimum of a function of several variables without
calculating derivatives. Comp. J. 7 (2), 155–162 (1964).

90 Manuel de référence des algorithmes de photonthérapie et


d'électronthérapie Eclipse
6. X-coordinate of the 50% value deviates from the assumed field edge position (La
coordonnée X de la valeur de 50 % dévie de la position du bord de champ
supposée) : les profils avec une déviation > 3,2 mm sont ignorés et une
notification est générée. Sinon, le profil est décalé de la quantité requise.
Pour les faisceaux sans cône égalisateur, la position du bord de champ est
détectée à partir de l'emplacement du gradient maximal du profil.
7. Profile tails missing from the measurements (Queues de profil manquantes dans
les mesures) :
■ Queues des deux moitiés de profil manquantes (mesures postérieures à la
coordonnée X correspondant à la valeur de 50 % sur l'axe des Y) : le profil est
exclu de la configuration. Un message d'avertissement est généré.
■ Queue de l'un des profils manquante : la moitié la plus longue est incluse
dans la configuration.
■ Les deux moitiés de profil complètement mesurées : l'erreur Gamma
maximale entre les deux moitiés de profil est calculée. Les profils avec une
erreur Gamma supérieure à 1,0 mm sont ignorés et un avertissement est
généré. Sinon, l'optimisation utilise la moyenne des moitiés de profil.
8. Incorrectly positioned detector (Détecteur mal positionné) (provoquant une
diffusion manquante dans la zone centrale du champ) : un avertissement est
généré. Le profil est ignoré à, par exemple, r < 10 cm.
Cela ne s'applique pas aux faisceaux sans cône égalisateur.
9. Too large dose outside in profile tail region (Dose trop importante à l'extérieur
dans la zone de queue de profil) : la dose à l'extérieur du bord du champ peut,
par exemple, devenir virtuellement importante et influer sur le paramètre
d'intensité de la source secondaire à cause d'un détecteur incorrect. Dans ce cas,
un avertissement est généré.
10. Selection of field sizes used when optimizing the source model parameters
(Sélection des tailles de champ utilisées lors de l'optimisation des paramètres du
modèle de source) : le programme de configuration peut utiliser uniquement un
sous-ensemble des tailles de champ mesurées pour les courbes et les profils de
dose en profondeur lors de l'optimisation des valeurs des paramètres du modèle
de source. Si les données d'entrée contiennent plus de tailles de champ que la
liste des tailles de champ ci-dessous, le programme de configuration sélectionne
les tailles les plus proches des valeurs répertoriées. Sinon, toutes les tailles de
champ d'entrée sont utilisées dans la configuration. Les tailles de champ
inférieures à 20 mm sont ignorées.
Tailles de champ dans la configuration d'Acuros XB :

Chapitre 4 Modèle de source de faisceaux de photons 91


Machine Tailles de champ en mm

Modulateur de faisceau 24,0 40,0 56,0 80,0 104,0 160,0 210,0


Elekta

Novalis 20,0 30,0 40,0 60,0 80,0 100,0

Autres types de machines 20,0 40,0 60,0 100,0 200,0 400,0

Tailles de champ dans la configuration d'AAA :

Machine Tailles de champ en mm

Toutes les ma- 20,0 30,0 40,0 60,0 80,0 100,0 150,0 200,0 250,0
chines
300,0 350,0 400,0
11. Selection of field sizes for the collimator backscatter table for Elekta Beam
Modulator (Sélection de tailles de champ pour le tableau de rétrodiffusion due au
collimateur du modulateur de faisceau Elekta) : pour sélectionner les tailles de
champ X et Y pour la table CBSF pour le modulateur de faisceau Elekta, les tailles
de champ du tableau de facteurs d'ouverture du collimateur sont utilisées si elles
sont inférieures à 9 tailles de champ X et 8 tailles de champ Y. Toutefois, les tailles
de champ inférieures à 24 mm dans la direction X ou Y ne sont pas sélectionnées.
Si le nombre de tailles de champ du tableau de facteurs d'ouverture du
collimateur est supérieur, les tailles les plus proches des tailles de champ de la
liste suivante sont sélectionnées dans le tableau de facteurs d'ouverture du
collimateur.

Tailles de champ X en 24,0 32,0 40,0 56,0 80,0 104,0 120,0 160,0
mm (CEI61217)
210,0

Tailles de champ Y en 24,0 32,0 40,0 56,0 80,0 104,0 120,0 160,0
mm (CEI61217)
12. Selection of field sizes for the collimator backscatter table for machines other than
Elekta Beam Modulator (Sélection de tailles de champ pour le tableau de
rétrodiffusion due au collimateur pour d'autres machines que le modulateur de
faisceau Elekta) : les tailles de champ du tableau de facteurs d'ouverture du
collimateur sont utilisées si elles sont inférieures à 9 tailles de champ. Si le
nombre de tailles de champ du tableau de facteurs d'ouverture du collimateur est
supérieur, les tailles les plus proches des tailles de champ de la liste suivante sont
sélectionnées dans le tableau de facteurs d'ouverture du collimateur.

Tailles de champ en mm

20,0 30,0 50,0 70,0 100,0 150,0 200,0 300,0 400,0

92 Manuel de référence des algorithmes de photonthérapie et


d'électronthérapie Eclipse
De plus, la plus petite taille de champ du tableau de facteurs d'ouverture du
collimateur est ajoutée si elle diffère de 5 mm au moins de la plus petite taille de
champ de la liste. De même, la plus grande taille de champ du tableau de
facteurs d'ouverture du collimateur est ajoutée si elle diffère de 50 mm au moins
de la plus grande taille de champ de la liste.
En cas d'erreurs graves dans les données de mesure, une notification est générée à
propos de l'erreur, de la gravité de l'erreur, et confirmant si la courbe correspondante
a été ignorée dans la configuration. Des avertissements sont aussi générés si la taille
maximale du champ dans les deux directions n'est pas utilisée pour des champs de
filtres en coin.

Étapes de configuration du modèle de source


Les mesures pour toutes les tailles de champ sont utilisées dans le processus de
configuration pour déterminer les valeurs optimales des paramètres. Les étapes sont
indiquées dans la boîte de dialogue Calculate Beam Data (Calculer les données
faisceaux), dans laquelle vous sélectionnez les éléments à calculer. (Plus
d'informations sur le fichier d'étapes : Manuel de référence Beam Configuration.)
Vous pouvez exécuter toutes les étapes de la configuration en une seule fois
(configuration complète) ou une étape sélectionnée à la fois, pour l'accessoire choisi.
Vous pouvez modifier les hypothèses de départ pour les paramètres de la machine
issus de la bibliothèque dans les paramètres de configuration (Paramètres de
configuration pour les faisceaux de photons à la page 67) ou utiliser l'outil Curve
Editor (Éditeur de courbe) de Beam Configuration.
Les données du faisceau de modèle de source sont calculées séparément pour chaque
accessoire dans les étapes de configuration.

Remarque : Le calcul des données faisceaux configurées dans Beam Configuration modifie les
valeurs de certains paramètres. Les paramètres configurés Mean radial energy (Énergie radiale
moyenne), Spectrum (Spectre), Intensity profile (Profil d'intensité) et Second source (Source
secondaire) sont conservés à leurs valeurs initiales si la configuration est exécutée plusieurs
fois (sauf si les paramètres sont de nouveau extraits de la bibliothèque).

Étapes de configuration pour un champ ouvert


Pour l'accessoire de champ ouvert, les données faisceaux de modèle de source sont
calculées dans les étapes de configuration suivantes :
1. Récupération des paramètres voulus dans la bibliothèque de données de la
machine. Cette étape définit des hypothèses de départ pour la configuration. Les
paramètres Mean radial energy (Énergie radiale moyenne), Intensity Profile
(Profil d'intensité), Second Source (Source secondaire), Electronic Contamination
(Contamination électronique) et Spectrum (Spectre) sont définis à des valeurs par

Chapitre 4 Modèle de source de faisceaux de photons 93


défaut spécifiques de la machine. Ces valeurs ne sont pas encore configurées
pour correspondre aux mesures.
2. Configuration du faisceau à champ ouvert (configuration complète). Il s'agit de la
méthode recommandée. Cette étape optimise les paramètres Mean Radial Energy
(Énergie radiale moyenne), Intensity Profile (Profil d'intensité), Spectrum
(Spectre) et Second Source (Source secondaire) en minimisant l'erreur Gamma,
configure la courbe de contamination électronique et les valeurs Sigma, et calcule
les paramètres de dose absolue et le tableau CBSF.
3. Étapes de configuration partielle. Chacune des étapes de configuration partielle
peut être exécutée individuellement ou sous forme de séquence, afin de réduire
la consommation de mémoire de l'ordinateur. La sélection de toutes les étapes
partielles de la configuration produit le même résultat que l'exécution de la
première étape seulement.
■ Configuration partielle 1 (optimisation des paramètres de faisceau à champ
ouvert).
■ Configuration partielle 2 (dosimétrie absolue).
■ Configuration partielle 3 (tableau CBSF).
4. Calcul de l'histogramme d'erreur.
Les paramètres suivants doivent être définis et les données mesurées suivantes
importées avant d'exécuter les étapes de configuration :
■ Paramètres généraux (énergie nominale, distance source-axe, distance source-
fantôme)
■ Paramètres : paramètres de dose absolue, type de machine, paramètres du point
cible, transmission des lames (pour modulateur de faisceau Elekta)
■ Paramètres de faisceau à champ ouvert (si inexistants, copiés automatiquement de
la bibliothèque)
■ Profils diagonaux mesurés (DPR)
■ Doses en profondeur mesurées (OPD)
■ Profils mesurés (OPP)
■ Table des facteurs d'ouverture du collimateur, ou Table des facteurs d'ouverture
du modulateur de faisceau Elekta
■ Doses absolues en un point. Requises pour le modulateur de faisceau Elekta,
recommandées pour toutes les machines Elekta, facultatives pour les autres
modèles de machine et fournisseurs.
■ Spectre (si inexistant, copié automatiquement de la bibliothèque)
■ Profil d'intensité (carte de fluence). Peut être obtenu en exécutant l'étape de
configuration « Récupération des paramètres de la machine depuis la
bibliothèque ». Cette étape utilise le profil diagonal le moins profond mesuré
comme hypothèse de départ.
■ Énergie radiale moyenne. Peut être obtenue en exécutant l'étape de configuration
« Récupération des paramètres de la machine depuis la bibliothèque ».

94 Manuel de référence des algorithmes de photonthérapie et


d'électronthérapie Eclipse
■ Contamination électronique. Peut être obtenue en exécutant l'étape de
configuration « Récupération des paramètres de la machine depuis la
bibliothèque ». Cette étape crée une hypothèse de départ qui s'atténue depuis la
valeur de surface 1e-15 à la valeur 0 à la profondeur de 8 cm.
Étapes de configuration pour les filtres en coin mécaniques
Toutes les étapes de configuration de champ ouvert doivent être réalisées avant la
configuration des filtres en coin.
Pour les accessoires de filtre en coin mécanique, les données faisceaux du modèle de
source sont calculées dans les étapes de configuration suivantes :
1. Configuration du filtre en coin mécanique (toutes les étapes). Optimise l'intensité
relative et l'énergie de la source de diffusion du filtre en coin ainsi que la courbe
de transmission du filtre en coin, et calcule les paramètres de dose absolue et le
tableau CBSF.
2. Configuration de la transmission, la diffusion et la contamination électronique de
filtre en coin
3. Configuration de la dosimétrie absolue
4. Configuration du tableau des facteurs de correction de filtre en coin
5. Facultatif : configuration des facteurs de correction de filtre en coin pour
différentes DSP.
Les paramètres suivants doivent être définis et les données mesurées suivantes
importées avant d'exécuter les étapes de configuration du filtre en coin :
■ Paramètres du filtre en coin mécanique (Tableau 17 à la page 76)
■ Doses en profondeur avec filtre en coin mesurées (WDD)
■ Profils avec filtre en coin mesurés (WDP)
■ Profil longitudinal avec filtre en coin mesuré (WLP)
■ Tableau des facteurs d'ouverture du collimateur mesurés pour le filtre en coin
■ Facultatif : les doses en profondeur mesurées pour différentes DSP et une mesure
de dose en un point en échelle absolue pour chaque courbe. Elles ont une
influence sur la contamination électronique et la diffusion du filtre en coin.
Étapes de configuration pour les compensateurs
Toutes les étapes de configuration de champ ouvert doivent être réalisées avant la
configuration des compensateurs.
Les données faisceaux du modèle de source pour les accessoires de compensateur
sont calculées au sein d'une seule étape de configuration :
■ Configuration du compensateur physique
Vous devez définir les paramètres suivants et saisir les données mesurées ci-dessous
avant d'exécuter les étapes de configuration du compensateur :
■ Paramètres du compensateur (Tableau 22 à la page 83)

Chapitre 4 Modèle de source de faisceaux de photons 95


■ Mesures d'étalonnage du compensateur : doses en un point pour cinq champs
carrés avec et sans plaque de matériau du compensateur (Mesures requises pour
les champs de compensateur à la page 63).

Données faisceaux générées pour les champs ouverts


Le programme de configuration du modèle de source génère les données suivantes
pour les accessoires de champ ouvert :
■ Courbe d'énergie radiale moyenne
■ Courbe de profil d'intensité
■ Spectre
■ Courbe de contamination électronique et paramètres du noyau de fluence de la
contamination électronique (Équation 16 à la page 122) :
■ Courbe de contamination électronique : décrit à la fois les contaminations des
électrons et des photons (diffusion des photons à partir des électrons
contaminants ou des lames du collimateur).
■ Paramètres Sigma : facteurs de lissage Sigma0 et Sigma1 (taille de la fonction
gaussienne) de la contamination électronique, paramètre Relative
fraction of Sigma0 (Fraction relative de Sigma0)
Les valeurs exactes des paramètres sigma de contamination électronique sont
sensibles aux modifications de l'algorithme de calcul de dose et aux
fluctuations des courbes de rendement en profondeur mesurées. Les valeurs
sigma peuvent donc varier en fonction des versions des algorithmes.
Informations supplémentaires : Modélisation de la contamination électronique
à la page 48.
■ Histogrammes d'erreur Gamma
■ PDD (rendement en profondeur) avant dmax : histogramme des valeurs
d'erreur Gamma des courbes de rendement en profondeur avant la dose
maximale, exprimé en pourcentage des points de mesure.
■ PDD après dmax : pour les points de mesure dans la courbe de rendement en
profondeur après la dose maximale.
■ Profil de région plane : pour les profils latéraux et diagonaux avant le bord du
champ.
■ Profile in Field Edge (Profil de bord de champ) : pour les profils latéraux et
diagonaux au bord du champ.
■ Profil extérieur au bord de champ : pour les profils latéraux et diagonaux
extérieurs au bord du champ.
■ Profils diagonaux mesurés et traités : profils potentiellement modifiés par le
programme de configuration. Certaines courbes peuvent être supprimées (les
courbes d'origine restent intactes).

96 Manuel de référence des algorithmes de photonthérapie et


d'électronthérapie Eclipse
■ Doses en profondeur mesurées et traitées : courbes potentiellement modifiées par
le programme de configuration. Certaines courbes peuvent être supprimées (les
courbes d'origine restent intactes).
■ Profils mesurés et traités : profils potentiellement modifiés par le programme de
configuration. Certaines courbes peuvent être supprimées (les courbes d'origine
restent intactes).
■ Profils diagonaux calculés : profils pour les mêmes profondeurs que les profils
diagonaux mesurés. La normalisation est basée sur les profils PDD calculés.
■ Rendements en profondeur calculés pour toutes les tailles de champ mesurées. La
normalisation est basée sur le PDD mesuré correspondant d'une profondeur de
5 cm à la profondeur maximale. La normalisation est telle que la différence entre
les PDD calculé et mesuré dans cette plage de profondeur est minimisée, selon la
méthode des moindres carrés.
■ Profils calculés pour toutes les tailles et profondeurs de champ mesurées. La
normalisation est basée sur les profils PDD calculés.
■ Tableau des facteurs de rétrodiffusion due au collimateur : rayonnement diffusé
renvoyé vers la chambre d'ionisation.
■ Paramètres de champ ouvert : taille, intensité et énergie de la source secondaire.
■ Paramètres de modèle : facteur d'échelle de dose absolue calculée.

Données faisceaux générées pour les champs avec filtre en coin


Le programme de configuration de modèle de source génère les données suivantes
pour les accessoires de filtres en coin fixes et de filtres en coin motorisés.
■ Paramètres de filtre en coin
■ Dose absolue calculée dans l'eau (Gy) à la profondeur d'étalonnage.
■ Intensité de la source de diffusion du filtre en coin
■ Énergie de la source de diffusion du filtre en coin
■ Courbe de transmission de filtre en coin : quantité relative de photons incidents
transportés à travers le filtre en coin sans interaction.
■ Contamination électronique du filtre en coin : paramètres distincts de
contamination électronique pour le filtre en coin
■ Facteurs de correction du filtre en coin : corrige l'erreur entre les facteurs
d'ouverture du collimateur mesurés et calculés.
■ Facteurs de correction du filtre en coin pour DSP (distance source-peau) : créés si
la dernière étape de configuration facultative est réalisée. Contient les facteurs
d'échelle pour la contamination électronique et la diffusion du filtre en coin en
tant que fonction de la DSP (distance source-peau).
Les filtres en coin dynamiques améliorés ont une étape de configuration, qui copie les
paramètres de la source secondaire à partir d'un champ ouvert.

Chapitre 4 Modèle de source de faisceaux de photons 97


Les filtres en coin virtuels de Siemens ne nécessitent pas de données faisceaux
configurées.
Dans le cas des filtres en coin fixes, le facteur UM/Gy est déterminé sur la base des
valeurs de filtre en coin fixe définies par l'utilisateur, pour la dose absolue au point
de référence et les UM ou le réglage de la minuterie utilisés.

Données faisceaux générées pour le filtre en coin motorisé Elekta


Le programme de configuration de modèle de source génère les données suivantes
pour le filtre en coin motorisé Elekta.
■ Taille, énergie et intensité de la source secondaire
■ Paramètres MW calculés : dose absolue calculée dans l'eau (Gy) à la profondeur
d'étalonnage.
■ Courbe de transmission de filtre en coin : quantité relative de photons incidents
transportés à travers le filtre en coin sans interaction.
■ Facteurs de correction du filtre en coin : corrige l'erreur entre les facteurs
d'ouverture du collimateur mesurés et calculés.

Données faisceaux générées pour le compensateur


Le programme de configuration du modèle de source génère les données suivantes
pour le compensateur :
■ EAC calculés pour cinq tailles de champ carré.
■ Courbe du coefficient d'atténuation massique.
Les EAC sont calculés comme suit :

Équation 5

1 ad
EAC = − f log bc

a = Dose mesurée pour un champ avec compensateur, exprimée en cGy/UM

b = Dose calculée pour un champ ouvert, mais utilisant le durcissement du


faisceau du compensateur, exprimée en cGy/UM

c = Dose mesurée pour un champ ouvert, exprimée en cGy/UM

98 Manuel de référence des algorithmes de photonthérapie et


d'électronthérapie Eclipse
d = Dose calculée pour un champ ouvert, exprimée en cGy/UM

f = Épaisseur du compensateur plat utilisé dans les mesures de configura-


tion, exprimée en cm

Paramètres de dosimétrie absolue


Pour les champs ouverts, Beam Configuration calcule la dose déposée au point de
référence utilisé dans la géométrie de la configuration (normalisation non utilisée).
Outre ce calcul, le facteur UM/Gy utilisé par Eclipse pour calculer les UM de chaque
champ (Calcul des unités moniteur à la page 25) est déterminé sur la base des valeurs
définies par l'utilisateur de la dose absolue au point de référence et avec les UM
utilisées. Pour les champs au cobalt, le réglage de la minuterie est déterminé en
fonction de la dose absolue et du réglage de la minuterie à la date d'étalonnage,
lequel est corrigé pour tenir compte de la décroissance.
Le programme de configuration du modèle de source calcule les paramètres AAA et
Acuros XB, ainsi que les paramètres de filtre en coin suivants :

Tableau 26 Paramètres calculés AAA et Acuros XB

Paramètre Calculé pour Description

Absolute Dose Scaling Factor Champ ouvert Est utilisé pour définir la relation
(Facteur d'échelle de dose ab- entre la dose calculée par l'algo-
Filtre en coin fixe
solue) rithme et les conditions de réfé-
Filtre en coin motorisé rence d'étalonnage absolu. Non
Elekta modifiable.

Géométries de configuration et de mesure pour les faisceaux de


photons
Les géométries de fantômes suivantes sont utilisées dans la configuration de modèle
de source de faisceaux de photons.
■ Géométrie de mesure des profils et de la rendement en profondeur
■ Géométrie de la table des facteurs d'ouverture du collimateur pour la
configuration du tableau CBSF
■ Géométrie de dosimétrie absolue pour la configuration du calcul des UM

Géométrie de mesure
La géométrie de mesure des profils et des doses en profondeur est définie dans la
figure.

Chapitre 4 Modèle de source de faisceaux de photons 99


3

1. Profondeurs de mesure de profil.


2. DSF
3. Foyer.
4. CAX.
5. Mesure de dose en profondeur.

Figure 13 Géométrie de mesure de profil

Dans la géométrie de mesure de profil :


■ DSF représente la Distance Source-Fantôme dans les General Parameters
[Paramètres généraux] de Beam Configuration (paramètres généraux à la
page 67).
■ Les profondeurs de mesure (d) sont les profondeurs des profils 1 à 5 dans les
General Parameters (Paramètres généraux) (paramètres généraux à la page 67).

Géométrie des facteurs d'ouverture du collimateur


La géométrie attendue pour les mesures de facteur d'ouverture du collimateur est
définie dans la figure.

100 Manuel de référence des algorithmes de photonthérapie et


d'électronthérapie Eclipse
2

1
4

1. DSF
2. Foyer.
3. CAX.
4. Point de mesure.

Figure 14 Géométrie des facteurs d'ouverture du collimateur

Dans la géométrie des facteurs d'ouverture du collimateur :


■ DSF est la distance source-fantôme dans le tableau des facteurs d'ouverture du
collimateur. L'emplacement de l'isocentre dépend de la DSA (distance source-
axe).
■ La profondeur de mesure (d) est la profondeur du détecteur dans le tableau des
facteurs d'ouverture du collimateur (Paramètres des facteurs d'ouverture du
collimateur à la page 85).
■ La taille de champ de référence est la valeur du paramètre Absolute Dose
Reference Field Size (Taille de champ de référence de dose absolue) dans
les paramètres AAA et Acuros XB (Paramètres AAA et Acuros XB à la page 68).

Géométrie de dosimétrie absolue


La géométrie pour la configuration de la dosimétrie absolue est définie dans la figure.

Chapitre 4 Modèle de source de faisceaux de photons 101


1

1. Foyer.
2. CAX.
3. Isocentre.
4. Point de mesure.
5. DSF

Figure 15 Géométrie de dosimétrie absolue

Pour la configuration de la dosimétrie absolue :


■ La profondeur de mesure (d) est la valeur du paramètre Absolute Dose
Calibration Depth (Profondeur d'étalonnage de la dose absolue) dans les
paramètres AAA et Acuros XB.
■ La taille du champ de référence est la valeur du paramètre Absolute Dose
Reference Field Size (Taille du champ de référence de dose absolue) dans
les paramètres AAA et Acuros XB.

102 Manuel de référence des algorithmes de photonthérapie et


d'électronthérapie Eclipse
Configuration des faisceaux de photons dans Beam Configuration
Il est possible de configurer le modèle de source pour AAA et Acuros XB en
important les données faisceaux mesurées dans Eclipse, ou en utilisant des données
faisceaux Eclipse ou Varian Eclipse. Il est également possible de configurer
Acuros XB en important les données faisceaux AAA configurées et en les
reconfigurant (et inversement).
Les données faisceaux mesurées peuvent être importées dans Beam Configuration
au format ASCII (données faisceaux w2CAD) ou sous forme de données faisceaux
Eclipse.

Configurer l'algorithme AAA ou Acuros XB à l'aide de données faisceaux ASCII


mesurées
1. Dans Beam Configuration, accédez à l'espace de travail Beam Data. Instructions
d'utilisation de Beam Configuration : système d'aide en ligne Eclipse ou Manuel
de référence Beam Configuration.
2. Ajoutez de nouvelles données faisceaux.
Le système lit le fichier de paramètres de l'algorithme.
3. Vérifiez la validité des paramètres de la machine de traitement, les paramètres du
modèle et autres paramètres. Pour plus d'informations sur les paramètres :
paramètres généraux à la page 67.
4. Dans la Focus Window (Fenêtre active), cliquez avec le bouton droit de la souris
sur un accessoire, puis sélectionnez Import > Measured <nn> (Importer >
Données mesurées <nn>).
5. Dans la zone de liste Look in (Rechercher) de la boîte de dialogue qui s'affiche,
accédez au dossier contenant les fichiers à importer et cliquez sur OK pour
démarrer l'importation.
Si vous détectez des erreurs dans les données mesurées, arrêtez le processus
d'importation. Remontez à la source de l'erreur en repérant le problème dans les
données mesurées et corrigez ces dernières avant de reprendre la procédure
d'importation.
6. Répétez les étapes 4 et 5 pour chaque type de données faisceaux mesurées à
importer.
7. Après avoir ajouté toutes les données faisceaux mesurées nécessaires, calculez les
données faisceaux configurées :
a. Pour calculer les données faisceaux configurées pour tous les accessoires
d'une machine de traitement, accédez à la Focus Window (Fenêtre active),
sélectionnez la machine de traitement, puis choisissez Beam Data >

Chapitre 4 Modèle de source de faisceaux de photons 103


Calculate All Beam Data (Données faisceaux > Calculer toutes les données
faisceaux).
b. Pour calculer les données faisceaux configurées pour un accessoire à la fois,
accédez à la Focus Window (Fenêtre active), sélectionnez chaque accessoire
pour lequel vous souhaitez calculer des données faisceaux configurées, puis
choisissez Beam Data > Calculate Beam Data (Données faisceaux > Calculer
les données faisceaux). Puis, dans la boîte de dialogue Calculate Beam Data
(Calculer les données faisceaux), cochez les cases de chaque élément que vous
souhaitez calculer.
N'oubliez pas d'enregistrer et d'approuver vos données faisceaux
configurées. Validez les données faisceaux configurées dans l'espace de
travail Beam Analysis. Si vous devez poursuivre la configuration après avoir
validé les données, désapprouvez d'abord les données. Instructions pour
l'approbation, la validation et l'annulation de l'approbation des données
faisceaux : Manuel de référence Beam Configuration.

Configurer l'algorithme AAA ou Acuros XB à l'aide de données faisceaux Eclipse


existantes
1. Dans Beam Configuration, accédez à l'espace de travail Beam Data. Instructions
d'utilisation de Beam Configuration : système d'aide en ligne Eclipse ou Manuel
de référence Beam Configuration.
2. Ajoutez de nouvelles données faisceaux.
Le système lit le fichier de paramètres de l'algorithme.
3. Vérifiez la validité des paramètres de la machine de traitement, les paramètres du
modèle et autres paramètres. Pour plus d'informations sur les paramètres :
paramètres généraux à la page 67.
4. Dans la Focus Window (Fenêtre active), sélectionnez la machine de traitement,
puis choisissez File > Import > Eclipse Beam Data (Fichier > Importer > Données
faisceaux Eclipse).
5. Pour accéder au répertoire contenant les données faisceaux Eclipse, cliquez sur
Browse (Parcourir). Le répertoire actif est affiché dans la boîte de données
Eclipse.
Accédez au niveau des fichiers de données générales du modèle de calcul. Ce
niveau se trouve au-dessus des dossiers contenant les fichiers de données
faisceaux configurées. Par exemple, le dossier de données générales peut
s'appeler « AAA », et les dossiers subséquents s'appeler « 000 », « 001 », « 002 »,
et ainsi de suite. Dans le présent exemple, vous devez atteindre le dossier appelé
« AAA ».
6. Dans la zone de liste de gauche, sélectionnez le jeu de données contenant les
données faisceaux Eclipse à importer.

104 Manuel de référence des algorithmes de photonthérapie et


d'électronthérapie Eclipse
7. Dans la case Into beam data (Dans données faisceaux), entrez un nom pour les
données faisceaux.
8. Cliquez sur OK.
Les données faisceaux Eclipse apparaissent dans la Context Window (Fenêtre de
contexte).
9. Associez et attribuez les accessoires.
10. Lorsque vous avez importé toutes les mesures de données faisceaux nécessaires,
calculez les données faisceaux configurées pour les accessoires.
a. Dans la Focus Window (Fenêtre active), cliquez sur chaque accessoire pour
lequel vous voulez calculer des données faisceaux configurées, puis
choisissez Beam Data > Calculate Beam Data (Données faisceaux > Calculer
les données faisceaux).
b. Dans la boîte de dialogue Calculate Beam Data (Calculer les données
faisceaux), cochez les cases de chaque élément que vous souhaitez calculer.
N'oubliez pas d'enregistrer et d'approuver vos données faisceaux
configurées. Validez les données faisceaux configurées dans l'espace de
travail Beam Analysis. Si vous devez poursuivre la configuration après avoir
validé les données, désapprouvez d'abord les données. Instructions pour
l'approbation, la validation et l'annulation de l'approbation des données
faisceaux : Manuel de référence Beam Configuration.

Configurer l'algorithme Acuros XB à l'aide de données faisceaux AAA


Lors de la configuration de l'algorithme Acuros XB, vous pouvez soit partir des
données faisceaux mesurées, soit importer les données faisceaux AAA existantes et
les reconfigurer.
1. Importez les données faisceaux AAA pour Acuros XB en sélectionnant File >
Import > Eclipse Beam Data (Fichier > Importer > Données faisceaux Eclipse).
2. Sélectionnez Open Field (Champ ouvert), puis Beam Data > Calculate Beam
Data (Données faisceaux > Calculer les données faisceaux).
3. Sélectionnez un filtre en coin à la fois, puis choisissez Beam Data > Calculate
Beam Data (Données faisceaux > Calculer les données faisceaux), le cas échéant.

Configuration de l'algorithme AAA ou Acuros XB à l'aide de données faisceaux


Varian Eclipse
Les données faisceaux Varian Eclipse sont fournies par Varian lors de l'installation de
l'algorithme de calcul. Grâce à ces données faisceaux, une configuration manuelle
minimale dans Beam Configuration suffit pour faire correspondre et attribuer vos
accessoires (champ ouvert, filtres en coin et filtres dynamiques améliorés). Vous
pouvez aussi modifier manuellement les données faisceaux.

Chapitre 4 Modèle de source de faisceaux de photons 105


Si vous utilisez des données faisceaux Varian Eclipse sans aucune modification des
valeurs des paramètres ou sans utiliser vos propres données faisceaux mesurées, il
vous suffit de saisir les paramètres de dosimétrie absolue (Paramètres AAA et
Acuros XB à la page 68 et Paramètres de filtre en coin fixe à la page 76) et de vérifier
les paramètres contenus dans les données faisceaux ; aucune modification n'est
requise à moins que les valeurs des paramètres ne soient manifestement incorrectes.
Les données faisceaux Varian Eclipse préconfigurées pour AAA et Acuros XB ont été
acquises avec une chambre d'ionisation IC-10 Wellhofer suivant les protocoles
standard utilisés en usine Varian pour la vérification des spécifications. Ces données
préconfigurées sont présentées à la section « Configuration de la machine Clinac
haute énergie de Varian et spécifications des ajustements de faisceau pour les
données faisceaux préchargées de CadPlan ». Toutefois, le pourcentage des doses en
profondeur dans les données faisceaux préconfigurées est corrigé pour la profondeur
effective des mesures en le rapprochant d'1,8 mm de la surface.
Les données faisceaux Varian Eclipse sont représentatives d'un accélérateur Clinac
haute énergie Varian conformément aux spécifications détaillées aux sections 1.0 et
2.0 des spécifications du Clinac 21/23EX (Document RAD 4205) et de la mise en
correspondance de faisceaux Clinac (Document RAD 2055).
Les données sont valides uniquement pour les modèles suivants :
■ 2100-series (C, CD, EX, etc.) n° de série 865 ou supérieur
■ 2300-series (CD, EX) n° de série 146 ou supérieur
■ Pour tous les accélérateurs iX et Trilogy, comparez les données faisceaux
dosimétriques acquises par la machine de traitement au niveau du site avec celles
qui sont utilisées dans la configuration des données faisceaux préconfigurées et
veillez à ce que les écarts ne dépassent pas la tolérance utilisateur. Si la tolérance
est dépassée, utilisez les données faisceaux dosimétriques acquises au niveau du
site pour la configuration de l'algorithme de calcul.
Configurer l'algorithme AAA ou Acuros XB à l'aide de données faisceaux Varian Eclipse
1. Dans Beam Configuration, accédez à l'espace de travail Beam Data. Instructions
d'utilisation de Beam Configuration : système d'aide en ligne Eclipse ou Manuel
de référence Beam Configuration.
2. Ajoutez de nouvelles données faisceaux.
Le système lit le fichier de paramètres de l'algorithme.
3. Vérifiez la validité des paramètres de la machine de traitement, des paramètres
du modèle et des autres paramètres (paramètres généraux à la page 67).
4. Dans la Focus Window (Fenêtre active), cliquez avec le bouton droit de la souris
sur la machine de traitement, puis sélectionnez Import Eclipse Data (Importer
des données Eclipse) pour ajouter des données faisceaux Eclipse Varian.
5. Sur le serveur, accédez au répertoire d'installation des données faisceaux
(généralement \\<Nom du serveur>\DCF$\client

106 Manuel de référence des algorithmes de photonthérapie et


d'électronthérapie Eclipse
\PreconfiguredBeamData\Anisotropic Analytical Algorithm
(<numéro de version>)) et \\<Nom du serveur>\DCF$\client
\PreconfiguredBeamData\Acuros External Beam (<numéro de
version>)).
6. Sélectionnez les données souhaitées et cliquez sur OK.
7. Associez et attribuez les accessoires.
Les données faisceaux Varian Eclipse identifient les filtres en coin de manière
particulière. Certaines valeurs des paramètres de dosimétrie absolue doivent être
définies séparément. Informations sur l'association et l'affectation correctes de
vos filtres en coin : Paramètres de dosimétrie absolue dans les données faisceaux
Varian Eclipse à la page 87.
a. Pour comparer les filtres en coin, cochez la case d'un filtre en coin fixe dans la
colonne ID (identifiant), puis cliquez sur Single (Unique).
b. Dans la boîte de dialogue Automatically Match Add-On Data (Comparer
automatiquement les données d'accessoire), accédez à la liste Match
(Comparaison), sélectionnez le degré correspondant au filtre en coin fixe
sélectionné, puis cliquez sur OK.
c. Répétez les étapes a. et b. pour chaque filtre en coin fixe à configurer.
d. Pour comparer un filtre dynamique amélioré, cliquez sur EW dans la colonne
ID (identifiant), accédez à la fenêtre Automatic Match (Comparaison
automatique) et cliquez sur Single (Unique).
e. Cliquez sur Close (Fermer).
N'oubliez pas d'enregistrer et d'approuver vos données faisceaux
configurées. Validez les données faisceaux configurées dans l'espace de
travail Beam Analysis. Si vous devez poursuivre la configuration après avoir
validé les données, désapprouvez d'abord les données. Instructions pour
l'approbation, la validation et l'annulation de l'approbation des données
faisceaux : Manuel de référence Beam Configuration.
Modifier les données faisceaux AAA ou Acuros XB configurées à l'aide de données
faisceaux Varian Eclipse
1. Dans la Focus Window (Fenêtre active), sélectionnez Parameters (Paramètres)
dans l'unité de traitement qui contient vos données faisceaux Varian Eclipse
configurées.
2. Pour modifier les paramètres de dosimétrie absolue, cliquez sur la cellule du
paramètre à modifier et tapez la nouvelle valeur du paramètre.
3. Calculez les données faisceaux configurées pour les accessoires.
a. Dans la Focus Window (Fenêtre active), cliquez sur chaque accessoire pour
lequel vous voulez calculer des données faisceaux configurées, puis

Chapitre 4 Modèle de source de faisceaux de photons 107


choisissez Beam Data > Calculate Beam Data (Données faisceaux > Calculer
les données faisceaux).
b. Dans la boîte de dialogue Calculate Beam Data (Calculer les données
faisceaux), cochez les cases de chaque élément que vous souhaitez calculer.
N'oubliez pas d'enregistrer et d'approuver vos données faisceaux
configurées. Validez les données faisceaux configurées dans l'espace de
travail Beam Analysis. Si vous devez poursuivre la configuration après avoir
validé les données, désapprouvez d'abord les données. Instructions pour
l'approbation, la validation et l'annulation de l'approbation des données
faisceaux : Manuel de référence Beam Configuration.

Évaluation des données du modèle de source configurées


Les données du modèle de source configurées pour AAA ou Acuros XB peuvent être
vérifiées visuellement dans Beam Configuration.

Évaluation de la courbe de contamination électronique pour les faisceaux à


champ ouvert et les filtres en coin fixes
Le programme de configuration du modèle de source produit la courbe de
contamination électronique ainsi que les paramètres Sigma associés à cette courbe.
La courbe de contamination électronique définit les valeurs à ajouter aux résultats
non normalisés du calcul de dose à chaque profondeur. La contamination
électronique est également utilisée pour la modélisation de la contamination des
photons (photons créés au cours d'interactions d'électrons). La courbe de
contamination électronique est définie par des paires de valeurs (<prof. en mm>,
<dose de contamination électronique intégrée latéralement>). Les valeurs de
profondeur doivent toujours être positives et en ordre croissant. La courbe de
contamination électronique atteint généralement son maximum à la surface, et
retombe rapidement à près de zéro dans les 50 millimètres (en fonction de l'énergie).
Les paramètres Sigma sont des facteurs de lissage de la contamination électronique.
La valeur des paramètres Sigma est toujours positive, et la plage de valeurs est
étendue. Les valeurs élevées produisent une contamination moindre des champs de
petite taille et dispersent la contamination électronique plus largement dans la
direction latérale. Le coefficient c0 spécifie la pondération relative de la première
gaussienne, qui est toujours située entre 0 et 1.

108 Manuel de référence des algorithmes de photonthérapie et


d'électronthérapie Eclipse
Évaluation du tableau des facteurs de rétrodiffusion due au collimateur
Le tableau des facteurs de rétrodiffusion due au collimateur (CBSF) contient les
facteurs de rétrodiffusion pour les mêmes tailles de champ que celles utilisées pour
les mesures de facteur d'ouverture du collimateur. Les lignes horizontales définissent
la taille de champ dans la direction X (positive) ; les colonnes définissent la taille de
champ dans la direction Y (positive). Ces valeurs sont généralement > 1 pour les
tailles de champ inférieures à la taille de champ de référence, et < 1 pour les tailles
plus grandes (toujours positives). En général, les valeurs CBSF se situent aux
alentours de 1,0 à quelques pour-cent près.

Remarque : Nous avons constaté que cela n'était généralement pas valable pour les tailles de
champ les plus petites (1 cm × Y et X × 1 cm). Les faisceaux avec filtre égalisateur de
stéréotaxie constituent également des exceptions en ce sens que les valeurs sont < 1 pour les
tailles de champ inférieures à la taille de champ de référence.

Informations supplémentaires sur l'estimation de la rétrodiffusion due au collimateur


à l'aide de la table de facteurs d'ouverture du collimateur mesurés : Équation 1 à la
page 25.

Évaluation de la courbe de transmission de filtre en coin


La courbe de transmission de filtre en coin est définie par des paires de valeurs
(<distance en mm sur l'axe de filtre>, <transmission relative du filtre en coin>). La
valeur maximale de la courbe est mise à l'échelle 1,0 et les valeurs de transmission
relative de filtre en coin sont > 0. Les valeurs de distance peuvent être négatives ou
positives, mais elles sont toujours dans l'ordre croissant.

Évaluation du spectre d'énergie


La courbe du spectre d'énergie culmine habituellement à des énergies très basses. La
courbe est définie par des paires de valeurs (<énergie en MeV>, <fluence de
particule>). La courbe est initialement tirée de la bibliothèque de la machine et une
mise à l'échelle de l'axe d'énergie est optimisée lors du processus de configuration.
Vous pouvez vérifier que le niveau d'énergie le plus élevé de la courbe correspond
plus ou moins à l'énergie nominale (une correspondance exacte ne doit pas être
envisagée).

Chapitre 4 Modèle de source de faisceaux de photons 109


Évaluation de l'énergie radiale
La courbe d'énergie radiale détermine la courbe d'énergie moyenne des photons
après le cône égalisateur qui atténue les composants à faible énergie du spectre.
Généralement, l'énergie diminue doucement lorsque l'on se déplace de l'axe central
(distance radiale 0,0 mm) vers le bord du champ. La courbe d'énergie radiale
moyenne est définie par des paires de valeurs (<distance radiale à la DSA (distance
source-axe) en mm>, <énergie en MeV>), dans lesquelles les valeurs sont positives et
dans l'ordre croissant.

Évaluation des histogrammes d'erreur Gamma


L'évaluation des histogrammes d'erreur Gamma n'est disponible que pour les
champs ouverts. Fondée sur la configuration complète du modèle de source, l'erreur
Gamma est calculée pour chaque courbe de mesure traitée en la comparant avec les
points calculés.7 À cette fin, les courbes mesurées et calculées sont superposées sur le
même graphique, dans lequel l'axe X correspond à la position (mm) et l'axe Y à la
dose relative (%), comme illustré dans la figure.

7 Daniel A. Low, William B. Harms, Sasa Mutic, and James A. Purdy: A technique for the quantitative
evaluation of dose distributions. Medical Physics 25 (5), 656–661 (1998).

110 Manuel de référence des algorithmes de photonthérapie et


d'électronthérapie Eclipse
3

4
5

6
1

1. % de dose relative
2. Distance hors axe (mm)
3. Point le plus proche du point calculé
4. Courbe mesurée
5. Gamma = 1
6. Point calculé

Figure 16 Définition de la norme d'erreur Gamma

Dans la figure, la ligne continue représente le profil mesuré, le point noir et le point
gris indiquant respectivement le point calculé et le point qui lui est le plus proche sur
la courbe. En valeur métrique Gamma, l'unité de mesure de la distance hors axe est
3 (mm), et l'unité de mesure de l'écart de dose relative est 1 (%). La surface entourant
le point calculé, dans laquelle la norme Gamma calculée est égale ou inférieure à 1,
est représentée par une ellipse. L'erreur Gamma résultante est approximativement de
1,33.
Pour au moins 99 % des points de mesure dans les données faisceaux Varian Eclipse
pour AAA, la norme d'erreur Gamma est inférieure à 1,0.

Chapitre 4 Modèle de source de faisceaux de photons 111


Chapitre 5 Algorithme analytique anisotrope
(AAA) pour les photons

À propos de l'algorithme analytique anisotrope (AAA)


L'algorithme AAA est un algorithme de convolution/superposition faisceau étroit 3D
qui fait appel à une modélisation distincte dérivée de Monte Carlo pour les photons
primaires, les photons extra-focaux diffusés et les électrons diffusés à partir des
périphériques de limitation d'étendue du faisceau. Les caractéristiques de dépôt de
dose latérale sont modélisées à l'aide de six courbes exponentielles. Les formes
fonctionnelles des expressions physiques de base de l'algorithme AAA permettent
une convolution analytique qui réduit sensiblement les délais de calcul.
L'algorithme AAA a été conçu à l'origine par le Dr. Waldemar Ulmer8, 9, 10 et le Dr.
Wolfgang Kaissl.11, 12 Le développement de cet algorithme a atteint son point
culminant lors de la publication du modèle de noyau photonique à triple gaussienne
en 1995.13
Avant sa mise en place dans Eclipse, la stratégie AAA a été appliquée à la
planification de radiothérapie stéréotaxique.14 La mise en place du AAA dans Eclipse
poursuit les recherches et le développement de l'algorithme en s'appuyant sur les
travaux réalisés précédemment par les Docteurs Ulmer et Kaissl.
Des améliorations importantes ont été apportées à l'algorithme de calcul de doses
AAA dans le domaine des machines de traitement et de la modélisation
d'hétérogénéité des tissus, ainsi que de l'optimisation de la précision des calculs de
doses diffusées.15

8 Max-Planck-Institut für Biophysik, Göttingen, Allemagne.


9 Ulmer W, Harder D: A Triple Gaussian Pencil Beam Model for Photon Beam Treatment Planning.
Zeitschrift für Medizinische Physik 5 (1995) 25–30.
10 Ulmer W, Harder D: Applications of a Triple Gaussian Pencil Beam Model for Photon Beam Treatment
Planning. Zeitschrift für Medizinische Physik 6 (1996) 68–74.
11 Varian Medical Systems Imaging Laboratory GmbH, Baden, Suisse.
12 Ulmer W and Kaissl W: The inverse problem of a Gaussian convolution and its application to the finite
size of the measurement chambers/detectors in photon and proton dosimetry. Physics in Medicine and
Biology 48 (2003) 707–727.
13 Ulmer W, Harder D: A Triple Gaussian Pencil Beam Model for Photon Beam Treatment Planning.
Zeitschrift für Medizinische Physik 5 (1995) 25–30.
14 Ulmer W, Brenneisen W: Application of an Analytical Pencil Beam Model to Stereotactic Radiation
Therapy Planning. Journal of Radiosurgery, Vol 1, No.3, 1998.
15 Tillikainen L, Helminen H, Torsti T, Siljamäki S, Alakuijala J, Pyyry J and Ulmer W: A 3D pencil beam
based superposition algorithm for photon dose calculation in heterogeneous media. Physics in Medicine
and Biology 53 (2008) 3821–3839.

112 Manuel de référence des algorithmes de photonthérapie et


d'électronthérapie Eclipse
L'algorithme AAA prend en compte l'hétérogénéité de façon anisotrope des tissus
dans tout l'environnement tridimensionnel d'un site d'interaction à l'aide de noyaux
de diffusion de photons dans plusieurs directions latérales (noyaux de diffusion). La
distribution finale de dose est obtenue en superposant les convolutions de photons et
d'électrons à la dose calculée.

Calcul de la dose dans l'algorithme analytique anisotrope


(AAA)
La mise en œuvre clinique de l'algorithme AAA est divisée en deux :
■ Modèle de source de faisceaux de photons : détermine les paramètres physiques
fondamentaux nécessaires au calcul de la dose réelle (Modélisation de la source
primaire à la page 44 et Modélisation de la source secondaire à la page 47).16
■ Algorithme de calcul de la dose : calcule le dépôt de dose à l'aide des paramètres
physiques fondamentaux. Ces derniers caractérisent les fluences de particules et
les spectres d'énergie des photons et électrons composant le faisceau clinique
(Calcul de la dose volumétrique à la page 116).17

Modèle de diffusion patient


Le modèle de diffusion patient est utilisé pour déposer la dose à l'intérieur du
patient, tandis que les paramètres d'espace de phases fournissent la description du
faisceau de traitement en amont du patient. Le faisceau de traitement complet qui
pénètre le patient est subdivisé en beamlets de taille limitée, tous modélisés à l'aide
de plusieurs noyaux de diffusion monoénergétiques.

Noyaux de diffusion
Les noyaux de diffusion décrivent les effets de diffusion du fantôme pour différentes
qualités de faisceau. Le code EGSnrc Monte Carlo a été utilisé pour calculer les
noyaux de diffusion correspondant aux faisceaux étroits monoénergétiques dans
l'eau.18 Un noyau de diffusion polyénergétique se définit par la somme pondérée des
noyaux de diffusion monoénergétiques. Pendant le calcul de la dose 3D, ces noyaux
sont mis à l'échelle selon la densité des tissus réels du patient déterminée à partir des
images scanner.

16 Tillikainen L, Siljamäki S, Helminen H, Alakuijala J and Pyyry J: Determination of parameters for a


multiple-source model of megavoltage photon beams using optimization methods. Physics in Medicine and
Biology 52 (2007) 1441–1467.
17 Tillikainen et al.: A 3D pencil-beam-based superposition algorithm for photon dose calculation in
heterogeneous media. Physics in Medicine and Biology 53 (2008) 3821–3839.
18 I. Kawrakow and D.W.O. Rogers: The EGSnrc Code System: Monte Carlo Simulation of Electron and
Photon Transport. NRCC Report PIRS-701, Nov 7, 2003.

Chapitre 5 Algorithme analytique anisotrope (AAA) pour les photons 113


Beamlets
La figure présente les définitions géométriques des coordonnées faisant référence à
un beamlet β unique sur le plan X-Z, l'axe Y pointant vers l'extérieur de la feuille. Les
coordonnées se définissent selon deux systèmes :
■ Système de coordonnées patient
■ Système de coordonnées de beamlet
Les coordonnées du point de calcul (P) dans la figure correspondent à (X, Y, Z) dans
le système de coordonnées patient, et à (x,y,z) dans le système de coordonnées de
beamlet. La coordonnée de profondeur z se mesure à partir du point d'intersection
entre la ligne en éventail centrale et la peau dans le système de coordonnées de
beamlet.

114 Manuel de référence des algorithmes de photonthérapie et


d'électronthérapie Eclipse
1

6
7

1. Foyer du champ
2. Ligne en éventail centrale β
3. Système de coordonnées de beamlet
4. Peau
5. Point de calcul P
6. Système de coordonnées patient
7. Beamlet β
8. Axe central de champ

Figure 17 Coordonnées dans le système de coordonnées patient et dans le système de


coordonnées du beamlet dans le plan X–Z

Le faisceau clinique global est subdivisé en beamlets de taille limitée β . La longueur


latérale du beamlet correspond à la résolution de la grille de calcul sur le plan de
l'isocentre.

Chapitre 5 Algorithme analytique anisotrope (AAA) pour les photons 115


Le calcul de la dose se base sur les convolutions distinctes à travers la coupe des
beamlets pour les photons primaires, les photons extra-focaux (source secondaire), la
diffusion des filtres en coin fixes et les électrons qui contaminent le faisceau principal.
La convolution de la dose est réalisée à l'aide des paramètres physiques définis pour
chaque beamlet β .
Toutes les fonctions tributaires de la profondeur dans les convolutions de beamlets
sont calculées le long d'une ligne en éventail centrale du beamlet à l'aide de la
coordonnée de profondeur z. La diffusion de dose latérale en raison des photons et
des électrons est définie sur la coque sphérique perpendiculaire à la ligne en éventail
centrale du beamlet. L'algorithme AAA suppose que la dose résultant de la diffusion
de photons et d'électrons peut être calculée par une division dans deux directions
principales : diffusion latérale et diffusion en profondeur. Comme le montre la figure,
le plan de calcul latéral a une forme sphérique dans laquelle le centre de la sphère est
situé dans le foyer du champ. L'utilisation des systèmes de coordonnées sphériques
permet le recours à des modèles plus uniformes des faisceaux étroits à travers le
faisceau global.
La dose en un point de calcul quelconque (X, Y, Z) du patient est obtenue en
additionnant les contributions de dose de tous les beamlets β individuels du faisceau
global lors de la superposition globale finale.

Calcul de la dose volumétrique


Pour le calcul de la distribution de dose volumétrique, le volume du corps du patient
est subdivisé en une matrice de voxels de calcul 3D en fonction de la grille de calcul
sélectionnée (Figure 7 à la page 41). La géométrie de la grille de voxels de calcul est
divergente et aligne le système de coordonnées sur les lignes en éventail du faisceau.
Chaque voxel de calcul est associé à la densité moyenne des électrons ρ calculée à
partir des images scanner du patient selon une courbe d'étalonnage spécifiée par
l'utilisateur. La valeur maximale autorisée pour la densité des électrons dans
l'algorithme AAA est 15. Les densités électroniques supérieures à cette valeur sont
tronquées à la valeur maximale (soit, à la valeur de 15).

Remarque : Lorsqu'un faisceau traverse les tissus pulmonaires, l'algorithme AAA a tendance
à sur-évaluer la dose délivrée à l'interface des tissus mous, en l'occurrence la zone où le
faisceau sort des poumons et pénètre de nouveau dans des tissus mous. Plus la profondeur
d'interface augmente, plus l'effet s'accentue.

116 Manuel de référence des algorithmes de photonthérapie et


d'électronthérapie Eclipse
Modèles de convolution
La distribution de dose 3D est calculée à partir de convolutions distinctes pour la
source primaire de photons, la source de photons secondaire, la source de diffusion
de filtre en coin et la source de contamination électronique. Les convolutions sont
exécutées pour tous les beamlets de taille limitée dont est formé le faisceau clinique
global. La dose de distribution finale s'obtient par simple superposition des
contributions individuelles de chaque beamlet.

Calcul de la dose de photons


L'atténuation du faisceau de photons est modélisée à l'aide d'une fonction de densité
de dépôt d'énergie I β(z, ρ) . La diffusion de photons est modélisée à l'aide d'un noyau
de diffusion K β(x, y, z) qui définit la diffusion énergétique latérale. Les fonctions I β et
K β sont toutes deux définies individuellement pour chaque beamlet β . Les photons
primaires et extra-focaux se calculent de la même façon, à l'exception de leur
composition spectrale ainsi que de la position et de la taille du spot focal.
La convolution de dose dans l'algorithme AAA est exécutée en termes d'énergie.
Comparée à la convolution basée sur la dose qui est aussi plus fréquente, la
convolution énergétique permet de conserver plus précisément l'énergie, même dans
les convolutions hétérogènes plus complexes. L'énergie est convertie en dose à l'aide
de l'approximation mise à l'échelle dans l'eau.
La distribution d'énergie qui résulte d'un beamlet arbitraire β en raison des photons
dans un environnement homogène suffisamment vaste se calcule par la formule
suivante :

Équation 6

E ph, β X, Y, Z = Φ β × I β z, ρ × K β X, Y, Z

Dans la convolution, le point de calcul (X, Y, Z) est représenté par (x,y,z) par rapport à
l'origine du système de coordonnées de beamlet. La fluence de photons Φ β est
supposée être uniformisée sur la petite section efficace du beamlet β .

Chapitre 5 Algorithme analytique anisotrope (AAA) pour les photons 117


La fonction de dépôt d'énergie I β(z, ρ) donne l'intégrale de la surface d'énergie
déposée à la surface de la sphère du faisceau étroit à une profondeur z.

Équation 7

Iβ z = h β t, v, z  dt dv

hβ = noyau de faisceau étroit polyénergétique dérivé des simulations Monte


Carlo

La fonction de dépôt d'énergie I β(z, ρ) tient compte de l'hétérogénéité du tissu à l'aide


du concept de mise à l'échelle radiologique. Cette opération est exécutée en
ρ 0,0,z
établissant I β z, ρ = I β z′ ⋅ ρwater
, où la profondeur radiologique z′ est définie comme
suit :

Équation 8

Z′ = ∫ ρ 0,0,t
ρwater
dt
0

ρ = densité des électrons

Le noyau de diffusion de photons K β(x, y, z) se compose de la somme pondérée de six


fonctions exponentielles (Équation 9 à la page 118). Nous supposons ici un fantôme
homogène. Informations sur l'effet des hétérogénéités latérales : Mise à l'échelle des
noyaux de diffusion de photons selon la densité latérale à la page 119.

Équation 9

5
1 −μkr
K β x, y, z = ∑ ck z′ r
e
k=0

118 Manuel de référence des algorithmes de photonthérapie et


d'électronthérapie Eclipse
où r = x2 + y2

et la définition de z′ : Équation 8 à la page 118.

Ici, z′ est substitué à z pour tenir compte de l'effet de l'hétérogénéité entre le point de
calcul et le point d'entrée de beamlet dans les propriétés de diffusion du faisceau
étroit.
Les noyaux exponentiels sont caractérisés par les constantes d'affaiblissement μk . Les
facteurs ck définissent la pondération des noyaux exponentiels, tout en assurant la
normalisation par unité de l'énergie totale de noyau. Les paramètres ck(z′) du noyau
de diffusion polyénergétique K β(x, y, z) sont déterminés en appliquant la méthode des
1 −μ r
moindres carrés des fonctions de base r e k aux noyaux de diffusion du faisceau
étroit dérivés des simulations Monte Carlo. Les constantes μk sont choisies de
manière à ce que 1/μk varie de 1 à 100 mm à des intervalles logarithmiques égaux.

Notez que bien que l'équation ci-dessus implique une singularité au niveau de r = 0 ,
l'intégrale réelle est bidimensionnelle et ne diverge pas.
Mise à l'échelle des noyaux de diffusion de photons selon la densité latérale
La mise à l'échelle de la densité des faisceaux étroits individuels est réalisée par une
mise à l'échelle énergétique à chaque emplacement selon la densité moyenne entre le
point de calcul et l'origine du faisceau étroit.
Dans la pratique, cette opération est réalisée en subdivisant le noyau de l'équation
suivante en un nombre fini (16) de rayons qui émergent de l'origine. La distribution
de l'énergie absorbée à l'emplacement K β(x, y, z) en présence d'une hétérogénéité se
calcule comme suit :

Équation 10

5
1 −μkrd x, y, z
K β x, y, z =
ρ x, y, z
ρwater ∑ ck z′ r
e
k=0

rd(x, y, ρ) = ∫ ρρ( t ) d t
water
×
z′
z
R

Chapitre 5 Algorithme analytique anisotrope (AAA) pour les photons 119


rd = Distance radiologique de l'origine du noyau (0,0,z) vers (x,y,z) le long du
rayon R passant par (x,y).
z′ = Rapport corrigeant un système de coordonnées divergent.
z

Correction de l'historique d'hétérogénéité des noyaux de diffusion de photons


L'utilisation des formules précédentes produirait une estimation visiblement abrupte
des modifications dans des conditions de diffusion à la bordure des hétérogénéités
dans des fantômes de style plaque. Pour l'éviter, la distribution énergétique est
déplacée dans le sens de la profondeur à l'aide d'un noyau de diffusion en une seule
dimension. Ainsi, l'évolution progressive des conditions de diffusion est prise en
charge après les bordures d'hétérogénéité. Mais, dès lors que cette transformation
résulte en une pénétration de la dose plus en profondeur, cette manifestation est pré-
compensée par l'application de la transformation inverse au noyau du faisceau étroit
polyénergétique h β(x, y, z) .

Le noyau de diffusion à une dimension kz(z) prend la forme suivante :

Équation 11

2 −μ z
kz z = ∑ ci μ1 e i

i=1 i

Les paramètres μi et ci sont déterminés à l'aide de méthodes d'optimisation de sorte


que la fonction I β calculée pour le noyau du faisceau étroit pré-compensé h′ β
(Équation 14 à la page 121) ne présente aucune mise en équilibre.
La convolution énergétique à une dimension E ph, β se définit alors par :

Équation 12

E′ ph, β x, y, z = E ph, β x, y, z ⊗ kz z

⊗ = Opérateur de convolution

120 Manuel de référence des algorithmes de photonthérapie et


d'électronthérapie Eclipse
En présence d'hétérogénéités, le noyau de convolution est mis à l'échelle par la
densité des électrons locale comme suit :

Équation 13

2 −μ z′
kz z = ρ
ρz
∑ ci μ1 e i

water i=1 i

ρ(z) = Densité des électrons locale

z′ = Distance radiologique à partir de l'origine du noyau

La pré-compensation du noyau du faisceau étroit polyénergétique h β(x, y, z) prend la


forme suivante :

Équation 14

h′β x, y, z = hβ x, y, z ⊗ inv kz z

inv(kz(z)) = Noyau de déconvolution dérivé de kz(z)

Les formulations ci-dessus aboutissent à un faisceau étroit modifié h′ β(x, y, z) , qui


remplace l'original h β(x, y, z) (Calcul de la dose de photons à la page 117). La méthode
de correction des antécédents d'hétérogénéité a été définie de manière à ce qu'elle
n'ait aucune incidence en l'absence d'hétérogénéités.

Électrons de contamination
Le faisceau de photons principal est contaminé par des électrons qui proviennent
essentiellement du cône égalisateur, des mâchoires de collimateur et de l'air. Si des
modificateurs de faisceau sont utilisés, ils peuvent absorber la majorité des électrons
dans le faisceau à champ ouvert, mais le modificateur proprement dit devient une
deuxième source d'électrons de contamination. En règle générale, la contamination
électronique dépend fortement de l'énergie du faisceau et de la taille de champ.

Chapitre 5 Algorithme analytique anisotrope (AAA) pour les photons 121


La distribution d'énergie qui résulte d'un beamlet arbitraire β en raison des électrons
de contamination est calculée par l'équation suivante :
Équation 15

Econt, β X, Y, Z = Φcont, β × I cont, β

Dans l'équation ci-dessus, le point de calcul (X, Y, Z) est représenté par (x,y,z) dans le
système de coordonnées de beamlet. La fluence des électrons Φcont, β et la fonction de
dépôt d'énergie I cont, β sont supposées être uniformisées sur la section efficace du
beamlet β . En présence d'hétérogénéités, la fonction de dépôt d'énergie est mise à
l'échelle de manière comparable à la fonction I β pour les photons.
La fluence des électrons de contamination est déterminée par la convolution de la
fluence de photons avec un noyau de somme de gaussiennes K f l, e .

Équation 16

1
1 x2 + y2
K f l, e x, y = ∑ Ccont, k 2
2πσcont, k
exp − 2
2σcont, k
K=0

Les paramètres ck spécifient les pondérations relatives des deux composants


gaussiens, où c1 = 1 − C0 .

La fonction de densité du dépôt d'énergie I cont, β(z, ρ) pour les électrons de


contamination est déterminée à partir des données mesurées et calculée en fonction
de la profondeur z .

Superposition
L'énergie absorbée E(X, Y, Z) au niveau d'un point de calcul arbitraire chez le patient
est obtenue en superposant les contributions énergétiques distinctes des photons
primaires (ph1) (Équation 6 à la page 117), des photons extra-focaux (ph2)
(Équation 6 à la page 117) et des électrons de contamination (Équation 15 à la
page 122) à partir de tous les beamlets individuels signalés par l'index β :
Équation 17

E X, Y, Z = ∑  E ph1,β
X, Y, Z + E ph2,β X, Y, Z + Econt, β X, Y, Z
β

122 Manuel de référence des algorithmes de photonthérapie et


d'électronthérapie Eclipse
Conversion en dose
Au cours de l'étape finale, la distribution d'énergie absorbée est convertie en dose. Il
est supposé que les différentes hétérogénéités pourront être modélisées par mise à
l'échelle dans l'eau. Les densités électroniques (et non pas les densités massiques)
sont utilisées pour convertir l'énergie en dose. La dose finale est donnée par :

Équation 18

ρ
D X, Y, Z = cE X, Y, Z ⋅ water
ρ X, Y, Z

où c gère la conversion d'unité de J/m3 en Gy.

Chapitre 5 Algorithme analytique anisotrope (AAA) pour les photons 123


Chapitre 6 Algorithme Acuros de radiothérapie
(Acuros XB) pour les photons

À propos de l'algorithme Acuros de radiothérapie


(Acuros XB)
L'algorithme Acuros XB a été développé pour fournir des calculs de dose précis et
rapides pour les traitements de radiothérapie externe avec faisceaux de photons, de
4 MV à 25 MV, avec des tailles de voxel de grille de calcul de 1 à 3 mm. En
radiothérapie externe avec faisceaux de photons, les hétérogénéités introduites par
des matières telles que les poumons, l'air, les os et les implants peuvent influer
considérablement sur la distribution de la dose au patient, en particulier en présence
de petits champs ou de champs irréguliers. Grâce à la résolution de l'équation de
transport linéaire de Boltzmann (LBTE), Acuros XB prend directement en compte les
effets de ces hétérogénéités.
La comparaison dosimétrique entre l'algorithme Acuros XB et les algorithmes AAA
et Monte Carlo est disponible dans la documentation.19

Calcul de dose avec l'algorithme Acuros XB


La LBTE est la principale équation qui décrit le comportement macroscopique des
particules de rayonnement (neutrons, rayons Gamma, électrons, etc.) tout au long de
leur trajet dans la matière et de leur interaction avec cette dernière. Pour un domaine
volumétrique donné, soumis à une source de rayonnement, la solution de la LBTE
donne une description « exacte » de la dose au sein de ce domaine. Cependant,
comme elles sont analytiques (ou « closed form »), les solutions de la LBTE ne
peuvent être obtenues que pour quelques problèmes simplifiés, et la LBTE doit être
résolue sous une forme ouverte, c'est-à-dire de manière non analytique.

19 Han et al.: Dosimetric comparison of AcurosXB deterministic radiation transport method with Monte
Carlo and model-based convolution methods in heterogeneous media. Medical Physics 38 (5), 2651 May
2011.

124 Manuel de référence des algorithmes de photonthérapie et


d'électronthérapie Eclipse
Il existe deux approches générales permettant d'obtenir des solutions de forme
ouverte pour la LBTE. La première approche est la méthode très connue de Monte
Carlo, qui prédit de manière stochastique le transport des particules à travers des
milieux en suivant un nombre statistiquement significatif de particules via des
interactions aléatoires successives. Bien que les méthodes de Monte Carlo ne
résolvent pas explicitement l'ELTB, elles obtiennent indirectement la solution à cette
équation. La seconde approche consiste à résoudre explicitement la LBTE grâce à des
méthodes numériques.20 Les méthodes utilisées pour résoudre la LBTE sont
relativement nouvelles au sein de la communauté de physique médicale qui utilise
habituellement pour le calcul de dose les algorithmes de Monte Carlo et les
algorithmes basés sur la correction, qui utilisent des noyaux de dose Monte Carlo
précalculés.
Mais les méthodes de Monte Carlo et de solution LBTE explicites sont convergentes.
Cela signifie qu'avec un affinement suffisant, les deux approches convergent vers la
même solution. La précision des deux approches est équivalente et elle est limitée
uniquement par des incertitudes au niveau des données d'interaction des particules
(section efficace) et des incertitudes relatives au problème analysé.
Cependant, en pratique, ni les méthodes de Monte Carlo ni les méthodes de solution
LBTE explicites ne sont exactes, et toutes deux sont à l'origine d'erreurs. Dans Monte
Carlo, les erreurs sont stochastiques et résultent de la simulation d'un nombre fini de
particules. Les méthodes de Monte Carlo utilisent certaines techniques pour accélérer
les temps de résolution, et des erreurs systématiques peuvent être introduites. Dans
les méthodes de solution LBTE explicite, les erreurs sont essentiellement
systématiques, et résultent de la discrétisation des variables de la solution en espace,
angle et énergie. En outre, des différences peuvent aussi provenir du traitement des
interactions coulombiennes, qui sont généralement approximées pour les deux
méthodes : Monte Carlo et solution explicite de LBTE.
Dans les deux méthodes de Monte Carlo et de solution LBTE explicite, il existe un
compromis entre vitesse et précision. Un temps de calcul réduit peut être obtenu si
des critères de précision moins stricts sont spécifiés, et inversement.

Présentation des étapes de calcul


Le calcul de la dose Acuros XB s'effectue selon les étapes suivantes :
1. Création de la carte des matières physiques.
2. Transport des composants du modèle de source de faisceaux de photons (source
primaire de photons, source secondaire de photons et source de contamination
électronique) dans l'organisme du patient.
3. Transport de la fluence des photons diffusés dans l'organisme du patient.
4. Transport de la fluence des électrons dans l'organisme du patient.

20 Lewis EE, Miller WF: Computational methods of neutron transport. Wiley, New York, 1984.

Chapitre 6 Algorithme Acuros de radiothérapie (Acuros XB) pour les 125


photons
5. Calcul du mode de dose désirée (dose dans le milieu ou dose dans l'eau).
La figure ci-dessous décrit les étapes du processus de calcul d'Acuros XB :

Modèle de source de faisceaux


de photons

Étape 2 : Tracé du rayon des faisceaux


qui pénètrent dans l'organisme
du patient

Étape 3 : Calcul de la fluence


des photons diffusés

Étape 4 : Calcul de la fluence


des électrons provenant de collisions

Étape 5 : Calcul de la dose

ou

Eclipse

Figure 18 Étapes de calcul d'Acuros XB

où :

qγprimary = Source primaire de photons (du modèle de source de faisceaux de pho-


tons)

qγsecondary = Source secondaire de photons (du modèle de source de faisceaux de pho-


tons)

126 Manuel de référence des algorithmes de photonthérapie et


d'électronthérapie Eclipse
qecontaminant = Source de contamination électronique (du modèle de source de faisceaux
de photons)

qγγ = Première source de photons diffusés (issue des sources primaire et secon-
unc
daire de photons)

qγe = Première source d'électrons diffusés (issue des sources primaire et secon-
unc
daire de photons)

qee = Première source d'électrons provenant de collisions (issue de la source de


unc
contamination électronique)

qγe = Source d'électrons provenant de collisions (issue des interactions des


coll
photons diffusés)

Ψ ecoll = Fluence électronique angulaire

DW = Dose dans l'eau

DM = Dose dans le milieu

Informations sur le modèle de source de faisceaux de photons : Chapitre 4 Modèle de


source de faisceaux de photons à la page 40. Plus d'informations sur les options de
calcul : Options de calcul à la page 31.

Origines de l'algorithme Acuros XB


La motivation principale qui a poussé au développement de méthodes explicites de
résolution des LBTE en général, fut de fournir une alternative rapide aux simulations
Monte Carlo, qui nécessitent souvent des temps de calcul importants. De même, de
nombreuses méthodes incluses dans Acuros XB ont été développées à l'origine dans
un résolveur dans le cadre des recherches de la division X de Los Alamos National
Laboratories. Le prototype du résolveur a été développé aux Los Alamos National
Laboratories, appelé Attila, et a été réalisé en commun par les fondateurs de
Transpire, Inc.21 22

21 Wareing TA, McGhee JM, Morel JE, Pautz SD: Discontinuous Finite Element Sn Methods on Three-
Dimensional Unstructured Grids. Nuclear Science and Engineering, Volume 138, Number 2, July 2001.
22 Wareing TA, Morel JE, McGhee JM: Coupled Electron-Photon Transport Methods on 3-D Unstructured
Grids. Transactions of the American Nuclear Society, Washington D.C., Vol 83, 2000.

Chapitre 6 Algorithme Acuros de radiothérapie (Acuros XB) pour les 127


photons
Transpire, Inc. a établi un contrat de licence afin de commercialiser le prototype du
résolveur Attila et, depuis 2002, l'a constamment développé pour une utilisation
commerciale en tant que produit de transport de rayonnement à usage polyvalent.
Attila a été largement validé pour une importante palette d'applications, notamment
dans deux publications présentant l'application d'Attila pour les calculs de doses.23 24
Acuros XB repose sur de nombreuses méthodes incluses dans Attila, mais représente
une réécriture aboutie du résolveur dans laquelle les méthodes ont été optimisées
pour les calculs de doses en photonthérapie.

Méthodes de solution Acuros XB


Pour un domaine spatial avec un volume, V, et une surface, δv, Acuros XB résout un
système tridimensionnel indépendant du temps d'équations de transport de
Boltzmann couplées (LBTE), qui sont données par (par souci de concision, les
variables dépendantes ont été supprimées des équations) :

Équation 19

Ω ⋅ ∇ Ψ γ + σγt Ψ γ = qγγ + qγ

Équation 20


Ω ⋅ ∇ Ψ e + σet Ψ e − S Ψe
∂E R
= qee + qγe + qe

Équation 21

r ∈ V,  Ω ∈ 4π and E > 0

23 K. Gifford, J. Horton, T. Wareing, G. Failla, F. Mourtada: Comparison of a finite-element multigroup


discrete-ordinates code with Monte Carlo for radiotherapy calculations. Physics in Medicine and Biology,
May 2006, 7;51(9):2253-65.
24 O. Vassiliev, T. Wareing, I. Davis, J. McGhee, D. Barnett, J. Horton, K. Gifford, G. Failla, U. Titt, F.
Mourtada: Feasibility of a multigroup deterministic solution method for three-dimensional radiotherapy
dose calculations. International Journal of Radiation Oncology Biology Physics, September 2008, 1;72(1):220-7.

128 Manuel de référence des algorithmes de photonthérapie et


d'électronthérapie Eclipse

Ψγ = Fluence angulaire de photons (ou flux si non intégré par


rapport au temps), Ψ γ( r , E, Ω) , en tant que fonction de
la position, r = x, y, z , de l'énergie, E , et de la direc-
tion, Ω = μ, η, ζ

Ψe = Fluence angulaire des électrons, Ψ e( r , E, Ω)

qγγ = Source de diffusion de photon à photon, qγγ( r , E, Ω) , qui


est la source de photons résultant des interactions entre
photons.

qee = Source de diffusion d'électron à électron, qee( r , E, Ω) , qui


est la source d'électrons résultant des interactions entre
électrons.

qγe = Source de diffusion de photon à électron, qγe( r , E, Ω) ,


qui est la source des électrons résultant des interactions
entre photons.

qγ = Source externe de photons, qγ(E, Ω) . Ce terme de la


source représente tous les photons provenant du modèle
de source de la machine.

qe = Source externe de photons, qe(E, Ω) . Ce terme de la


source représente tous les électrons provenant du mo-
dèle de source de la machine.

σγt = Section macroscopique totale de photons, σγt r , E ,


unités en cm-1

σet = Section macroscopique totale d'électrons, σet r , E ,


unités en cm-1

SR = Pouvoir d'arrêt de collision + radiation restreint, SR r , E

Les équations (Équation 19 et Équation 20 à la page 128) se résolvent respectivement


pour le transport des photons et des électrons. Ces équations (Équation 19 et
Équation 20) sont soumises à toutes les conditions de limite standard possibles sur la
surface, δv . Dans Acuros XB, toutes les surfaces externes se voient appliquer des
conditions de limite de vide ou non réentrantes :
Équation 22

Ψγ = 0, for Ω ⋅ n < 0 ,
Équation 23

Ψe = 0, for Ω ⋅ n < 0

Chapitre 6 Algorithme Acuros de radiothérapie (Acuros XB) pour les 129


photons

n = Vecteur normal à la surface δV, dirigé vers l'extérieur normal à partir


de la limite de la grille de calcul.

Le premier terme de la partie gauche (Équation 19 et Équation 20 à la page 128)


correspond à l'opérateur d'advection. Le deuxième terme de la partie gauche
(Équation 19 et Équation 20) correspond à l'opérateur de collision ou de suppression.
L'équation de transport de Boltzmann Fokker-Planck (Équation 20) est résolue pour
le transport des électrons.
Le troisième terme de la partie gauche (Équation 20) correspond à l'opérateur de
ralentissement continu (CSD), qui représente les collisions coulombiennes « douces »
d'électrons. La partie droite (Équation 19 et Équation 20) représente les termes de la
diffusion, de la production et de la source externe. Les termes de la source externe, qγ
et qe , représentent le débit des photons et des électrons à partir du modèle de source
du faisceau de photons, qui comprend la source principale, la source secondaire et la
source de contamination électronique.
Les sources de diffusion et de production sont définies par :

Équation 24

q ( r , E, Ω) =
γγ
∫ dE′∫ dΩ′σ γγ
s ( r , E′ E, Ω ⋅ Ω′)Ψ γ r , E′, Ω′
0 4π

Équation 25

q ( r , E, Ω) =
γe
∫ dE′∫ dΩ′σ γe
s ( r , E′ E, Ω ⋅ Ω′)Ψ γ r , E′, Ω′
0 4π

Équation 26

q ( r , E, Ω) =
ee
∫ dE′∫ dΩ′σ ee
s ( r , E′ E, Ω ⋅ Ω′)Ψ e r , E′, Ω′
0 4π

130 Manuel de référence des algorithmes de photonthérapie et


d'électronthérapie Eclipse

σγγ = Section de diffusion différentielle macroscopique de photon à photon


s

σγe = Section de diffusion différentielle macroscopique de photon à électron


s

σee = Section de diffusion différentielle macroscopique d'électron à électron


s

Les hypothèses de base utilisées (Équation 19 et Équation 20 à la page 128) sont


résumées brièvement ci-après. les deux particules secondaires chargées de
production de paires sont supposées être des électrons au lieu d'un électron et d'un
positron. De plus, la technique d'appariement partiel est envisagée, là où des photons
peuvent produire des électrons, mais les électrons ne produisent pas de photons. À
propos de ces derniers, l'énergie des photons produits par les électrons est prise en
compte, mais elle est supposée être déposée localement.
Ces hypothèses n'ont qu'un effet mineur sur le champ de dépôt d'énergie, et sont
semblables à celles utilisées dans les codes cliniques de Monte Carlo. Une hypothèse
principale (Équation 20 à la page 128) réside dans le fait que l'opérateur Fokker-
Planck (dont l'opérateur CSD représente le terme de premier ordre) est utilisé pour
les interactions coulombiennes, ou « douces », qui provoquent de petites pertes
d'énergie. Les interactions catastrophiques qui provoquent d'importantes pertes
d'énergie sont représentées à l'aide de la diffusion standard de Boltzmann.
Pour représenter le comportement anisotrope des sources de production et de
diffusion différentielle, les sections efficaces de diffusion différentielle macroscopique
sont développées dans des polynômes de Legendre, P1(μ0) , où μ0 = Ω ⋅ Ω′ . Ce
développement permet d'exprimer les sections de diffusion ou de production
différentielle sous la forme :

Équation 27


2l + 1 γγ/γe/ee
σγγ/γe/ee
s ( r , E′ E, Ω ⋅ Ω′) = ∑ 4π s
σ r , E′ E Pl μ0
l=0

σs, l = Section de diffusion différentielle macroscopique pour le moment de Le-


gendre l

Chapitre 6 Algorithme Acuros de radiothérapie (Acuros XB) pour les 131


photons
De même, la fluence angulaire qui apparaît dans la source de diffusion est
développée en moments d'harmoniques sphériques :

Équation 28

∞ l
Ψ r , E′, Ω′ = ∑ ∑ ϕl, m r , E′ Y l,m Ω′
l=0m= −1

Y l,m(Ω) = Fonctions d'harmoniques sphériques

l, m = Indices angulaires

ϕl,m r , E′ = Les moments d'harmoniques sphériques de la fluence angulaire, calculés


selon : ∫ dΩ′Y l, m Ω′ Ψ r , Ω′, E

Les équations ci-dessus sont exactes. En outre, pour une diffusion purement isotrope,
l=0 est aussi exact. Cependant, Acuros XB définit une limite relative à l'ordre de
diffusion, 0 < l ≤ 7 , et de ce fait au nombre de moments d'harmoniques sphériques
conservés dans la source de diffusion/production. Grâce au théorème d'addition de
Legendre, les sources de diffusion et de production deviennent :

Équation 29

∫ dE′σ
7 l
qγγ/γe/ee
( r , E, Ω) = ∑ ∑ γγ/γe/ee
s r , E′ E ϕl,m r , E′ Y l(Ω)
l=0m= −1
0

132 Manuel de référence des algorithmes de photonthérapie et


d'électronthérapie Eclipse
Sources de photons et d'électrons
Les sources externes de photons et d'électrons, qγ et qe , sont modélisées sous la forme
de sources anisotropes ponctuelles dans Acuros XB. À chaque espace de phase de
faisceau statique, existe une source ponctuelle distincte parmi les trois sources du
modèle de source de faisceaux de photons. Pour la source principale, l'anisotropie de
qγ est décrite par l'intermédiaire d'une grille de fluence 2D, dans laquelle la fluence
des particules et les spectres d'énergie varient dans l'espace. Pour la source
secondaire, l'anisotropie de qγ est décrite par l'intermédiaire d'une grille de fluence
3D, et les spectres d'énergie sont constants dans l'espace. Pour la source de
contamination électronique, l'anisotropie de qe est décrite par l'intermédiaire d'une
grille de fluence 3D, et les spectres d'énergie sont constants dans l'espace. Toutes les
sources ponctuelles se trouvent au niveau de la cible du faisceau statique de contrôle
correspondant.

Pour une source ponctuelle de photons, qγ(E, Ω) , située à la position r p , les


équations (Équation 19 et Équation 20 à la page 128) deviennent :

Équation 30

Ω ⋅ ∇ Ψ γ + σγt Ψ γ = qγγ + qγ(E, Ω)δ r − r p

Équation 31


Ω ⋅ ∇ Ψ e + σet Ψ e − S Ψe
∂E R
= qee + qγe + qe

δ = Fonction delta de Dirac

Le principe de superposition linéaire peut être utilisé pour définir le flux angulaire
de photons en tant que somme des composants du flux n'ayant pas subi de collision
et ayant subi une collision :

Équation 32

Ψ γ ≡ Ψ γunc + Ψ γcoll

Chapitre 6 Algorithme Acuros de radiothérapie (Acuros XB) pour les 133


photons

Ψ γunc = Flux angulaire des photons n'ayant pas subi de collision ou non diffusés.
Se rapporte aux photons n'ayant pas encore interagi avec le patient/
fantôme.

Ψ γcoll = Flux angulaire des photons ayant subi une collision ou diffusés. Se rap-
porte aux photons qui ont été produits ou diffusés par une interaction
des photons dans le patient/fantôme.

La substitution d'équations (Équation 32 à la page 133 en Équation 30 à la page 133 et


Équation 31 à la page 133) et l'utilisation d'une superposition linéaire conduit au
système suivant d'équations de transport :

Équation 33

Ω ⋅ ∇ Ψ γunc + σγt Ψ γunc = qγ(E, Ω)δ r − r p

Équation 34

Ω ⋅ ∇ Ψ γcoll + σγt Ψ γcoll = qγγ γγ


coll + qunc

Équation 35


Ω ⋅ ∇ Ψ e + σet Ψ e − S Ψe
∂E R
= qee + qγe γe
coll + qunc + q
e

qγγ = Première source de photons diffusés. Se rapporte aux photons créés ou


unc
diffusés à partir de la première interaction des photons à l'intérieur du
patient/fantôme.

qγγ = Source secondaire de photons diffusés. Se rapporte aux photons créés ou


coll
diffusés à partir des interactions secondaires des photons à l'intérieur du
patient/fantôme.

134 Manuel de référence des algorithmes de photonthérapie et


d'électronthérapie Eclipse
qγe = Première source d'électrons diffusés. Se rapporte aux électrons créés ou
unc
diffusés à partir de la première interaction des photons à l'intérieur du
patient/fantôme.

qγe = Source secondaire d'électrons diffusés. Se rapporte aux électrons créés ou


coll
diffusés à partir des interactions secondaires des photons à l'intérieur du
patient/fantôme.

La solution des équations (Équation 33 à la page 134 à Équation 35 à la page 134) est
identique à celle de l'Équation 30 à la page 133 et de l'Équation 31 à la page 133.
Cependant, l'Équation 33 à la page 134 est découplée de l'Équation 34 à la page 134 et
de l'Équation 35 à la page 134, et peut être résolue indépendamment. Une fois que la
solution de l'Équation 33 à la page 134 est connue, qγunc et qγe
unc sont formulés et
considérés comme des sources fixes dans l'Équation 34 à la page 134 et l'Équation 35
à la page 134, qui peuvent alors être résolues au sein de la géométrie du patient/
fantôme.
Une des propriétés de l'Équation 33 à la page 134 réside dans le fait qu'il est possible
de résoudre analytiquement Ψ γunc . Ceci donne l'expression suivante pour le flux
angulaire des photons n'ayant pas subi de collision à partir d'une source ponctuelle.

Équation 36

−τ( r , r p)
qy(E, Ω)e
ψ γunc( r , E, Ω) = δ(Ω − Ω r , r ) 2
p
4π r − r p

Ωr, r = r − rp
p , où r p et r représentent respectivement les points de source et de
r − rp
destination du tracé de rayon.

τ r, rp = La distance optique (mesurée en parcours libres moyens) entre r et r p .

La source de contaminant électronique est modélisée d'une manière similaire à ci-


dessus, mais en incluant l'opérateur CSD pour prendre en compte les interactions des
particules chargées.
Acuros XB procède à une discrétisation spatiale, angulaire et énergétique pour
résoudre les équations (Équation 34 à la page 134 à Équation 36 à la page 135).

Chapitre 6 Algorithme Acuros de radiothérapie (Acuros XB) pour les 135


photons
Discrétisation spatiale
Pour la discrétisation spatiale, le domaine du volume de calcul, V , est subdivisé en
éléments cartésiens de taille variable, où les propriétés des matières sont supposées
constantes au sein de chaque élément de calcul. La grille de calcul dans Acuros XB
est variable dans l'espace, la taille des éléments locaux est adaptée pour obtenir une
résolution spatiale supérieure à l'intérieur du faisceau, avec une résolution plus faible
dans les régions de faibles doses et de faibles gradients, hors de la pénombre.
En interne, Acuros XB utilise une résolution plus précise (égale à la résolution de
grille de la dose demandée par l'utilisateur h) pour calculer la fluence électronique
dans le volume d'intérêt principal et une résolution moins précise (égale à 2 × h) en-
dehors de celui-ci. Le volume d'intérêt principal se définit comme le volume dans
lequel la dose est estimée à 10 % ou plus de la dose maximale pour les champs
statiques ou les plans contenant des champs statiques, et à 15 % ou plus de la dose
maximale pour les champs d'arcthérapie non courts ou les plans contenant des
champs d'arcthérapie non courts. Un champ d'arcthérapie non court dispose de plus
de 20 directions de calcul et étend un arc de plus de 10 degrés.
Généralement appelé affinement adaptatif de réseaux (AMR), le réseau est limité à
l'affinement par facteurs de 2 (d'un niveau à l'autre) dans toutes les directions, ce qui
permet à l'affinement localisé de résoudre des zones de gradient prononcé. Les
équations (Équation 34 et Équation 35 à la page 134) qui résolvent les composants de
collision, sont discrétisées à l'aide d'une méthode linéaire discontinue des éléments
finis de Galerkin, offrant une variante de solution linéaire pour chaque élément, avec
des discontinuités possibles sur les faces des éléments.25
Les sources des premiers photons diffusés et des premiers électrons produits
(Équation 36 à la page 135) sont aussi représentées en tant que fonctions linéaires
variables dans chaque élément, car ces sources sont utilisées pour la discrétisation
linéaire discontinue (Équation 34 et Équation 35 à la page 134). Pour intégrer
précisément ces premières sources diffusées, la solution analytique est calculée à une
densité à l'intérieur du faisceau principal et des pénombres d'au moins 8 tracés de
rayon par voxel de grille de sortie.

25 Lewis EE, Miller WF: Computational methods of neutron transport. Wiley, New York, 1984.

136 Manuel de référence des algorithmes de photonthérapie et


d'électronthérapie Eclipse
Discrétisation de l'énergie
La discrétisation de l'énergie est réalisée au moyen de la méthode multigroupe
standard, qui est utilisée à la fois dans la dépendance énergétique (Équation 34 à la
page 134 et Équation 36 à la page 135) et dans la diffusion de Boltzmann (Équation 35
à la page 134).26 Pour l'énergie, la dérivée de l'énergie de l'opérateur de
ralentissement continu (CSD) (Équation 35) est discrétisée à l'aide de la méthode
linéaire discontinue des éléments finis.27 La bibliothèque de sections efficaces
d'Acuros XB comprend 25 groupes d'énergie des photons et 49 groupes d'énergie des
électrons, bien que tous les groupes ne soient pas utilisés pour des énergies
inférieures à 20 MV.

Discrétisation angulaire
Pour transporter spatialement le champ de particules diffusées vers le patient, la
méthode des ordonnées discrètes est utilisée pour procéder à une discrétisation
angulaire.28 La méthode des ordonnées discrètes consiste à obliger les équations
(Équation 34 à la page 134 et Équation 35 à la page 134) à se maintenir pour un
nombre fixe de directions, Ω n . Ces directions discrètes sont choisies à partir d'un
groupe de quadratures angulaires qui permet aussi de calculer les intégrales
angulaires (Équation 26 à la page 130) pour la génération de la source de diffusion.
Des ensembles de quadratures carrées de Tchebychev-Legendre sont utilisés et
l'ordre des quadratures s'échelonne entre N=4 (32 angles discrets) à N=16 (512 angles
discrets). L'ordre de la quadrature angulaire varie à la fois en fonction du type et de
l'énergie des particules. Des particules de plus haute énergie ont des parcours libres
moyens ou des plages pour les électrons plus longs, et de ce fait pour chaque type de
particule, l'ordre de la quadrature angulaire augmente avec l'énergie de la particule.
Un mode spécial se déclenche dans les cas où un volume total de matière de faible
densité (densité inférieure à 0,12 g/cm3) supérieur à environ 250 cm3 est présent dans
le contour externe. Une fois déclenché, ce mode améliore la précision dans les
volumes plus importants de matière de faible densité. Ces conditions sont
généralement présentes uniquement dans les géométries de fantômes hétérogènes
non cliniques.

26 Lewis EE, Miller WF: Computational methods of neutron transport. Wiley, New York, 1984.
27 Wareing TA, Morel JE, McGhee JM: Coupled Electron-Photon Transport Methods on 3-D Unstructured
Grids. Transactions of the American Nuclear Society, Washington D.C., Vol 83, 2000.
28 O. Vassiliev, T. Wareing, I. Davis, J. McGhee, D. Barnett, J. Horton, K. Gifford, G. Failla, U. Titt, F.
Mourtada: Feasibility of a multigroup deterministic solution method for three-dimensional radiotherapy
dose calculations. International Journal of Radiation Oncology Biology Physics, Sep 2008, 1;72(1):220-7.

Chapitre 6 Algorithme Acuros de radiothérapie (Acuros XB) pour les 137


photons
Seuil de coupure de transport spatial
Acuros XB utilise un seuil de coupure spatial pour les énergies d'électrons inférieures
à 200 keV et pour les énergies de photons inférieures à 1 keV. Lorsqu'une particule
passe en-dessous de l'énergie du seuil de coupure, elle est supposée déposer la
totalité de son énergie dans le voxel de grille de dose correspondant.

Conversion fluence/dose
Une fois la fluence angulaire des électrons résolue pour tous les groupes d'énergie, la
dose dans tous les voxels de la grille de sortie, i , du problème est obtenue à l'aide de
l'équation suivante :

Équation 37

Di = ∫ dE∫ dΩ σeED r , E
ρ( r )
ψ e( r , E, Ω)
0 4π

Di = Dose dans le voxel i

σeED = Sections efficaces de dépôt d'énergie macroscopique des électrons en


unités de MeV/cm.

ρ = Densité de matière en g/cm3

Lorsque la dose appliquée à un milieu est calculée, σeED et ρ sont basés sur les
propriétés des matières du voxel de la grille de sortie, i . Lorsque la dose appliquée à
l'eau est calculée, σeED et ρ sont basés sur l'eau.

138 Manuel de référence des algorithmes de photonthérapie et


d'électronthérapie Eclipse
Comme expliqué ci-dessus, Acuros XB calcule la fluence électronique dépendant de
l'énergie en fonction des propriétés des matières du patient, que la dose appliquée à
l'eau ou la dose appliquée à un milieu soit sélectionnée. Lorsqu'une dose appliquée à
l'eau est sélectionnée dans des matières différentes de l'eau, cela revient à calculer la
dose reçue par un volume d'eau suffisamment petit pour ne pas perturber de
manière significative la fluence électronique dépendant de l'énergie. À cause de la
très petite plage de valeurs des électrons de basse énergie, il est possible que ce
volume soit très inférieur à la taille du voxel de la grille de dose de sortie ou aux
détecteurs utilisés pour mesurer de manière expérimentale la dose appliquée à l'eau.
Cet effet est plus important pour des matières non biologiques et de haute densité
telles que l'aluminium, le titane et l'acier. Pour les matières biologiques, l'effet est le
plus significatif dans les os. Dans de tels cas, si l'on compare Acuros XB à des
mesures expérimentales de dose appliquée à l'eau, il est conseillé de modéliser
explicitement un petit volume d'eau représentant le détecteur dans Acuros XB.
Acuros XB et les méthodes de Monte Carlo permettent de calculer la dose appliquée
à un milieu en fonction du dépôt d'énergie et produisent des résultats très similaires.
Lors du calcul de la dose appliquée à l'eau dans des matières autres que l'eau, les
deux méthodes suivent des approches différentes. L'approche utilisée par Acuros XB
est décrite ci-dessus. Les méthodes de Monte Carlo calculent directement la dose
appliquée à un milieu et utilisent généralement des rapports de pouvoir d'arrêt pour
convertir la dose appliquée à un milieu en dose appliquée à l'eau.29
La figure présente une comparaison entre les rapports de dépôt d'énergie (eau/
milieu) et les rapports de pouvoir d'arrêt collisionnel (eau/milieu) dans différentes
matières biologiques en fonction de l'énergie électronique.30, 31 Les rapports de dépôt
d'énergie (à gauche) présentent le rapport de la dose appliquée à l'eau/à un milieu
qui pourrait être calculé par Acuros XB et les rapports de pouvoir d'arrêt collisionnel
(à droite) présentent le rapport de la dose appliquée à l'eau/à un milieu qui serait
généralement calculé avec les méthodes de Monte Carlo.

29 JV Siebers, PJ Keall, AE Nahum, and R Mohan: Converting absorbed dose to medium to absorbed dose to
water for Monte Carlo based photon beam dose calculations. Physics in Medicine and Biology 45 (2000)
983-995.
30 Lorence L, Morel J, and Valdez G: Physics Guide to CEPXS: A Multigroup Coupled Electron-Photon Cross
Section Generating Code. SAND89-1685, Sandia National Laboratory, 1989.
31 http://www.nist.gov/physlab/data/star/index.cfm

Chapitre 6 Algorithme Acuros de radiothérapie (Acuros XB) pour les 139


photons
Energy deposition Collisional stopping
ratio power ratio

lung
adipose tissue
muscle
cartilage
bone

MeV MeV

Figure 19 (gauche) Rapports de dépôt d'énergie (eau/milieu) et (droite) rapports de pouvoir


d'arrêt collisionnel (eau/milieu) en fonction de l'énergie électronique (MeV)

Propriétés des matières


Les données fondamentales utilisées par Acuros XB sont des sections efficaces
atomiques macroscopiques. Une section macroscopique représente la probabilité
qu'une interaction particulière se produise par longueur unitaire de parcours du
trajet des particules, de sorte que son unité s'exprime en cm-1. Les sections efficaces
macroscopiques se composent de deux valeurs : la section microscopique pour une
interaction donnée (en général exprimée en barns/atome = 10-24 cm2/atome et
symbolisée par σ ) et la densité massique de la matière ( ρ , exprimée en g/cm3).
L'expression pour la section efficace macroscopique, σ , est :

Équation 38

N αρ
σ= M
σ

M = Masse de l'atome en unités de masse atomique (UMA)

Nα = Nombre d'Avogadro

140 Manuel de référence des algorithmes de photonthérapie et


d'électronthérapie Eclipse
Acuros XB utilise des sections efficaces couplées photon-électron produites par
CEPXS.32 Pour les interactions des photons, CEPXS intègre la diffusion Compton (ou
diffusion incohérente), l'effet photoélectrique et la production de paires. CEPXS ne
prend pas en compte la diffusion Rayleigh (aussi appelée diffusion cohérente). En
outre, l'énergie des photons du rayonnement de freinage produits par les interactions
des électrons à l'intérieur du patient, est ignorée. L'effet de ces hypothèses est
négligeable pour des distributions de dose à des énergies caractéristiques de
radiothérapie externe avec faisceaux de photons.

Mappage scanner/matière
Pour réaliser un calcul, Acuros XB doit connaître la section macroscopique de chaque
élément dans sa grille de calcul. Eclipse fournit à Acuros XB une densité massique et
un type de matière dans chaque voxel de la grille d'image (Algorithmes et données
d'image scanner d'Eclipse à la page 18).
L'algorithme Acuros XB arrête le calcul si une valeur UH de l'image scanner est
supérieure ou égale à la valeur UH maximale définie dans la courbe d'étalonnage
scanner. Le volume couvert par les pixels de l'image scanner dont la densité
massique (dérivée de la valeur UH de l'image ou affectée à une structure) dépasse la
densité massique maximale des matières utilisées dans la conversion automatique
(3,0 g/cm3) est calculé. Si ce volume est supérieur à un volume maximal défini par
l'utilisateur pour l'affectation automatique de matière à des artefacts de forte densité,
le calcul est impossible jusqu'à l'affectation d'une matière via une structure. Pour des
volumes plus réduits, la conversion automatique en matière définie par l'utilisateur
est effectuée. Ce procédé évite l'affectation d'un matériau incorrect à un volume
important d'un matériau haute densité.
Pour des densités supérieures, étendez la courbe d'étalonnage afin qu'elle comprenne
la matière de la plus haute densité que vous pensez utiliser. La densité maximale
prise en charge par Acuros XB est 8 g/cm3, pour l'acier inoxydable. La courbe
d'étalonnage scanner doit être étendue jusqu'à une densité de 8,1 g/cm3 au minimum
pour couvrir toutes les matières.
Tout bruit présent dans l'image scanner est transformé directement en un bruit dans
la carte de densité massique de l'image. Dans les régions de l'image scanner dans
lesquelles la densité massique est très proche d'une valeur minimale/maximale de
deux matières (par exemple, 1,075 g/cm3, Tableau 27 à la page 143), la nature discrète
de l'affectation de matière et le bruit dans l'image scanner peuvent conduire à une
interversion rapide entre deux affectations différentes de matière. Selon l'intensité du
bruit et la résolution de calcul, cet effet peut être visible dans ces régions sous la
forme d'un léger bruit dans la distribution de la dose.

32 Lorence L, Morel J, and Valdez G: Physics Guide to CEPXS: A Multigroup Coupled Electron-Photon Cross
Section Generating Code. SAND89-1685, Sandia National Laboratory, 1989.

Chapitre 6 Algorithme Acuros de radiothérapie (Acuros XB) pour les 141


photons
Chevauchement de plages de densités dans le mappage scanner/matière
Si la densité massique ρ dérivée des valeurs UH se trouve dans la plage de deux
matières A et B utilisées dans la conversion automatique scanner/matière, un
mélange de ces deux matières est affecté au voxel. Supposons que les densités
minimale et maximale de la matière A soient ρmin,A et ρmax,A respectivement et que
celles de la matière B soient ρmin,B et ρmax,B , et que ρmax,A > ρmin,B et ρmin,A < ρmin,B . Le
chevauchement est compris entre ρmin,B et ρmax,A . Le pourcentage de la matière A est
ρmax,A‐ρ
100%× ρ . En d'autres termes, lorsque les matières A et B se chevauchent, un
max,A‐ρmin,B

changement linéaire de 100 % de la matière A vers 100 % de la matière B se produit.

Manipulation de structures avec des affectations de densité et de matière


Acuros XB rééchantillonne l'image scanner envoyée par le client Eclipse comme suit :
■ Si la taille de pixel de chaque coupe est inférieure à la taille de voxel de la grille de
calcul, les coupes sont utilisées telles quelles. Sinon, elles sont rééchantillonnées
dans la grille de calcul.
■ Si l'espacement entre les coupes est supérieur à la grille de calcul, des coupes
supplémentaires sont créées afin que l'espacement entre les coupes de la nouvelle
image scanner soit aussi proche que possible de la grille de calcul.
Plus d'informations sur la grille de calcul : Options de calcul à la page 31.
Pendant le calcul Acuros XB, la densité massique moyenne et la matière sont
calculées dans chaque voxel de la grille d'image scanner interne. Si la limite de la
structure divise un voxel de telle manière que seule une partie du voxel appartient à
la structure, la densité du voxel sera une moyenne pondérée de la densité de la
structure et de la densité que le voxel aurait reçue autrement (qui peut être dérivée
d'une autre structure avec chevauchement ou de l'image scanner). De la même façon,
la matière de ce voxel de limite sera un mélange de deux matières dont les
pourcentages sont dérivés des fractions de volume correspondant aux subdivisions
du voxel. Notez cependant que la matière de chaque voxel sera décrite comme un
mélange de deux matières maximum.

Matières prises en charge


Le tableau répertorie les matières prises en charge et les plages de densité associées.

142 Manuel de référence des algorithmes de photonthérapie et


d'électronthérapie Eclipse
Tableau 27 Densité massique des matières

Matière Densité

Minimale (g/cm3) Par défaut (g/cm3) Maximale (g/


cm3)

Conversion automatique CT (scanner)-matière

Air (STP) 0,00121 0,0012 0,0204

Poumon (ICRP 1975) 0,0110 0,26 0,6242

Tissus adipeux (ICRP 1975) 0,5539 0,92 1,0010

Muscle, squelette (ICRP 1975) 0,9693 1,05 1,0931

Cartilage (ICRP 1975) 1,0556 1,10 1,60

Os (ICRP1975) 1,10 1,85 3,00

Attribution manuelle de matière

Aluminium 2,2750 2,70 3,56

Alliage de titane 3,56 4,42 6,21

Acier inoxydable 6,21 8,00 8,00

Or 19,32

Eau 0,00121 1,00 3,00

Bois 0,30 0,70 1,00

Liège 0,10 0,19 0,40

Polystyrène 0,59 1,05 1,0750

Époxy 1,04

PMMA 1,19

Radel 1,30

PEEK 1,31

PVC 1,38

Acétal 1,42

PVDF 1,77

Chapitre 6 Algorithme Acuros de radiothérapie (Acuros XB) pour les 143


photons
Matière Densité

Minimale (g/cm3) Par défaut (g/cm3) Maximale (g/


cm3)

PTFE 2,20
1. Pour l'air et l'eau, la valeur 0,0000 observée dans RT Administration est définie sur 0,0012 par l'algo-
rithme.

Chaque version de l'algorithme Acuros XB comporte un tableau de matières


physiques qui répertorie les densités utilisées. RT Administration propose des
tableaux de matières pour différentes versions d'Acuros XB. Autres informations :
Manuel de référence RT Administration.
Dans le tableau suivant, les matières physiques sont définies en termes de sections
efficaces atomiques pour Acuros XB, en fonction des fractions de pondération ou de
la formule chimique le cas échéant.

Tableau 28 Composition des matières

Matière Élément Fraction de pon-


dération

Air (STP) C 0,000124

N 0,755268

O 0,231781

Ar 0,012827

144 Manuel de référence des algorithmes de photonthérapie et


d'électronthérapie Eclipse
Matière Élément Fraction de pon-
dération

Poumon (ICRP 1975) H 0,101278

C 0,102310

N 0,028650

O 0,757072

Na 0,001840

Mg 0,000730

P 0,000800

S 0,002250

Cl 0,002660

K 0,001940

Ca 0,000090

Fe 0,000370

Zn 0,000010

Tissus adipeux (ICRP 1975) H 0,119477

C 0,637240

N 0,007970

O 0,232333

Na 0,000500

Mg 0,000020

P 0,000160

S 0,000730

Cl 0,001190

K 0,000320

Ca 0,000020

Fe 0,000020

Zn 0,000020

Chapitre 6 Algorithme Acuros de radiothérapie (Acuros XB) pour les 145


photons
Matière Élément Fraction de pon-
dération

Muscle, squelette (ICRP 1975) H 0,100637

C 0,107830

N 0,027680

O 0,754773

Na 0,000750

Mg 0,000190

P 0,001800

S 0,002410

Cl 0,000790

K 0,003020

Ca 0,000030

Fe 0,000040

Zn 0,000050

Cartilage (ICRP 1975) H 0,096

C 0,099

N 0,022

O 0,744

Na 0,005

P 0,022

S 0,009

Cl 0,003

146 Manuel de référence des algorithmes de photonthérapie et


d'électronthérapie Eclipse
Matière Élément Fraction de pon-
dération

Os (ICRP 1975) H 0,047234

C 0,14433

N 0,04199

O 0,446096

Mg 0,0022

P 0,10497

S 0,00315

Ca 0,20993

Zn 0,0001

Aluminium Al 1

Alliage de titane (Ti6Al4V)1 Ti 0,90

Al 0,06

V 0,04

Acier inoxydable C 0,00080

Si 0,01000

P 0,00045

Cr 0,19000

Mn 0,02000

Fe 0,68375

Ni 0,09500

Or Au 1

Eau H 0,111894

O 0,888106

Bois et liège H 0,06216

C 0,44445

O 0,49339

Chapitre 6 Algorithme Acuros de radiothérapie (Acuros XB) pour les 147


photons
Matière Élément Fraction de pon-
dération

Polystyrène H 0,077423

C 0,922577

Acétal H 0,067138

C 0,400010

O 0,532852

Époxy H 0,050109

C 0,732813

O 0,144619

S 0,072459

PEEK H 0,041954

C 0,791557

O 0,166489

PMMA H 0,080542

C 0,599840

O 0,319618

PTFE C 0,240178

F 0,759822

PVC H 0,048382

C 0,384353

Cl 0,567265

PVDF H 0,031481

C 0,375135

F 0,593384

148 Manuel de référence des algorithmes de photonthérapie et


d'électronthérapie Eclipse
Matière Élément Fraction de pon-
dération

Radel H 0,040273

C 0,719838

O 0,159816

S 0,080073
1. Les alliages en titane sont généralement utilisés dans les implants. Les différences de dose entre le titane
pur et les alliages de titane sont très faibles.

Contrôle de la grille de dose de sortie


L'utilisateur peut spécifier les étendues géométriques sur lesquelles Acuros XB
sortira la grille de dose 3D à l'aide de l'outil Calculation Volume (Volume de calcul)
dans Eclipse.
Quelle que soit la taille de la grille de sortie, Acuros XB prend en compte les effets du
transport des photons et des électrons dans toute l'étendue du scanner sur la dose au
sein de la grille de dose de sortie. Cependant, Acuros XB réduit la résolution spatiale
extérieure à la grille de dose de sortie afin de réduire le temps de calcul
(Discrétisation spatiale à la page 136).
Grâce à cette fonctionnalité, l'utilisateur est en mesure de réduire le temps de calcul
de la dose d'Acuros XB en limitant le volume d'intérêt pour le calcul (Facteurs ayant
une influence sur le temps d'exécution et la consommation de mémoire à la
page 150).

Erreurs de discrétisation
Dans les deux algorithmes Acuros XB et Monte Carlo, il existe un compromis entre
vitesse et précision du calcul. Dans Monte Carlo, les erreurs sont généralement
stochastiques, lesquelles sont réduites lorsque des solutions sont calculées pour des
incertitudes statistiques plus réduites. Dans Acuros XB, les erreurs sont déterministes
et résultent essentiellement de la résolution de discrétisation en espace, angle et
énergie.

Chapitre 6 Algorithme Acuros de radiothérapie (Acuros XB) pour les 149


photons
Les erreurs de discrétisation de l'énergie se manifestent généralement sous forme de
biais de solutions présents dans une région importante. Les erreurs de discrétisation
angulaires résultent généralement d'« effets de rayon », qui sont des oscillations
angulaires non physiques dans la solution. Ces effets sont le plus prononcés à grande
distance des sources situées dans un milieu à faible densité. Enfin, à cause de la
nature discontinue de la différenciation spatiale DFEM utilisée par Acuros XB, des
erreurs de discrétisation spatiale pourraient généralement se manifester par un tir
excessif/insuffisant de solution locale, et être provoquées par la nécessité de faire
correspondre une solution linéaire à chaque élément tout en conservant un équilibre
des particules. Les paramètres de discrétisation en énergie, espace et angle dans
Acuros XB sont spécifiés en interne et ne sont pas sous le contrôle direct de
l'utilisateur.
Des erreurs supplémentaires peuvent également provenir des tolérances de
convergence définies en interne dans Acuros XB. Ces tolérances contrôlent l'intensité
de la convergence dans le groupe d'énergie des itérations internes dans Acuros XB.
Ces erreurs sont généralement inférieures à 0,1 % de la dose locale dans n'importe
quel élément.

Facteurs ayant une influence sur le temps d'exécution et


la consommation de mémoire
Les facteurs ayant une influence sur les temps de calcul et la consommation de
mémoire d'Acuros XB sont différents de ceux qui influencent les méthodes de
faisceau-rayon et Monte Carlo. Acuros XB est semblable à Monte Carlo en ce sens
que les temps de calcul ne dépendent que très peu du nombre de champs.
Cependant, la consommation de mémoire dans Acuros XB est généralement
supérieure à celle d'autres méthodes telles que Monte Carlo. Cela est principalement
dû au nombre élevé de variables qu'Acuros XB doit résoudre. Bien qu'Acuros XB
produise une seule valeur de dose pour chaque voxel de sortie, son calcul nécessite la
résolution de la totalité de la dépendance angulaire et énergétique des fluences de
photons et d'électrons sur toute l'étendue du scanner. Les deux facteurs dominants
qui régissent la consommation de mémoire et le temps de calcul d'Acuros XB sont la
taille du voxel de la grille de sortie et le volume des faisceaux de rayonnement sur le
patient/fantôme dans l'étendue de la grille de sortie.
La consommation de mémoire et le temps de calcul sont tous deux, à peu de choses
près, inversement proportionnels au volume du voxel de la grille de sortie. Par
exemple, une taille de voxel de grille de sortie de 1 mm nécessite environ 8 fois plus
de mémoire et de temps de calcul que des voxels de grille de sortie de 2 mm.

150 Manuel de référence des algorithmes de photonthérapie et


d'électronthérapie Eclipse
La consommation de mémoire et le temps de calcul sont également grossièrement
proportionnels au volume total de patient/fantôme en intersection avec les faisceaux,
en incluant les zones de pénombre associées. Acuros XB affine localement la grille de
calcul pour résoudre le champ de la solution interne aux faisceaux et à la pénombre
dans le patient/fantôme. À l'extérieur de ces régions, où la magnitude de la dose et
les gradients sont faibles, la grille de calcul est localement rendue grossière afin de
réduire l'effort de calcul.
La grille de calcul est également rendue grossière dans les régions d'air extérieures
au patient/fantôme. L'effet final de ce comportement est que dans la majorité des cas,
sauf pour de petits champs dans de grands fantômes, l'essentiel de l'effort de calcul
est consacré au calcul des fluences de photons et d'électrons à l'intérieur des
faisceaux.
Comme la grille de calcul est également rendue grossière à l'extérieur de l'étendue de
la grille de sortie, même à l'intérieur des faisceaux, les utilisateurs peuvent réduire
considérablement le temps de calcul et la consommation de mémoire en réduisant
l'étendue de la grille de sortie qui comprend les faisceaux. La réduction de la taille de
la grille de sortie n'a un effet significatif que si elle réduit également le volume des
faisceaux qui couvrent le patient/fantôme dans la grille de sortie. Dans la plupart des
cas, la réduction totale en temps de calcul et en consommation de mémoire est
proportionnelle à cette diminution de volume.
Pour illustrer cela, considérons trois calculs d'un champ de 10x10 cm2 orienté dans la
direction z sur un fantôme de 40x40x40 cm3. Dans le premier calcul, le volume de la
grille de sortie est égal à la taille du fantôme, soit 40x40x40 cm3. Dans le second
calcul, le volume de la grille de sortie est réduit de moitié selon la direction de la
profondeur 40x40x20 cm3. Même en tenant compte des effets de divergence du
faisceau avec l'augmentation de la distance à la source, le second calcul nécessite
généralement moins de la moitié du temps de calcul et de la consommation de
mémoire du premier calcul. Dans le troisième calcul, le volume de la grille de sortie
devient 20x20x40 cm3. Dans ce cas, le troisième calcul ne réduit pas le volume du
fantôme en intersection avec le faisceau, et par conséquent, le temps de calcul et la
consommation de mémoire ne diffèrent pas beaucoup du premier calcul.
Le temps de calcul et la consommation de mémoire sont tous deux très faiblement
dépendants du nombre de champs. Même dans la plage de valeurs de la plupart des
calculs RapidArc, 90 à 180 directions de calcul de dose par champ, le principal
facteur influant sur le temps de calcul et la consommation de mémoire réside
généralement dans le calcul du transport des électrons et des photons dans le patient/
fantôme, et non dans le tracé de rayon des sources primaires, secondaires ou de
contaminant électronique dans le patient/fantôme. Cependant, le composant de tracé
de rayon dépend linéairement du nombre de champs, et pour les cas RapidArc avec
augmentation du nombre de directions du calcul de la dose, le tracé de rayon devient
finalement le facteur dominant.

Chapitre 6 Algorithme Acuros de radiothérapie (Acuros XB) pour les 151


photons
Il existe une certaine dépendance vis-à-vis de l'énergie du faisceau pour la
consommation de mémoire et les temps de calcul. Avec une énergie de faisceau
croissante, plus de groupes d'énergie sont nécessaires pour obtenir une solution
précise, ce qui nécessite une augmentation considérable du temps de calcul et de la
consommation de mémoire. Par exemple, un calcul de 20 MV nécessite environ 75 %
de temps de calcul de plus que le même calcul avec des faisceaux de 4 MV.

152 Manuel de référence des algorithmes de photonthérapie et


d'électronthérapie Eclipse
Chapitre 7 Algorithme de calcul de la dose du
cône (CDC)

Modèle de calcul de la dose


L'algorithme de calcul de la dose du cône (CDC) est utilisé dans Eclipse Cone
Planning pour calculer la dose des applicateurs à cônes stéréotaxiques utilisés dans
les traitements par radiochirurgie stéréotaxique (SRS).
L'algorithme CDC ignore le bolus ainsi que toutes les structures qui ne font pas
partie du contour externe. Dans Cone Planning, il n'est pas possible d'attacher un
bolus à un champ d'arcthérapie ou d'ouvrir un champ contenant un bolus.
L'algorithme CDC utilise les rapports Tissu-Maximum (TMR) et les rapports hors axe
(OAR) pour déterminer la dose en n'importe quel point du volume irradié.

Présentation du calcul de la dose


La dose, D , en tout point P dans le faisceau, est déterminée par :

Équation 39

SAD 2
D r, d, SSD, S = MU × DRref × OFTMRmax S × TMR d, S × SSD+d
× OAR r, S

r = Distance hors axe au point d'intérêt

d = Profondeur de l'emplacement du point d'intérêt le long de l'axe central

SSD = Distance source-peau

S = Diamètre nominal du collimateur conique

D(d, r, S) = Dose à l'emplacement d'intérêt (point « p » : Figure 20 à la page 155).

MU = Unité moniteur

Chapitre 7 Algorithme de calcul de la dose du cône (CDC) 153


Dre f = Dref
Débit de dose de référence = MUref
, où Dre f représente la dose absolue
dans l'eau pour la taille de champ de référence au point de référence à la
profondeur d'étalonnage, exprimée en Gray, et où MUre f représente le
nombre d'UM donné pour générer la dose de référence pour l'étalonnage
(Tableau 30 à la page 160).

OF(S) = DS
Facteur d'ouverture du collimateur = Dref
, où DS représente la dose en
un point spécifique de l'axe central (à l'isocentre) à une certaine profon-
deur, d , lorsque le collimateur conique, S , est utilisé, et où Dre f repré-
sente la dose mesurée au même emplacement spatial et à la même pro-
fondeur d que DS DS , en utilisant la taille de champ de référence.

OFTMR S = PDD S,SSD,dmax SSD+dmax 2


max Facteur de sortie à TMRmax(S) , OF(S) × PDD S,SSD,d
× SAD
, où d
représente le profondeur utilisée pour mesurer OF(S) .

TMR(d, S) = Dd
Rapport Tissu-Maximum, Dd
, où Dd représente la dose en un point
max
max
spécifique sur l'axe central (à l'isocentre) à la profondeur dmax de la dose
maximale d'un matériau équivalent au tissu recouvrant le point, et où Dd
représente la dose au même point de l'espace à une profondeur arbi-
traire, d , du matériau équivalent au tissu recouvrant.

SAD = Distance source-axe.

OAR(r, S) = Dr
Rapport hors axe, Da
, où Da représente la dose sur l'axe central à une
certaine profondeur, d , et Dr représente la dose à une distance arbitraire
hors de l'axe, r , à la même profondeur sur l'axe central, d .

Les paramètres sont illustrés dans la figure.

154 Manuel de référence des algorithmes de photonthérapie et


d'électronthérapie Eclipse
1

5 7

8
6

1. Source
2. DSP
3. Surface
4. d
5. DSA
6. Isocentre
7. Point « p »
8. r

Figure 20 Géométrie du calcul de la dose du cône

Matrice de dose
Lorsque le calcul de la dose est initialisé, la dose est calculée pour un tableau de
points en deux matrices. L'une des matrices est grossière, avec un espacement des
points de 5,0 mm dans l'espace stéréotaxique. L'autre est fine, avec un espacement
des points par défaut de 1,0 mm. La séparation des points de la matrice fine est
configurable.
La taille de la matrice la plus fine dépend de la taille du collimateur sur le plan
d'isocentre. La distance du bord de la matrice depuis l'isocentre est égale à deux fois
le diamètre du collimateur, plus 5 mm supplémentaires de marge.

Chapitre 7 Algorithme de calcul de la dose du cône (CDC) 155


Calcul des unités moniteur
Les unités moniteur pour un champ donné sont calculées à l'aide de l'équation
suivante :

Équation 40

Reference Dose
Monitor Units = Calibration Factor

Reference Dose = Repeat Factor×Weight Factor
TMRave

Calibration Factor = OFTMR S × DRref


max

Repeat Factor × Weight Factor = Contribution de dose absolue d'une arcthérapie


dans l'isocentre.

TMRave = Rapport Tissu-Maximum moyen de l'isocentre au


bord du contour externe.

Veuillez noter que les arcs ne se voient attribuer que des pondérations relatives
pendant le processus de planification, et que leurs véritables pondérations de dose
relative ne sont pas attribuées avant le moment de la prescription de la dose. Le
nombre de fois durant lesquelles les pondérations doivent être multipliées pour
fournir la dose prescrite est indiqué par le rapport de la dose à l'isocentre sur la
pondération relative de l'arcthérapie.

Limites du modèle de calcul de la dose


Le modèle de calcul de la dose présente plusieurs limites.

156 Manuel de référence des algorithmes de photonthérapie et


d'électronthérapie Eclipse
Approximation des faisceaux d'arcthérapie en tant que faisceaux statiques
L'algorithme CDC réalise une approximation des calculs de dosimétrie d'arcthérapie
en tant que faisceaux statiques. Afin de déterminer le TMR moyen pour l'arcthérapie,
le système représente l'arcthérapie comme un ensemble de faisceaux statiques à des
incréments d'arcthérapie spécifiés par l'utilisateur (entre 1 et 10 degrés). Les
incréments sont spécifiés à l'aide du paramètre Arc Angle Resolution (Résolution de
l'angle d'arcthérapie) dans l'onglet Calculation (Calcul) d'Eclipse Cone Planning. Le
système réalise alors la moyenne du TMR à partir de l'ensemble de ces faisceaux
pour déterminer une moyenne destinée aux calculs de dosimétrie. La contribution de
dose pour toute arcthérapie particulière est normalisée à 1,0 en son isocentre, puis
multipliée par sa pondération.

Remarque : L'impression du rapport de dosimétrie fournit une profondeur moyenne pour


chaque arcthérapie. Ces données sont fournies pour permettre un calcul à la main approximatif
des unités moniteur. Les unités moniteur calculées à la main à l'aide de ces profondeurs
moyennes ne sont pas exactes, mais se trouvent dans une fourchette voisine des valeurs
correctes avec un écart de 2 %.

Inhomogénéité des tissus


L'inhomogénéité des tissus n'est pas prise en compte, et toutes les valeurs scanner
sont traitées comme ayant des densités équivalentes à l'eau une fois le point d'entrée
déterminé. Toutes les valeurs CT avant le point d'entrée sont traitées comme étant de
l'air. Ce traitement s'applique également à tous les faisceaux pénétrant par la plaque
de base et par n'importe quelle structure de support. Le point d'entrée est le premier
point dans l'axe central du champ qui touche le contour externe. Il est important
qu'aucune plaque de base ou structure de support ne soit incluse dans le contour
externe, puisque l'espace d'air entre le contour externe et la plaque de base ou la
structure de support est traité comme étant de l'eau.
Cette limite d'inhomogénéité des tissus est généralement acceptable dans la tête,
puisque la plupart des chemins de faisceaux traversent des densités
approximativement équivalentes à celle de l'eau. Par exemple, la densité du crâne est
approximativement de 1,4 fois celle de l'eau, et son épaisseur est d'environ 0,75 cm.
Cela signifie que l'épaisseur équivalente du crâne est de 1,4 X 0,75 cm = 1,05 cm, soit
une erreur de 0,3 cm. Pour un faisceau de 6 MV, l'atténuation est d'environ 4 %/1 cm,
4%
ce qui entraîne une erreur de dose de 0.3cm × 1cm
= 1.2% .

Les chemins de faisceaux qui traversent des cavités aériennes entraînent des erreurs
légèrement supérieures, et vous pouvez modifier les points d'entrée des faisceaux
pour éviter des longueurs de chemin importantes à travers ces cavités. Pour les
faisceaux qui pénètrent dans ces cavités ou qui en sortent, vous devez tenir compte
du fait que ces zones sont traitées comme ayant des densités équivalentes à celle de
l'eau.

Chapitre 7 Algorithme de calcul de la dose du cône (CDC) 157


Entrée oblique de faisceaux
On suppose que l'axe du faisceau est toujours normal au contour du patient, et
l'obliquité du faisceau n'est pas considérée. Cette erreur est négligeable à cause des
petites tailles de champ rencontrées en radiochirurgie.

Rétrodiffusion
L'absence de rétrodiffusion à proximité des cavités ou lorsque le faisceau sort de la
tête n'est pas prise en compte. Ceci résulte en une dose affichée à proximité de la
surface plus élevée que la dose réelle.

Rapport hors axe


L'OAR est supposé être indépendant de la profondeur, et uniquement dépendant de
la distance à la source de rayonnement. Cette supposition est valable car les
collimateurs sont petits et couvrent uniquement la zone centrale du faisceau global
de l'accélérateur linéaire.

Limites de l'énergie du faisceau


L'énergie nominale définie pour la machine de traitement doit être comprise entre
6 MV et 10 MV inclus. Pendant la configuration, le programme de configuration
vérifie que le paramètre d'énergie nominale (Tableau 29 à la page 160) est compris
dans ces limites.

Plage valide de DSP et de profondeur


La plage valide des valeurs de DSP s'étend de 70,1 cm à 100 cm. La somme de la DSP
et de la profondeur pour tout point de calcul doit être inférieure à 130 cm.

Configuration de l'algorithme CDC


L'entrée du programme de configuration Cone Dose Calculation (Calcul de la dose
du cône) se compose des données faisceaux spécifiques mesurées et de la valeur des
paramètres définis par l'utilisateur. Les paramètres décrivent la géométrie de mesure
et les caractéristiques physiques du faisceau.
Informations sur la configuration de l'algorithme CDC : Configuration de
l'algorithme CDC en important de nouvelles données mesurées à la page 167.

158 Manuel de référence des algorithmes de photonthérapie et


d'électronthérapie Eclipse
Remarque : En exécutant les mesures et la configuration de l'algorithme CDC, tenez compte
des points suivants :
■ Les instructions relatives aux mesures des données faisceaux ne constituent que des
recommandations. Varian Medical Systems ne pourra être tenu responsable en cas de
mesures incorrectes ou de configuration imprécise provenant de mesures erronées.
■ Les physiciens médicaux responsables des mesures doivent toujours se fier à leur propre
jugement pour décider du niveau de précision acceptable des mesures relatives aux calculs,
et adopter les compromis nécessaires pour chaque accélérateur en ce qui concerne les
mesures.
■ Il est important de configurer le système de sorte qu'il corresponde aux caractéristiques de
la machine de traitement.
■ Effectuez régulièrement des mesures de suivi et comparez-les aux données faisceaux
dosimétriques utilisées pour la configuration du faisceau. Si les fluctuations sont
importantes et que les données faisceaux configurées ne représentent plus le faisceau
moyen produit par la machine, reconfigurez les données faisceaux à l'aide des données
faisceaux dosimétriques plus récentes.
■ Mesurez toutes les données faisceaux dosimétriques dans les conditions de stabilité les plus
favorables possible.
■ Exécutez des mesures aussi précises que possible dans tous les cas.
■ Utilisez les mêmes conventions de dénomination de fichier dans les mesures de données
faisceaux (fichiers d'entrée) et dans Beam Configuration (nom de la machine de
traitement), et renommez les fichiers d'entrée afin de faciliter la mise en correspondance des
données faisceaux et de la machine de traitement lors du processus de configuration.
■ En raison des petits champs utilisés en radiochirurgie stéréotaxique, des effets de volume
partiels sont perceptibles si des détecteurs très volumineux sont utilisés.
■ Bien que la mesure directe du TMR soit possible, il est relativement courant de mesurer les
PDD, puis de les convertir en TMR. Il est très difficile de mesurer un PDD de manière
fiable pour de très petits champs. Lorsque les PDD sont mesurés, puis convertis en TMR,
vous devez vous assurer que le détecteur demeure centré dans le champ à toutes les
profondeurs. La mesure directe du TMR est plus fiable dans ces situations car le détecteur
ne se déplace pas pendant la mesure.
■ Mettez la configuration de votre faisceau en service avec une grande précision. Pensez à
valider la configuration des calculs conformément à l'ensemble des recommandations
définies par l'IAEA.33 Si vous remarquez quoi que ce soit d'inattendu dans les données
configurées, remontez à la source du problème dans les données mesurées, puis corrigez ces
dernières. Ne réalisez pas de traitement sur des patients tant que les problèmes n'ont pas
été résolus.

Informations détaillées sur l'utilisation de Beam Configuration : Manuel de référence


Beam Configuration. Informations sur la sélection d'un modèle de calcul de la dose
dans Eclipse Cone Planning : Aide en ligne Eclipse Cone Planning.

33 Commissioning and Quality Assurance of Computerized Planning Systems for Radiation Treatment of
Cancer, Technical Reports Series No. 430 (IAEA).

Chapitre 7 Algorithme de calcul de la dose du cône (CDC) 159


Paramètres de configuration généraux
L'algorithme CDC nécessite que les paramètres généraux de la machine de traitement
(dans le tableau) pour l'importation des données faisceaux mesurées et pour le calcul
de la dose soient lus depuis RT Administration ou définis dans Beam Configuration.
Lors de la configuration de l'algorithme CDC, vérifiez que les paramètres lus depuis
RT Administration sont corrects et qu'aucun paramètre requis n'est manquant.

Tableau 29 Paramètres généraux

Paramètre Description

Therapy unit name (Nom de la ma- Nom de la machine de traitement. Définissez ce para-
chine de traitement) mètre dans Beam Configuration.

Nominal energy (Énergie nominale) Ce paramètre est lu depuis RT Administration.

Radiation type (Type de rayonne- Ce doit être « photon ». Ce paramètre est lu depuis
ment) RT Administration.

Vendor (Fournisseur) Ce paramètre est lu depuis RT Administration.

Source-to-axis distance expressed in Ce paramètre est lu depuis RT Administration.


cm (Distance source-axe exprimée
en cm)

Paramètres d'étalonnage de dose absolue


L'algorithme CDC nécessite les paramètres d'étalonnage de dose absolue répertoriés
dans Beam Configuration.

Tableau 30 Paramètres d'étalonnage de dose absolue

Paramètre Description

Absolute dose reference Taille du champ de référence utilisée dans la configuration, ex-
field size [mm] (Taille primée en millimètres. Ce doit être la même taille que celle utilisée
du champ de référence pour normaliser les mesures de facteurs d'ouverture du collima-
de dose absolue [mm]) teur (c'est-à-dire, la taille de champ pour laquelle le facteur d'ou-
verture du collimateur est égal à 1.0).

Absolute dose calibra- Profondeur du point de référence utilisée dans la configuration,


tion depth [mm] (Pro- exprimée en millimètres.
fondeur d'étalonnage de
la dose absolue [mm])

160 Manuel de référence des algorithmes de photonthérapie et


d'électronthérapie Eclipse
Paramètre Description

Absolute dose calibra- Distance comprise entre la source et la surface du fantôme (DSF)
tion source-phantom utilisée pendant l'étalonnage de dose absolue, exprimée en milli-
distance (Distance mètres.
Source-fantôme d'éta-
lonnage de dose ab-
solue)

Reference dose at cali- Dose absolue dans l'eau pour la taille du champ de référence, au
bration depth [Gy] point de référence et à la profondeur d'étalonnage, exprimée en
(Dose de référence à la Gray.
profondeur d'étalonnage
[Gy])

Reference MU at calibra- UM fournies pour produire la dose de référence à l'étalonnage.


tion depth [MU] (UM de
référence à la profon-
deur d'étalonnage [UM])

Mesures de données faisceaux requises


L'algorithme CDC a besoin de mesures de données faisceaux bien spécifiques pour
exécuter les calculs de distribution de dose. Toutes les données faisceaux doivent être
mesurées dans les mêmes conditions de configuration.
Les mesures suivantes sont nécessaires pour configurer l'algorithme:
■ Dosimétrie absolue pour un champ de référence (par exemple, un champ ouvert
de 10 cm × 10 cm).
■ Facteurs d'ouverture du collimateur pour tous les cônes relatifs au champ de
référence de dosimétrie absolue.
■ Rapport Tissu-Maximum pour au moins trois cônes (par exemple, 10 mm, 20 mm
et 30 mm)
■ Rapport hors axe pour au moins trois cônes (ils peuvent être mesurés avec les
mêmes cônes que ceux utilisés pour la mesure du Rapport Tissu-Maximum, mais
ce n'est pas indispensable).

Méthodes de mesure
Il existe des limites pratiques minimales pour la taille physique des détecteurs
utilisés pour la mesure des faisceaux. Les systèmes de détecteurs recommandés sont :
■ Diodes : choisissez une diode avec un faible volume actif (une diode
stéréotaxique) et ayant une réponse énergétique appropriée à l'acquisition de
données faisceaux.
■ Film : un film a potentiellement la meilleure résolution spatiale. Notez cependant
que la densité optique ne répond à la dose absorbée ni de manière linéaire ni de

Chapitre 7 Algorithme de calcul de la dose du cône (CDC) 161


manière indépendante de la qualité du faisceau. Lisez les films à l'aide d'un
digitaliseur de grande qualité, afin de préserver la résolution spatiale du film ainsi
que la profondeur de densité optique.
■ Petites chambres d'ionisation : les chambres d'ionisation remplies d'air ne sont pas
recommandées pour les mesures si la taille de champ est inférieure à quatre fois la
plus grande dimension de la chambre. Les chambres d'ionisation sont
recommandées pour des mesures de doses absolues, et pour l'étalonnage des
détecteurs à film et à diode dans les faisceaux de l'axe central qui répondent aux
critères de taille de champ indiqués ci-dessus.
■ Fantôme : pour mesurer les données faisceaux dans des milieux équivalents à un
tissu ou à l'eau.

Mesures de dosimétrie absolue


La mesure de dosimétrie absolue du champ de référence et les mesures du facteur
d'ouverture du collimateur doivent être réalisées à l'aide de la même géométrie de
fantôme. Cependant, vous pouvez utiliser n'importe quelle taille de champ pour les
mesures de dosimétrie absolue. Pour plus d'informations sur les paramètres :
Paramètres d'étalonnage de dose absolue à la page 160.

Mesures de facteur d'ouverture du collimateur

Remarque : La taille des mâchoires définie dans la configuration de la machine de traitement doit
être utilisée pour toutes les mesures, et la même taille de mâchoire doit toujours être utilisée pour
le traitement. L'utilisation d'une taille de mâchoires différente provoquera une différence au
niveau du débit de la machine par rapport aux conditions définies dans la configuration de
l'algorithme CDC, et pourrait délivrer des doses plus importantes ou moins importantes. La taille
des mâchoires doit être comprise entre 4 et 5,6 cm inclus.

Le facteur d'ouverture du collimateur (OF) représente la dose relative à la géométrie


de référence en fonction de la taille du collimateur, normalisée à l'unité pour une
taille de champ utilisée dans l'étalonnage de dose absolue (Mesures de dosimétrie
absolue à la page 162). En d'autres termes, le facteur d'ouverture du collimateur est
une mesure relative fonction de l'étalonnage de la dose pour l'accélérateur linéaire
utilisé. Pensez à mesurer la dose absolue et les facteurs d'ouverture du collimateur
dans une configuration géométrique aussi proche que possible de la géométrie du
traitement. Par exemple, pour un faisceau de 6 MV : DSP = 95,0 cm et la profondeur
au point d'intérêt = 5,0 cm.
L'algorithme de calcul de la dose utilise l'étalonnage de la dose absolue et les facteurs
d'ouverture du collimateur pour calculer les unités moniteur (UM). Un facteur
d'ouverture du collimateur est requis pour chaque collimateur circulaire que vous
utilisez en radiochirurgie.

162 Manuel de référence des algorithmes de photonthérapie et


d'électronthérapie Eclipse
Si vous importez des données de mesure depuis FastPlan, le programme de
configuration lit les facteurs d'ouverture du collimateur depuis les fichiers de
configuration FastPlan. L'algorithme de calcul de la dose utilise alors la même
géométrie de référence que FastPlan pour calculer les valeur UM. FastPlan suppose
que la machine est étalonnée de telle manière que 100 UM génèrent une dose de 1 Gy
à la profondeur de la dose maximale pour le champ de référence. Informations sur
l'importation de données FastPlan existantes : Manuel de référence des algorithmes de
photonthérapie et d'électronthérapie Eclipse pour la version 13.0.

Mesures du Rapport Tissu-Maximum


Le Rapport Tissu-Maximum (TMR), dans un fantôme d'eau irradié par un faisceau
de photons, représente le rapport de la dose absorbée à une profondeur donnée à la
dose mesuré au même point mais en déplaçant la surface de l'eau de sorte que le
point soit à la profondeur du maximum de dose absorbée. Pendant la mesure, la
distance source-détecteur doit être de 100 cm, et les mesures réalisées avec une
profondeur croissante. Le TMR est une fonction de la profondeur, de la qualité du
faisceau et de la géométrie du collimateur.
Tout collimateur pour lequel des données ne sont pas entrées voit ses données
calculées par interpolation et extrapolation linéaires à partir des données mesurées
de collimateur. Alors que les données doivent être mesurées pour un ensemble
représentatif de collimateurs, les données entrées pour l'ensemble minimal de trois
collimateurs sont suffisantes pour que Beam Configuration détermine le TMR pour
tous les collimateurs.
Mesurez les données de TMR à l'aide d'une résolution aussi précise que possible.
Cependant, l'ensemble minimal de données recommandées doit comporter des
données mesurées par incréments de 0,5 cm tout au plus de la surface à 1,0 cm au-
delà du point de dose maximale, et après cela par incréments de 1,0 cm tout au plus
pour définir la zone exponentielle à la profondeur d'accumulation de 20,0 cm. Ces
données peuvent être importées dans Beam Configuration au format w2CAD.
Une mesure correcte de TMR est essentielle à la précision du calcul de la dose. Par
conséquent, pensez à valider les données du TMR à l'aide d'au moins deux
instruments qui utilisent différentes approches physiques.

Mesures du rapport hors axe


Le rapport hors axe (OAR), dans un fantôme d'eau irradié par un faisceau de
photons, correspond au rapport de la dose absorbée en tout point sur la dose
absorbée sur l'axe du faisceau à la même profondeur.

Chapitre 7 Algorithme de calcul de la dose du cône (CDC) 163


Des données OAR d'au moins une distance source-cible (DSC) sont requises. Si
davantage de données sont fournies, elles sont utilisées pour établir la moyenne des
données d'entrée pour la routine de régression. Mesurez les données d'OAR à la
profondeur de dose maximale d'un cône ou plus profondément (en général, la dose
maximale pour un faisceau de 6 MeV se trouve à une profondeur de 1,5 cm) pour au
moins trois collimateurs. Échantillonnez les données au moins tous les millimètres
(c'est-à-dire à 1,0 mm d'espacement) quelle que soit la DSC utilisée et la taille du
collimateur.

Adaptation des mesures dans la configuration


Avant de calculer les données faisceaux configurées, le programme de configuration
CDC vérifie les données faisceaux mesurées et les adapte, si nécessaire. Vous pouvez
examiner les mesures originales et adaptées dans l'espace de travail Beam Data
(Données faisceaux) de Beam Configuration (Évaluation des données CDC
configurées à la page 170).
Le programme de configuration CDC procède aux détections et aux adaptations
suivantes :
■ Les rapports Tissu-Maximum ont des valeurs négatives (par exemple, quelques-
uns des points de mesures se trouve dans de l'air) : ces valeurs sont supprimées.
■ Des profils symétriques sont fournis : seules les valeurs ayant des coordonnées
positives sont utilisées.
■ Les courbes ou les profils des rapports Tissu-Maximum tombent à zéro avant la
fin de la mesure : ces valeurs sont supprimées.
■ Des courbes de Rapport Tissu-Maximum sont normalisées à d'autres valeurs que
100 % à la dose maximale : les courbes sont à nouveau normalisées à 100 % à la
dose maximale.
■ Des profils normalisés à une valeur différente de 100 % sur l'axe central : les
courbes sont à nouveau normalisées à 100 % sur l'axe central.
■ Une coordonnée X projetée de la valeur de 50 % du profil dévie de plus de 1 mm
de la position prévue du bord de champ à la distance DSA=100 cm : un message
d'erreur est affiché.

164 Manuel de référence des algorithmes de photonthérapie et


d'électronthérapie Eclipse
Génération de données de configuration TMR à partir de données
mesurées adaptées
Le programme de configuration CDC génère des données TMR adaptées, en fait
l'interpolation linéaire jusqu'à 10 mm au-delà de la dose maximale, puis modélise les
données à l'expression dans l'équation. Les valeurs de TMR comprises entre la valeur
la moins profonde entrée et 0 mm sont obtenues par extrapolation linéaire à partir
des deux points de données les moins profonds. Les valeurs de TMR sont calculées
de la manière suivante :

Équation 41

TMR(d)=A x exp(-μ x d)+h(d)

h(d) = d 10
B × db × exp ‐ d1
, où d1 = 2 × (dmax + 10 mm) est une correction de loi
de puissance sur la fonction exponentielle requise pour améliorer la con-
tinuité de la fonction adaptée au voisinage de dmax + 10 mm .

d = Profondeur

dmax = Profondeur de la dose maximale.

A, μ, B, β = Paramètres de modélisation de la courbe utilisés dans la configuration


CDC ; μ peut être considéré comme un coefficient d'atténuation linéaire
pour le cône en concerné.

Les paramètres A et μ sont obtenus en adaptant la fonction exponentielle aux


données de TMR adaptées à partir de la profondeur dmax + 10 mm . En soustrayant la
courbe exponentielle résultante des résultats des données adaptées, on obtient une
courbe de différence utilisée pour obtenir les paramètres B et β en réalisant une
régression de la fonction de la loi de puissance à cette courbe de différence sur
l'intervalle dmax + 10 mm, d1 .
Tout collimateur pour lequel des données ne sont pas entrées voit ses données
calculées par interpolation et extrapolation de la loi de puissance à partir des
données mesurées du collimateur. Alors que les données doivent être mesurées pour
un ensemble représentatif de collimateurs, les données entrées pour l'ensemble
minimal de trois collimateurs sont suffisantes pour que Beam Configuration
détermine le TMR pour tous les collimateurs.

Chapitre 7 Algorithme de calcul de la dose du cône (CDC) 165


Génération de données de configuration OAR à partir de données
mesurées adaptées
Le programme de configuration CDC génère des données OAR adaptées et applique
un algorithme de modélisation de courbe à l'aide du modèle d'exponentielle double
suivant :

Équation 42

f r − f r0
0.5 + 0.5 × f 0 − f r0
r ≤ r0
OAR r = g r −1
0.5 × g r0 − 1
r > r0

r = Distance de l'axe central au point d'intérêt

r0 = Rayon du collimateur corrigé pour la distance source-cible

f (r) = (1 − exp(α1 × (r − r0))) × (1 − exp(α2 × (r − 2 × r0)))

g(r) = (1 − exp(β1 × (r0 − r))) × (1 − exp(α2 × ( − β2 × r)))

α1,α2,β1,β2 Paramètres de modélisation de la courbe utilisés dans la con-


figuration CDC.

Les longues queues des courbes OAR mesurées sont ignorées. L'équation
(Équation 42 à la page 166) est adaptée aux points de données pour lesquels
r < rcut off , où rcut off = 0.75 × r0 + 0.5(cm) . Ceci réalise une approximation du spot où
l'OAR est tombé sous 1,5 %.
À l'intérieur de la précision mesurable dans le cas de champs de collimateurs en
cône, la forme d'une courbe OAR remise à l'échelle ne montre pratiquement aucune
dépendance vis-à-vis de la distance source-cible (DSC). De ce fait, pour une taille de
cône donnée, les courbes OAR de toutes les DSC peuvent être obtenues à partir d'une
courbe OAR à l'aide de la remise à l'échelle :

Équation 43

STD2
OAR r, STD2 = OAR STD1
× r, STD1

166 Manuel de référence des algorithmes de photonthérapie et


d'électronthérapie Eclipse
Avant l'adaptation de l'équation (Équation 42 à la page 166) aux courbes OAR
mesurées, toutes les courbes sont remises à l'échelle (Équation 43 à la page 166) en
fonction d'une DSC de référence, STDre f .
Les paramètres de modélisation résultants sont interpolés par une loi de puissance
pour toutes les tailles de cône. Ceci donne des courbes OAR pour chaque cône à
STDre f . L'OAR pour toute autre DSC est obtenu en utilisant à nouveau l'équation
(Équation 43).

Données générées dans la Configuration


Une fois la configuration terminée, les éléments de données affichés dans la Focus
Window (Fenêtre active) comprennent les données mesurées et les données générées.
Les éléments de données mesurés affichés sont les suivants :
■ Facteurs d'ouverture du collimateur mesurés
■ Rapports Tissu-Maximum mesurés
■ Rapports hors axe mesurés
■ Paramètres d'étalonnage de dose absolue
■ Fichiers d'importation FastPlan (cet élément de donnée n'est présent que si
l'algorithme CDC a été configuré à l'aide de données FastPlan).
Les données générées par le programme de configuration de l'algorithme CDC sont
les suivantes :
■ Rapports Tissu-Maximum traités
■ Rapports hors axe traités
■ Rapports Tissu-Maximum calculés
■ Rapports hors axe calculés
■ Erreurs Gamma pour les rapports Tissu-Maximum
■ Erreurs Gamma pour les rapports hors axe
■ Histogramme des erreurs Gamma
Informations sur l'utilisation de ces données pour l'évaluation des données CDC
configurées : Évaluation des données CDC configurées à la page 170.

Configuration de l'algorithme CDC en important de nouvelles données


mesurées
Remarque : Avant de commencer à configurer l'algorithme, vous devez configurer les
applicateurs à cône (Configurer les applicateurs à cône dans RT Administration à la
page 172).

Chapitre 7 Algorithme de calcul de la dose du cône (CDC) 167


Lorsque vous configurez l'algorithme CDC en important de nouvelles données
faisceaux mesurées, vous devez importer les données du rapport hors axe et du
Rapport Tissu-Maximum au format w2CAD. Plus d'informations sur le format
w2CAD : Annexe C Formats de fichiers pour les données faisceaux mesurées à la
page 344. En outre, vous devez ajouter manuellement les données d'étalonnage de
dose absolue et de facteur d'ouverture du collimateur.
Vous devez vérifier le fichier de données TMR suivant :
■ Le paramètre %TYPE de l'en-tête doit être défini sur TMR.
■ Si vous disposez de collimateurs en cône d'une précision de diamètre de 0,5 mm,
vérifiez que les décimales sont correctement représentées dans le fichier. Les
valeurs ne doivent pas être arrondies au millimètre entier supérieur ou inférieur.
Vous devez vérifier le fichier de données OAR suivant :
■ Le paramètre %TYPE de l'en-tête doit être défini sur OPP (Profil à champ ouvert).
■ Vous devez aussi vérifier que %SSD (% DSP) et la profondeur (%DPTH) sont définis
pour toutes les mesures.

Configurer l'algorithme CDC à l'aide de nouvelles données mesurées


1. Configurez les applicateurs à cône dans RT Administration (Configurer les
applicateurs à cône dans RT Administration à la page 172).
2. Dans Beam Configuration, accédez à l'espace de travail Beam Data. Instructions
d'utilisation de Beam Configuration : Aide en ligne Radiothérapie et Imagerie ou
Manuel de référence Beam Configuration.
3. Ajoutez un nouveau modèle de calcul, un conteneur de données faisceaux et de
nouvelles données faisceaux.
4. Vérifiez la validité des paramètres de la machine de traitement (Paramètres de
configuration généraux à la page 160).
5. Ajoutez un nouvel accessoire de type Ensemble de cônes.
6. Dans la Focus Window (Fenêtre active), cliquez avec le bouton droit de la souris
sur l'accessoire et choisissez Match and Assign Add-Ons (Comparer et affecter
des accessoires).
7. Dans la boîte de dialogue Match and Assign Add-Ons (Comparer et affecter des
accessoires), procédez comme suit :
a. Sélectionnez la ligne de données faisceaux de l'ensemble de cônes.
b. Cochez la case In Use (En cours d'utilisation).
c. Dans Automatic Match (Comparaison automatique), cliquez sur All (Tout).
d. Cliquez sur Close (Fermer).
Examinez la comparaison afin de vous assurer qu'elle est valide.

168 Manuel de référence des algorithmes de photonthérapie et


d'électronthérapie Eclipse
8. Dans la Focus Window (Fenêtre active), cliquez avec le bouton droit de la souris
et choisissez Insert > New Absolute Dose Calibration Parameters (Insérer >
Nouveaux paramètres d'étalonnage de dose absolue).
9. Saisissez les paramètres d'étalonnage de dose absolue (Tableau 30 à la page 160).
10. Dans la Focus Window (Fenêtre active), cliquez avec le bouton droit de la souris
sur un accessoire, puis choisissez Insert > Measured Output factors (Insérer >
Facteurs d'ouverture du collimateur mesurés).
11. Procédez comme suit :
a. Saisissez les tailles de cône et les valeurs de facteur d'ouverture du
collimateur correspondantes dans la table Measured Output Factors
(Facteurs d'ouverture du collimateur mesurés).
b. Spécifiez la distance source-fantôme de la mesure du facteur d'ouverture du
collimateur.
c. Spécifiez la profondeur de la mesure du facteur d'ouverture du collimateur.
d. Spécifiez les positions X et Y de la mâchoire (en mm) qui ont été utilisées
pendant la mesure du facteur d'ouverture du collimateur.
12. Dans la Focus Window (Fenêtre active), cliquez avec le bouton droit de la souris
sur un accessoire, puis choisissez Import > Measured Tissue Maximum Ratios
(Importer > Rapports Tissu-Maximum mesurés).
13. Dans la zone de liste Look in (Rechercher), accédez au dossier contenant les
fichiers au format w2CAD à importer et cliquez sur OK pour démarrer
l'importation.
Si vous détectez des erreurs dans les données mesurées, arrêtez le processus
d'importation. Remontez à la source de l'erreur en repérant le problème dans les
données mesurées et corrigez ces dernières avant de reprendre la procédure
d'importation.
14. Spécifiez la distance source-détecteur de la mesure du Rapport Tissu-Maximum.
15. Recommencez les étapes 12 et 13 pour importer les rapports hors axe.
16. Dans la fenêtre active, cliquez avec le bouton droit de la souris sur un accessoire,
puis choisissez Calculate Beam Data (Calculer les données faisceaux).
17. Vérifiez les données calculées (Évaluation des données CDC configurées à la
page 170).
N'oubliez pas d'enregistrer et d'approuver vos données faisceaux configurées.
Validez les données faisceaux configurées dans l'espace de travail Beam Data. Si
vous devez poursuivre la configuration après avoir validé les données,
désapprouvez d'abord les données. Instructions pour l'approbation, la validation
et l'annulation de l'approbation des données faisceaux : Manuel de référence Beam
Configuration.

Chapitre 7 Algorithme de calcul de la dose du cône (CDC) 169


Évaluation des données CDC configurées
Vous pouvez évaluer les données CDC configurées en révisant les données traitées
ou en évaluant les histogrammes des erreurs Gamma et les erreurs Gamma
ponctuelles. Vous pouvez aussi créer un plan avec des champs statiques, et l'utiliser
pour évaluer les données configurées.

Évaluation des données adaptées


Le programme de configuration de l'algorithme CDC adapte les données faisceaux
mesurées, par exemple, en supprimant des valeurs virtuelles de courbes mesurées.
Les données adaptées sont appelées données traitées, et elles peuvent être revues une
fois que le programme de configuration est terminé dans l'espace de travail Beam
Data. Chaque courbe mesurée possède une courbe traitée correspondante qui est
utilisée pour la configuration des données faisceaux. Vous pouvez consulter chaque
courbe traitée individuellement ou via un objet Compare (Comparer) affiché dans la
Focus Window (Fenêtre active). L'objet Compare (Comparer) affiche les deux
courbes sur le même axe.

Évaluation des histogrammes d'erreur Gamma


Grâce au modèle Cone Dose Calculation (Calcul de dose du cône) d'Eclipse, l'erreur
Gamma est calculée pour chaque courbe de mesure traitée en la comparant aux
points de mesure adaptés.34 À cette fin, les points adaptés et les courbes calculées
sont superposés sur le même graphique, dans lequel l'axe X correspond à la position
(mm) et l'axe Y à la dose relative (%) comme illustré sur la figure.

34 Daniel A. Low, William B. Harms, Sasa Mutic, and James A. Purdy: A technique for the quantitative
evaluation of dose distributions. Medical Physics 25 (5), 656–661 (1998).

170 Manuel de référence des algorithmes de photonthérapie et


d'électronthérapie Eclipse
3

1 5

1. % de dose relative
2. Distance (mm)
3. Point de la courbe le plus proche du point « p »
4. Courbe
5. Gamma = 1
6. Point « p »

Figure 21 Définition d'une erreur Gamma ponctuelle

Sur la figure, la ligne continue représente le profil calculé, le point noir indique le
point « p » adapté et le point bleu indique le point le plus proche du point « p » sur la
courbe calculée.
Le programme de configuration de l'algorithme CDC calcule l'erreur Gamma pour
chaque courbe de mesure traitée en chaque point en comparant la valeur mesurée à
la valeur calculée. Ces erreurs sont affichées en chaque point de la courbe et du profil
du Rapport Tissu-Maximum mesuré. L'unité utilisée pour l'écart de dose relative est
1 % et l'unité de distance est 1 mm. L'erreur Gamma résultante dans l'exemple de la
figure correspond approximativement à 2,24.
Les histogrammes d'erreurs Gamma pour les courbes TMR et OAR sont calculés à
partir des erreurs Gamma ponctuelles.

Chapitre 7 Algorithme de calcul de la dose du cône (CDC) 171


Configurer les applicateurs à cône dans
RT Administration
Vous devez configurer les applicateurs à cône dans RT Administration avant de
commencer à configurer l'algorithme CDC.

Remarque : La taille de champ définie dans l'onglet de l'applicateur pendant la configuration


est importante, car elle est utilisée dans le calcul de la dose. Varian recommande d'utiliser la
collimation appropriée afin de réduire le champ de traitement à haute dose. Le dépassement de
cette limite provoquera une fuite supplémentaire hors de la monture du cône, ce qui pourrait
provoquer une dose d'irradiation excessive chez le patient. Pour tous les cônes, la taille de
champ doit être supérieure au diamètre de l'applicateur à cône, mais ne doit pas dépasser
56 X 56 mm.

1. Dans RT Administration, sélectionnez l'onglet Radiation & Imaging Devices


(Systèmes d'irradiation et d'imagerie).
2. Sélectionnez la machine de traitement que vous êtes en train de configurer.
3. Sélectionnez l'onglet Applicator (Applicateur).
4. Cliquez sur New Applicator (Nouvel applicateur).
5. Dans l'onglet General (Général), procédez comme suit :
a. Dans le champ ID, saisissez un ID (identifiant) pour l'applicateur à cône. L'ID
est indiqué dans Beam Configuration et RT Administration ; aussi, il devra
spécifier la taille du cône.
b. Dans le champ Name (Nom), saisissez un nom pour l'applicateur à cône. Il
peut être identique à l'ID.
c. Dans le champ Internal Code (Code interne), saisissez un entier que vous
souhaitez utiliser comme code interne.
d. Si vous utilisez PAVS et que vous souhaitez imprimer les étiquettes à code
barres pour les cônes, cochez la case External Verification (Vérification
externe).
6. Accédez à l'onglet Applicator (Applicateur) dans la boîte de dialogue Applicator
Properties (Propriétés de l'applicateur).
7. Procédez comme suit :
a. Vérifiez que la case Rectangular (Rectangulaire) n'est pas cochée.
b. Cochez la case Stereotactic (Stéréotaxique).
c. Dans la zone de groupe (d'options) Field Size (Taille du champ), saisissez le
diamètre du cône en centimètres dans la zone de texte X. La valeur doit être
comprise entre les différentes limites de paramètres définies. Vous pouvez
ajuster ces dernières si nécessaire.
d. Définissez la distance entre la source et la tête de l'applicateur.

172 Manuel de référence des algorithmes de photonthérapie et


d'électronthérapie Eclipse
8. Cliquez sur l'onglet Slots (Glissières), et attribuez une glissière à partir de la liste
disponible All Slots (Toutes les glissières).
9. Cliquez sur OK.
10. Recommencez les étapes 4 à 9 pour les autres cônes.
11. Sélectionnez l'onglet Configured EMT (EMT configurées) et procédez comme
suit :
a. Dans le groupe Configured EMT (EMT configurées), sélectionnez la
technique d'arcthérapie pour le mode d'énergie que vous souhaitez utiliser.
b. Lorsque le groupe Add-on Validation for <nn> X / ARC (Choix des
accessoires pour <nn> X / ARC) est actif, cochez les cases des cônes de
stéréotaxie que vous avez créés pour activer la validation d'accessoire pour
ceux-ci.
c. Pour activer des champs de cône statiques, dans le groupe Configured EMT
(EMT configurées), sélectionnez la technique Static (Statique) pour le mode
d'énergie que vous souhaitez utiliser.
d. Lorsque le groupe Add-on Validation for <nn> X / STATIC (Choix des
accessoires pour <nn> X / STATIQUE) est actif, cochez les cases des cônes de
stéréotaxie que vous avez créés pour activer la validation d'accessoire pour
ceux-ci.
Répétez cette étape pour tous les modes d'énergie que vous allez utiliser.

Remarque : Une seule instance d'une taille de cône pour le même mode d'énergie et
la même technique est prise en charge dans Cone Planning. Par exemple, si vous avez
déjà configuré un applicateur à cône 18 mm pour un traitement SRS ARC 6X, ne
configurez pas un autre applicateur à cône 18 mm pour un traitement SRS ARC 6X.
Vous pouvez cependant configurer le même cône 18 mm, par exemple, pour un
traitement SRS Statique 6X.

12. Sélectionnez l'onglet Applicator (Applicateur) et double-cliquez sur l'ID


(identifiant) de l'applicateur que vous avez créé.
13. Sélectionnez l'onglet Applicator (Applicateur) dans la boîte de dialogue, et
cliquez sur Configure Jaw Size (Configurer la taille des mâchoires).
14. Saisissez la taille des mâchoires du cône pour chaque énergie pour laquelle vous
avez configuré le cône, et cliquez sur OK.
La taille des mâchoires que vous définissez doit être identique à celle que vous
avez utilisée pour mesurer les facteurs d'ouverture du collimateur.
15. Recommencez les étapes 12 à 14 pour tous les applicateurs à cône que vous
configurez. Vous pouvez conserver la boîte de dialogue Applicator Properties
(Propriétés de l'applicateur) ouverte, et cliquez sur Apply (Appliquer) pour
appliquer vos modifications lorsque vous basculez d'un applicateur au suivant.
16. Cliquez sur OK pour fermer la boîte de dialogue Applicator Properties
(Propriétés de l'applicateur).

Chapitre 7 Algorithme de calcul de la dose du cône (CDC) 173


Chapitre 8 Algorithme electron Monte Carlo
(eMC)

Algorithme electron Monte Carlo (eMC)


Remarque : L'algorithme eMC ne prend pas les champs d'arcthérapie électronique en charge,
bien qu'Eclipse External Beam Planning permette la sélection de la technique d'arcthérapie
pour les champs d'électrons.

L'algorithme electron Monte Carlo (eMC) offre une implémentation rapide de la


méthode Monte Carlo conçue pour le calcul des distributions de dose délivrées par
des faisceaux d'électrons à haute énergie. L'algorithme eMC consiste en deux
modèles :
■ Le modèle de transport, de la méthode Macro Monte Carlo (MMC), qui transporte
les électrons et calcule la dose déposée à chaque point le long de la trajectoire des
particules.35, 36
■ Un modèle de source de faisceaux d'électrons, qui décrit les électrons et les
photons émergeant de la tête de traitement de l'accélérateur linéaire.37
Comme l'algorithme eMC utilise des propriétés spécifiques au matériau pendant le
transport des particules et la conversion de l'énergie absorbée en dose, le texte qui
suit s'affiche à l'écran dès lors qu'un plan est calculé avec l'algorithme eMC :
« Transport in Medium, Dose to Medium » (Transport dans le support, dose dans
milieu).
L'algorithme modélise les mâchoires du collimateur. Le MLC n'est modélisé que de
façon indirecte dans le cadre de la modélisation des mâchoires sur les machines
dotées de mâchoires fixées ou ne possédant pas de mâchoires parallèles au MLC. Les
caches sont pris en charge. La transmission de la plaque n'est pas prise en compte
dans le calcul de la dose.
Si un bolus est lié à un champ, l'algorithme eMC prend le bolus en compte dans le
calcul de la dose et la dose peut être visualisée dans le bolus. Toutes les structures de
support, les tables par exemple, sont ignorées. Pour les autres structures, seules les
parties qui se trouvent à l'intérieur du contour externe sont prises en compte.

35 Neunschwander H, Mackie TR & Reckwerdt PJ: MMC—a high performance Monte Carlo code for
electron beam treatment planning. Physics in Medicine and Biology, 1995 April; 40(4) 543–574.
36 M. K. Fix et al.: Monte Carlo dose calculation improvements for low energy electron beams using eMC.
Physics in Medicine and Biology, 2010; 55: 4577-4588.
37 M. K. Fix et al.: Generalized eMC implementation for Monte Carlo dose calculation of electron beams
from different machine types. Physics in Medicine and Biology, 2013; 58: 2841-2859.

174 Manuel de référence des algorithmes de photonthérapie et


d'électronthérapie Eclipse
Modèle de transport (MMC)
Le modèle de transport de l'algorithme eMC correspond à la méthode Macro Monte
Carlo (MMC), qui est une implémentation de la méthode Global à Local de Monte
Carlo (LTG MC, Local-to-Global Monte Carlo). Fondamentalement, la méthode LTG-
MC est une procédure en deux étapes :
1. Les simulations MC conventionnelles de transport des électrons sont effectuées
selon une géométrie locale bien définie.
Le résultat de ces calculs représente une bibliothèque de fonctions de distribution
de probabilités (PDF, probability distribution functions) des particules émergeant
de la géométrie locale. Ces PDF sont calculées une seule et unique fois pour une
variété de matériaux et d'énergies pertinents sur le plan clinique.
2. Les calculs MC sont réalisés dans une géométrie globale. Les particules sont
transportées à travers le volume scanner par étapes de déplacement
macroscopiques basées sur les PDF générées par le calcul local.

Calculs de géométrie locale


La méthode MMC utilise des éléments de volume sphériques, appelés sphères, pour
les calculs locaux. Les fonctions de distribution de probabilités (PDF) sont le produit
de calculs préalables extensifs réalisés à l'aide du système de code EGSnrc.38 Les
précalculs visent à simuler le transport d'électrons incidents d'énergies variables au
travers de sphères macroscopiques dont la taille et les matériaux sont susceptibles
d'être utilisés dans le calcul du MMC réel. Si plus d'un électron émerge d'une sphère,
l'électron doté de la plus grande énergie est appelé électron primaire. Les autres
particules sont appelées « particules secondaires » (électrons secondaires et photons
de rayonnement de freinage). Toutes les PDF sont stockées dans la base de données
MMC sous forme de partie statique des données faisceaux eMC.

Base de données MMC


La base de données MMC contient les PDF des particules émergeantes avec les
paramètres suivants :
■ 5 matières différentes : air, poumon (matière de fantôme), eau, lucite et os plein
(matière de fantôme) (voir le tableau)

38 I. Kawrakow and D.W.O. Rogers: The EGSnrc Code System: Monte Carlo Simulation of Electron and
Photon Transport. Ionizing Radiation Standards, National Research Council of Canada, NRCC Report
PIRS-701, 19 avril 2002.

Chapitre 8 Algorithme electron Monte Carlo (eMC) 175


■ 5 sphères de diamètre d égal à 1,0, 2,0, 3,0, 4,0 et 6,0 mm. La taille de sphère
maximale dépend de l'énergie initiale de la particule : 2 mm pour 4 MeV, 3 mm
pour 5 MeV, 4 mm pour 6 MeV, 6 mm pour 7,5 MeV et plus.
■ 30 valeurs d'énergies incidentes T i (0,2 ; 0,4 ; 0,6 ; 0,8 ; 1 ; 1,5 ; 2 ; 3 ; etc. 24, 25 MeV)
Pour chaque combinaison de ces paramètres, les informations suivantes sont
stockées :
■ Énergie en sortie T f , position de sortie α et direction de sortie θ des électrons
primaires.
■ Direction de l'énergie et probabilité (pondération) des électrons secondaires.
■ Énergie et probabilité (pondération) des photons secondaires.
La table répertorie les densités massiques des cinq matières prédéfinies.

Tableau 31 Densités massiques des matériaux prédéfinis

Matière Densité [g/cm3]

Air 0,0012

Fantôme de poumon 0,30

Eau 1,0

Lucite 1,19

Fantôme d'os plein 1,84

Exemple : si la densité moyenne d'une sphère est de 1,12 g/cm3, il existe 12/19
chances que le matériau en question soit le lucite, et 7/19 qu'il soit de l'eau.
La figure présente la géométrie locale utilisée dans l'algorithme MMC.

176 Manuel de référence des algorithmes de photonthérapie et


d'électronthérapie Eclipse
1 6

5
7

( (
2
8

3
9

1. Électron incident
2. Électron principal émergeant
3. Électron secondaire
4. Photon de rayonnement de freinage
5. Suivi de l'électron
6. Énergie de l'électron incident T i
7. d ,Z, ρ
8. Énergie de l'électron émergeant T f
9. PDF

Figure 22 Géométrie locale utilisée dans MMC

Prétraitement du volume scanner


À chaque position du volume scanner, l'étape de prétraitement détermine les tailles
et les densités moyennes des sphères. Cette opération est réalisée sur l'ensemble du
volume scanner avant la simulation MMC.

Chapitre 8 Algorithme electron Monte Carlo (eMC) 177


Le volume scanner est d'abord converti en un volume de densité massique dont la
résolution est définie par l'utilisateur (entre 0,1 et 0,5 cm) d'après les facteurs de
conversion scanner-densité massique appropriés. Le volume de densité résultant est
alors scanné pour vérifier l'hétérogénéité. À chaque voxel de densité-volume, un
indice de sphéricité est affecté, correspondant au rayon maximal de la sphère
pouvant être utilisé à partir du centre du voxel actuel sans que la sphère
correspondante ne soit au contact de l'autre matériau. La taille de sphère maximale
autorisée dépend de l'énergie de l'électron (plus d'informations : Base de données
MMC à la page 175). En plus de cette contrainte, l'algorithme empêche les
changements importants de taille des sphères adjacentes.
Il résulte de ce processus :
■ De petites sphères affectées aux voxels avoisinant les interfaces entre les
matériaux
■ De grandes sphères affectées aux voxels plus éloignés des interfaces entre les
matériaux (voir la figure)
Un voxel du volume de densité est considéré comme faisant partie d'un volume
hétérogène si le rapport des densités du voxel et de ses voisins dépasse la limite de
1,5. Si les densités présentes dans les deux voxels sont inférieures au seuil de
0,05 g/cm3, le rapport n'est pas évalué. La saisie d'un seuil de densité évite que le
bruit présent dans les données de faible densité ne soit interprété comme une
hétérogénéité. En cas de densités et de rapports de densités inférieurs aux limites
mentionnées plus haut, l'algorithme MMC est capable de traiter les différences de
matériau sans diminuer la taille d'étape de déplacement.
Le matériau affecté à chaque sphère dépend de la densité massique moyenne à
l'intérieur de la sphère. Si la densité massique moyenne d'une sphère est exactement
identique à la densité massique de l'un des matériaux prédéfinis, ce dernier est
sélectionné pour la sphère. Si la densité massique d'une sphère se situe entre deux
valeurs de matériaux prédéfinies, l'un des deux matériaux est sélectionné de manière
aléatoire chaque fois qu'une particule pénètre dans la sphère. La probabilité qu'un
matériau soit choisi est proportionnelle à la similarité de la densité massique
moyenne d'une sphère par rapport à la densité massique du matériau (Tableau 31 à la
page 176). Si la densité massique d'un voxel dépasse la densité massique maximale
dans la base de données eMC (1,84 g/cm3), la densité massique maximale sera utilisée
et il est possible que la diffusion ne soit pas basée sur le matériau approprié.

178 Manuel de référence des algorithmes de photonthérapie et


d'électronthérapie Eclipse
1. Taille de voxel de la grille = 1 mm
2. Diamètres de sphère (en mm) dans chaque voxel
3. Hétérogénéité

Figure 23 Résultat d'une coupe scanner prétraitée

Transport de particules primaires et dépôt d'énergie


Les processus de numérisation et de calcul de la moyenne du volume scanner
(Prétraitement du volume scanner à la page 177) permettent de réduire la
détermination de la taille et de la densité moyenne de la sphère appropriées pour une
étape de déplacement MMC à une recherche du voxel de densité contenant le centre
de la sphère actuelle dans une table. Le centre de la sphère est placé à une distance
donnée de la position actuelle de l'électron primaire dans la direction du mouvement
de celui-ci. Cette distance est égale à un rayon de la taille de sphère maximale
autorisée à l'étape de déplacement précédente. La position actuelle de l'électron
primaire correspond à la position de sortie sur la sphère précédente.
L'algorithme arrête une particule à l'interface entre des matériaux différents (6 dans
la figure) et reprend le transport avec une nouvelle sphère dans le nouveau matériau.
L'arrêt aux interfaces est uniquement nécessaire si le rapport des pouvoirs d'arrêt
linéaires dans les voxels dose-volume des deux côtés de l'interface dépasse la limite
de 1,5. Pour les rapports de pouvoirs d'arrêt inférieurs à cette limite, l'algorithme
MMC franchit les interfaces des matériaux sans arrêter les particules au niveau de
celles-ci.

Chapitre 8 Algorithme electron Monte Carlo (eMC) 179


La figure présente une illustration schématique de l'algorithme de transport des
électrons primaires.

7
2

1. Matériau 1
2. Matériau 2
3. Direction de l'électron et taille d'étape de déplacement à partir de la sphère précédente
4. Diminution de la taille d'étape de déplacement près de la limite
5. Hétérogénéité
6. Arrêt au niveau de l'interface
7. Franchissement des limites entre les matériaux

Figure 24 Transport des électrons primaires

180 Manuel de référence des algorithmes de photonthérapie et


d'électronthérapie Eclipse
L'énergie de l'électron primaire est déposée le long d'une ligne droite partant du
point de pénétration de l'électron primaire dans la sphère jusqu'au point de sortie.
L'énergie T vox déposée dans chaque voxel le long d'un rayon est déterminée selon
l'équation suivante :

Équation 44

S l
T vox = T dep Svox l vox
kug dep

lvox = Longueur de la ligne à l'intérieur du voxel

ldep = Longueur totale de l'étape de déplacement actuelle

T dep = Énergie de l'électron primaire qui doit être déposée dans l'étape de dépla-
cement actuelle

Svox = Pouvoir d'arrêt linéaire du matériau du voxel

Skug = Pouvoir d'arrêt linéaire de la sphère utilisée pour rechercher les paramè-
tres de l'électron résultant de l'étape de déplacement actuelle

Comme décrit ci-dessus, l'électron est arrêté à la limite d'un voxel si le rapport des
pouvoirs d'arrêt linéaires entre les voxels voisins le long de la ligne est supérieur à
une limite donnée.
Les photons primaires perdent leur énergie lors des interactions suivantes :
■ Diffusion Compton
■ Production de paires
■ Effet photoélectrique
Les électrons et les positrons créés lors de ces interactions sont traités comme des
particules primaires. La direction du photon primaire peut changer lors de ces
interactions. La distance entre les interactions suivantes du photon primaire est
choisie de façon aléatoire d'après la trajectoire libre moyenne du photon et le
coefficient d'atténuation correspondant à la densité concernée et à l'énergie restante
du photon. Le photon primaire est tracé jusqu'à ce qu'il perde toute son énergie.

Chapitre 8 Algorithme electron Monte Carlo (eMC) 181


Transport de particules secondaires et dépôt d'énergie
Chaque étape de déplacement macroscopique génère un électron secondaire et un
photon secondaire (ou uniquement un photon secondaire) associés à une
pondération w(T i) , qui correspond à la probabilité que la particule secondaire
survienne dans la simulation locale de l'électron incident d'énergie T i (Figure 22 à la
page 177). L'énergie et la direction des électrons secondaires sont échantillonnées à
partir des distributions fournies par les simulations locales. Pour les photons
secondaires, seule l'énergie est échantillonnée ; la direction est tirée de l'électron
incident.
La quantité d'énergie de l'électron secondaire déposée le long de sa direction dans
chaque voxel est calculée comme suit :

Équation 45

MeV Svox
ΔEe = w(T i) × 2 cm
× Δl × Swater

ΔEe = Énergie déposée dans le voxel par l'électron secondaire.

w(T i) = Pondération de la particule secondaire émergeant de l'électron incident


d'énergie T i .

Δl = Longueur de la ligne à l'intérieur du voxel.

Svox = Pouvoir d'arrêt linéaire du matériau du voxel.

Swater = Pouvoir d'arrêt linéaire de l'eau.

Pour le photon secondaire, la distance par rapport à l'interaction suivante est


déterminée en prenant en compte l'atténuation massique locale du matériau et en
appliquant un tracé de rayon depuis la position de départ échantillonnée le long de
la direction de l'électron primaire entrant. Au niveau du point d'interaction, l'énergie
transférée du photon à l'électron est échantillonnée à partir d'une PDF fonction de
l'énergie du photon en utilisant les données de XCOM.39 La pondération de l'électron
est définie sur celle du photon. Bien que le photon ne soit plus suivi, l'énergie de
l'électron est déposée le long de la direction du photon selon l'équation ci-dessus.

39 Berger M. J. et al.: XCOM: Photon Cross Section Database version 1,5. National Institute of Standards and
Technology, Gaithersburg, MD. 2010.

182 Manuel de référence des algorithmes de photonthérapie et


d'électronthérapie Eclipse
Imprécision statistique
L'algorithme eMC définit la précision statistique globale comme étant l'imprécision
statistique relative moyenne de tous les voxels de la région d'intérêt. La région
d'intérêt contient tous les voxels compris dans le contour externe présentant une dose
supérieure à la valeur P % de la dose maximale définie par l'utilisateur. L'imprécision
statistique moyenne SP est calculée comme suit :

Équation 46

SP =
1
NP ∑ ΔDi jk
Di jk > P%Dmax

P = Valeur de Dose threshold for uncertainty (Seuil de dose pour


l'imprécision) définie dans les options de calcul.

NP = Nombre de voxels satisfaisant la condition Di jk > P%Dmax .

Di jk = Dose au point ( i, j, k ) du contour externe.

Dmax = Dose maximale au sein du contour externe.

ΔDi jk = Écart-type relatif de la dose déposée au point ( i, j, k ).

Lissage de dose
Les distributions de dose selon les simulations de Monte Carlo comportent
nécessairement un bruit statistique dû à la nature aléatoire du processus de
simulation. La distribution de dose finale peut être lissée afin de réduire le bruit
statistique. Un lissage puissant est susceptible de détériorer la forme de la
distribution de dose dans les régions à fort gradient.
L'algorithme eMC prend en charge deux méthodes différentes de lissage de dose : le
lissage gaussien et le lissage médian.
Lissage de dose gaussien
Le lissage de dose gaussien est une méthode de lissage par convolution qui met en
œuvre un noyau évoquant la forme d'une courbe gaussienne (en forme de cloche).

Chapitre 8 Algorithme electron Monte Carlo (eMC) 183


Avant la convolution, la distribution gaussienne est limitée en tronquant le noyau au
point de trois écarts-types environ par rapport à la moyenne. Cette action a pour effet
de réduire le noyau de convolution à une taille plus commode. Lorsqu'une taille de
noyau satisfaisante est obtenue, le lissage de dose gaussien est effectué au moyen de
méthodes de convolution standard en 3D.
Le degré de lissage gaussien est déterminé par l'écart-type de la gaussienne (Options
de calcul dans l'algorithme eMC à la page 184). La taille de l'écart influe sur la taille
du noyau requis, de sorte que des écarts-types plus importants des gaussiennes
nécessitent des noyaux de convolution plus importants.
Le lissage gaussien produit une moyenne pondérée de la région proche de chaque
pixel, avec une moyenne davantage pondérée vers la valeur des pixels centraux.
Lissage médian de la dose
La méthode du lissage médian de la dose détermine la valeur d'un pixel en
examinant les valeurs des pixels voisins sur une coupe et en prenant la moyenne de
ces valeurs. Chaque pixel et ses proches sont considérés tour à tour. Si un pixel est
considéré comme représentatif de son entourage, il est remplacé par la valeur
médiane des pixels de la région proche. La médiane est calculée en classant les
valeurs des pixels par ordre numérique, puis en remplaçant les pixels par la valeur
moyenne. Si la région proche contient un nombre pair de pixels, la moyenne des
deux valeurs médianes des pixels est utilisée. Le lissage médian est effectué coupe
par coupe.
Le lissage médian ne conserve pas la somme des valeurs de pixels du volume (la
somme des valeurs médianes n'est pas égale à la somme des valeurs originales). Une
taille de fenêtre trop importante peut conduire à des distorsions au niveau des
histogrammes dose-volume. L'algorithme eMC utilise des fenêtres de taille
relativement réduite afin de minimiser les erreurs liées aux distorsions.

Options de calcul dans l'algorithme eMC


Les options de calcul suivantes peuvent être configurées pour eMC :
■ Statistical uncertainty (Imprécision statistique) : imprécision statistique relative
moyenne à l'intérieur du contour externe dans la région où la dose est supérieure
à P % de la dose maximale (Imprécision statistique à la page 183). Une diminution
de l'imprécision statistique de 2 à 1 % accroît également la quantité requise
d'historiques de particules à simuler, ainsi que le temps nécessaire à la simulation,
par quatre.
Lorsqu'une valeur supérieure à la limite d'imprécision statistique est utilisée,
aucune valeur UM n'est donnée. Cette option n'est pas utilisée si la valeur du
paramètre Number of particle histories (Nombre d'historiques de
particules) est différente de 0.

184 Manuel de référence des algorithmes de photonthérapie et


d'électronthérapie Eclipse
■ Statistical uncertainty limit (Limite d'imprécision statistique) : limite le calcul des
UM à partir d'une dose présentant une imprécision statistique élevée.
■ Dose threshold for uncertainty (Seuil de dose pour l'imprécision) : définit, sous
forme de pourcentage de la dose maximale à l'intérieur du contour externe, le
seuil de dose déterminant la région dans laquelle l'imprécision statistique est
calculée. Plus la valeur est faible, plus l'imprécision statistique l'est également.
■ Calculation resolution in cm (Résolution de calcul en cm) : définit la résolution du
calcul de la dose.
■ Random generator seed number (Grain du générateur de nombres aléatoires) :
définit la séquence de nombres aléatoires utilisée par le générateur de particules.
Si la valeur de grain est définie sur 0, l'algorithme eMC utilise un grain sélectionné
de façon aléatoire. La valeur de grain utilisée dans la simulation est reportée dans
le fichier Log de calcul de la dose.
■ Number of particle histories (Nombre d'historiques de particules) : définit le
nombre de particules utilisées dans la simulation. Une valeur de 0 signifie que
cette option n'est pas utilisée ; la simulation emploie à la place autant de particules
que nécessaire pour atteindre l'imprécision statistique définie par l'option
Statistical uncertainty (Imprécision statistique).
L'algorithme eMC utilise des lots de particules pour la simulation ; chaque lot
comprend 10 000 particules. La valeur donnée pour l'option Number of
particle histories (Nombre d'historiques de particules) est toujours
arrondie au nombre supérieur le plus proche divisible par 10 000. Par exemple, si
la valeur donnée est de 10 001, eMC simule deux lots (ce qui équivaut à 20 000
particules). Le nombre de particules utilisées dans la simulation est reporté dans
le fichier Log de calcul de la dose.
Lorsque le facteur de parallélisation du champ Monte Carlo est supérieur à 1,
l'objectif d'imprécision statistique pour un servant est calculé selon la formule
Imprécision statistique × sqrt(Ν)), où N correspond au nombre de
servants utilisés pour le calcul d'un champ.
■ Smoothing method (Méthode de lissage) : définit la méthode de lissage de la
distribution de dose. Les valeurs possibles sont No smoothing (Aucun lissage),
Gaussian (Gaussien) et Median (Médian).
■ Smoothing level (Niveau de lissage) : définit le degré de lissage de la dose. Les
valeurs possibles sont Low (Faible), Medium (Moyen) et Strong (Fort). Le lissage
modifie la distribution de dose, qui peut à son tour modifier la valeur UM du
plan.
Les options de calcul par défaut sont définies dans Beam Configuration. Le facteur
de parallélisation du champ Monte Carlo définit le nombre de servants utilisés dans
le calcul. Ce facteur est défini dans les paramètres DCF.

Chapitre 8 Algorithme electron Monte Carlo (eMC) 185


Modèle de source de faisceaux d'électrons
Le modèle de source de faisceaux d'électrons est un modèle de source multiple.40, 41.
Il contient les sous-sources suivantes :
■ Source primaire (électrons et photons), à savoir une source ponctuelle située à
proximité du filtre de diffusion
■ Source des mâchoires (électrons et photons)
■ Sources d'insert pour les électrons diffusés au niveau des inserts supérieurs de
l'applicateur
■ Source de bord pour les électrons diffusés au niveau du dernier insert de
l'applicateur ou du cache
■ Photons de transmission
Le modèle repose sur des données précalculées pour différents types de machines
(Elekta, Siemens et Varian) et il est configuré à l'aide de données faisceaux mesurées.

Source primaire
La source primaire est une source ponctuelle pour les électrons et photons provenant
du filtre de diffusion. La distance du foyer est de 10 cm en dessous de la cible
nominale, et les particules sont échantillonnées sur un plan situé à 95 cm en dessous
de la cible nominale, à l'intérieur de la forme définie par l'applicateur ou le cache.

40 Fix M. K. et al.: Monte Carlo dose calculation improvements for low energy electron beams using eMC.
Physics in Medicine and Biology 2010; 55: 4577–88.
41 Fix M. K. et al.: Generalized eMC implementation for Monte Carlo dose calculation of electron beams
from different machine types. Physics in Medicine and Biology 2013; 58: 2841–2859.

186 Manuel de référence des algorithmes de photonthérapie et


d'électronthérapie Eclipse
Figure 25 Faisceau divergent principal

Les directions des photons et des électrons sont déterminées comme suit :
■ La direction des photons est donnée par la position échantillonnée dans le plan et
la position Z du foyer (10 cm en dessous de la cible nominale).
■ La direction moyenne des électrons est donnée par la position échantillonnée dans
le plan et la position de la cible nominale. L'algorithme fait ensuite varier cette
direction selon une distribution gaussienne avec une variance dépendant de
l'énergie.

Source des mâchoires


La source des mâchoires décrit les électrons et les photons diffusés au niveau des
4 mâchoires X1, X2, Y1 et Y2. L'origine des particules est échantillonnée
uniformément à partir de 4 segments de ligne horizontaux situés le long du centre du
côté interne des mâchoires. Comme pour la source primaire, les particules sont
échantillonnées sur un plan situé à 95 cm en dessous de la cible nominale à l'intérieur
de la forme définie par l'applicateur ou le cache.

Chapitre 8 Algorithme electron Monte Carlo (eMC) 187


Figure 26 Source des mâchoires

Les directions des photons et des électrons sont déterminées comme suit :
■ La direction des photons est donnée par la position échantillonnée dans le plan et
la position d'origine échantillonnée.
■ La direction moyenne des électrons est donnée par la position échantillonnée dans
le plan et la position d'origine échantillonnée. L'algorithme fait ensuite varier cette
direction selon une distribution gaussienne avec une variance dépendant de
l'énergie.

Sources d'insert
Chaque insert supérieur de l'applicateur présente une source linéaire le long des
bords de son ouverture contenant les électrons diffusés.

Figure 27 Sources d'insert

Il existe deux types de sources d'insert :


■ Les électrons provenant du bord supérieur de la découpe. Ils sont produits par les
électrons principaux pénétrant dans le matériau de l'insert sur le plan supérieur.
■ Les électrons provenant du côté interne de la découpe. Ils sont produits par les
électrons principaux pénétrant dans le matériau de l'insert sur le côté interne.

188 Manuel de référence des algorithmes de photonthérapie et


d'électronthérapie Eclipse
Les électrons sont échantillonnés à partir de noyaux de diffusion précalculés.

Électrons de bord
La sous-source des électrons de bord est une source linéaire le long de l'ouverture du
dernier insert de l'applicateur ou du cache contenant les électrons diffusés.

Figure 28 Électrons de bord

Il existe deux types d'électrons de bord :


■ Les électrons du bord supérieur de la découpe, produits par les électrons
principaux pénétrant dans le matériau de la découpe sur le plan supérieur.
■ Les électrons du côté interne de la découpe, produits par les électrons principaux
dans le matériau de la découpe sur le plan interne.
Les électrons de bord sont échantillonnés au moyen de noyaux de diffusion
précalculés.

Photons de transmission
Les photons de transmission sont échantillonnés à l'aide de noyaux précalculés. Ils
sortent du bord externe de l'applicateur et du matériau du cache.

Figure 29 Photons de transmission

Les trois types de photons de transmission suivants sont pris en compte :


■ Les photons principaux à travers le matériau du cache sans interaction. Leur
direction est identique à celle des photons principaux, mais ils possèdent une
distribution d'énergie différente.
■ Les photons diffusés produits par les photons principaux dans le matériau du
cache, échantillonnés au moyen d'un noyau précalculé.

Chapitre 8 Algorithme electron Monte Carlo (eMC) 189


Paramètres relatifs au type de machine dans le modèle de source de faisceaux
d'électrons
Les paramètres relatifs au type de machine sont utilisés pour la création des données
précalculées du modèle de source de faisceaux d'électrons. Ces paramètres décrivent
certaines propriétés physiques d'une machine de traitement et peuvent varier d'une
machine à l'autre. Les tableaux suivants fournissent des informations sur les
propriétés des types de machines pris en charge.

Remarque : Pour les types de machines ne possédant pas de mâchoires X, les positions des
mâchoires dans les tableaux ci-dessous font référence aux positions des groupes de lames du MLC.

Type de machine Varian


Tableau 32 Paramètres pour le type de machine Varian

Paramètre Valeur

Focus position of primary source (Position du 10 cm


foyer de la source primaire)

Position of the jaws source, Y jaws (Position 32 cm


de la source des mâchoires, mâchoires Y)

Position of the jaws source, X jaws (Position 40 cm


de la source des mâchoires, mâchoires X)

Position of the scraper 1 (Position de l'in- 65,4 cm


sert 1)

Thickness of the scraper 1 (Épaisseur de l'in- 1,6 cm


sert 1)

Position of the scraper 2 (Position de l'in- 78,5 cm


sert 2)

Thickness of the scraper 2 (Épaisseur de l'in- 2,0 cm


sert 2)

Lower end of the last applicator scraper (Ex- 95 cm


trémité inférieure du dernier insert de l'appli-
cateur)

Thickness of the lowest applicator scraper or 1,4 cm


block (Épaisseur de l'insert inférieur de l'ap-
plicateur ou du cache)

Applicator or block material (Matériau de Cerrobend


l'applicateur ou du cache)

190 Manuel de référence des algorithmes de photonthérapie et


d'électronthérapie Eclipse
Paramètre Valeur

Supported energy modes (Modes d'énergie 4e, 6e, 9e, 12e, 15e, 16e, 18e, 20e, 22e
pris en charge)

Supported applicators (Applicateurs pris en 6 ×6, 10×6, 10×10, 15×15, 20×20, 25×25
charge)

Tableau 33 Positions des mâchoires modélisées pour le type de machine Varian

Énergie/ 6x6 10x6 10x10 15x15 20x20 25x25


Applicateur
XxY

4e 20×20 16×13 20×20 20×20 25×25 30×30

6e 20×20 16×13 20×20 20×20 25×25 30×30

9e 20×20 16×13 20×20 20×20 25×25 30×30

12e 11×11 16×11 14×14 17×17 25×25 30×30

15e 11×11 16×10 14×14 17×17 23×23 28×28

16e 11×11 16×10 14×14 17×17 23×23 28×28

18e 11×11 16×10 14×14 17×17 22×22 27×27

20e 11×11 16×10 14×14 17×17 22×22 27×27

22e 11×11 16×10 14×14 17×17 22×22 27×27

Remarque : De légers écarts (jusqu'à 10 % environ) entre les positions des mâchoires données
dans le tableau ci-dessus et les positions réelles définies par la machine ne devraient pas avoir
d'incidence sur la précision.

Type de machine Elekta


Tableau 34 Paramètres pour le type de machine Elekta

Paramètre Valeur

Focus position of primary source (Position du 10 cm


foyer de la source primaire)

Position of the jaws source, X jaws (Position 33 cm


de la source des mâchoires, mâchoires X)

Position of the jaws source, Y jaws (Position 45 cm


de la source des mâchoires, mâchoires Y)

Chapitre 8 Algorithme electron Monte Carlo (eMC) 191


Paramètre Valeur

Position of the scraper 1 (Position de l'in- 55 cm


sert 1)

Thickness of the scraper 1 (Épaisseur de l'in- 0,6 cm


sert 1)

Position of the scraper 2 (Position de l'in- 77 cm


sert 2)

Thickness of the scraper 2 (Épaisseur de l'in- 1,2 cm


sert 2)

Position of the scraper 3 (Position de l'in- 86 cm


sert 3)

Thickness of the scraper 3 (Épaisseur de l'in- 1,2 cm


sert 3)

Lower end of the last applicator scraper (Ex- 95 cm


trémité inférieure du dernier insert de l'appli-
cateur)

Thickness of the lowest applicator scraper or 1,0 cm


block (Épaisseur de l'insert inférieur de l'ap-
plicateur ou du cache)

Applicator or block material (Matériau de Cerrobend


l'applicateur ou du cache)

Supported energy modes (Modes d'énergie 4e, 6e, 8e, 9e, 10e, 12e, 15e, 18e
pris en charge)

Supported applicators (Applicateurs pris en 6×6, 10×10, 14×14, 20×20, 25×25


charge)

Tableau 35 Positions des mâchoires modélisées pour le type de machine Elekta

Énergie/Appli- 6x6 10x10 14x14 20x20 25x25


cateur X x Y

4e 16×14 22×20 26×24 30×28 36×34

6e 16×14 22×20 26×24 30×28 36×34

8e 16×14 22×20 26×24 30×28 36×34

9e 16×14 22×20 26×24 28×26 34×32

10e 16×14 22×20 26×24 28×26 34×32

12e 16×14 22×20 24×22 28×26 34×32

192 Manuel de référence des algorithmes de photonthérapie et


d'électronthérapie Eclipse
Énergie/Appli- 6x6 10x10 14x14 20x20 25x25
cateur X x Y

15e 16×14 20×18 22×20 26×24 34×32

18e 16×14 20×18 22×20 26×24 34×32

Remarque : De légers écarts (jusqu'à 10 % environ) entre les positions des mâchoires données
dans le tableau ci-dessus et les positions réelles définies par la machine ne devraient pas avoir
d'incidence sur la précision.

Type de machine Siemens


Tableau 36 Paramètres pour le type de machine Siemens

Paramètre Valeur

Focus position of primary source (Position du 10 cm


foyer de la source primaire)

Position of the jaws source, Y jaws (Position 24 cm


de la source des mâchoires, mâchoires Y)

Position of the jaws source, X jaws (Position 32 cm


de la source des mâchoires, mâchoires X)

Position of the scraper 1 (Position de l'in- 56,6 cm


sert 1)

Thickness of the scraper 1 (Épaisseur de l'in- 0,6 cm


sert 1)

Position of the scraper 2 (Position de l'in- 85,0 cm


sert 2)

Thickness of the scraper 2 (Épaisseur de l'in- 3,2 cm


sert 2)

Lower end of the last applicator scraper (Ex- 95 cm


trémité inférieure du dernier insert de l'appli-
cateur)

Thickness of the lowest applicator scraper or 1,3 cm


block (Épaisseur de l'insert inférieur de l'ap-
plicateur ou du cache)

Applicator or block material (Matériau de Cerrobend


l'applicateur ou du cache)

Chapitre 8 Algorithme electron Monte Carlo (eMC) 193


Paramètre Valeur

Supported energy modes (Modes d'énergie 6e, 7e, 8e, 9e, 10e, 11e, 12e, 13e, 14e, 15e, 16e,
pris en charge) 17e, 18e, 19e, 20e, 21e

Supported applicators (Applicateurs pris en 10×10, 15×15, 20×20, 25×25


charge)

Tableau 37 Positions des mâchoires modélisées pour le type de machine Siemens

Énergie/Applica- 10x10 15x15 20x20 25x25


teur X x Y

6e 19×19 23×23 27×27 32×32

7e 19×19 23×23 27×27 30×30

8e 19×19 23×23 27×27 31×31

9e 19×19 23×23 27×27 32×32

10e 19×19 23×23 27×27 31×31

11e 19×19 23×23 27×27 32×32

12e 19×19 23×23 27×27 32×32

13e 19×19 23×23 27×27 32×32

14e 19×19 23×23 27×27 32×32

15e 19×19 20×20 25×25 29×29

16e 19×19 20×20 24×24 28×28

17e 19×19 20×20 24×24 28×28

18e 19×19 20×20 24×24 28×28

19e 17×17 20×20 24×24 28×28

20e 17×17 20×20 24×24 28×28

21e 17×17 20×20 24×24 28×28

Remarque : De légers écarts (jusqu'à 10 % environ) entre les positions des mâchoires données
dans le tableau ci-dessus et les positions réelles définies par la machine ne devraient pas avoir
d'incidence sur la précision.

194 Manuel de référence des algorithmes de photonthérapie et


d'électronthérapie Eclipse
Calcul des UM et normalisation de la dose
La configuration de l'algorithme electron Monte Carlo (eMC) repose sur des courbes
de dose en profondeur et des profils mesurés, d'après lesquels sont modélisées des
données précalculées. Les courbes de dose en profondeur sont mesurées dans l'eau et
les profils latéraux sont mesurés dans l'air. Les pondérations de la source sont
étalonnées pour produire une modélisation optimale en fonction de la courbe de
dose en profondeur de l'applicateur en unités de dose absolue.
Au cours du calcul de la dose, l'algorithme eMC suit les électrons individuels à
travers la géométrie du patient et calcule l'énergie déposée dans chaque voxel de
dose le long de la trajectoire de l'électron. Le nombre d'électrons suivis dépend de la
géométrie du patient et de celle du champ, ainsi que de l'imprécision statistique
définie par l'utilisateur ou du nombre d'historiques de particules. Une fois le suivi de
tous les électrons requis effectué, l'énergie déposée dans chaque voxel de dose est
divisée par la densité et le volume du voxel afin d'être convertie en dose (en Gy). La
dose est ensuite mise à l'échelle en cGy/UM à l'aide d'un facteur calculé à partir du
rapport du nombre de particules utilisées dans la simulation et des pondérations de
la source. L'algorithme fournit le facteur d'échelle (exprimé en UM/Gy) qui met à
l'échelle en Gy/UM la distribution de dose simulée à partir de l'échelle de dose
cGY/UM.
En raison de la nature statistique et non déterministe des calculs de Monte Carlo, la
distribution de dose résultante n'est pas exempte de bruit. L'ampleur relative de ce
bruit dépend de l'imprécision statistique du calcul (Imprécision statistique à la
page 183). Plus l'imprécision statistique est faible, plus l'ampleur des pics de bruit est
faible. Cependant, la valeur de la dose maximale est toujours surestimée.
L'emplacement du point de la dose maximale peut également être incorrect. Par
conséquent, la dose maximale ne doit pas être l'unique valeur utilisée pour
normaliser la dose ou pour évaluer l'adéquation de la distribution. De même, il
convient d'être prudent lors de la prescription de dose à un seul point. La
prescription à un volume est plus fiable.
La dose calculée par l'algorithme eMC est normalisée soit à 100 % à la dose maximale
lissée sur l'axe central du champ, sit à 100 % à la dose globale maximale lissée. Cette
dernière valeur est utilisée dans le cas où la dose maximale sur l'axe central du
champ est inférieure à 50 % de la dose maximale globale.

Remarque : Si la courbure de la surface du contour externe n'est pas prise en considération


dans le calcul manuel des UM, les résultats du calcul incluront une différence de quelques
UM par rapport au calcul réalisé par l'algorithme eMC.42

42 E. R. Ritenour, R. K. Cacak, W. R. Hendee: Ionization produced by electron beams beneath curved


surfaces. Medical Physics 10 (1983) 669.

Chapitre 8 Algorithme electron Monte Carlo (eMC) 195


Limites connues de l'algorithme eMC
À propos de la précision
La précision du modèle de transport (MMC) et du modèle de source de faisceaux
d'électrons est généralement de moins de 3 % de la dose maximale. Toutefois, des
écarts de plus de 3 % peuvent être observés dans les cas suivants :
■ Formes du contour externe inhabituelles, ou présence d'hétérogénéités extrêmes.
■ Données faisceaux sous-optimales ou incorrectes.
■ Données faisceaux configurées sans profil dans l'air avec faisceau à champ ouvert
mesuré avec les mâchoires dans des positions spécifiques à l'applicateur et à
l'énergie.
■ Champs avec des découpes présentant des formes asymétriques.
■ Dose à proximité des bords de l'applicateur.
■ Champ extérieur à de faibles profondeurs.
■ Applicateurs 6×6 Elekta à une DSP étendue (des écarts de plus de 3 % ont été
observés à une DSP = 110 cm et à une DSP = 120 cm).

Épaisseur du matériau du cache


Bien que le matériau (matériau de la découpe), l'épaisseur et la valeur de
transmission du cache puissent être configurés dans RT Administration, l'algorithme
eMC ne les utilise pas pour le calcul de la dose. Au lieu de cela, l'algorithme utilise
les paramètres de découpe définis dans le modèle de source de faisceaux d'électrons.
Si le matériau et/ou l'épaisseur de la découpe utilisés diffèrent de ceux définis dans le
modèle de source de faisceaux d'électrons, la dose calculée sous la découpe peut
dévier de la dose mesurée au même point, particulièrement lorsque des énergies
élevées sont utilisées.
Les bords de la découpe d'électrons (cache) sont modélisés de façon à présenter la
même divergence que l'insert inférieur de l'applicateur. Pour les machines Siemens,
l'insert inférieur et les bords du cache sont modélisés avec une divergence nulle.

196 Manuel de référence des algorithmes de photonthérapie et


d'électronthérapie Eclipse
Configuration de l'algorithme eMC
Remarque : Lors de la configuration des algorithmes d'irradiation de fluences, veuillez noter
les points suivants :
■ Il est important de configurer le système de sorte qu'il corresponde aux caractéristiques de
la machine de traitement.
■ Effectuez régulièrement des mesures de suivi et comparez-les aux données faisceaux
dosimétriques utilisées pour la configuration du faisceau. Si les fluctuations sont
importantes et que les données faisceaux configurées ne représentent plus le faisceau
moyen produit par la machine, reconfigurez les données faisceaux à l'aide des données
faisceaux dosimétriques plus récentes.
■ Mesurez toutes les données faisceaux dosimétriques dans les conditions de stabilité les plus
favorables possible.
■ Utilisez les mêmes conventions de dénomination de fichier dans les mesures de données
faisceaux (fichiers d'entrée) et dans Beam Configuration (nom de la machine de
traitement), et renommez les fichiers d'entrée afin de faciliter la mise en correspondance des
données faisceaux et de la machine de traitement lors du processus de configuration.
■ Lors de la mesure des courbes de dose en profondeur et des profils, utilisez un intervalle de
mesure suffisamment fin pour représenter avec précision les propriétés du faisceau.

Mesures de champ ouvert


Les mesures du champ ouvert complet (sans l'applicateur et avec les mâchoires du
collimateur ouvertes à 40 cm × 40 cm) suivantes doivent être fournies pour chaque
énergie d'électrons :
■ Courbe de rendement en profondeur dans l'eau à une distance source-fantôme
(DSF) = 100 cm
■ Un profil dans l'air à 95 cm. La mesure doit s'étendre au moins jusqu'à une
distance correspondant à la diagonale de la plus grande taille d'applicateur. La
mesure ne doit prendre en compte que la contribution des électrons.

Mesures avec applicateur


Pour chaque combinaison énergie/applicateur, les mesures suivantes doivent être
fournies :
■ Courbe de rendement en profondeur dans l'eau à une distance source-fantôme
(DSF) = 100 cm
■ Dose absolue dans l'eau, exprimée en [cGy/UM], au point d'étalonnage de la
courbe de rendement en profondeur (dmax ou un point proche, généralement)

Chapitre 8 Algorithme electron Monte Carlo (eMC) 197


Les mesures suivantes sont facultatives :
■ Profils dans l'air dans le plan (direction bras-table) et d'un plan à l'autre
(perpendiculairement à l'axe dans le plan) à 95 cm avec positions des mâchoires
réglées en fonction de leur position lors de l'administration du faisceau avec
l'applicateur, mais sans l'applicateur installé. Par exemple, pour un applicateur 9e
et 15 cm x 15 cm dans les machines de traitement Varian, les positions des
mâchoires sont réglées sur 20 cm x 20 cm (plus d'informations : Tableau 33,
Tableau 35 et Tableau 37). Les données faisceaux peuvent être configurées sans
profils dans l'air de l'applicateur, avec un profil dans l'air de l'applicateur ou avec
deux profils dans l'air de l'applicateur. La mesure du profil dans l'air doit
s'étendre au moins jusqu'à une distance correspondant à la diagonale de la plus
grande taille d'applicateur. La mesure ne doit prendre en compte que la
contribution des électrons. Formats de fichiers pour les profils dans l'air dans le
plan et d'un plan à l'autre : Fichiers w2CAD pour l'algorithme eMC à la page 351.
Les données de mesure du faisceau doivent se présenter au format w2CAD pour
pouvoir être transférées à Beam Configuration (Annexe C Formats de fichiers pour
les données faisceaux mesurées à la page 344).

Remarque : Veuillez noter les points suivants concernant les mesures avec applicateur :
■ La taille de l'applicateur est lue dans le fichier des paramètres généraux depuis la base de
données. Vérifiez si la valeur est correcte.
■ La taille du champ est déterminée par l'applicateur d'électrons sélectionné. La taille du
champ de l'applicateur d'électrons est entrée dans Beam Configuration. Les paramètres
de mâchoires entrés dans Eclipse External Beam Planning sont sans effet sur la
distribution de dose calculée.

Paramètres de configuration pour les faisceaux d'électrons


Des paramètres spécifiques doivent être définis pour chaque machine de traitement à
configurer avant l'importation des données faisceaux mesurées. Une partie de ces
paramètres est lue dans Beam Configuration depuis RT Administration. Lors de la
configuration de l'algorithme eMC, vérifiez que les paramètres lus depuis
RT Administration sont corrects, et ajoutez les paramètres manquants, le cas
échéant.

Paramètres généraux
Pour l'importation des données faisceaux mesurées et le calcul de la dose,
l'algorithme eMC requiert la définition des paramètres généraux de la machine de
traitement suivants :
■ Nom de la machine de traitement (défini dans Beam Configuration).
■ Énergie nominale (lue depuis RT Administration).
L'énergie nominale est assimilée à l'énergie du faisceau d'électrons

198 Manuel de référence des algorithmes de photonthérapie et


d'électronthérapie Eclipse
monénergétique entrant atteignant le filtre de diffusion. Sa valeur détermine
l'ensemble de données précalculées modélisées d'après les mesures lors de la
configuration de l'algorithme eMC. Le processus de modélisation peut compenser
de petits écarts entre l'énergie réelle du faisceau d'électrons et l'énergie nominale
eMC.
■ Distance source-axe en cm (lue depuis RT Administration). Seule la valeur
100,0 cm est prise en charge.

Paramètres de configuration
Les paramètres de configuration sont les suivants :
■ Machine model (Modèle de machine) : définit les paramètres du modèle de
faisceau d'électrons.
■ Statistical uncertainty (%) for configuration (Imprécision statistique [%] pour la
configuration) : imprécision statistique utilisée pour la simulation lors de la
configuration de la source des mâchoires et de la dosimétrie absolue. Informations
supplémentaires : Imprécision statistique à la page 183.

Conseil : Dans certains cas, la valeur par défaut du paramètre de configuration Statistical
uncertainty (Imprécision statistique) ne produit pas des données faisceaux avec le meilleur
étalonnage absolu possible. Ce problème est plus prononcé avec les faisceaux basse énergie
(4 MeV et 6 MeV). Les résultats de la configuration peuvent être améliorés en réduisant la
valeur d'imprécision statistique de 3,0 (valeur par défaut) à 1,5, par exemple.

Paramètres de l'applicateur
Le paramètre de l'applicateur définit la taille de celui-ci au format cm × cm.

Données faisceaux créées à partir des mesures


Courbe de rendement en profondeur avec champ ouvert
Un ensemble de courbes de rendement en profondeur monoénergétiques avec champ
ouvert précalculées pour la source principale des électrons ainsi que la courbe de
rendement en profondeur des photons précalculée de la source principal des photons
sont modélisés pour reproduire la courbe de rendement en profondeur mesurée.
Cette modélisation produit le spectre d'énergie des électrons issus de la source
primaire.

Chapitre 8 Algorithme electron Monte Carlo (eMC) 199


Courbe de rendement en profondeur de l'applicateur
La courbe de rendement en profondeur de l'applicateur est utilisée pour déterminer
le spectre d'énergie des électrons pour la source des mâchoires. Pour ce faire, un
ensemble de courbes de rendement en profondeur monoénergétiques précalculées de
la source des mâchoires est modélisé pour reproduire la différence entre la courbe de
rendement en profondeur mesurée de l'applicateur et celle obtenue à partir de la
simulation sans la source des mâchoires. Le spectre d'énergie des photons issus de la
source des mâchoires est précalculé. La pondération de la source des mâchoires est
définie de sorte que sa contribution à la dose totale soit de 10 %.

Dosimétrie absolue de l'applicateur


Toutes les pondérations de la source de faisceaux d'électrons sont étalonnées pour
produire une correspondance optimale entre la courbe de rendement en profondeur
simulée et celle de l'applicateur en unités de dose absolue.

Profils dans l'air avec champ ouvert


Les profils dans l'air avec champ ouvert sont utilisés pour construire la fluence 2D
des électrons f (r). Pour les photons, une fluence précalculée est utilisée. Le nombre
de particules générées en un point donné du plan de l'espace de phase initial à 95 cm
de la source est proportionnel à la valeur de la fluence 2D en ce point.

Profils dans l'air de l'applicateur


Les profils dans l'air de l'applicateur et la fluence radiale en champ ouvert f (r) sont
utilisés pour construire la fluence bidimensionnelle f (x, y), qui est utilisée lors du
calcul de la dose pour l'applicateur en question.
Les profils dans l'air de l'applicateur sont facultatifs pour la configuration. Si aucune
mesure de profil dans l'air de l'applicateur n'est fournie, la fluence radialement
symétrique f (r) obtenue à partir du profil dans l'air avec champ ouvert est utilisée
lors du calcul de la dose. Si la fluence dans l'ouverture de l'applicateur est différente
du profil dans l'air avec champ ouvert, il est recommandé d'inclure des profils dans
l'air de l'applicateur.
Le programme de configuration symétrise tous les profils dans l'air mesurés autour
de l'axe central.

Configurer l'algorithme eMC dans Eclipse


1. Dans Beam Configuration, accédez à l'espace de travail Beam Data. Instructions
d'utilisation de Beam Configuration : Manuel de référence Beam Configuration.
2. Dans la Focus Window (Fenêtre active), sélectionnez la machine de traitement et
l'énergie à configurer.

200 Manuel de référence des algorithmes de photonthérapie et


d'électronthérapie Eclipse
3. Pour insérer de nouvelles données faisceaux, sélectionnez Insert > New Beam
Data (Insérer > Nouvelles données faisceaux).
4. Définissez le nom de la machine de traitement.
5. Pour importer la courbe de dose en profondeur du champ ouvert, sélectionnez
File > Import > Measured Open Beam Depth Dose (Fichier > Importer > Dose en
profondeur mesuré du faisceau à champ ouvert).
Notez le format des fichiers de courbe de dose en profondeur (Annexe C Formats
de fichiers pour les données faisceaux mesurées à la page 344).
6. Vérifiez la valeur de la distance source-fantôme de la courbe de dose en
profondeur, et ajoutez-la si elle est absente.
7. Pour importer les données de profil du faisceau à champ ouvert, sélectionnez
File > Import > Open Beam Profile in Air (Fichier > Importer > Profil dans l'air
du faisceau à champ ouvert).
8. Vérifiez la valeur de la distance source-fantôme de la courbe de profil, et ajoutez-
la si elle est absente.
9. Vérifiez le type de machine et la valeur de l'imprécision statistique pour la
configuration dans Configuration Parameters (Paramètres de configuration).
10. Pour insérer les applicateurs, sélectionnez Insert > New Add-On (Insérer >
Nouvel accessoire).
11. Saisissez la taille du champ pour les applicateurs dans la fenêtre Applicator
Parameters (Paramètres de l'applicateur).
12. Pour comparer et affecter les applicateurs d'après la base de données,
sélectionnez Beam Data > Match and Assign Add-ons (Données faisceaux >
Comparer et affecter des accessoires).
13. Pour importer les courbes de dose en profondeur des applicateurs, sélectionnez
File > Import > Measured Applicator Depth Dose (Fichier > Importer > Dose en
profondeur mesuré de l'applicateur).
14. Vérifiez les valeurs de la distance source-fantôme, de la profondeur d'étalonnage
et de la dose à la profondeur d'étalonnage de la courbe de dose en profondeur, et
ajoutez-les si elles sont absentes.
15. Pour importer les données de profil dans l'air spécifiques à l'applicateur,
sélectionnez File > Import > In-Air Profile for Applicator (Fichier > Importer >
Profil dans l'air de l'applicateur). Vérifiez que les profils dans le plan et d'un plan
à l'autre sont correctement importés.
16. Pour calculer les données faisceaux pour les applicateurs, sélectionnez Beam
Data > Calculate Beam Data (Données faisceaux > Calculer les données
faisceaux).
N'oubliez pas d'enregistrer et d'approuver vos données faisceaux configurées.
Validez les données faisceaux configurées dans l'espace de travail Beam
Analysis. Si vous devez poursuivre la configuration après avoir validé les
données, désapprouvez d'abord les données. Instructions pour l'approbation, la

Chapitre 8 Algorithme electron Monte Carlo (eMC) 201


validation et l'annulation de l'approbation des données faisceaux : Manuel de
référence Beam Configuration.

Configurer l'algorithme eMC à l'aide de données faisceaux existantes


1. Dans Beam Configuration, accédez à l'espace de travail Beam Data. Instructions
d'utilisation de Beam Configuration : système d'aide en ligne Eclipse ou Manuel
de référence Beam Configuration.
2. Ajoutez de nouvelles données faisceaux.
3. Dans la Focus Window (Fenêtre active), sélectionnez la machine de traitement,
puis choisissez File > Import > Eclipse Beam Data (Fichier > Importer > Données
faisceaux Eclipse).
4. Pour accéder au répertoire contenant les données faisceaux Eclipse, cliquez sur
Browse (Parcourir). Le répertoire actif est affiché dans la boîte de données
Eclipse.
Accédez au niveau des fichiers de données générales du modèle de calcul. Ce
niveau se trouve au-dessus des dossiers contenant les fichiers de données
faisceaux configurées.
5. Dans la zone de liste de gauche, sélectionnez le jeu de données contenant les
données faisceaux Eclipse à importer.
6. Cliquez sur OK.
Les données faisceaux Eclipse apparaissent dans la Context Window (Fenêtre de
contexte).
7. Associez et attribuez les applicateurs.
8. Lors de l'importation de données faisceaux existantes configurées pour une
version antérieure de l'algorithme eMC, vous devez ajouter les paramètres de
configuration (Insert > Configuration Parameters [Insérer > Paramètres de
configuration]).
9. Facultatif : ajoutez les profils dans l'air des applicateurs (File > Import > In-Air
Profile for Applicator [Fichier > Importer > Profil dans l'air de l'applicateur]).
10. Une fois que vous avez importé toutes les données faisceaux mesurées
nécessaires, calculez les données faisceaux configurées pour le ou les applicateurs
(Beam Data > Calculate Beam Data [Données faisceaux > Calculer les données
faisceaux]).
N'oubliez pas d'enregistrer et d'approuver vos données faisceaux configurées.
Validez les données faisceaux configurées dans l'espace de travail Beam
Analysis. Si vous devez poursuivre la configuration après avoir validé les
données, désapprouvez d'abord les données. Instructions pour l'approbation, la
validation et l'annulation de l'approbation des données faisceaux : Manuel de
référence Beam Configuration.

202 Manuel de référence des algorithmes de photonthérapie et


d'électronthérapie Eclipse
Chapitre 9 Algorithmes d'optimisation de dose

Informations générales concernant les algorithmes


d'optimisation de dose
Les algorithmes d'optimisation de dose dans Eclipse sont :
■ Algorithme Photon Optimization (PO) : détermine la forme et l'intensité
optimales du champ en conformant itérativement la distribution de dose aux
objectifs voulus jusqu'à ce qu'une solution optimale soit atteinte. Optimise les
plans IMRT à champs statiques, VMAT (RapidArc et HyperArc), VMAT Elekta et
Siemens mARC en fonction d'objectifs d'optimisation.
■ Algorithme Multi-Resolution Dose Calculation (MRDC) : permet une estimation
rapide de la dose au sein des plans VMAT et IMRT qui utilisent le calcul d'unité
centrale (UC).
■ Algorithme Fourier Transform Dose Calculation (FTDC) : permet de réaliser
rapidement une estimation de la dose dans l'algorithme PO pour les plans IMRT
qui utilisent le calcul du processeur graphique.

Remarque : Pour de plus amples informations sur les algorithmes Dose Volume Optimizer
(DVO), Progressive Resolution Optimizer (PRO) et Plan Geometry Optimization (PGO),
reportez-vous à la documentation de l'utilisateur de la version 15.1 d'Eclipse.

Dose Calculation
Le calcul de la dose à partir des fluences est basé sur la convolution 3D multi-
résolution des noyaux à fonction de diffusion de points générés par l'algorithme
Monte Carlo (Algorithme Multi-Resolution Dose Calculation (MRDC) à la page 204).
Pour une optimisation IMRT utilisant le processeur graphique, l'algorithme de calcul
de la dose FTDC est employé (Algorithme Fourier Transform Dose Calculation
(FTDC) à la page 206).
Pour l'optimisation IMRT à champ statique basée sur la fluence, la dose calculée
découle de la fluence optimale (du système d'optimisation) et est convertie en une
séquence de lames par le MLC. La fluence réelle est calculée par AAA ou Acuros XB,
et la dose finale est ensuite calculée à partir de la fluence réelle.

Chapitre 9 Algorithmes d'optimisation de dose 203


L'optimisation VMAT calcule la fluence pour le calcul de la dose à partir d'un
segment de calcul de la dose, dans lequel la configuration MLC et les débits de dose
sont convertis en une fluence. Celle-ci modélise les fuites dues aux extrémités
arrondies des lames, à l'effet Tongue and Groove et à la transmission à travers les
lames (Exemple de cas de Modulation d'Intensité Dynamique à la page 268).
Informations sur la configuration du calcul de la dose : Configuration du système
pour l'optimisation de dose à la page 234.

Algorithme Multi-Resolution Dose Calculation (MRDC)


L'algorithme Multi-Resolution Dose Calculation (MRDC) est utilisé pour réaliser une
estimation rapide de la dose au sein de l'algorithme. La grande vitesse de
l'algorithme MRDC permet à l'algorithme d'optimisation de réaliser les calculs
complets de dose pendant chaque itération.
L'algorithme MRDC repose sur le principe de superposition de la convolution, et
utilise le calcul de diffusion 3D de la convolution.
Le modèle de diffusion est basé sur la superposition 3D des fonctions de dispersion
de points dans le modèle patient. Les fonctions de dispersion des points sont issues
des calculs effectués selon la méthode Monte Carlo.
Le calcul de diffusion multi-résolution fournit la composante de diffusion en utilisant
différentes résolutions. Une résolution élevée est utilisée à proximité de l'interaction
principale, tandis qu'une résolution beaucoup plus basse est utilisée pour calculer la
composante de diffusion à de plus grandes distances (jusqu'à 25 cm de l'interaction
principale). La convolution utilise le modèle de noyau simple à divergence corrigée
dans un matériau équivalent-eau.

Spectre d'énergie
Les spectres d'énergie sont basés sur les calculs Monte Carlo.43 L'énergie nominale
est utilisée pour sélectionner un spectre à partir d'un ensemble de données
précalculées. Le spectre affecte la fonction de composante principale et celle de
dispersion des points. Les inhomogénéités de la composante principale sont
corrigées. Il est possible d'optimiser légèrement ce spectre précalculé pendant la
configuration de l'algorithme PO dans Beam Configuration.

43 Mohan et al.: Energy and angular distributions of photons from medical linear accelerators. Medical
Physics 12 (5), Sep/Oct 1985.

204 Manuel de référence des algorithmes de photonthérapie et


d'électronthérapie Eclipse
Profil d'intensité
Le modèle d'intensité de la composante principale est radialement symétrique autour
de l'axe central. Le profil d'intensité est optimisé à partir des données de mesure. Les
mesures du profil diagonal peuvent renforcer la précision de l'algorithme MRDC
pour les champs de grandes tailles.

Contamination électronique
L'algorithme MRDC modélise les électrons créés dans l'air et les collimateurs
secondaires, entre la source photonique et le corps. La contamination électronique est
modélisée en tant que courbe d'intensité dépendant de la profondeur et en tant que
dispersion dépendant de la fluence des électrons de contamination, également
étendue à l'extérieur de la zone du champ. La forme et l'amplitude de la courbe de
contamination électronique sont optimisées pendant la configuration de l'algorithme
d'optimisation.

Modélisation de la source secondaire


Le rayonnement émergeant à l'extérieur de la cible de l'accélérateur linéaire (par
exemple, du cône égalisateur est modélisé dans l'algorithme MRDC comme seconde
source photonique. La DSP (distance source-peau) de la seconde source, la dispersion
de la fluence de la seconde source photonique, l'énergie photonique effective et
l'amplitude de la seconde source par rapport à la source primaire, sont optimisées
pendant la configuration de l'algorithme.

Chapitre 9 Algorithmes d'optimisation de dose 205


Algorithme Fourier Transform Dose Calculation (FTDC)
L'algorithme Fourier Transform Dose Calculation (FTDC) est un algorithme de calcul
de la dose de convolution/superposition optimisé pour être rapide. L'algorithme
utilise un noyau de convolution basé sur des fonctions de dispersion des points (PSF)
dérivées des simulations Monte-Carlo, et représente la densité d'énergie absorbée
dans un volume d'eau homogène infini en trois dimensions résultant d'une
interaction monoénergétique des photons primaires. Les PSF sont superposés selon
le spectre sur un noyau de diffusion polyénergétique (PSK), lequel est utilisé pour
convoluer une fluence atténué spectralement qui intègre la distance radiologique à
partir de la source primaire. Pour calculer la convolution efficacement, l'algorithme
utilise la Transformation de Fourier rapide (FFT).44 L'algorithme FTDC intègre
également un modèle simple pour tenir compte des photons extra-focaux (source
secondaire) et des électrons de contamination. FTDC est utilisé en tant qu'algorithme
de calcul de la dose lors de l'optimisation du processeur graphique IMRT.

Modèle de calcul de la dose


Modèle de source
La dose calculée par FTDC correspond à la somme des doses issues des trois
composants de sources : la source principale, la source secondaire et la source de
contamination électronique, chacune présentant leurs espaces de phases distincts. En
comparaison avec AAA, l'algorithme FTDC présente des modèles plus simples pour
les trois composants de dose, ce qui explique sa vitesse rapide de calcul. La grille des
fluences principales en deux dimensions pour l'algorithme FTDC est créée via les
mêmes composants que pour l'algorithme AAA (et Acuros XB).

44 Papanikolau et al. : Investigation of the convolution method for polyenergetic spectra. Medical Physics 20
(5), 1327-1336 (Sep-Oct 1993).

206 Manuel de référence des algorithmes de photonthérapie et


d'électronthérapie Eclipse
Composant de dose primaire
Les valeurs de la grille des fluences principales en deux dimensions sont atténuées en
un volume de calcul tridimensionnel divergent qui se base sur la distance
radiologique et sur le spectre du faisceau, le long d'une ligne en éventail, entre le
point de la source primaire et le point de la grille de calcul donné. Cela constitue ce
que l'on appellera l'énergie TERMA (énergie totale libérée lors des interactions
primaires) primaire, ou T(u, v, r) , avec (u, v, r) correspondant aux coordonnées dans le
volume divergent. On part également du principe que les matériaux affectés dans le
volume de calcul peuvent être modélisés par de l'eau à l'échelle en fonction de la
densité. La dose primaire dans une grille divergente DP(u, v, r) est exprimée comme
une convolution entre l'énergie T(u, v, r) (TERMA) et la superposition pondérée de
manière spectrale k(u, v, r) (PSK) des facteurs PSF mono-énergétiques, ou comme
dans l'équation :

Équation 47

DP(u, v, r) = ∫ k(u − u′, v − v′, r − r′)T(u′, v′, r′)du′dv′dr′


Pour des raisons de performances, la version discrétisée de la convolution ci-dessus
est calculée à l'aide de la FFT. La dose représentée par DP(u, v, r) est donc la source
non diffusée T(u, v, r) diffusée dans de l'eau homogène, faisant l'objet d'une
approximation via une convolution de T(u, v, r) avec k(u, v, r) dans la grille divergente.
Enfin, la dose DP(u, v, r) est mappée dans une grille de calcul cartésien, en tenant
compte de l'inverse de la distance (géométrique) au carré par rapport à la source. La
grille de calcul cartésien présente la résolution définie dans les options de calcul, et sa
taille est déterminée par la boîte de dialogue du volume de calcul dans External
Beam Planning. On obtient ainsi le composant de dose primaire DP(x, y, z) .

Composant de la dose de la source secondaire


Sources de photons extra-focales des modèles de source secondaire. Sa contribution à
la dose est modélisée par un seul composant de photon réel en atténuant de manière
exponentielle une fluence principale avec flou gaussien, multipliée par l'amplitude
de la source secondaire, le long de chaque ligne en éventail, au moyen d'une
atténuation basée sur une distance radiologique partant d'une source planaire réelle.
Le sigma de floutage, l'amplitude du composant de source secondaire et la distance
réelle sont exprimés comme une partie des données de faisceaux lues par
l'algorithme. Cela permet d'obtenir le composant de dose de la source secondaire
DS(x, y, z) .

Chapitre 9 Algorithmes d'optimisation de dose 207


Composant de dose de contamination électronique
La contribution des électrons de contamination à la dose est modélisée en déposant
une courbe E(r′) le long de chaque ligne en éventail, avec r′ correspondant à la
distance radiologique de la source primaire au point du volume de calcul, et
pondérée par une fluence principale avec flou gaussien ainsi qu'un facteur
d'amplitude de la contamination électronique constante. La courbe de contamination
électronique E(r) , le sigma de floutage gaussien et l'amplitude de contamination
électronique sont définis comme faisant partie des données de configuration du
modèle de faisceau. On obtient ainsi le composant de dose de contamination
électronique DE(x, y, z) .

Dose
La dose totale D(x, y, z) en chaque point du volume de calcul cartésien et fournie par
l'algorithme FTDC est indiquée en tant que somme des trois composants de dose
décrits plus haut :

Équation 48

D = DP + DS + DE

Algorithme Photon Optimization (PO)


L'algorithme Photon Optimization (PO) permet d'optimiser les plans IMRT à champs
statiques, VMAT (RapidArc, HyperArc et VMAT Elekta) et Siemens mARC.
L'algorithme PO utilise un modèle de structures basé sur les voxels, dans lequel les
structures, le calcul HDV et l'échantillonnage de la dose sont définis dans l'espace à
l'aide d'une seule matrice sur l'image. La résolution des voxels de la matrice dans les
directions planaires X et Y est fonction de la valeur de résolution du volume cible
définie par l'utilisateur (1,25 ou 2,5 mm) et de la résolution des contours de la
structure. La résolution de la structure d'optimisation correspond à la résolution du
contour multipliée (ou divisée) par une puissance de deux de façon à ce que la
différence jusqu'à la résolution cible soit réduite au minimum. La résolution Z
orthogonale aux coupes est fonction de la résolution choisie et de l'espacement des
coupes. Par exemple, si l'image d'origine présente une résolution de coupe de
1 mm X 1 mm et un espacement des coupes de 8 mm, et que l'utilisateur définit la
résolution d'optimisation sur Normal (2.5 mm) [Normal (2,5 mm)], le système
d'optimisation utilise la matrice 2,0 × 2,0 × 4 mm.
Cette matrice définit les emplacements des structures et l'échantillonnage de la dose,
et elle remplace les nuages de points précédemment utilisés.

208 Manuel de référence des algorithmes de photonthérapie et


d'électronthérapie Eclipse
La figure illustre un segment de structure envoyé par le client, les coupes d'image et
les échantillons de matrice de dose (étoiles) qui définissent les voxels représentant la
structure au sein du système d'optimisation. Ces échantillons représentent également
les endroits où la dose totale de chaque champ est évaluée.

1. Coupes d'image

Figure 30 Modèle de structures dans l'algorithme Photon Optimization

L'HDV de la structure est évalué à l'aide des pondérations de volume définies pour
chaque voxel. La pondération de volume du voxel définit le rapport du segment de
structure d'origine au sein du voxel. Pour les petites structures, l'HDV est
suréchantillonné à partir de la matrice de dose pour accentuer son lissage.
Afin de minimiser la consommation de mémoire pendant l'exécution, la taille de
matrice est d'abord définie sur la taille du cadre de délimitation du contour externe.
Les champs de vue des champs sont ensuite formés et la taille de matrice finale est
définie de façon à ne contenir que la partie du cadre de délimitation du contour
externe susceptible de recevoir le rayonnement des champs.

Chapitre 9 Algorithmes d'optimisation de dose 209


Bolus et dispositifs porte-patient
Les algorithmes d'optimisation tiennent compte des bolus et des dispositifs porte-
patient (par exemple, les structures de table). Ils interprètent les valeurs UH
assignées et gèrent les chevauchements des structures de la même manière que dans
l'algorithme de calcul de dose. Toutefois, en raison de la manière dont les
algorithmes AAA et Acuros XB utilisent la correction d'hétérogénéité dans le calcul
de la dose finale complète au sein des bolus et des porte-patient, la correction
d'hétérogénéité doit être activée dans les algorithmes d'optimisation. (Informations
sur les algorithmes AAA et Acuros XB : Chapitre 4 Modèle de source de faisceaux de
photons à la page 40.) Si l'optimisation est réalisée sans la correction d'hétérogénéité,
les dispositifs porte-patient sont ignorés (un avertissement est généré dans le fichier
Log de calcul) et les bolus sont traités comme ayant la densité de l'eau.

Masquage du volume cible


Les voxels du volume cible sont projetés sur la matrice de fluence. Seuls les rayons
situés à moins de 0,6 cm du point projeté le plus proche peuvent avoir des valeurs de
fluence non nulles. Le masquage de la cible inclut la géométrie du MLC. Cela signifie
que toute lame ayant des points dans une plage de valeurs de 0,6 cm inclut tous ses
rayons dans le champ (dans la direction Y). Les tailles de champ sont déterminées
automatiquement à partir des données de masquage.
Dans les algorithmes d'optimisation d'arcthérapie, le masquage du volume cible est
utilisé pour limiter les positions des lames. La projection du volume cible peut être
très différente d'un angle du bras à un autre. Pendant la rotation du bras d'un angle à
un autre, les lames peuvent également être ouvertes en dehors de la projection du
volume cible.

Structure d'évitement
Chaque structure OAR sélectionnée comme une structure d'évitement dans
l'optimisation est projetée sur la matrice de fluence dans chaque champ et la
projection est supprimée du masque cible. Selon le type d'évitement, la réduction est
effectuée soit dans tous les points de contrôle où l'OAR est visible (Entry+Exit [Entrée
+Quitter]), soit dans tous les points de contrôle où l'OAR se trouve entre la source de
rayonnement et la cible (Entry [Entrée]).
Contrairement à l'IMRT, l'optimisation VMAT n'agit pas directement sur les fluences,
mais les positions des lames du MLC tentent d'éviter autant que possible les
projections de la structure d'évitement dans les limites de déplacement des lames
compte tenu que les objectifs d'optimisation éloignent l'ouverture de la zone occultée.

210 Manuel de référence des algorithmes de photonthérapie et


d'électronthérapie Eclipse
Objectifs dose-volume
L'optimisation est basée sur des objectifs dose-volume (objectifs supérieur et inférieur
définis dans la vue Dose Volume Histogram [Histogramme dose-volume] de la boîte
de dialogue Optimization [Optimisation]). Les objectifs dose-volume permettent de
définir la dose comme suit :
■ Objectif supérieur : utilisé pour limiter la dose dans une structure donnée (par
exemple, « pas plus de 20 % de la structure peut recevoir plus de 25 Gy »).
■ Objectif inférieur : utilisé pour définir les niveaux de dose désirés dans les
structures cibles (par exemple, « 70 % au moins de la structure doit recevoir un
minimum de 20 Gy »).
■ Objectif linéaire supérieur : utilisé pour limiter la dose dans une structure donnée
pour tous les niveaux de volume. Uniquement disponible pour les estimations de
HDV dans RapidPlan.
Si les objectives dose-volume ne sont pas atteints, un coût quadratique pondéré est
ajouté à la fonction objective totale. Pour l'objectif supérieur, le coût est appliqué à la
partie des doses qui dépassent la valeur de dose et le niveau de volume souhaités.
Pour l'objectif inférieur, le coût est appliqué à la partie des doses qui n'atteignent pas
la valeur de dose et le niveau de volume souhaités. Par exemple :

Équation 49

costD=w × (D‐Dtarget)2

D = Dose

w = Weight (Poids)

La priorité est convertie en pondération à l'aide d'une fonction non linéaire


proportionnelle à Priorityn , où n>2 ). Par ailleurs, pour l'optimisation VMAT, la
fonction de coût de l'objectif inférieur à 100 % et de l'objectif supérieur à 0 % est
modifiée de façon à contrôler les doses minimale et maximale. Pour ces objectifs, une
tolérance prédéfinie à partir de l'objectif dose-volume est utilisée et les points ayant
des doses en dehors de ces tolérances se voient attribuer un coût plus important.

Chapitre 9 Algorithmes d'optimisation de dose 211


Du fait que la fonction de coût n'est pas symétrique autour du volume cible, chaque
objectif de dose-volume introduit des discontinuités dans l'espace d'optimisation, et
chaque objectif supplémentaire ajouté à la même structure est susceptible de créer
plusieurs nouveaux minima locaux. Il est recommandé d'utiliser un objectif supérieur
et un objectif inférieur pour les cibles, et d'ajuster la pondération si aucun ajout
d'objectif supplémentaire n'a été réalisé.

Objectifs de lissage
La fluence requiert d'être lissée pour permettre les calculs de mouvement des lames
avec le séquenceur LMC. Le lissage de la fluence est assuré par l'ajout d'un objectif
incluant la différence entre les valeurs de fluence voisines (lissage en X et en Y). Cet
objectif est linéaire jusqu'à 3 % de la valeur de fluence maximale, puis il devient
saturé à une valeur constante. La non-linéarité de la saturation permet de larges
fluctuations de la fluence si nécessaire. Le lissage est appliqué dans les deux
directions X et Y de la fluence, avec différentes pondérations configurables par
l'utilisateur. En règle générale, il est plus important d'avoir une fluence plus lisse
dans la direction X pour garantir un facteur UM minimal pour le LMC.
L'objectif de lissage n'est disponible que pour l'optimisation IMRT à champs
statiques avec l'algorithme PO.

Objectif UM
L'objectif UM permet de contrôler le nombre d'UM générées par le système
d'optimisation PO. La valeur de la fonction d'objectif total est multipliée par un terme
de pénalité si le nombre d'UM ne s'inscrit pas dans la plage souhaitée. Une valeur de
puissance peut être utilisée pour modifier la puissance de l'effet obtenu. La valeur de
la fonction d'objectif total étant multipliée par un terme de pénalité, l'effet relatif de
l'objectif UM reste le même, même lorsque les priorités des objectifs dose-volume
sont modifiées.

objectif pour tissus normaux


L'objectif pour tissus normaux est utilisé pour les parties du corps qui ne contiennent
pas le PTV (volume cible planifié) afin de limiter la dose et d'éviter les points chauds
dans les tissus normaux. De plus, l'objectif pour tissus normaux peut être utilisé pour
obtenir un gradient de dose prononcé autour du PTV (volume cible planifié).

Remarque : Vous pouvez également utiliser l'objectif NTO automatique (Objectif


automatique pour tissus sains à la page 215) et l'objectif NTO SRS spécifique à HyperArc
(Objectif pour tissus normaux en radiochirurgie stéréotaxique pour HyperArc à la
page 225).

212 Manuel de référence des algorithmes de photonthérapie et


d'électronthérapie Eclipse
Forme de l'objectif pour tissus normaux
La forme de l'objectif pour tissus normaux est contrôlée via les paramètres suivants :
■ Distance from PTV border (Distance de la bordure du PTV [volume cible
planifié]) ( X start )
■ Start dose (Point de départ de la dose) ( f 0 )
■ End dose (Point final de la dose) ( f ∞ )
■ Fall-off (Abaissement) k
La forme de l'objectif pour tissus normaux ( f (x) ) en fonction de la distance par
rapport à la bordure du PTV ( l ) se calcule comme suit :

Équation 50

−k x − xstart −k x − xstart
f x = f 0e + f∞ 1 − e , x ≥ xstart
f 0, x < xstart
La figure présente une forme classique d'objectif pour tissus normaux.

Figure 31 Exemple de forme d'objectif pour tissus normaux

La forme de l'objectif pour tissus normaux représentée dans la figure a été calculée
avec les valeurs de paramètres suivantes :
■ X start = 10 mm

Chapitre 9 Algorithmes d'optimisation de dose 213


■ f 0 = 1,1
■ f ∞ = 0,5
■ k = 0,05 mm-1
La normalisation de l'objectif pour tissu normal est réalisée comme suit : 1,0 (100 %)
correspond à l'objectif supérieur le plus bas défini pour la cible. Si aucun objectif
supérieur n'est défini, le niveau 1 (100 %) est 1,05 fois l'objectif inférieur défini le plus
élevé.
Outre les paramètres qui contrôlent la forme de l'objectif pour tissus normaux,
l'importance de cet objectif par rapport aux autres objectifs d'optimisation est
contrôlée par le paramètre Priority (Priorité). L'objectif pour tissus normaux est
mis en œuvre en définissant une valeur pour le paramètre Priority (Priorité). Les
valeurs de l'objectif pour tissus normaux sont alors calculées pour tous les points du
contour externe. S'il existe plusieurs PTV, la valeur de l'objectif pour tissus normaux
pour un point spécifique du contour externe est la plus élevée des valeurs d'objectif
pour tissus normaux calculées au niveau de ce point pour tous les PTV. Si la valeur
du paramètre Priority (Priorité) est définie sur zéro, l'optimisation n'utilise pas
l'objectif pour tissus normaux.

Remarque : Toute structure possédant au moins un objectif inférieur est considérée comme
étant un PTV (volume cible planifié) par la fonction objectif pour tissus normaux.

Paramètres de l'objectif pour tissus normaux


Le tableau présente les paramètres de l'objectif pour tissus normaux et leurs valeurs
par défaut.

Tableau 38 Valeurs par défaut de l'objectif pour tissus normaux

Nom du paramètre Range Default Utilisation du paramètre


(Plage) (Par dé-
faut)

Distance from PTV/ -20–20 1,0 Détermine la zone dans laquelle la valeur de
target border [cm] l'objectif pour tissus normaux doit être cons-
(Distance par rapport tante. Exprimée en centimètres. Convertie en
au PTV/à la bordure mm en interne.
du volume cible
[cm])

Start dose [%] (Dose 0–1000 105 Détermine le niveau de dose relative de l'ob-
de départ [%]) jectif pour tissus normaux à la bordure du PTV
(volume cible planifié). Exprimé en pourcen-
tage.

214 Manuel de référence des algorithmes de photonthérapie et


d'électronthérapie Eclipse
Nom du paramètre Range Default Utilisation du paramètre
(Plage) (Par dé-
faut)

End dose [%] (Dose 0–1000 60 Détermine le niveau de dose relative de l'ob-
finale [%]) jectif pour tissus normaux dans la zone la plus
éloignée de la bordure du PTV (volume cible
planifié). Exprimé en pourcentage.

Fall-off (Abaisse- 0–100 0,05 Détermine l'inclinaison de la courbe de l'ob-


ment) jectif pour tissus normaux. L'unité du para-
mètre est 1/mm. L'unité ne s'affiche pas dans
l'interface utilisateur.

Priorité 0–1000 0 Détermine l'importance relative de l'objectif


pour tissus normaux. Pour que l'objectif pour
tissus normaux soit utilisé dans l'optimisation,
le paramètre Priority (Priorité) doit avoir une
valeur non nulle.

Objectif automatique pour tissus sains


L'objectif automatique pour tissus normaux utilisant un ensemble de paramètres
internes, les paramètres de la boîte de dialogue Normal Tissue Objectives (Objectifs
pour tissus normaux) n'ont pas d'influence sur celui-ci. Les paramètres internes
dépendent des distances des zones à haute dose par rapport à la cible, et sont adaptés
de manière dynamique dans chaque itération afin de correspondre à l'anatomie du
patient et aux objectifs lors de l'optimisation. L'objectif Automatic Normal Tissue
Objective (Objectif pour tissus normaux automatique) contrôle toutes les surfaces,
quelle que soit sa distance par rapport au volume cible. S'il existe des doses
exceptionnellement élevées au regard de la distance par rapport au volume cible (la
dose en un point est plus élevée que la dose moyenne pour tous les points à cette
distance), il tente de réduire la dose en cette zone à l'aide de la valeur de priorité
définie par l'utilisateur.

Chapitre 9 Algorithmes d'optimisation de dose 215


1

4
5

1. Dose
2. Distance depuis la cible
3. La dose en ce point est supérieure au niveau de dose toléré, et par conséquent, l'optimisation tente de
réduire la dose en cette zone.
4. Niveau de dose accepté dans ce cas.
5. Les points situés à l'intérieur de la région ne sont pas affectés.

Figure 32 Critères d'ajustement de l'objectif automatique pour tissus normaux

L'objectif automatique pour tissus normaux tente de réduire les doses de la même
manière que l'objectif pour tissus normaux, la principale différence étant que la
courbe de niveau de dose accepté (4 dans la figure ci-dessus. Voir aussi : Figure 31 à
la page 213) n'est pas définie par l'utilisateur mais calculée automatiquement comme
expliqué plus haut.

Objectifs gEUD biologiques


L'algorithme PO prend en charge trois nouveaux types d'objectif pour l'optimisation
biologique à l'aide du formalisme gEUD (generalized Equivalent Uniform Dose, dose
uniforme équivalente généralisée) : la contrainte gEUD inférieure, la contrainte
gEUD supérieure et la contrainte gEUD cible. Pour chaque objectif, l'utilisateur
définit une valeur gEUD cible, un paramètre biologique a et une priorité d'objectif W .
L'optimisation évalue ensuite les valeurs gEUD(a) pour la structure, et un coût
quadratique est appliqué lorsqu'un objectif n'est pas atteint, comme pour les objectifs
dose-volume normaux :

Équation 51

cost(gEUD(a)) = W × (gEUD(a) − EUD)2

216 Manuel de référence des algorithmes de photonthérapie et


d'électronthérapie Eclipse

cost(gEUD) = Coût quadratique

a = Paramètre biologique contrôlant la distribution de dose à l'intérieur


de la structure. Les valeurs standard varient entre −40 et +40.

W = Fonction de la priorité non linéaire, proportionnelle à Pn , où n>2 .

EUD = Valeur cible de l'EUD.

L'équation ci-dessus décrit la contrainte gEUD cible. Pour la contrainte gEUD


inférieure, le coût est de 0 quand gEUD(a) > EUD . Pour la contrainte gEUD
supérieure, le coût est de 0 quand gEUD(a) < EUD .
gEUD(a) se définit comme suit :

Équation 52

1
a
× ∑D x
1 a
gEUD(a) = V
v

a = Paramètre biologique contrôlant la distribution de dose à l'intérieur


de la structure. Les valeurs standard varient entre −40 et +40.

V = Volume/Structure.

D = Dose à la position x à l'intérieur du volume V .

Objectif de dose moyenne


L'objectif de dose moyenne permet de définir la dose moyenne qui ne doit pas être
dépassée pour une structure. L'objectif définit la dose moyenne en Gy, mais ne définit
aucun pourcentage du volume de la structure qui ne doit pas recevoir plus que cette
dose. L'objectif de dose moyenne est visualisé en HDV (Histogramme dose-volume)
pendant l'optimisation et peut être ajusté de manière interactive pendant
l'optimisation. L'objectif de dose moyenne ne peut pas être utilisé pour augmenter la
dose dans une structure.

Chapitre 9 Algorithmes d'optimisation de dose 217


Lissage automatique
Les inexactitudes dans la position du patient intra-fraction dans des traitements avec
plusieurs isocentres peuvent entraîner des points chauds et/ou froids dans des
volumes où les champs de traitement se chevauchent. La fonctionnalité de lissage
automatique s'efforce de réduire l'erreur en ajoutant un ensemble d'objectifs
d'optimisation spatiale à l'objectif défini dans le plan lors de l'étape de pré-traitement
de l'algorithme d'optimisation.
L'algorithme divise les champs de traitement en groupes de champs en fonction de la
position de leur isocentre dans la direction Z. Pour chaque groupe, le volume visible
dans les champs du groupe est calculé et stocké dans une grille spatiale de voxels.
Les grilles de tous les groupes sont ensuite analysés par rapport aux régions de
chevauchement. Des objectifs d'optimisation spatiale de la dose supérieure, un par
groupe de champs, sont créés si les groupes de champs se chevauchent. Chaque
voxel i de l'objectif contient une valeur de dose di à ne pas dépasser, et une
pondération de la priorité wi. Pour chaque voxel observé depuis deux groupes de
champs et situé à l'intérieur d'une structure cible, di est une fonction de l'objectif de
dose supérieur le plus bas (ou inférieur le plus élevé si aucun objectif de dose
supérieur n'est trouvé) pour cette cible et la position du voxel dans la région de
chevauchement, et wi est une fonction de la priorité de l'objectif cible, la portion de
volume du voxel qui se trouve à l'intérieur de la cible, et la position du voxel dans la
région de chevauchement.
Cette figure montre un exemple de limite de dose supérieure par voxel di et de
pondération de la priorité du voxel wi en fonction de la position dans la région de
chevauchement du champ. La courbe bleue est di et la courbe rouge wi pour l'objectif
du Champ 1. Concernant l'objectif pour le Champ 2, la signification des courbes est
intervertie, de sorte que la courbe rouge représente la dose et la courbe bleue la
pondération de la priorité. La somme des doses des composants correspond à 100 %
dans chaque position.

218 Manuel de référence des algorithmes de photonthérapie et


d'électronthérapie Eclipse
Région de chevauchement

Groupe de champs 1 Groupe de champs 2

Dose

Isocentre 1 Isocentre 2

Position Z

Figure 33 Région de chevauchement lors du lissage

Au cours de l'optimisation, la dose provenant des champs de chaque groupe est


stockée séparément, la valeur de l'objectif spatial pour ce groupe est évaluée, et la
valeur est ajoutée à la somme totale du coût de l'objectif. Le gradient de la fonction de
coût est évalué de la même manière séparément pour chaque groupe de champs, de
sorte que le gradient d'un groupe de champs contienne les composants découlant de
tous les objectifs définis par l'utilisateur plus le composant spécifique au groupe de
champs. En général, l'effet du lissage augmente avec la taille de la région de
chevauchement car la pente du gradient de dose devient moins prononcée. Il est
donc recommandé d'utiliser une zone de chevauchement aussi large que possible.

Chapitre 9 Algorithmes d'optimisation de dose 219


Aperture Shape Controller
L'Aperture Shape Controller (Contrôleur de la forme d'ouverture, ASC) est un
nouveau composant dans le séquenceur de lames pour VMAT dans l'algorithme PO.
ASC favorise les ouvertures présentant une courbure locale minime en pénalisant les
écarts par rapport à la courbure zéro tels que mesurés sur la base des positions des
extrémités des lames adjacentes qui modulent la même projection du volume cible en
continu dans l'espace. La pénalité appliquée est ajoutée à la fonction de coût de
l'optimisation. L'ampleur de la pénalité peut être en partie contrôlée par la
pondération ajustable par l'utilisateur à l'aide d'une option de calcul allant de Very
Low (Très faible) à Very High (Très élevée), grâce à laquelle les formes des ouvertures
VMAT peuvent être ajustées de façon à répondre aux exigences de chaque cas
clinique. Les traitements qui exigent une importante modulation des lames, tels que
les traitements de la tête et du cou, doivent contenir une pondération allant jusqu'au
paramètre Moderate (Modéré). Plus la pondération doit être élevée, plus le plan peut
bénéficier de l'utilisation en parallèle de la fonction Convergence Mode (Mode
Convergence). Les traitements plus conformationnels, tels que les SRS
intracrâniennes, sont susceptibles de fonctionner avec n'importe quelle pondération
ASC. La fonction ASC n'est pas disponible pour les MLC ne prenant pas en charge
l'interdigitation.
Selon la pondération, ASC tente de relier les ouvertures séparées qui sont définies
par des paires de lames adjacentes. Les cas où cela peut être réalisé sans altérer outre
mesure les objectifs d'optimisation dosimétrique peuvent présenter un nombre
d'unités moniteur plus faible que lorsqu'ils sont planifiés sans ASC. Les éventuels
problèmes d'assurance qualité liés aux ouvertures de petite taille dans les traitements
de SRS intracrâniennes doivent être résolus en reliant les ouvertures séparées.
ASC n'est pas disponible pour les MLC ne prenant pas en charge l'interdigitation
(Siemens 58MLC, Siemens OPTIFOCUS 82MLC et Elekta MLC80).

Gestion des grands champs


La taille de champ maximale dans la direction X pouvant être traitée avec un seul
groupe de chariots est basée sur la portée maximale des lames du MLC, réduite de
0,5 cm en raison de la nécessité de parquer les lames fermées sous les mâchoires. Par
exemple, si la portée maximale des lames d'un MLC est de 15 cm, la taille de champ
maximale dans la direction X est réduite à 14,5 cm.

220 Manuel de référence des algorithmes de photonthérapie et


d'électronthérapie Eclipse
Si la taille de champ dans la direction X est supérieure à 14,5 cm, le champ peut
contenir des ouvertures de champ inutiles. Pour que PO ferme ces ouvertures autant
que possible pour respecter les limites de vitesse des lames, la structure sous-jacente
doit avoir un objectif de dose (NTO par exemple) qui minimise tout rayonnement
supplémentaire. Si aucun objectif empêchant le rayonnement d'un volume non-cible
n'est défini, PO ne pourra pas fermer toutes les ouvertures de champ.

Algorithme Photon Optimization et IMRT


Pour l'IMRT, l'algorithme PO détermine la forme et l'intensité optimales du champ en
conformant itérativement la distribution de dose aux objectifs voulus jusqu'à ce
qu'une solution optimale soit atteinte.
Pour chaque champ, l'algorithme PO ajuste la fluence à la projection du volume cible
avec une marge de 5 mm. L'objet de fluence créé est ensuite développé
symétriquement par rapport à l'isocentre du champ (en ajoutant des pixels de fluence
avec une valeur de 0). La taille maximale de l'objet de fluence est de 40 × 40 cm. La
taille de l'objet de fluence détermine la région dans laquelle l'utilisateur peut modifier
la fluence.
L'algorithme PO exécute l'optimisation pour un plan IMRT comme un problème de
minimisation en utilisant une optimisation à gradient simple avec minimisation de
ligne. Initialement, toutes les fluences sont nulles ou, en guise d'alternative, les
fluences d'une précédente optimisation peuvent être utilisées comme hypothèse de
départ. L'optimisation modifie ces fluences lors de chaque itération et calcule la dose
à partir des fluences obtenues après chaque modification.
Une fois les doses au niveau des points des nuages représentant les volumes patient
évaluées, les objectifs des points et leurs dérivées peuvent être calculés. Les éléments
fonctionnels de coût sont évalués pour chaque point dans chaque volume. Les
dérivées des coûts de chaque point sont de nouveau projetées vers les fluences et
forment alors le gradient.
L'algorithme PO utilise la méthode de recherche de gradient. Celle-ci est divisée en
deux phases : l'évaluation du gradient et la recherche de ligne. L'évaluation du
gradient génère la direction et la longueur du gradient, tandis que la recherche de
ligne évalue les objectifs sur un segment de ligne le long du gradient, et trouve le
minimum le long du segment de ligne.

Algorithme Photon Optimization et VMAT


L'algorithme PO permet de créer des plans VMAT (RapidArc, HyperArc, VMAT
Elekta, Siemens mARC) en fonction d'objectifs dose-volume. Les champs VMAT
utilisent des débits de dose DMLC variables et des vitesses de bras variables.

Chapitre 9 Algorithmes d'optimisation de dose 221


L'algorithme PO génère une séquence de points de contrôle qui définit la position des
lames du MLC et la valeur UM/deg en fonction de l'angle du bras. UM/deg est
encodé en DICOM et la base de données du système Varian avec la courbe de poids
cumulative, qui définit l'augmentation en UM entre les points de contrôle par rapport
au total des UM dans le champ. Ces informations sont transférées à la machine de
traitement en l'état, et le système de commande de la machine détermine la façon
dont le débit de dose et la vitesse du bras seront modulés pour administrer le plan.
Une fois la dose calculée, Eclipse affiche les valeurs estimées de débit de dose et de
vitesse de bras dans les boîtes de dialogue Field Properties (Propriétés de champ) et
MLC Properties (Propriétés MLC). Ces estimations ne font pas partie des
informations envoyées à la machine de traitement.
L'algorithme PO utilise une fonction objectif pour optimiser le plan et évaluer sa
qualité. La fonction objectif représente la somme de la dose-volume et d'autres
objectifs définis par l'utilisateur.

Résolution progressive
Les conditions initiales de l'algorithme PO sont définies à l'aide de points de contrôle
pour représenter chaque champ VMAT. L'algorithme utilise une approche multi-
résolution pour optimiser le plan. Cette approche a été décrite pour la première fois
dans la recherche sur l'arcthérapie volumétrique modulée.45 Cela signifie que la dose
est modélisée en utilisant tout d'abord un nombre inférieur de segments de calcul de
dose uniformément distribués dans chaque champ. Le nombre de segments de calcul
de dose augmente lors du passage d'un niveau multi-résolution à un autre.
La dose d'un segment de calcul de dose est calculée à partir de la fluence combinée
des ouvertures du MLC aux points de contrôle situés dans un secteur particulier de
l'arcthérapie. Le mouvement des lames est modélisé en interpolant les positions des
lames entre les points de contrôle. Les languettes (tongue) des lames sont modélisées
par la modification du contour de l'ouverture du MLC, afin de prendre effectivement
en compte l'effet Tongue and Groove.
La résolution angulaire des segments de calcul de dose devient plus précise à mesure
que l'optimisation progresse, et en conséquence, la dose devient aussi plus précise.
Le nombre de points de contrôle demeure le même pendant toute l'optimisation.

45 Otto, K: Volumetric Modulated Arc Therapy: IMRT in a Single Arc. Medical Physics, Vol. 35, no. 1, 2008,
310–317.

222 Manuel de référence des algorithmes de photonthérapie et


d'électronthérapie Eclipse
Au début de l'optimisation, les formes initiales du MLC sont adaptées aux cibles et
les débits de dose initiale sont égaux pour tous les segments de calcul de la dose. La
forme initiale du MLC est également utilisée pour définir un niveau d'UM maximal
souhaité dans le système d'optimisation. Lorsque vous poursuivez l'optimisation à
partir du résultat d'optimisation antérieur, la forme initiale du MLC est
échantillonnée à partir des formes existantes du MLC. Si une forme de MLC plus
importante est prédéfinie avant d'accéder à l'algorithme PO (par exemple, à partir
d'un arc conformationnel avec une marge de 0,5 cm à partir de la cible), le niveau
d'UM défini peut être inférieur et entraîner une réduction de la modulation. Les
formes de MLC et les débits de dose des différents points de contrôle dans le champ
VMAT sont optimisés. Pendant les phases initiales de l'optimisation, de plus grands
ajustements sont réalisés dans le séquencement des lames. La taille de ces
ajustements diminue à mesure que l'optimisation progresse dans les niveaux.
Lors de l'optimisation, l'algorithme est exécuté sur des niveaux multi-résolution qui
augmentent progressivement la précision du calcul de dose. Au premier niveau de
multirésolution, seuls quelques segments de calcul de la dose sont utilisés pour
modéliser la dose, et chaque niveau de multirésolution inclut progressivement
davantage de segments de calcul de la dose. L'angle entre les segments de calcul de
dose obtenus sur le dernier niveau multi-résolution (4) correspondront à
environ 2°-4°. Le nombre total de segments de calcul de dose utilisé dépend de la
rotation de l'arc.
Il existe plusieurs étapes à l'intérieur de chaque niveau multirésolution. Chaque
étape possède son propre ensemble de paramètres de calcul interne. L'optimisation
autorise quelques discontinuités d'irradiation pendant les phases précoces de
l'optimisation, et diminue par paliers la taille des discontinuités à mesure que
l'optimisation progresse. Au niveau des bordures des étapes, l'irradiation est forcée
entre les niveaux de discontinuité spécifiés. Cela peut augmenter les valeurs de la
fonction objectif lors du déplacement d'une étape à l'autre, et un pic peut être visible
dans la courbe fonctionnelle de l'objectif. Le nombre d'étapes des différents niveaux
de multirésolution varie. En raison de la nature du processus d'optimisation,
l'algorithme PO n'est pas entièrement déterministe. Par conséquent, des
optimisations successives avec des contraintes identiques peuvent produire des
résultats différents.

Secteurs d'évitement pour VMAT


Les secteurs d'évitement sont des plages de rotation du bras pour lesquelles le débit
de dose délivrée est égal à zéro. Vous pouvez définir jusqu'à deux secteurs
d'évitement pour chaque champ d'arcthérapie lors de l'optimisation. La longueur
minimum d'un secteur d'évitement est de 15 degrés. De la même manière, la
longueur minimum du secteur d'irradiation entre deux secteurs d'évitement, ou entre
les angles de départ et d'arrêt du bras et un secteur d'évitement, est de 15 degrés.

Chapitre 9 Algorithmes d'optimisation de dose 223


Les secteurs d'évitement sont pris en charge pour les machines de traitement Varian
et pour Siemens mARC.

Suivi des mâchoires pour VMAT


Le suivi des mâchoires déplace les mâchoires du collimateur de manière dynamique
pendant l'irradiation afin de les maintenir le plus près possible de l'ouverture réelle
du MLC. Cela permet de réduire les fuites entre les lames du MLC. Les positions
initiales des mâchoires du collimateur définies par l'utilisateur pour le plan sont
utilisées comme limite maximale pour les mâchoires. Le suivi des mâchoires ne
déplace pas les mâchoires du collimateur hors de cette limite maximale. Les
mâchoires du collimateur peuvent suivre l'ouverture du MLC à l'intérieur de la
projection du volume cible, si nécessaire.

Remarque : Tous les accélérateurs linéaires Varian compatibles VMAT ne prennent pas en
charge le suivi des mâchoires. Cette option ne peut être sélectionnée lors de l'optimisation que
pour les plans à administrer à l'aide d'une machine de traitement prenant en charge le suivi
des mâchoires. Le suivi des mâchoires est activé par défaut pour les machines de traitement
Varian et Siemens. Le suivi des mâchoires est toujours activé pour Elekta MLCi et MLCi2.

L'algorithme PO prend en charge le suivi des mâchoires via les modes de


mouvement et les limites de vitesse définis dans RT Administration pour chaque
collimateur (X1, X2, Y1, Y2 CEI). Les modes de mouvement doivent être identiques
pour les deux mâchoires sur l'axe. Les modes de mouvement des collimateurs
outrepassent le paramètre Field X (Champ X) utilisé auparavant pour le suivi des
mâchoires.
Le mode de mouvement des collimateurs dans RT Administration peut être défini
sur l'une des valeurs suivantes :
■ Vide : non autorisé si le suivi des mâchoires est requis.
■ Static (Statique) : le collimateur ne bouge pas pendant l'administration de
l'arcthérapie.
■ Dynamic (Dynamique) : le collimateur bouge en respectant la limite de vitesse
maximale définie pendant l'administration de l'arcthérapie.
■ Pseudo (également appelée mâchoire inexistante ou virtuelle) : une position
statique est déterminée pour le collimateur dans les limites de la taille de champ
initiale d'après la projection de la ou des structures cibles au cours du
prétraitement. Une valeur maximale de transmission des lames (1 %) doit être
respectée lors de l'utilisation du mode Pseudo. Les limites de vitesse sont
ignorées. Le post-traitement peut repositionner les collimateurs en fonction des
règles de validation propres au modèle de machine de traitement.
■ Multiple Static Positions (Positions statiques multiples) : le collimateur peut
bouger en respectant la limite de vitesse définie, mais uniquement entre les points

224 Manuel de référence des algorithmes de photonthérapie et


d'électronthérapie Eclipse
de contrôle où le faisceau est désactivé. La taille de champ initiale est utilisée
comme limite d'ouverture maximale.

Algorithme Photon Optimization et HyperArc


En plus des fonctions générales d'optimisation VMAT, l'algorithme Photon
Optimization (PO) présente les fonctions spécifiques à HyperArc qui suivent.

Objectif pour tissus normaux en radiochirurgie stéréotaxique pour HyperArc


En radiochirurgie stéréotaxique (SRS) de l'encéphale, le rôle d'un objectif pour tissus
sains (NTO) est primordial car les volumes cibles sont situés dans les tissus sains, qui
peuvent constituer eux-mêmes un organe à risque. Dès lors, l'objectif clinique
consiste à traiter chaque volume cible avec son niveau de dose cible défini et de faire
en sorte que la quantité de dose absorbée diminue fortement jusqu'à atteindre des
niveaux cliniquement insignifiants en fonction de la distance perpendiculaire à la
surface du volume cible. Ce dernier critère est appelé fort gradient de dose. La
prescription de dose dépend généralement de nombreux facteurs tels que le volume
de la cible.
L'objectif pour tissus normaux en radiochirurgie stéréotaxique spécifique à HyperArc
(NTO SRS) se compose d'un ensemble de contraintes de dose supérieure spatiales
indexées avec i = 1,2,... qui sont pondérées en fonction de leur importance et
générées selon la taille, la forme et la position de chaque volume cible, ainsi que selon
les positions relatives et les distances entre les paires de cibles. Une contrainte de
dose supérieure spatiale ci(r) limite les valeurs de dose du dessus à chaque
coordonnée r à l'intérieur d'un domaine d'intérêt Φ. Elle peut être exprimée comme
suit :
Équation 53

2
ci(r) = max 0,(D(r) − Di(r))/D0

D(r) = Le niveau de dose réelle à l'emplacement r.

Di(r) = Le niveau de dose imposé par la contrainte ith.

D0 = Un niveau de dose de référence constant pour transformer la con-


trainte en une quantité sans dimension.

La contrainte est assortie d'une fonction de coût Ci(r) :

Équation 54

Ci(r) = ωi(r)ci(r)

Chapitre 9 Algorithmes d'optimisation de dose 225


ωi(r) = Le facteur de pondération qui contrôle le coût par rapport à l'envi-


ronnement local du point r.

Le coût total �i(T) dans Φ dû à la contrainte ith peut être exprimé sous la forme :

Équation 55

�i(T) = Pi(T) ∑ Ci(r)


r∈Φ

Pi(T) = Priorité de la contrainte définie par l'utilisateur, où T représente la


durée.

L'objectif NTO SRS a été conçu de façon à ce qu'il produise des plans de traitement
présentant une forte réduction de la dose dans l'espace compris entre les niveaux de
dose spécifiques à la cible et les niveaux de dose asymptotiques faibles. L'objectif
NTO SRS est initié au cours de l'étape de prétraitement de l'optimisation. Il prend la
structure volumétrique détaillée de chaque cible de traitement et les objectifs
d'optimisation spécifiques à la cible associés en guise d'éléments d'entrée. L'exigence
imposée en matière de diminution de la dose est fonction de la forme et de la taille
des volumes cibles ainsi que de leurs positions relatives. C'est la raison pour laquelle
l'objectif NTO SRS part du principe que tout volume cible fourni comme élément
d'entrée ne compromet pas les régions séparées dans l'espace. Le volume cible
minimal acceptable est celui d'un simple voxel du maillage de la structure. Le
maillage de structure le plus dense revient à définir la résolution de structure sur
1,25 mm dans la boîte de dialogue Optimization (Optimisation) (défini
automatiquement pour des plans HyperArc). Si la cible du traitement se compose de
N régions séparées dans l'espace, ces dernières doivent être converties en N
structures distinctes pour que l'objectif NTO SRS puisse fonctionner comme prévu.
Le paysage de la dose Di(r) et les pondérations ωi(r) restent constants dans le temps
pendant toute la durée de la procédure d'optimisation. Les priorités Pi(T) peuvent
toujours être ajustées par l'utilisateur au cours de l'optimisation.
Par rapport à d'autres régions au sein du contour externe, le NTO SRS emploie des
pondérations plus importantes ( ωi(r) ) dans les régions de gradient pour chaque
cible ainsi que dans les régions entre les cibles dans lesquelles le comblement de la
dose est susceptibles de se produire.

226 Manuel de référence des algorithmes de photonthérapie et


d'électronthérapie Eclipse
Les objectifs d'optimisation ayant une priorité non nulle pour les volumes cibles
t = 1,2,…, N communiquent à l'objectif NTO SRS quels doivent être le niveau de dose
minimum, Dmin, t , et maximum, Dmax, t , dans le volume cible t , et quelles sont les
priorités relatives concernant l'atteinte de ces objectifs. Le rapport H t = Dmax, t /Dmin, t
décrit la tolérance du système de planification en matière d'hétérogénéité de la dose à
l'intérieur du volume cible du traitement. Le rapport et le volume du volume cible
déterminent efficacement la diminution maximale de la distribution de dose qu'il est
possible d'atteindre en fonction de la distance normale à partir de la surface du
volume cible. La valeur H t = 1.4 correspond au seuil au-dessus duquel un objectif
NTO SRS impose les exigences les plus strictes en matière de diminution des
gradients de dose atteignant les volumes cibles.
En présence de plusieurs cibles de traitement, les contraintes de dose spécifiques à la
cible sont mappées selon une seule valeur pour chaque coordonnée afin de préciser
Di(r) de l'Équation 53 et ωi(r) de l'Équation 54 à la page 225 comme suit :

Équation 56

Di(r) = maxtDi, t(r);

Équation 57

ωi(r) = maxtωi, t(r)

Objectif de dose inférieure automatique pour des HyperArc


L'objectif de dose inférieure automatique (ALDO) automatise la préservation d'une
couverture volumétrique relative égale de 98 % parmi tous les volumes cibles avec
des objectifs inférieurs aux niveaux de dose spécifiques à la cible pour les plans
HyperArc avec un ou plusieurs volumes cibles. L'objectif ALDO regroupe les HDV
cibles de façon à ce que la même couverture de la dose cible prescrite soit atteinte
pour tous les volumes cibles. Lorsque vous utilisez l'objectif ALDO, toutes les
structures cibles doivent ne posséder qu'un seul objectif inférieur pour 100 % du
volume.
Les pondérations et doses définies par l'utilisateur pour les objectifs de dose
inférieure du volume cible sont modifiées en interne de façon à pousser les
couvertures du volume cible vers la valeur souhaitée. La taille de la correction de la
pondération et l'emplacement de l'objectif sont liés. Aussi, il est recommandé de
définir les priorités des objectifs inférieurs sur des valeurs raisonnables, par exemple
de façon à ce qu'elles soient similaires à la priorité NTO SRS.

Chapitre 9 Algorithmes d'optimisation de dose 227


Si l'optimisation VMAT est redémarrée avec l'option Continue from previous
(Poursuivre l'optimisation précédente) et l'objectif ALDO est sélectionné, les
emplacements et les pondérations de l'objectif inférieur du volume cible sont définis
sur la base de la distribution de dose à la reprise de l'optimisation. Après
l'initialisation, les emplacements et les pondérations de l'objectif sont modifiés de
manière itérative, comme décrit ci-dessus. L'optimisation VMAT reprend au niveau
MR 4 si l'objectif ALDO est activé.
Notez que puisque l'objectif ALDO modifie la fonction de coût au cours de
l'optimisation, il faut s'attendre à ce que les valeurs totales du coût ne subissent pas
une décroissance monotone bien que le système d'optimisation converge.
Notez que l'option ALDO ne peut pas être sélectionnée si tous les objectifs inférieurs
ne sont pas à 100 % du volume, et ne peuvent pas être modifiés une fois
l'optimisation lancée. Un seul objectif inférieur est autorisé pour chaque volume
cible. L'objectif ALDO ne peut pas être utilisé en même temps que l'outil Target
Autocrop (Redimensionnement automatique de la cible).

Analyse de la dose cible pour des plans HyperArc


Eclipse permet de calculer les index de conformité, de gradient et d'hétérogénéité
(mesures de la qualité de la cible) pour toute structure possédant au moins un
objectif inférieur. Lors de la gestion de plusieurs cibles séparées dans l'espace, les cas
dans lesquels un volume d'isodose donné chevauche plusieurs cibles sont pris en
considération. Dans les cas où une isodose d'intérêt contient plusieurs cibles, cela se
reflète dans les valeurs des mesures. En définissant les quantités ci-dessous, nous
tenons compte d'un nombre arbitraire de cibles de traitement, même en présence
d'un comblement de la dose.
Pour calculer les mesures de la qualité de la cible, les structures cibles sont
représentées par des grains grossiers et avec la résolution indiquée dans la matrice de
dose. C'est la raison pour laquelle les valeurs des mesures peuvent diverger dans
External Beam Planning, où la dose est calculée à l'aide des algorithmes AAA ou
Acuros XB, et lors de l'optimisation VMAT, qui utilise MRDC, voire une résolution
différente.
Du fait de la nature de l'optimisation VMAT (résolution progressive), les valeurs des
mesures de la qualité de la cible peuvent varier considérablement sur les niveaux
MR 1 et 2, mais deviennent plus précises à mesure que l'optimisation progresse.
Les niveaux de dose (X % ci-dessous) auxquels les mesures sont calculées sont définis
dans la boîte de dialogue de création du plan HyperArc.
Les volumes suivants sont utilisés pour calculer les index :
■ V(T) : volume de la cible T

228 Manuel de référence des algorithmes de photonthérapie et


d'électronthérapie Eclipse
■ V I X T = V ∪i ∈ Λ(T) I x, i avec Λ T = {i|I X, j ∩ T ≠ ∅ : volume du nuage
d'isodoses X % dont les constituants présentent un chevauchement non nul avec
la cible T :
■ V T ∩ I X   : volume de l'intersection entre la cible T et le nuage d'isodoses X %,

I X = ∪i I X, i = Association de tous les nuages d'isodoses X % séparés dans l'espace


I X, i ∩ I X, j = ∅ ∀i ≠ j .

Les volumes ci-dessus sont utilisés pour calculer :


L'index de conformité RTOG ICX(T) pour une cible unique :

Équation 58

V IX T
CI X T ≡ V T

Remarque : En cas de comblement de la dose entre la cible i et d'autres cibles au niveau X, cela
se reflète dans la valeur de l'ICX (T).

Index de conformité de Paddick ICPX(T) pour une cible unique :

Équation 59

V2 T   ∩ IX
PCI X T ≡ V T   V IX T

dont la valeur diminue en présence d'un comblement de la dose entre T et les autres
cibles au niveau X.
Index de gradient de Paddick IG pour une cible unique :

Équation 60

V I X /2 T
GI T ≡ V IX T

où le comblement de la dose au niveau X/2 se reflète pas une augmentation de la


valeur IG. L'IG peut être considéré comme mal défini en présence d'un comblement
de dose dans la mesure où le nuage d'isodoses au niveau de dose élevée (I X T ci-
dessus) ne couvre généralement qu'une seule cible, mais le nuage d'isodoses à un
niveau de dose intermédiaire (I X /2 T ci-dessus) vient couper plusieurs cibles.
Par exemple, lorsque deux cibles 18 Gy ont en commun le même volume d'isodoses
V(9 Gy) V(9 Gy)
de 9 Gy (=50 %), GI 1 = et GI 2 = . Ici, nous partons
V(18 Gy of the  1st target) V(18 Gy of the 2nd target)
du principe qu'il n'y a aucun comblement de la dose entre les deux à 18 Gy.

Chapitre 9 Algorithmes d'optimisation de dose 229


Notez que la valeur de l'IG de Paddick d'une cible peut devenir infinie si le
dénominateur est nul, ou indéfinie si le numérateur est également nul. Cela est
observé dans des cas où aucune partie du volume cible n'est couverte au niveau de
dose cible ou à la moitié du niveau de dose cible, respectivement. Les niveaux de
dose cibles sont précisés dans la boîte de dialogue de création du plan HyperArc.
L'index d'homogénéité (IH) pour chaque cible T est calculé sur la base de la définition
de l'ICRU83 :

Équation 61

D100 − x T − Dx T
HI x T ≡ D50 T

où Dx(T) correspond au niveau de dose de X % par rapport à la prescription


spécifique à la cible dans la distribution de dose cumulative normalisée pour la cible
T , en d'autres termes, le HDV cumulatif.

Dose intermédiaire
La dose existante peut être utilisée comme dose intermédiaire pour la suite de
l'optimisation. Cette opération peut être réalisée manuellement en relançant
l'optimisation et en sélectionnant l'option permettant d'utiliser la dose de plan
actuelle comme dose intermédiaire pour l'optimisation, ou automatiquement en
sélectionnant Automatic intermediate dose (Dose intermédiaire automatique) dans
la boîte de dialogue Optimization (Optimisation) lors de la première optimisation.
Cette option déclenche le calcul de la dose intermédiaire après que l'optimisation a
convergé, puis poursuit l'optimisation automatiquement. Pour les plans IMRT, le
calcul peut aussi être déclenché manuellement en cliquant sur Intermediate Dose
(Dose intermédiaire) dans la boîte de dialogue Optimization (Optimisation). Cela est
pratique en particulier si le HDV (Histogramme dose-volume) calculé pendant
l'optimisation diffère du HDV obtenu pendant le calcul de la dose (par exemple,
lorsqu'il existe une grande hétérogénéité au sein du volume à traiter). Pour l'IMRT, le
calcul de la dose intermédiaire dans PO utilise la fluence optimale et ne tient pas
compte des effets inclus dans le calcul du déplacement des lames (de la transmission
des lames par exemple). Pour la VMAT dans PO, les points de contrôle réels
administrables sont utilisés et les propriétés du MLC sont incluses.
L'algorithme d'optimisation peut ajuster les séquences de lames pour les champs
VMAT ou les fluences pour les champs IMRT statiques en fonction de la dose
intermédiaire. Il calcule l'erreur entre le résultat de l'optimisation du premier tour et
le calcul de la dose, et pendant le second tour de l'optimisation, compense les
différences et tente d'obtenir un meilleur compromis. Pour la VMAT, le second tour
d'optimisation démarre au niveau multirésolution 3 ou 4, en fonction du paramètre
dans les options de calcul de PO.

230 Manuel de référence des algorithmes de photonthérapie et


d'électronthérapie Eclipse
Relancement de l'optimisation
L'optimisation VMAT peut être relancée à partir des champs d'arcthérapie définis par
l'utilisateur. Les champs définis par l'utilisateur peuvent être générés, par exemple,
lors d'une optimisation d'arcthérapie antérieure, ou ils peuvent être créés
manuellement.
Avant de relancer l'optimisation VMAT, l'algorithme ré-échantillonne l'arcthérapie à
l'espacement approprié des points de contrôle. L'optimisation redémarre à partir du
niveau multirésolution 3 ou 4, en fonction de la configuration des options de calcul
dans l'algorithme PO. Lorsque l'objectif de dose inférieure automatique est utilisé,
l'optimisation reprend à partir du niveau multirésolution 4, quelle que soit la
configuration définie dans les options de calcul PO. Pour permettre des réglages plus
importants de la séquence de lames, l'utilisateur doit rembobiner les niveaux multi-
résolution. Cependant, la dose des niveaux multi-résolution précédents, calculée à
l'aide de l'algorithme MRDC, est moins précise.
Si le champ d'arcthérapie ne comporte pas de DMLC, l'optimisation VMAT est lancée
à partir du premier niveau multi-résolution.
Pour l'optimisation IMRT, toutes les fluences sont initialement nulles ou, en guise
d'alternative, les fluences d'une précédente optimisation peuvent être utilisées
comme hypothèse de départ. L'optimisation IMRT modifie ces fluences lors de
chaque itération et calcule la dose à partir des fluences obtenues après chaque
modification.

Mode Convergence lors de l'optimisation


L'optimisation VMAT inclut un calendrier interne qui contrôle les transitions d'un
niveau multirésolution (MR) au suivant, et d'une étape à la suivante au sein d'un
niveau MR. L'option de calcul Convergence Mode (Mode Convergence) permet à
l'utilisateur de préciser le critère pour la convergence de l'optimisation du plan de
traitement. Dans les modes de convergence, le système d'optimisation utilise des
versions modifiées du calendrier interne pour améliorer le résultat d'optimisation par
comparaison au mode de convergence standard. L'on peut s'attendre à ce que la
durée de l'optimisation soit considérablement plus longue dans les modes étendus
libellés On (Activé) et Extended (Étendu) dans les options de calcul.
Le nombre maximum d'itérations est augmenté d'un facteur de 2,5/11,2 sur le
niveau MR 1, de 2,0/17,8 sur le niveau MR 2, de 1,0/17 sur le niveau MR 3, et de 1,0/15
sur le niveau MR 4 en mode On / Extended (Activé/Étendu), respectivement, par
rapport au calendrier par défaut. Dans le mode Extended (Étendu), les niveaux MR 3
et 4 se composent de quatre étapes chacun, contre deux étapes pour le calendrier par
défaut.

Chapitre 9 Algorithmes d'optimisation de dose 231


Lorsque le nombre maximum d'itérations d'une étape MR donnée n'a pas été atteint,
le critère permettant de passer à l'étape suivante/au niveau MR suivant se base sur
l'examen du plafonnement de la série temporelle du coût d'optimisation. Lors du
passage du niveau MR 1 au niveau MR 4, la série temporelle doit s'inscrire dans les
2 %/(1 % .... 0,5 %)/(0,75 %...0,5 %) au cours des 6/20/50 dernières itérations en mode
par défaut/ On (Activé)/Extended (Étendu), respectivement. Pour les optimisations qui
ont été relancées, le critère d'une série temporelle avec filtre égalisateur est de 2 %/
(0,5 %...0,25 %)/(0,375 %...0,25 %) au cours des 6/20/50 dernières itérations.
Sur les niveaux MR 3 et 4 du mode Extended (Étendu), le système d'optimisation
examine les modifications éventuelles de la fluence qu'implique une paire de lames
en modulation d'intensité dynamique (Méthode Modulation d'Intensité Dynamique
à la page 266) par opposition à une approximation de plusieurs segmentations
statiques plus rapide. Lorsque l'objectif NTO SRS est utilisé, l'approche de la
modulation d'intensité dynamique est activée sur les niveaux MR 3 et 4 dans les
modes Off (Désactivé) et On (Activé), et sur les niveaux MR 2 à 4 dans le mode
Extended (Étendu).

Options de calcul de l'algorithme PO


L'algorithme PO possède les options de calcul suivantes :
■ Inhomogeneity correction (Correction de l'inhomogénéité) : définit si la correction
de l'hétérogénéité du tissu doit être appliquée pendant l'optimisation. Les options
disponibles sont On (Activé) et Off (Désactivé).
■ Air cavity correction (Correction de cavité aérienne) : paramètre supplémentaire
permettant d'affiner la correction de l'inhomogénéité. Les options disponibles sont
On (Activé) et Off (Désactivé). Ce paramètre est sans effet si le paramètre
d'inhomogénéité est configuré sur Off (Arrêté). Lorsque l'option de correction de
cavité aérienne est utilisée, la dose dans une cavité aérienne est plus réduite que
sans cette option. Si une dose de référence est présente, l'algorithme PO active la
correction de cavité aérienne afin de fournir un plan d'aussi bonne qualité que
possible. Tel est le cas même si l'option de calcul a été désactivée. Des
informations sur l'état de la correction de la cavité aérienne sont affichées dans le
fichier log de calcul. Cette option de calcul n'est pas prise en considération dans le
calcul du processeur graphique [automatiquement définie sur Off (Désactivé)].
Si le volume cible contient de l'air, il n'est pas possible d'obtenir une distribution
de dose homogène pour celui-ci. En effet, la densité de l'air étant très faible par
rapport à celle des parties du volume cible ne contenant pas d'air, la partie
contenant de l'air ne peut pas absorber autant de dose que celles qui n'en
contiennent pas. La densité de l'air est d'environ 0,0012 g/cm3, tandis que celle du
poumon est d'environ 0,26 g/cm3.
■ Fluence smoothing X (Lissage en X de la fluence) : lissage de la fluence du champ
sur l'axe Y d'un champ IMRT statique.

232 Manuel de référence des algorithmes de photonthérapie et


d'électronthérapie Eclipse
■ Fluence smoothing Y (Lissage en Y de la fluence) : lissage de la fluence du champ
sur l'axe Y d'un champ IMRT statique.
■ Auto-feathering (Lissage automatique) : détermine si les jonctions de dose des
groupes de champs (définies par la valeur de seuil Z) sont automatiquement
lissées pour les plans à plusieurs isocentres. Les options disponibles sont On
(Activé) et Off (Désactivé). Le lissage automatique est activé par défaut.
■ Field-grouping Z-threshold (Seuil Z de regroupement de champs) : distance entre
les isocentres de champs [en cm] pour les affecter à un groupe de champs distinct.
Des groupes de champs sont utilisés lors du lissage automatique, ainsi que pour
initialiser les UM pour des champs VMAT. Si la distance entre les isocentres est
plus grande que la valeur définie, s'il est activé, un lissage automatique est utilisé.
■ Convergence mode (Mode Convergence) : détermine le caractère strict d'un critère
de convergence lors de l'optimisation. Les options disponibles sont Extended
(Étendu), On (Activé) et Off (Désactivé).
■ MR level at restart (Niveau MR à la reprise) : déterminer le niveau multi-
résolution à la reprise de l'optimisation. Les options disponibles sont MR3 et MR4.
■ Aperture shape controller (Contrôleur de la forme de l'ouverture) : détermine
l'intensité du contrôleur de la forme d'ouverture. Les options disponibles sont Off
(Désactivé), Very Low (Très faible), Low (Faible), Moderate (Modéré), High (Élevé),
Very High (Très élevé).
■ Use GPU (Utiliser le processeur graphique) : détermine si le processeur graphique
(GPU) doit être utilisé pour accélérer l'optimisation IMRT. Les options disponibles
sont Yes (Oui) et No (Non). Le calcul du processeur graphique utilise l'algorithme
Fourier Transform Dose Calculation (FTDC) pour permettre une optimisation
rapide de la dose dans l'algorithme Photon Optimization (PO). Les hôtes de calcul
nécessitent un matériel spécifique pour exécuter le calcul du processeur
graphique.
■ Dose calculation resolution (Résolution du calcul de la dose) : détermine la
résolution de la grille (en cm) pour le moteur de calcul de la dose interne du
système d'optimisation. La valeur par défaut est 0,25 cm. Lors de la configuration
de l'algorithme PO pour le modulateur de faisceau Elekta, une résolution de
0,20 mm est recommandée. Pour le calcul du processeur graphique, la seule
résolution de calcul de dose prise en charge est la résolution 0,25 cm.
■ Dose calculation resolution for SRS and HyperArc (Résolution du calcul de la
dose pour SRS et HyperArc) : détermine la résolution de la grille (en cm) pour le
moteur de calcul de la dose interne du système d'optimisation lorsque la
technique de plan est SRS ou HyperArc. Lorsque cela est possible, ce paramètre
de résolution remplace celui du dessus. Par défaut, la résolution est définie sur
0,125 cm.

Chapitre 9 Algorithmes d'optimisation de dose 233


Configuration du système pour l'optimisation de dose
Remarque : Lors de la configuration des algorithmes d'optimisation de dose, veuillez noter les
points suivants :
■ Il est important de configurer le système de sorte qu'il corresponde aux caractéristiques de
la machine de traitement.
■ Effectuez régulièrement des mesures de suivi et comparez-les aux données faisceaux
dosimétriques utilisées pour la configuration du faisceau. Si les fluctuations sont
importantes et que les données faisceaux configurées ne représentent plus le faisceau
moyen produit par la machine, reconfigurez les données faisceaux à l'aide des données
faisceaux dosimétriques plus récentes.
■ Mesurez toutes les données faisceaux dosimétriques dans les conditions de stabilité les plus
favorables possible.
■ Utilisez les mêmes conventions de dénomination de fichier dans les mesures de données
faisceaux (fichiers d'entrée) et dans Beam Configuration (nom de la machine de
traitement), et renommez les fichiers d'entrée afin de faciliter la mise en correspondance des
données faisceaux et de la machine de traitement lors du processus de configuration.

Mesures de données faisceaux pour l'optimisation de dose


La configuration de l'algorithme PO requiert les mêmes données de faisceaux
mesurées de base que les algorithmes de calcul utilisés pour le calcul de la dose.
Les mesures suivantes des données de faisceaux sont requises pour la configuration
de l'algorithme d'optimisation :
■ Profils de champs ouverts (OPP) pour plusieurs tailles de champ à
cinq profondeurs. Le nombre minimum de profils mesurés requis est de trois,
mais il est conseillé d'en utiliser cinq.
■ Profil diagonal de champ ouvert (DPR) pour la plus grande taille de champ à
cinq profondeurs. Il est possible de configurer l'algorithme PO sans profils
diagonaux. Toutefois, l'utilisation de profils diagonaux peut améliorer la
précision. Il est recommandé d'utiliser cinq profils diagonaux mesurés.
■ Courbes de dose en profondeur de champ ouvert (OPD) pour les mêmes tailles de
champ que les profils.
■ Distance source-fantôme (DSF) en cm.
■ Énergie nominale. Dans les algorithmes MRDC et FTDC, l'énergie nominale est
un paramètre associé à l'énergie maximale en MV des spectres de photons. Le
programme de configuration modifie davantage le spectre de photons avec
d'autres paramètres de configuration, de manière à ce que la dose calculée
corresponde aux mesures.
■ Profondeurs de mesure de profil en cm.

234 Manuel de référence des algorithmes de photonthérapie et


d'électronthérapie Eclipse
Remarque : La distance source-fantôme (DSF) doit être la même dans la configuration de
l'algorithme de calcul de la dose et dans la configuration de l'algorithme PO. La valeur DSF
est définie dans les General Parameters (Paramètres généraux) de Beam Configuration.

L'algorithme PO a certaines exigences particulières en matière de configuration des


données de faisceaux :
■ Les tailles de champ maximales doivent être définies dans les paramètres
généraux (par exemple, un champ de 40 × 40 cm2).
■ En raison des caractéristiques de l'algorithme d'optimisation, l'énergie nominale
(définie dans les paramètres généraux) ne doit pas dépasser 30 MV.
Description détaillée des courbes de dose en profondeur mesurées et des tailles de
champ des courbes de profil mesurées : Configuration des faisceaux de photons à la
page 51.
Sur la base des données de faisceaux mesurées, la configuration génère les fichiers de
données de faisceaux configurés et un paramètre indicateur [Maximum Error for
Dose Estimation (Erreur max. d'estimation de dose)] pour les FTDC et MRDC.
Généralement, ce paramètre présente des valeurs distinctes pour FTDC et MRDC en
raison des différences dans la nature et les détails d'implémentation des algorithmes.
Le paramètre est un indice gamma maximal avec un critère de 1 % pour l'écart de
dose et de 1 mm pour la distance à valider (en général, la valeur d'une configuration
réussie doit être inférieure à 5, si la valeur est supérieure, la raison peut se trouver
dans les données faisceaux mesurées).

Configuration de l'algorithme PO dans Beam Configuration


Vous pouvez configurer l'algorithme PO en vous basant sur :
■ Les données faisceaux précédemment configurées pour un algorithme de calcul
de dose (AAA/Acuros XB).
■ Les données faisceaux précédemment configurées pour un algorithme
d'optimisation de photons (PRO/DVO/PGO). Pour obtenir des instructions sur la
copie des données faisceaux depuis un autre modèle de calcul : Manuel de référence
Beam Configuration
■ Les données faisceaux mesurées de base.

Remarque : Il est recommandé de tout d'abord configurer l'algorithme de calcul de la dose


(AAA/Acuros XB), puis de configurer l'algorithme PO en fonction de cela.

Plus de détails sur l'utilisation de Beam Configuration : Manuel de référence Beam


Configuration.

Chapitre 9 Algorithmes d'optimisation de dose 235


Remarque : Pour obtenir des informations sur la configuration de l'algorithme PO d'après les
algorithmes PRO/DVO/PGO, reportez-vous à la documentation de l'utilisateur d'Eclipse
pour la version 15.1.

Configurer l'algorithme PO en fonction d'un algorithme AAA/Acuros XB


configuré
1. Accédez à Beam Configuration.
2. Pour ajouter un modèle de calcul pour l'algorithme PO si aucun modèle n'est
disponible, choisissez Beam Data > Configure Calculation Models (Données
faisceaux > Configurer les modèles de calcul) et ajoutez le modèle.
3. Vérifiez que le modèle de calcul de dose que vous souhaitez utiliser (AAA/
Acuros XB) est correctement configuré dans le système.
4. Dans la Scope Window (Fenêtre Scope), sélectionnez le modèle d'optimisation à
configurer.
5. Choisissez Insert > New Beam Data (Insérer > Nouvelles données faisceaux).
6. Sélectionnez l'option Copy existing calculation model data to the optimization
model (Copier des données du modèle de calcul existantes vers le modèle
d'optimisation).
7. Sélectionnez le modèle de calcul configuré à utiliser pour la configuration du
nouveau modèle d'optimisation.
8. Cliquez sur OK.
9. Dans la Focus Window (Fenêtre active), sélectionnez l'accessoire de champ
ouvert, puis choisissez Beam Data > Calculate Beam Data (Données faisceaux >
Calculer les données faisceaux).
10. Si la configuration est satisfaisante, validez les données.

Configurer l'algorithme PO à partir de données faisceaux mesurées


1. Accédez à Beam Configuration.
2. Pour ajouter un modèle de calcul pour l'algorithme PO si aucun modèle n'est
disponible, choisissez Beam Data > Configure Calculation Models (Données
faisceaux > Configurer les modèles de calcul) et ajoutez le modèle.
3. Dans la Scope Window (Fenêtre Scope), sélectionnez le modèle de calcul PO,
puis choisissez Insert > New Beam Data (Insérer > Nouvelles données faisceaux).
4. Définissez un nom de machine de traitement pour le modèle de calcul, puis
sélectionnez l'option Start with empty data (Démarrer avec des données vierges).
5. Des valeurs de paramètres d'étalonnage de dose absolue par défaut sont ajoutées.

236 Manuel de référence des algorithmes de photonthérapie et


d'électronthérapie Eclipse
6. Saisissez les mêmes valeurs de paramètres d'étalonnage de dosimétrie absolue
que celles utilisées dans la configuration de l'algorithme AAA/Acuros XB.
Les valeurs de paramètres doivent être identiques à celles utilisées dans la
configuration de l'algorithme AAA/Acuros XB.
7. Pour ajouter l'accessoire de champ ouvert, choisissez Insert > New Add-On
(Insérer > Nouvel accessoire).
8. Pour importer les données faisceaux au format w2CAD, accédez à la Focus
Window (Fenêtre active), sélectionnez Open Field (Champ ouvert), choisissez
File > Import > Measured Diagonal Profiles, Measured Depth Doses, ou
Measured Profiles (Fichier > Importer > Profils diagonaux mesurés, Doses en
profondeur mesurées ou Profils mesurés), selon le type de mesure, puis accédez à
l'emplacement de vos fichiers de données faisceaux mesurées.
9. Dans la Focus Window (Fenêtre active), sélectionnez l'accessoire de champ
ouvert, puis choisissez Beam Data > Calculate Beam Data (Données faisceaux >
Calculer les données faisceaux).
10. Si la configuration est satisfaisante, validez les données.

Chapitre 9 Algorithmes d'optimisation de dose 237


Chapitre 10 Algorithme d'estimation HDV pour
RapidPlan

Algorithme d'estimation HDV pour RapidPlan


L'algorithme d'estimation HDV est utilisé pour la création et l'application de modèles
d'estimation HDV qui serviront dans le cadre de la planification de traitement avec
RapidPlan. La principale fonction de l'algorithme d'estimation HDV est d'estimer un
histogramme dose-volume (HDV) réaliste pour divers organes critiques. Les
estimations sont basées sur les HDV effectivement obtenus pour des cas de patients
planifiés antérieurs. Ces HDV estimés peuvent être traduits en objectifs
d'optimisation. Ces derniers sont définis pour que le système d'optimisation essaie
d'obtenir les HDV estimés.
L'algorithme est divisé en un composant de configuration de modèle et un
composant d'estimation HDV. Le composant de configuration de modèle est utilisé
pour configurer de nouveaux modèles d'estimation HDV qui peuvent ensuite être
utilisés dans le composant d'estimation HDV en vue d'obtenir des estimations pour
un plan unique. Le composant de configuration de modèle comprend deux phases :
la phase d'extraction de données et la phase d'apprentissage de modèle. Le
composant d'estimation HDV consiste quant à lui en une phase de génération
d'estimations et une phase de génération d'objectifs.
Certains niveaux de dose pour les volumes cibles peuvent être définis librement.
Vous pouvez définir 1 à 10 structures cibles dans un modèle d'estimation HDV. Vous
voudrez peut-être utiliser plusieurs volumes cibles, s'ils ont des distributions de dose
qualitativement différentes ou des objectifs d'optimisation différents.
Les informations nécessaires aux estimations sont stockées dans un modèle
d'estimation HDV. Ce dernier est créé à l'aide de la phase d'apprentissage de
l'algorithme d'estimation HDV et d'un ensemble de cas planifiés antérieurs, qui ont
été ajoutés à un ensemble d'apprentissage lors de l'exécution de la phase d'extraction
de l'algorithme d'estimation HDV. Durant la phase d'extraction, les plans d'origine
doivent contenir des groupes de structures, une géométrie de champs, des matrices
de dose et des prescriptions de plan. Cet algorithme ne s'applique qu'aux plans IMRT
et VMAT.

Remarque : Si vous utilisez des modèles d'estimation de HDV qui ont été configurés avec une
version antérieure de l'algorithme d'estimation de HDV, voir la documentation de l'utilisateur
Eclipse pour cette version spécifique.

238 Manuel de référence des algorithmes de photonthérapie et


d'électronthérapie Eclipse
Composant de configuration de modèle
Un ensemble de plans de la base de données du système Varian est transféré sous
forme d'informations binaires au composant de configuration de modèle en vue de la
génération des estimations HDV. La procédure générale de configuration de modèle
comporte deux phases : extraction et apprentissage. Le composant de configuration
de modèle de l'algorithme d'estimation HDV comprend donc également ces deux
phases : la phase d'extraction de données et la phase d'apprentissage de modèle. Lors
de la phase d'extraction de données, les informations concernant un groupe de
structures, la dose et la géométrie des champs d'un plan unique sont converties en
quelques courbes caractéristiques et valeurs de paramètres. Celles-ci sont ensuite
utilisées avec toutes les autres données extraites pour réaliser l'apprentissage de
modèle.

Phase d'extraction de données


La phase d'extraction de données prépare les données d'apprentissage dont le
composant de configuration a besoin pour former un modèle. Le composant
d'extraction de données prend comme entrée un ensemble de plans IMRT ou VMAT,
en particulier les groupes de structures et les matrices de dose qui leur sont associés.
Le groupe de structures utilise un modèle de segmentation pour représenter chacune
des structures. Le modèle de segmentation détermine l'emplacement de la surface de
la structure. Toutes les mesures calculées par l'algorithme d'estimation HDV sont
basées sur des voxels et utilisent la même résolution pour la représentation de la
structure que celle utilisée dans le client Eclipse. Chaque voxel a une valeur comprise
entre 0,0 et 1,0. La valeur représente la fraction du volume des voxels qui appartient à
la structure.
Pour chaque plan d'apprentissage et chaque structure associée à une structure OAR
du modèle, la phase d'extraction de données commence par diviser le volume de la
structure en régions fonctionnellement différentes :
■ La région hors champ correspond à la partie de la structure non visible depuis
l'ouverture des mâchoires de l'un des champs (ou dans le cas d'un champ
d'arcthérapie, depuis l'un des points de contrôle).
■ La région de transmission des lames correspond à la partie de la structure visible
depuis au moins une ouverture de mâchoires, mais ne chevauchant pas la
projection du volume cible de l'un des champs.
■ La région dans le champ correspond à la partie de la structure qui chevauche la
projection du volume cible d'au moins un champ.
■ La région de chevauchement correspond à la partie du volume qui se trouve
également à l'intérieur de toute structure associée à l'une des structures cibles du

Chapitre 10 Algorithme d'estimation HDV pour RapidPlan 239


modèle. La région de chevauchement est ensuite divisée en régions de
chevauchement cible-structure-spécifiques.
Ensemble, les quatre régions (de chevauchement, dans le champ, de transmission des
lames et hors champ) définissent tous les volumes de structure au sein du contour
externe.
Pour chaque région, le volume relatif de la région est calculé, ainsi que l'histogramme
de volume cumulatif de la matrice de dose concernée. De plus, la distribution
géométrique de la région interne au champ est évaluée sous forme d'histogramme de
volume cumulatif de la matrice GED (informations sur GED : Mesure GED (dose
attendue en fonction de la géométrie) à la page 247). Tout voxel affichant une
fraction du volume non nulle contribue à un histogramme de volume d'une région
unique. La contribution est proportionnelle à la fraction du volume. La dose ou la
valeur GED est évaluée au niveau du centroïde de la partie du voxel appartenant à la
structure.
Les caractéristiques géométriques suivantes sont calculées pour l'ensemble de la
structure :
■ Volume de l'OAR en cm3
■ Pourcentage du volume de l'OAR chevauchant l'union de tous les volumes cibles
■ Pourcentage du volume de l'OAR hors champ
■ Volume conjugué des volumes cibles en cm3

Phase d'apprentissage de modèle


La phase d'apprentissage de modèle de l'algorithme d'estimation HDV est utilisée
pour créer des modèles d'estimation HDV. La phase d'apprentissage de modèle
produit un modèle d'estimation HDV, qui est en fait un ensemble de modèles
d'estimation HDV pour des organes à risque (OAR) distincts. Le modèle d'estimation
HDV de chaque OAR se compose à son tour d'un ensemble de modèles d'estimation
HDV, un par région OAR. Chaque modèle de région OAR est calculé séparément en
suivant la même procédure. Trois modèles sont disponibles pour chaque région
OAR :
■ Le modèle plus complexe utilise une combinaison de techniques d'analyse en
composantes principales (ACP) et de régression. Seule la région dans le champ de
l'OAR utilise ce modèle.
■ Le modèle plus simple utilise la moyenne et l'écart-type des HDV de la région
OAR.
■ Modèles par défaut spécifiques à la région.

240 Manuel de référence des algorithmes de photonthérapie et


d'électronthérapie Eclipse
Dans le modèle ACP-régression, la phase d'apprentissage de modèle utilise en entrée
les mesures calculées par la phase d'extraction de données. Sur ces mesures, la phase
d'apprentissage de modèle applique l'ACP aux GED de tous les OAR (de l'intégralité
de l'ensemble d'apprentissage) pour extraire les informations (caractéristiques)
contenues dans les GED. La même procédure est appliquée aux HDV. À l'issue de
cette étape, la phase d'apprentissage de modèle extrait généralement 2 à 3 valeurs
(scores des composantes principales) pour représenter chaque histogramme. Le
nombre exact de composantes dépend du nombre de composantes nécessaires à la
reconstruction des histogrammes d'origine avec une erreur inférieure à 5 %.
Les scores des composantes principales extraits des GED sont ensuite combinés aux
caractéristiques anatomiques de l'OAR du patient et au volume cible. Le résultat de
la combinaison consiste en l'ensemble des termes de premier et deuxième ordres, à
l'exception des termes de deuxième ordre qui sont formés en combinant les scores de
deux composants GED principaux différents. Cet ensemble de termes, conjugué au
terme d'ordre zéro (terme d'intersection), constitue l'entrée du modèle de régression.
À l'étape suivante, la phase d'apprentissage de modèle applique une régression
séquentielle séparément pour chaque composante principale de l'HDV. Le modèle de
régression séquentielle suit un processus itératif de méthodes progressives et
régressives jusqu'à la convergence. Au cours de la première itération, la méthode
progressive est utilisée. L'algorithme continue d'ajouter des paramètres au modèle
tant que ceux-ci ont un niveau de signification supérieur à 5 %. Lorsque la méthode
progressive s'arrête, la méthode régressive commence en ôtant les paramètres dont la
signification est inférieure à 5 %. Ce processus se poursuit jusqu'à ce qu'il n'y ait plus
de paramètres à ajouter ou supprimer. Le modèle de régression obtenu est un
ensemble de coefficients pouvant être utilisés pour estimer les scores des
composantes principales de l'HDV à partir des paramètres géométriques. En outre,
l'écart-type de chaque estimation de score de composante principale de l'HDV est
calculé afin de déterminer par la suite les limites supérieure et inférieure de la plage
d'estimation.
L'ensemble du modèle ACP-régression d'un OAR se compose des éléments suivants :
■ Les composantes moyennes et principales des GED.
■ Les composantes moyennes et principales des HDV.
■ Le modèle de régression.
■ Une série d'informations statistiques, comme les moyennes et les écarts-types des
scores et des caractéristiques anatomiques, et les erreurs du modèle de régression.
Ces informations sont utilisées pour détecter les valeurs aberrantes lors de la
configuration et de l'application du modèle d'estimation HDV à un plan.
■ La plage de couverture de la cible présente dans l'ensemble d'apprentissage.

Chapitre 10 Algorithme d'estimation HDV pour RapidPlan 241


Puisque les HDV et les histogrammes de volume cumulatif pour la GED sont des
fonctions à décroissance monotone, ils peuvent être remplacés par leurs fonctions
inverses (fonctions de volume plutôt que fonctions de dose). Ces deux différentes
interprétations donneraient lieu à des composants principaux différents, l'un d'entre
eux étant souvent plus naturel que les autres. Ainsi, le modèle ACP-régression fait
l'objet d'un apprentissage distinct en utilisant les deux interprétations. Le modèle
présentant un meilleur coefficient de détermination est sélectionné. En particulier les
petites structures en bénéficient généralement si l'ACP est réalisé sur la base des
HDV inversés.
Si un nombre insuffisant de régions à l'intérieur du champ est renseigné pour le
modèle ACP-régression, alors le modèle pour cet OAR n'est pas testé.
Le modèle moyenne-écart-type se compose de la moyenne et de l'écart-type des
HDV. Pour les régions hors champs et de transmission des lames, les doses HDV sont
normalisées par la prescription de plan (lorsque le modèle issu de l'apprentissage est
utilisé pour fournir des estimations, le niveau de dose du volume cible le plus élevé
est utilisé). Pour les régions de chevauchement cible-structure-spécifiques, le niveau
de dose cible correspondant est utilisé. Les HDV moyen et standard sont définis
séparément pour chaque structure cible du modèle. Si un nombre insuffisant de
régions des structures est renseigné pour le modèle moyenne-écart-type, ce dernier
devient un modèle par défaut spécifique à la région. Les modèles par défaut spécifiques à
la région qui suivent sont disponibles :
■ Modèle de chevauchement cible-structure-spécifiques par défaut : tous les
volumes de la structure se chevauchant et qui reçoivent 100 % du niveau de dose
associé à la structure cible se chevauchant.
■ Modèle de transmission aux lames par défaut : tous les volumes de transmission
aux lames de la structure qui reçoivent la dose de transmission aux lames,
laquelle est définie comme égale à 4 % de la dose prescrite.
■ Modèle hors champ par défaut : tous les volumes hors champ de la structure qui
reçoivent 0 Gy.
Il n'existe aucun modèle par défaut pour la région à l'intérieur du champ.

Remarque : Lorsque vous utilisez un modèle d'estimation de HDV qui a fait l'objet d'un
apprentissage avec une version d'algorithme d'estimation de HDV antérieure à la
version 15.5, la région de chevauchement n'est pas divisée en régions cible-structure-
spécifiques. Au lieu de cela, la région de chevauchement commune est estimée dans son
ensemble.

242 Manuel de référence des algorithmes de photonthérapie et


d'électronthérapie Eclipse
Composant d'estimation HDV
Le composant d'estimation HDV de l'algorithme d'estimation HDV est utilisé pour
générer les HDV estimés et les objectifs d'optimisation d'un plan. Le composant
d'estimation HDV prend comme entrée un modèle d'estimation HDV configuré, un
groupe de structures du plan et les niveaux de dose des volumes cibles. L'algorithme
d'estimation HDV produit un ensemble d'HDV représentant les limites supérieure et
inférieure estimées de chacune des structures OAR prises en charge, ainsi qu'un
ensemble d'objectifs d'optimisation. Ces derniers sont définis pour que le système
d'optimisation essaie d'obtenir les HDV estimés.
Le composant d'estimation HDV comprend deux phases : la phase de génération
d'estimations et la phase de génération d'objectifs.

Phase de génération d'estimations


La phase de génération d'estimations calcule, pour chaque structure prise en charge,
les mêmes mesures que celles calculées lors de l'extraction des données du modèle
d'estimation HDV, à l'exception de l'HDV. Pour chaque structure associée à une
structure OAR du modèle, la géométrie est évaluée comme lors de la phase
d'extraction de données de la configuration de modèle, y compris la segmentation de
la structure, l'histogramme de volume cumulatif pour la GED et les caractéristiques
anatomiques.
Une caractéristique anatomique est marquée comme étant significativement en
dehors d'après les statistiques de l'ensemble d'apprentissage si X > X max; X < X min ou
si l'un des éléments de cette équation est vrai.

Équation 62

(X − X med)
> 1.56
X 90 − X med
or
X med − X
> 1.56
X med − X 10

X = La valeur de la caractéristique géométrique calculée pour le plan ap-


pliqué.

Chapitre 10 Algorithme d'estimation HDV pour RapidPlan 243


X max = La valeur la plus élevée de l'ensemble d'apprentissage.

X min = La valeur la plus faible de l'ensemble d'apprentissage.

X med = La valeur moyenne de l'ensemble d'apprentissage.

X 90 = Le 90e centile des valeurs de l'ensemble d'apprentissage.

X 10 = Le 10e centile des valeurs de l'ensemble d'apprentissage.

Pour la région dans le champ, modélisée avec le modèle ACP-régression,


l'histogramme GED est paramétré de façon plus poussée à l'aide des composantes
principales calculées lors de la phase d'apprentissage de modèle et stockées avec les
données de modèle. Le modèle de régression est appliqué pour estimer les scores des
composantes principales de l'HDV correspondant. La courbe HDV estimée la plus
probable est ensuite produite à l'aide des composantes principales de l'HDV stocké.
Les limites supérieure et inférieure sont générées à partir de l'estimation HDV la plus
probable. La courbe de variation est déterminée en calculant la somme des
composantes principales de l'HDV au carré point par point multipliée par l'écart-type
associé au modèle de régression. Enfin, la racine carrée est calculée point par point
sur la courbe cumulative pour obtenir la courbe de variance finale. Les limites
supérieure et inférieure sont obtenues en ajoutant et soustrayant cette courbe de
variance.
Pour les autres régions utilisant le modèle moyenne-écart-type, les courbes
supérieure et inférieure sont simplement calculées en prenant l'HDV moyen stocké et
en y ajoutant et soustrayant la courbe d'écart-type stockée.
Pour finir, les courbes des différentes régions sont additionnées en les pondérant
individuellement en fonction du volume relatif de chaque région. Cette opération est
réalisée séparément pour les courbes des limites supérieure et inférieure.

Remarque : Il est possible que la reconstruction directe de l'HDV à partir des scores des
composantes principales obtenus à l'aide du modèle de régression produise une courbe non
décroissante. Dans ce cas, la courbe finale est obtenue en remplaçant chaque valeur de l'HDV
cumulatif estimé par la valeur maximale de la courbe estimée avec une valeur de dose
supérieure à la valeur de dose actuelle.

244 Manuel de référence des algorithmes de photonthérapie et


d'électronthérapie Eclipse
Phase de définition d'objectifs d'optimisation
Une fois que la phase de génération d'estimations a estimé les HDV des limites
supérieure et inférieure, la phase de définition d'objectifs d'optimisation les convertit
en objectifs d'optimisation. Ceux-ci sont basés sur les préférences de l'utilisateur.
Pour les OAR, plusieurs types d'objectifs fixes et basés sur des estimations sont
possibles. Les objectifs d'optimisation des OAR sont définis pour que le système
d'optimisation essaie d'obtenir les HDV estimés. Comme le but des utilisateurs est
également d'épargner au maximum les organes sans affecter la couverture de la cible,
les objectifs d'optimisation sont produits comme décrit ci-dessous.
Tout d'abord, l'objectif impose sa forme à l'HDV actuel. Dans la mesure où les
utilisateurs tentent à la fois d'améliorer la couverture de la cible et d'épargner au
maximum les organes critiques, si ceux-ci sont correctement évités, la cible est
également correctement couverte, et inversement. Les objectifs tirent toutes les
parties de la courbe HDV avec la même force, ajustant celle-ci à un profil similaire à
celui de la ligne objectif. Si une partie de la ligne objectif se situe sous la courbe HDV,
cette partie n'a aucune influence sur la forme de cette dernière. Seules les parties de la
ligne situées au-dessus de la courbe HDV ont un effet de tirage sur celle-ci. Pour
déterminer les objectifs d'optimisation, on considère que la force (gradient de la
fonction de coût à optimiser) qui écarte la courbe de la limite inférieure du volume
cible FT, L(LB) doit être égale à la somme des forces qui tentent de réduire la dose par
rapport à chacune des limites supérieures d'OAR FOAR, U(UB) , et inversement. Cette
contrainte garantit que si l'optimisation trouve la solution remplissant les
estimations, elle minimise également la fonction de coût. L'équation suivante
s'applique à un modèle avec nOAR structures OAR :

Équation 63

nT nT nOAR

∑ FT, L
i (LB) = ∑ FT,
i
U
(UB) + ∑ FOAR,
i
U
(UB)
i=1 i=1 i=1
nT nT nOAR
∑ FT,i L(UB) = ∑ FT,i U(LB) + ∑ FOAR,
i
U
(LB)
i=1 i=1 i=1

nT = Nombre de structures cibles.

nOAR = Nombre de structures OAR.

Chapitre 10 Algorithme d'estimation HDV pour RapidPlan 245


LB = Limite inférieure de la région possible de l'HDV. Pour un or-
gane critique, il s'agit de la limite inférieure de la plage de
l'HDV estimé.

UB = Limite supérieure de la région possible de l'HDV. Pour un


organe critique, il s'agit de la limite supérieure de la plage
de l'HDV estimé.

FT, L = Gradient total par rapport aux objectifs inférieurs du vo-


i (x)
lume cible i à la position x de l'HDV de celui-ci.

FT, U
(x) = Gradient total par rapport aux objectifs supérieurs du vo-
i
lume cible i à la position x de l'HDV de celui-ci.

FOAR, U
(x) = Gradient total par rapport aux objectifs supérieurs de l'or-
i
gane critique i à la position x de l'HDV de celui-ci.

FOAR,
i
U
et FT,
i
U
sont identiques ; chaque structure est mise en avant de la même
manière. Si un OAR ou volume cible possède plusieurs objectifs supérieurs, les
gradients des différents objectifs sont considérés comme identiques. Ces équations
déterminent l'emplacement (partie dynamique de l'objectif) et la priorité de l'objectif.
Dans la pratique, les objectifs d'optimisation des OAR sont définis à gauche (dose et
volume faibles) de la limite inférieure afin que celle-ci puisse être atteinte. Toutes les
priorités des objectifs OAR sont définies par rapport à celles des objectifs du volume
cible. En définissant la priorité du volume cible sur une valeur donnée, les
paramètres restants peuvent être déterminés de façon unique. La valeur de priorité
peut être outrepassée en définissant une nouvelle dans l'espace de travail DVH
Estimation Model Configuration.
En outre, l'objectif linéaire possède la même forme que l'estimation inférieure ; il peut
donc être en dessous de la limite inférieure à chaque paire dose-volume si le même
décalage est appliqué. Par conséquent, l'objectif linéaire présente un décalage
constant vers la gauche par rapport à l'estimation inférieure, c'est-à-dire que le
décalage est le même à chaque pourcentage de volume.
Si l'objectif linéaire avec préférence de la cible est utilisé, l'objectif linéaire est modifié
dans le volume à dose élevée correspondant aux volumes de chevauchement des
différentes structures cibles. Des étapes sont générées jusqu'à l'objectif linéaire de
façon à ce qu'il n'entre pas en conflit avec les objectifs inférieurs du volume cible.
Pour chaque région de chevauchement cible-structure-spécifique, un segment
horizontal est créé dans l'objectif linéaire au volume qui correspond à la combinaison
de tous les volumes cibles ayant un niveau de dose supérieur ou égal. La
segmentation horizontale se poursuit jusqu'à l'emplacement de l'objectif supérieur le
plus élevé associé au volume cible. Un segment vertical est ensuite créé, jusqu'à ce
que le volume de la combinaison de tous les volumes cibles ayant un niveau de dose
supérieur soit atteint (ou si la ligne d'origine est atteinte). Selon la forme de l'objectif
linéaire, certaines étapes ou toutes les étapes peuvent ne pas être visibles. Si l'objectif
linéaire avec préférence de l'OAR est utilisé, la ligne n'est pas modifiée.

246 Manuel de référence des algorithmes de photonthérapie et


d'électronthérapie Eclipse
Du point de vue de l'algorithme, l'objectif linéaire est un ensemble de paires dose-
volume. La ligne est générée de façon à minimiser le nombre de paires. Les valeurs
des paires ne sont pas définies à intervalles égaux. L'algorithme examine la forme de
la ligne et tente de placer les objectifs aux endroits où elle change le plus (c'est-à-dire,
au niveau des inflexions concaves/convexes). L'utilisateur ne peut pas configurer ces
valeurs.
Les modèles d'estimation HDV comprennent des objectifs d'optimisation (fixes)
définis manuellement. Cette définition peut être partielle (certaines valeurs de
paramètre d'optimisation manquent) ou complète (toutes les valeurs de paramètre
d'optimisation sont définies). Les objectifs d'optimisation définis entièrement sont
transmis tels quels, tandis que les valeurs manquantes de ceux définis partiellement
sont calculées et renseignées par le composant d'estimation HDV.

Mesure GED (dose attendue en fonction de la géométrie)


La mesure GED (dose attendue en fonction de la géométrie) représente, d'une
certaine façon, la distance entre les différents voxels de la structure et les surfaces des
volumes cibles. La valeur de « distance » consiste dans la dose à laquelle chaque
volume cible contribue en un voxel donné en fonction de la géométrie des champs.
Cette mesure dépend uniquement de l'anatomie du patient, de la dose désirée à
délivrer à chaque volume cible (niveau cible) et de la configuration des champs
(position et orientation). La mesure GED représente la dose qu'un voxel donné
recevrait si nous ne devions prendre en compte que les valeurs précédemment
mentionnées. La mesure GED s'apparente ainsi à une dose conformationnelle.
Pour le calcul de la mesure GED, le volume du contour externe est discrétisé en
éléments 3D de taille identique, appelés voxels. Pour un champ donné, la valeur
« dose-distance » relative au voxel v(ged f v) se définit comme suit :

Équation 64

−λ f × d f v
e
ged f v = F λ f , d f v   =  
d f v2

dfv = Distance euclidienne entre l'origine du champ f et le voxel v .

λf = Paramètre dépendant de l'énergie nominale du champ f .

Chapitre 10 Algorithme d'estimation HDV pour RapidPlan 247


La valeur « dose-distance » totale au voxel v(gedv) se définit comme suit :

Équation 65

m n
gedv = ∑ δt × ∑ Ctv × ged f v
t=1 f =1

m = Nombre de niveaux cibles.

δt = Niveau cible incrémentiel (niveau cible désiré actuel moins le


niveau cible précédent [dans l'ordre croissant des valeurs]).

n = Nombre de champs.

Ctv = Facteur d'échelle modulant le rayonnement dans le beamlet


de chaque champ en fonction de la géométrie du volume
cible.

Le facteur Ctv est introduit pour autoriser une certaine modulation d'un champ à un
autre et au sein même des champs afin d'obtenir une mesure GED visuellement plus
régulière. Des mesures GED plus régulières permettent d'obtenir des histogrammes
GED plus réguliers, qui sont plus simples à paramétrer par la suite.
La deuxième somme va au-delà tous les sous-champs de la géométrie de champ
définie. Si deux plans ou plus ont la même géométrie, les doublons sont supprimés
de la somme. Les positions des mâchoires ne sont pas prises en considération dans
cette procédure.
La figure présente un exemple de mesure GED.

248 Manuel de référence des algorithmes de photonthérapie et


d'électronthérapie Eclipse
1. Origine du champ
2. dF1, j
3. OAR
4. Dose attendue en fonction de la géométrie du champ F1 = 0
5. Voxel i
6. Voxel j
7. Voxel k
8. Dose attendue en fonction de la géométrie du champ F1 = Équation 66 à la page 249
9. d , longueur du volume cible le long de la ligne en éventail (13)
10. Volume cible 2
11. Volume cible 1
12. Bord du champ
13. Ligne en éventail traversant le voxel j
14. Plan de rotation du bras

Figure 34 Dose attendue en fonction de la géométrie

Équation dans l'illustration :

Équation 66

−λF1
e × dF1, j
H F1 × dosetarget2 × × G(d)
dF1, j2

où en outre

G(d) = Facteur de modulation au sein du champ (intra


field).

H F1 = Facteur de modulation d'un champ à un autre.

Chapitre 10 Algorithme d'estimation HDV pour RapidPlan 249


La modulation d'un champ à un autre implique que la quantité de rayonnement
délivrée par chaque champ peut être différente. Cela signifie qu'il y a des directions
privilégiées pour l'administration de la dose. Le facteur de modulation d'un champ à
un autre est calculé en calculant d'abord la 5e normale de d, puis en la divisant par la
moyenne de d dans le champ. En particulier, on considère que les champs
perpendiculaires à la direction cible principale d'un volume cible de forme
asymétrique produisent un rayonnement moindre que ceux alignés avec celui-ci.
L'intensité relative de la dose délivrée par un champ dépend du nombre maximal de
voxels du volume cible que le beamlet d'un champ traverse sur sa trajectoire.
La modulation au sein des champs implique que la quantité de rayonnement délivrée
par chaque beamlet d'un champ peut être différente. Cela signifie qu'un certain degré
de modulation MLC est pris en compte. Chaque beamlet de champ est mis à l'échelle
en fonction du nombre de voxels du volume cible qu'il traverse sur sa trajectoire. La
valeur concrète de modulation de beamlet correspond au nombre de voxels du
volume cible traversés par un beamlet divisé par le nombre moyen de voxels du
volume cible traversés par tous les beamlets du champ.
Enfin, tous les voxels visibles sous n'importe quelle mâchoire de champ dont la
valeur « dose-distance » est inférieure à une certaine valeur seuil 1 voient leur valeur
dose-distance augmentée jusqu'à 1 . Cela représente la contribution de la
transmission des lames. À l'instar de la modulation, le principal objectif de cette
valeur de transmission des lames est de lisser les mesures GED.

Mesures aberrantes
Les composants de l'algorithme d'estimation HDV (composant de configuration de
modèle et composant d'estimation HDV) détectent les valeurs aberrantes. Celles-ci
sont trouvées en appliquant différentes mesures statistiques (comme la statistique Z,
la statistique Z modifiée et les résidus de la transformation de Student) aux mesures
des organes à risque (OAR) (caractéristiques anatomiques et scores des composantes
principales), aux mesures du volume cible (volumes et doses relatives) et aux
mesures du plan (prescription de dose). Plus d'informations sur les valeurs
aberrantes : Manuel de référence de photonthérapie et d'électronthérapie Eclipse.

250 Manuel de référence des algorithmes de photonthérapie et


d'électronthérapie Eclipse
Chapitre 11 Exploration des compromis basée sur
l'optimisation multicritères

Optimisation multicritères
L'exploration des compromis basée sur l'optimisation multicritères (MCO) dans
Eclipse représente une implémentation aboutie de l'application d'optimisation multi-
objectifs au domaine de planification d'un traitement de radiothérapie, développée
en collaboration avec l'Institut Fraunhofer des Mathématiques pour l'Industrie, à
Kauserslautern, en Allemagne. Le résultat n'est pas un algorithme distinct en tant
que tel, mais contient plusieurs aspects d'un algorithme qui sont décrits ci-dessous.

Contexte de l'optimisation multicritères


L'idée sous-jacente à cet algorithme consiste à traiter le problème de planification de
traitement comme un problème d'optimisation multi-objectifs. Face à un tel
problème, un vecteur de fonctions d'objectif est optimisé à la place d'une fonction à
un seul objectif, comme cela est décrit dans l'équation ci-dessous. Contrairement à
l'optimisation d'une fonction à un seul objectif, il n'existe pas une valeur de fonction
d'objectif « meilleure », mais une série de meilleurs points de compromis qui
composent la surface de Pareto du problème.46

Équation 67

min f x ,     g x ≤ 0
x∈X

x = Paramètres d'optimisation (fluence/positions des lames)

X = Ensemble des paramètres d'optimisation disponibles

f x = Vecteur des fonctions d'objectif f 1, .., f n

gx = Vecteur de fonctions de contrainte g1, .., gr

46 La surface de Pareto est un concept propre à l'optimisation multi-objectifs. Tout plan de traitement vient
compenser, d'une certaine façon, les différents objectifs de compromis pour ce qui concerne la couverture
de la tumeur et la préservation des OAR. Le plan de traitement vient compenser ces objectifs de manière
efficace si aucun objectif de compromis ne peut être amélioré sans dégrader un autre objectif de
compromis. L'intégralité des plans de traitement qui sont efficaces vis-à-vis de certains objectifs de
compromis fixes est qualifiée de surface de Pareto.

Chapitre 11 Exploration des compromis basée sur l'optimisation 251


multicritères
Le point de départ de l'exploration des compromis à l'aide de l'algorithme MCO dans
Eclipse vient du fait que vous avez déjà créé un plan plutôt prometteur. Ce plan peut
avoir été créé, par exemple, avec RapidPlan, ou par une optimisation traditionnelle.
Ce plan servira de centre à une approximation de la surface de Pareto.
Pour obtenir l'approximation de la surface de Pareto, vous devez indiquer un nombre
d'objectifs de compromis que vous souhaitez explorer. Un certain nombre de plans
de traitement alternatifs sont créés en modifiant un plan source au niveau de ses
objectifs de compromis et en réalisant une optimisation pour chacun des plans
alternatifs. Par exemple, un plan alternatif peut avoir permis d'épargner davantage
un organe à risque mais de réduire la couverture du volume cible, tandis qu'un autre
plan alternatif peut avoir permis d'améliorer la couverture du volume cible mais en
administrant une dose plus élevée à l'organe à risque.
Une fois la génération de plans alternatifs terminée, le mode Trade-Off Exploration
(Exploration des compromis) de la boîte de dialogue Optimization (Optimisation)
affiche des curseurs (un curseur par objectif de compromis). Les curseurs peuvent
être utilisés pour modifier systématiquement le plan de départ. Cela est obtenu en
« mélangeant » intelligemment le plan de départ avec des plans de traitement
alternatifs. Les courbes de dose et HDV sont actualisées en temps réel lorsque les
curseurs sont manipulés.
De plus amples détails sur l'optimisation multicritères et son application dans la
planification d'un traitement de radiothérapie sont disponibles dans la
documentation.47, 48, 49

Algorithme de génération de plan


L'algorithme de génération automatique du plan est utilisé pour réoptimiser le plan
original, calculer des plans alternatifs et améliorer les objectifs OAR et cibles.
L'algorithme Photon Optimization standard est utilisé pour la génération
automatique des plans alternatifs.

Objectifs d'optimisation originaux et plan équilibré


Dans la première étape de l'algorithme de génération de plan, une copie du plan
original est réalisée, puis réoptimisée avec les objectifs d'optimisation originaux. Ce
plan est appelé plan équilibré. Il est utilisé comme grain pour les étapes ultérieures
de l'algorithme.

47 Ehrgott M: Multicriteria Optimization. Springer, 2005.


48 Monz M, Scherrer A, Trinkaus HL, Bortfeld T, Thieke C: Intensity-modulated radiotherapy—a large scale
multi-criteria programming problem. OR Spektrum 25 (2003) 223–249.
49 Thieke C, Küfer KH, Monz M, et al. A new concept for interactive radiotherapy planning with
multicriteria optimization: first clinical evaluation. Radiother Oncol. 2007 Nov;85(2):292-8.

252 Manuel de référence des algorithmes de photonthérapie et


d'électronthérapie Eclipse
Si le plan a déjà été optimisé avant que l'algorithme de génération de plan ne se
lance, vous pouvez choisir de poursuivre l'optimisation de plan équilibré depuis
l'état existant au lieu de lancer l'optimisation depuis le début.
Si vous avez choisi d'utiliser une dose intermédiaire pour la génération de plan, la
dose intermédiaire est calculée (et la correction est appliquée) pendant la génération
d'un plan équilibré. La même correction est ensuite appliquée pendant les étapes
d'optimisation ultérieures. Le calcul de la dose intermédiaire pendant la génération
de plan n'est disponible que pour des plans IMRT. Pour des plans VMAT, la dose
intermédiaire est calculée et la correction est appliquée pendant la génération d'un
plan administrable, Optimisation de plan administrable à la page 261.

Calcul de plans alternatifs


Le point de départ du calcul de plans alternatifs est l'ensemble des objectifs
d'optimisation n qui ont été sélectionnés pour l'exploration des compromis. Avec la
méthode epsilon-contrainte utilisée dans cette implémentation, il est également
nécessaire de saisir la distribution de dose du plan équilibré. Au total, le processus de
base génère un ensemble de plans alternatifs en suivant les étapes décrites dans le
tableau ci-dessous.

Tableau 39 Étapes de base de l'algorithme de génération de plans

Étape Nombre Description de l'amélioration individuelle


de plans

1 n Un objectif est amélioré.

2 n Tous les objectifs sauf un sont améliorés simultanément.

3 n Les plans générés lors de la première étape sont analysés. Ultérieure-


ment, n plans supplémentaires sont créés de sorte qu'un nombre va-
riable d'objectifs liés aux objectifs de compromis les plus conflictuels
sont améliorés simultanément.

En plus des 3n + 1 plans générés par les étapes de base (ce qui inclut le plan
équilibré), certains plans supplémentaires peuvent être produits au moyen de la
manipulation spécifique de volumes cibles (plus d'informations : Amélioration des
objectifs cibles à la page 256).
Lorsque vous étendez la plage d'exploration des compromis en cliquant sur l'icône en
forme de flèche située tout à gauche du curseur d'exploration des compromis, un
plan supplémentaire est généré dans l'ensemble de plans en suivant l'étape 1 décrite
dans le tableau ci-dessus.

Chapitre 11 Exploration des compromis basée sur l'optimisation 253


multicritères
Amélioration des objectifs OAR
L'étape permettant d'améliorer un objectif OAR se base d'abord sur la mesure du
niveau de dose atteint D0 à partir de la distribution de dose du plan équilibré. La D0
pour des objectifs de dose en un point correspond au niveau de dose de la courbe
HDV au volume de l'objectif original. La D0 pour les objectifs de dose moyenne et
gEUD correspond à la dose moyenne atteinte et à la dose gEUD atteinte,
respectivement. Pour les objectifs de ligne, D0 est la dose à 50 % du volume.

Pour améliorer le niveau de dose obtenu d'une certaine valeur, δD, définie en interne
comme étant une fraction prédéfinie de la dose prescrite, un objectif d'optimisation
supplémentaire est placé sur la dose D0 − δD avec une priorité élevée phigh. Si l'objectif
dans le plan source n'a pas suffisamment contribué au coût pour l'optimisation, des
étapes sont observées en interne pour pousser davantage l'OAR au-delà des valeurs
d'objectif définies par l'utilisateur. Enfin, pour ces objectifs qui ne sont pas améliorés,
un objectif supplémentaire est ajouté avec une priorité phigh pour permettre une
dégradation de manière contrôlée.
Les objectifs et priorités ajoutés ont été ajustés de manière heuristique afin d'offrir un
espace d'exploration des compromis cliniquement utile au sein de la plage des
priorités autorisées pour l'algorithme PO. Ils sont par ailleurs mis à l'échelle avec les
objectifs inférieurs du volume cible inclus dans la génération du plan. L'algorithme
fournit des plages d'exploration des compromis par défaut de 20 % environ de la
dose de prescription pour les objectifs inclus. Cependant, si un objectif inférieur cible
n'est pas inclus, les priorités et doses par défaut sont utilisées, ce qui peut générer
certains résultats inattendus. Il est recommandé de toujours inclure au moins un
objectif inférieur cible ou un objectif d'homogénéité dans l'exploration des
compromis. Un exemple d'objectifs supplémentaires est illustré dans le tableau ci-
dessous.

Tableau 40 Niveaux de dose et priorités utilisés dans la génération de plans

Objectif ajouté Nouveau niveau de Priorité


dose

Amélioration (delta) D0 − δD phigh

Amélioration (2×delta) D0 − 2δD plow

Commande D0 + δD/2 phigh

254 Manuel de référence des algorithmes de photonthérapie et


d'électronthérapie Eclipse
Un exemple d'une étape observée par l'algorithme de génération de plan est illustré
ci-dessous (Figure 35 à la page 255). Dans cette étape, un seul objectif OAR est
amélioré et la dégradation d'un autre objectif OAR est contrôlée. Notez qu'à chaque
étape, l'algorithme de génération de plan introduit uniquement des objectifs
supplémentaires dans le plan original, ce qui signifie que tous les objectifs originaux
(qu'ils soient sélectionnés ou non pour l'exploration des compromis) sont inclus tels
quels dans chaque plan.

100
1
90
2
80 3

70
Volume [%]

60

50
δD/2 δD δD
40

30
c d e
20
a b
10

0
0 10 20 30 40 50 60
D0;2 Dose [Gy] D0;1

1. Cible
2. Organe 1
3. Organe 2

Figure 35 Un exemple d'étape avec deux objectifs de points

La figure ci-dessous illustre deux objectifs de points sélectionnés pour l'exploration


des compromis (les objectifs originaux sont entourés), ainsi que les courbes HDV du
plan équilibré. Dans cette étape, le niveau de dose obtenu D0; 1 se rapportant à
l'objectif original (e) de l'organe 1 est mesuré, et deux objectifs (c) et (d) sont ajoutés
comme décrit dans le tableau précédent. De la même manière, le niveau de dose D0; 2
est mesuré et l'objectif (b) est ajouté pour contrôler la dose associée à l'objectif
original (a) de l'organe 2.

Chapitre 11 Exploration des compromis basée sur l'optimisation 255


multicritères
Un exemple d'étape avec des objectifs de ligne est illustré ci-dessous (Figure 36 à la
page 256). Dans ce cas, la courbe HDV obtenue du plan équilibré est étendue en
continu, de sorte que le niveau de dose voulu (tel que défini dans le tableau ci-
dessus) est obtenu à 50 % du volume, comme indiqué par la flèche rouge. Les points
d'extrémité de la courbe à 0 et 100 % du volume ne sont pas modifiés. La courbe
HDV étendue est transformée en objectif linéaire supplémentaire pour l'optimisation
(l'objectif linéaire original n'est pas affiché sur la figure).

100
1
90 111
1
2
80 3

70
Volume [%]

60

50

40

30

20

10

0
0 10 20 30 40 50 60
Dose [Gy]
1. Cible
2. OAR (HDV original)
3. OAR (HDV élargi)

Figure 36 Un exemple d'étape avec un objectif de ligne

Amélioration des objectifs cibles


Lors de la génération d'un plan, les objectifs cibles sont gérés à part des objectifs
OAR. Un objectif inférieur est amélioré en augmentant la priorité originale selon un
facteur de 2 ou plus, tandis que la priorité originale est conservée en l'absence
d'amélioration.

256 Manuel de référence des algorithmes de photonthérapie et


d'électronthérapie Eclipse
Autre détail spécifique lié aux volumes cibles : lorsqu'un objectif inférieur est
amélioré, des objectifs de priorité supplémentaires phigh sont automatiquement placés
à l'endroit où la dose maximale a été atteinte afin d'empêcher tout déplacement du
niveau de dose. De la même manière, en améliorant l'objectif supérieur du volume
cible, des objectifs supplémentaires sont automatiquement placés à l'endroit où la
dose minimale a été atteinte. Un exemple d'amélioration de l'objectif inférieur du
volume cible est illustré sur la figure ci-dessous.

100 1

90

80

70
Volume [%]

60

50

40

30

20
2
3
10 4
0
0 10 20 30 40 50 60
Dose [Gy]
1. Objectif à améliorer
2. Objectifs supplémentaires placés à l'endroit de la dose maximale
3. HDV original
4. HDV amélioré

Figure 37 Exemple d'étape pour améliorer l'objectif inférieur du volume cible lors de la
génération d'un plan

Si l'objectif d'homogénéité de la cible est sélectionné pour l'exploration des


compromis, un plan supplémentaire est généré, dans lequel tous les objectifs de la
structure cible associée sont regroupés afin d'être améliorés simultanément. De plus,
si des objectifs sont sélectionnés pour plusieurs volumes cibles, un seul plan
supplémentaire est créé, dans lequel les objectifs sélectionnés de tous ces volumes
cibles sont améliorés simultanément.

Chapitre 11 Exploration des compromis basée sur l'optimisation 257


multicritères
Algorithme Photon Optimization dans Plan Generation
Eclipse utilise l'algorithme Photon Optimization (PO) standard pour la génération
automatique de plans alternatifs. Par conséquent, toute sélection dans le plan de
traitement original qui aurait une incidence sur l'optimisation en général, affectera
également le résultat de l'exploration des compromis.
Les plans alternatifs sont optimisés en poursuivant l'optimisation à partir du plan
équilibré à l'aide de ses fluences ou séquences de points de contrôle pour initialiser
l'optimisation de plans IMRT et VMAT, respectivement. Pour les plans VMAT,
l'optimisation est relancée à l'aide d'un schéma de résolution progressive propre à la
génération de plan. Le nombre maximum d'optimisations exécutées en parallèle au
cours de la génération du plan peut être indiqué dans les paramètres de DCF.

Algorithme Trade-Off Exploration


L'algorithme d'exploration des compromis s'appuie sur les valeurs de la fonction
d'objectif calculées incluant l'espace de plans. Le mécanisme de sélection trouve une
nouvelle solution lorsque l'un des curseurs est déplacé, tandis que le mécanisme de
restriction limite l'espace de la solution disponible lorsque les limiteurs sont
déplacés.

À propos des curseurs


Après le calcul des plans de traitement alternatifs, le mode Trade-Off Exploration
(Exploration des compromis) de la boîte de dialogue Optimization (Optimisation)
affiche un certain nombre de curseurs, un pour chacun des n objectifs de compromis
qui ont été spécifiés au début. Chaque curseur possède deux composants pouvant
être manipulés : un sélecteur et un limiteur.
■ La plage du curseur représente la plage pour les objectifs de compromis associés
qui est couverte par le plan équilibré et les plans alternatifs. Une position du
sélecteur tout à gauche indique un plan de traitement qui est le meilleur possible
par rapport à cet objectif de compromis.
■ Lorsque vous déplacez un sélecteur vers la gauche, le plan de traitement est
modifié de sorte à améliorer l'objectif de compromis associé. Les autres sélecteurs
se déplaceront également, en fonction des compromis. Si les autres plages du
curseur ne sont pas restreintes (voir ci-dessous), l'algorithme d'exploration des
compromis aura pour but de réaliser une distribution égale du coût parmi tous les
autres critères.
■ Au début, le limiteur est placé tout à droite de chaque curseur. Il peut alors être
déplacé vers la gauche pour restreindre la plage de l'objectif de compromis
associé. Le sélecteur n'est pas autorisé à sortir de la plage restreinte. Cela influence

258 Manuel de référence des algorithmes de photonthérapie et


d'électronthérapie Eclipse
la distribution du coût pendant l'exploration des compromis. Il peut également
limiter ce qui est atteignable dans d'autres objectifs de compromis. Ces limites
sont visibles par l'utilisateur sous la forme de zones grisées sur la plage du
curseur.

L'espace de plans
L'ensemble de plans se compose de m plans au total, parmi lesquels le plan équilibré
et tous les plans alternatifs. L'espace de plans, X , disponible pour l'exploration des
compromis, contient les plans de l'ensemble de plans ainsi que toutes les
combinaisons convexes de ces plans :

Équation 68

m m
X= ∑i = 1 μix i ∑i = 1 μi = 1, μ ≥ 0
Dans l'équation, x i , i = 1, .., m sont le plan équilibré et les plans alternatifs, et
μi, i = 1, .., m sont les coefficients de la combinaison convexe.

Valeurs de l'objectif de compromis pour l'exploration


Chacun des m plans dans l'ensemble de plans est caractérisé par un vecteur de n
valeurs d'objectif de compromis (correspondant aux n curseurs). Le vecteur des
valeurs des objectifs de compromis pour chaque plan est calculé à partir de la
distribution de dose associée. Notez que les valeurs des objectifs de compromis ne
sont pas identiques aux valeurs de la fonction d'objectif d'optimisation, mais
étroitement liées. Reportez-vous au tableau ci-dessous pour une description de leur
mode de calcul.

Tableau 41 Mappage de l'objectif de compromis selon les objectifs d'origine

Objectif original Objectif de compromis utilisé

Mean dose objective (Objectif de dose Valeur de la dose moyenne.


moyenne)

Objectif gEUD Valeur de l'objectif gEUD.

Objectif linéaire Surface sous la courbe HDV.

Objectif d'homogénéité Index d'homogénéité ICRU83.

Chapitre 11 Exploration des compromis basée sur l'optimisation 259


multicritères
Objectif original Objectif de compromis utilisé

Objectif de point de dose-volume (supé- En premier lieu, le meilleur niveau de dose obtenu
rieur/inférieur) est déterminé parmi tous les plans dans l'ensemble
de plans. Ensuite, un objectif de point placé à ce ni-
veau de dose est utilisé pour déterminer la valeur
de la fonction du coût de tous les plans. Le coût est
calculé de la même manière que pour la fonction
du coût d'optimisation (plus d'informations sur la
fonction du coût d'optimisation : Objectifs dose-
volume à la page 211).

Mécanisme de sélection
Partons du principe que, en déplaçant le curseur sur la gauche, le système de
planification communique le désir d'améliorer le critère j selon la valeur d'objectif τ.
L'algorithme d'exploration des compromis calcule ensuite un plan à partir de l'espace
de plans atteignant la valeur d'objectif souhaitée τ en résolvant le problème
d'optimisation suivant (problème de sélection) :

Équation 69

min max f i(x) − yiR + si f j(x) = τ, f (x) ≤ b, s ≥ 0


x ∈ X i ∈ 1, .., n , i ≠ j
s ∈ ℝn

yR = Le vecteur des valeurs des objectifs de compromis au début


du curseur se déplace.

b = Limites des valeurs des objectifs de compromis imposés par


les limiteurs.

s = Un vecteur de variables d'écart (liées à la programmation li-


néaire).

Le problème de sélection peut être reformulé en problème d'optimisation linéaire


dans les coefficients d'exploration des compromis μ. Ce programme linéaire peut être
résolu très rapidement pour que le mécanisme de sélection agisse en temps réel.50

50 Monz M, Küfer K H, Bortfeld T R and Thieke C: Pareto navigation: algorithmic foundation of interactive
multi-criteria IMRT planning,, Physics in Medicine and Biology 53 (2008) 985-998

260 Manuel de référence des algorithmes de photonthérapie et


d'électronthérapie Eclipse
Mécanisme de restriction
En ajustant les limiteurs, vous pouvez définir des limites b des valeurs des objectifs
de compromis de sorte que l'espace de plans soit limité à l'ensemble le plus petit.

Équation 70

Xb = x ∈ X f x ≤ b
Comme évoqué auparavant, cela a une incidence sur le problème de sélection. De
plus, si certains b sont imposés, les meilleures valeurs de l'objectif de compromis
individuelles possibles définies par

Équation 71

yiI b = min f i x
x ∈ Xb

peuvent être supérieures aux meilleures valeurs possibles dans le cas illimité b = ∞ .
La zone sur le curseur qui correspond aux valeurs entre yiI ∞ et yiI (b) est grisée pour
que l'utilisateur puisse visualiser cet effet.51

Optimisation de plan administrable


Plan IMRT administrable
L'ensemble des plans IMRT contient un ensemble de fluences optimales pour chaque
plan. Le résultat final de l'exploration des compromis d'un plan IMRT est
simplement obtenu à partir d'une combinaison linéaire des fluences existantes. Les
coefficients μi, i = 1, .., m de l'exploration sont utilisés pour la combinaison. Le plan
final administrable est alors obtenu en exécutant l'algorithme Leaf Motion Calculator
(et le calcul de la dose finale) sur le plan.

Plan VMAT administrable


Un plan VMAT administrable est optimisé en utilisant comme objectif les HDV et la
distribution spatiale de la dose résultant de l'exploration des compromis. Les
structures qui étaient incluses à l'analyse des compromis ont la priorité la plus élevée.
L'optimisation reprend à partir de la série de points de contrôle du plan le plus
proche dans l'ensemble des plans. Si elle est sélectionnée par l'utilisateur, la dose
intermédiaire est calculée avant l'optimisation.

51 Navigation de Pareto : fondement algorithmique de la planification IMRT multicritères itérative, M Monz,


K H Küfer, T R Bortfeld et C Thieke, Physics in Medicine and Biology 53 (2008) 985-998

Chapitre 11 Exploration des compromis basée sur l'optimisation 261


multicritères
Chapitre 12 Algorithmes de modélisation
d'irradiation de fluences

Caractéristiques générales des algorithmes de


modélisation d'irradiation de fluences
Dans Eclipse, le calcul de la dose finale pour tous les champs MLC est fondé sur les
fluences. En outre, les résultats de certains algorithmes d'optimisation sont exprimés
en termes de fluences. Un DMLC produit des modèles de fluence et des ouvertures
de champ arbitraires pour les champs d'arcthérapie sur une machine de traitement.
Les fonctionnalités prises en compte dans tous les algorithmes de modélisation
d'irradiation de fluences comprennent la transmission des lames, le Leaf Gap
dosimétrique et la modélisation Tongue and Groove. Elles sont utilisées dans le
calcul de fluence pour tous les champs qui contiennent un MLC, tels que les champs
statiques MLC, les champs IMRT ou les champs d'arcthérapie.
Les fluences requises par le calcul de la dose finale sont calculées dans le cadre de la
dose. Cela signifie que la fluence réelle des champs IMRT peut être visualisée après le
calcul de la dose.

Remarque : Les versions 11.0 ou ultérieures des algorithmes de calcul de la dose nécessitent
l'utilisation des versions 11.0 ou ultérieures des algorithmes LCM. Les algorithmes de calcul
de dose précédents ne fonctionnent qu'avec les algorithmes LMC précédents (versions 10.0 ou
antérieures).

262 Manuel de référence des algorithmes de photonthérapie et


d'électronthérapie Eclipse
Transmission dans les algorithmes de modélisation d'irradiation de
fluences
Les lames du MLC ne bloquent pas complètement le rayonnement, car une petite
partie en est transmise directement entre les lames. Le degré de transmission peut
être configuré pour une machine de traitement et une énergie données dans RT
Administration (plus d'informations sur l'utilisation de RT Administration : Manuel
de référence RT Administration). Le facteur de transmission configuré est utilisé dans
tous les calculs de fluence, y compris le calcul de la fluence interne des LMC et le
calcul de la fluence finale pour les MLC statiques, les DMLC et les champs
d'arcthérapie. Le facteur de transmission est également défini pour les matériaux du
cache et le facteur de transmission des mâchoires physiques est de 0. Afin de
minimiser les effets du rayonnement transmis, les LMC compensent également la
transmission lors de la génération d'une séquence de lames. Plus d'informations sur
la mesure du facteur de transmission des lames : Mesure du facteur de transmission
des lames à la page 290.
Les valeurs de transmission des lames peuvent également être configurées pour des
données de faisceaux de modèle de calcul AAA et Acuros XB individuel.
Informations supplémentaires : Paramètres de MLC à la page 84.

Leaf Gap dosimétrique dans les algorithmes de modélisation


d'irradiation de fluences
Pour obtenir de meilleures caractéristiques dosimétriques hors axe, les extrémités des
lames du MLC sont arrondies sur certains dispositifs MLC. Dès lors, une certaine
quantité de rayonnement passe entre les paires de lames même complètement
fermées. Ce phénomène est appelé transmission avec extrémité de lame arrondie.
Les algorithmes d'irradiation de fluences tiennent compte de la transmission avec
extrémité de lame arrondie à l'aide du paramètre de configuration Leaf Gap
dosimétrique. Les algorithmes modélisent la forme des extrémités de lames comme
acérées (par opposition à arrondies) et prennent en compte la transmission avec
extrémité de lame arrondie en déplaçant les positions de pointe de lame lors des
calculs de fluence réelle. Les pointes de lames sont déplacées en tirant chacune d'elle
en arrière de la moitié de la valeur du paramètre de Leaf Gap dosimétrique, de façon
à ce que l'espace existant au sein de la paire de lames complètement fermée soit égal
au paramètre de Leaf Gap dosimétrique. Le paramètre de Leaf Gap dosimétrique
peut être défini dans RT Administration pour chaque machine de traitement et
énergie (Configuration des paramètres MLC à la page 288). Le paramètre de taille du
spot a une influence significative sur la forme de la pénombre (Réglage des
paramètres de la taille effective du spot à la page 55).

Chapitre 12 Algorithmes de modélisation d'irradiation de fluences 263


Les valeurs de l'écart interlame dosimétrique peuvent également être configurées
pour des données de faisceaux de modèle de calcul AAA et Acuros XB individuel.
Informations supplémentaires : Paramètres de MLC à la page 84.

3
6

5
7

1. Faisceau de rayonnement
2. Lame du MLC
3. Extrémités de lames arrondies
4. Dose
5. Valeur du Leaf Gap dosimétrique
6. Dose transmise à travers les extrémités de lames de MLC arrondies et fermées
7. Dose transmise à travers les lames de MLC

Figure 38 Transmission avec extrémité de lame arrondie

Modélisation Tongue and Groove dans les algorithmes de


modélisation d'irradiation de fluences
Afin de minimiser les fuites interlames, certains modèles de dispositifs MLC sont
conçus en Tongue and Groove.

264 Manuel de référence des algorithmes de photonthérapie et


d'électronthérapie Eclipse
1

1. Épaisseur de languette
2. Épaisseur de languette
3. Leag Gap dosimétrique

Figure 39 Conception Tongue and Groove

Une languette exposée dans un champ modifie la fluence irradiée en stoppant une
partie des rayonnements supplémentaires. La quantité bloquée est proportionnelle
au rapport entre les largeurs de languette et de lame. (La rainure modifie également
la fluence, mais cet effet est plus petit et n'a pas été modélisé dans les algorithmes.)
C'est ce qu'on appelle « l'effet Tongue and Groove ».
L'effet Tongue and Groove est modélisé dans les algorithmes d'irradiation de
fluences en étendant les projections des lames perpendiculairement à leur
déplacement à l'aide d'un paramètre d'extension approximatif (Figure 39 à la
page 265), qui est légèrement inférieur à la largeur réelle de la languette. Ce
paramètre n'est pas configurable par l'utilisateur et dépend du modèle de MLC et de
la version de l'algorithme.
L'effet Tongue and Groove est pris en considération dans toutes les fluences utilisées
dans le calcul de dose et est visible dans la fluence réelle affichée pour les champs
IMRT. L'effet est plus significatif dans les traitements DMLC et par arcthérapie que
pour les techniques d'irradiation de MLC statique.

Chapitre 12 Algorithmes de modélisation d'irradiation de fluences 265


Leaf Motion Calculator (LMC)
Le programme LMC calcule les modèles de déplacements des lames DMLC requis
pour administrer la dose définie par la fluence théorique.52 En raison des
caractéristiques physiques et mécaniques du dispositif DMLC, les modèles de
mouvements de lames du DMLC produits peuvent délivrer une fluence réelle qui ne
fait qu'approcher la fluence optimale désirée.
Le LMC prend en charge deux techniques pour l'administration d'un traitement
IMRT en mode dynamique :
■ Technique Modulation d'Intensité Dynamique (SW, pour Sliding Window)
(dispositifs MLC Varian et BrainLab)
■ Technique Modulation d'Intensité Statique (MSS, pour Multiple Static Segments)
(dispositifs MLC Varian, BrainLab, Siemens et Elekta)
Les modèles de mouvements de lames dans la technique MSS utilisée par les MLC de
Siemens et Elekta sont calculés à l'aide d'une méthode d'optimisation évoluée conçue
pour prendre en compte les limites d'interdigitation du dispositif MLC, alors que les
modèles de mouvements de lames utilisés dans les deux techniques Modulation
d'Intensité Dynamique et MSS des MLC Varian sont calculés avec un algorithme plus
direct.

Méthode Modulation d'Intensité Dynamique


La méthode Modulation d'Intensité Dynamique est l'une des trois méthodes de
modulation d'intensité DMLC habituellement utilisées, avec les méthodes
Modulation d'Intensité Statique et Close-In.
L'idée principale de la méthode Modulation d'Intensité Dynamique est de faire varier
les tailles d'ouverture et la vitesse des différentes paires de lames MLC au dessus
d'un champ pendant l'irradiation. Pour obtenir des résultats cliniquement
applicables, les conditions suivantes doivent être respectées :
■ La durée d'irradiation doit être courte pour accélérer le traitement et éviter la
surdose résultant de la transmission et des fuites.
■ En raison de la transmission avec extrémité de lame arrondie (Leaf Gap
dosimétrique dans les algorithmes de modélisation d'irradiation de fluences à la
page 263) et de l'écart interlame minimal, les paires de lames exposant la cible à
une dose faible démarrent après les collimateurs principaux. Cela minimise la
dose supplémentaire pour les paires de lames qui donnent une dose totale très
faible.

52 Autre discussion sur le sujet : Spirou SV & Chui CS : Generation of Arbitrary Intensity Profiles by
Dynamic Jaws or Multileaf Collimators. Medical Physics, 1994, Jul; 21 (7): 1031–41.

266 Manuel de référence des algorithmes de photonthérapie et


d'électronthérapie Eclipse
■ Comme le paramètre de Leaf Gap dosimétrique, la transmission avec extrémité de
lame arrondie est configurée dans RT Administration. Informations à ce sujet et
sur le paramètre de configuration du Leaf Gap minimal : Configuration du
système pour la modélisation d'irradiation de fluences à la page 280. L'écart
interlame dosimétrique peut également être configuré pour des données de
faisceaux de modèle de calcul AAA et Acuros XB individuel. Informations
supplémentaires : Paramètres de MLC à la page 84.
■ Les caractéristiques physiques du dispositif MLC doivent être respectées. Cela
requiert l'emploi de techniques de manipulation des multiples groupes de
chariots nécessaires pour les plus grands champs ainsi que des objectifs de
mouvements de lames. La vitesse maximale des lames et l'écart interlame minimal
doivent être respectés.
Implémentations de la méthode « Modulation d'Intensité Dynamique » pour les
largeurs de champs inférieures à l'ELOC (Effective Leaf Out of Carriage Distance)53
utilisent la stratégie suivante :
■ Début de l'irradiation (voir la figure) : les paires de lames sont placées sur le bord
gauche de la cible. Les paires de lames exposant la cible à une quantité normale
ou importante de radiations sont ouvertes et à l'intérieur de la cible. Les paires de
lames donnant une très faible dose restent derrière le collimateur gauche pour
quelques temps au début du traitement. Ces paires de lames commencent à
bouger à la vitesse maximale lorsqu'il est possible de les inclure dans le traitement
en toute sécurité. Cela minimise les effets de l'écart interlame.
■ Fin de l'irradiation : toutes les paires de lames se trouvent sur le bord droit de la
cible (voir la figure).
■ Au moins une lame d'une paire se déplace toujours à vitesse maximale pour
minimiser la durée d'irradiation. En raison des nécessités du début et de la fin de
l'irradiation présentée ci-dessus, et des différences de complexité des coupes
d'image, la vitesse maximale est individualisée pour chaque paire de lames.

53 Lame hors distance de chariot (LOC, étendue de lame). La distance FX maximale de lames du MLC
adjacentes. Également la largeur maximale d'un sous-champ pour la méthode de modulation d'intensité
dynamique conventionnelle.
Distance effective des lames hors chariot (ELOC). La même chose que LOC, mais les distances de lames
parquées et la marge FX de collimateur sont réduites à partir de là. Définit le point de recouvrement de
taille de champ entre traitements avec groupe de chariots simple et double.

Chapitre 12 Algorithmes de modélisation d'irradiation de fluences 267


2

3
1

1. Fluence à délivrer
2. Premier segment : les paires de lames sont postées sur le bord gauche de la cible
3. Dernier segment : les paires de lames sont postées à l'extrémité droite de la cible

Figure 40
Premier et dernier segment délivrant une fluence

Exemple de cas de Modulation d'Intensité Dynamique

Données d'entrée
Prenez l'exemple d'une matrice de fluence de 5 × 3 (trois paires de lames) dans le
tableau.

Tableau 42 Matrice de fluence simple

Coupe 0 0 0,5 1 0,6 0,8

Coupe 1 0,2 0,5 0,7 0,5 0,2

Coupe 2 0 0 0,4 0,6 0,3

Entre les points donnés, le profil est considéré comme linéaire. Chaque coupe est
tracée dans la figure. Il y a deux maximas locaux pour la coupe 0 et un seul pour
chacune des coupes 1 et 2.

268 Manuel de référence des algorithmes de photonthérapie et


d'électronthérapie Eclipse
3 4 5
1.0 0.8 0.6

0.7

1 1
0.5

1
0.8

0.6
0.4
0.6
0.5
0.3
0.4 0.4
0.2
0.3
0.2
0.1
0.2

0.0 0.1 0.0

2 2 2

1. Niveau d'intensité
2. Position
3. Coupe 0
4. Coupe 1
5. Coupe 2

Figure 41 Diagrammes des profils d'intensité (distributions) pour chaque coupe

Vitesse max. de lame


La complexité Σ d'une coupe dans le cadre de la méthode Modulation d'Intensité
Dynamique est donnée par le nombre et les deltas d'intensité des segments
croissants.

Coupe 0 : Σ = 0.5 + 0.5 + 0.2 = 1.2

Coupe 1 : Σ = 0.2 + 0.3 + 0.2 = 0.7

Coupe 2 : Σ = 0.4 + 0.2 = 0.6

La coupe 0 est la plus complexe et elle obtient la vitesse de lame maximale (physique)
absolue comme vitesse maximale. Considérant une largeur de champ de 10 cm, une
vitesse des lames maximale physique de 2 cm/s, un débit de dose de 600 UM/min
(=10 UM/s) et une puissance de sortie maximale désirée de 200 UM (à l'intensité 1), il
faut 10,0/2 = 5 s pour balayer le champ à la vitesse maximale physique, durant
lesquelles 50 UM ou 1/4 de la puissance de sortie maximale sont délivrées. La durée
d'irradiation, mesurée en intensité T , est donc 1,2 + 0,25 = 1,45 (la puissance de sortie
totale de la machine est de 290 UM).
Le plan de déplacement des lames pour la coupe 0 est présenté dans la figure.

Chapitre 12 Algorithmes de modélisation d'irradiation de fluences 269


1.5

0.6

0.0
-5 -2.5 0 2.5 5

1. Niveau d'intensité
2. Position

Figure 42 Déplacements des lames pour la coupe 0

La largeur de la Modulation d'Intensité Dynamique (la distance horizontale entre les


deux trajectoires) est donc, par exemple, 0 cm au niveau d'intensité 0,
approximativement 4,7 cm au niveau 0,6, approximativement 5 cm au niveau 1,1 et
de nouveau 0 cm au niveau 1,45.
Pour toutes les autres coupes, les paires de lames sont également fermées à
l'extrémité de droite du champ à 1,45 (290 UM) et en conséquence, leurs vitesses
maximales décroissent.
Pour les petits champs dont la largeur est inférieure à ELOC, les autres coupes
peuvent être irradiées avec la même vitesse maximale, la paire de lames peut s'arrêter
fermée sur l'extrémité de droite sous une mâchoire de collimateur. Cependant, cette
approche n'est pas universelle pour tous les champs.

270 Manuel de référence des algorithmes de photonthérapie et


d'électronthérapie Eclipse
Transmission et fuite
Si le plan de déplacement ci-dessus est soumis à la machine de traitement, le profil
délivré ne sera pas celui désiré, car il y sera ajouté une certaine quantité de
rayonnement transmise ou perdue en chaque point. Soit I x l'intensité désirée à la
position x (x = − 5,0, −2,5, 0, 2,5, 5 cm dans cet exemple) et α = 0.025 une moyenne
pondérée estimée des facteurs de fuite et de transmission. Ce qui serait délivré à
chaque point serait alors I′ = Ix + α(T − Ix) , ce qui est considérablement différent des
données initiales (Tableau 42 à la page 268).

Tableau 43 Intensité désirée + Transmission et fuite

Coupe 0 0,04 0,52 1,01 0,62 0,81

Coupe 1 0,23 0,52 0,72 0,52 0,23

Coupe 2 0,4 0,04 0,43 0,62 0,33

La figure ci-dessus n'est pas seulement réaliste, elle montre aussi que l'importance
d'un rayonnement non désiré croît lorsque l'intensité désirée décroît. Cet effet peut
toutefois être corrigé, dans une certaine mesure, par la résolution de l'équation ci-
dessus pour I x , en remplaçant tous les points d'intensité par
I new x = (I − α) − 1(I x − αT) et en alimentant la nouvelle matrice de l'algorithme. Les
valeurs négatives sont remplacées par zéro dans le fichier d'intensité corrigée.

Grand champ DMLC


Lorsque les champs sont plus larges que l'ELOC (distance effective des lames hors
chariot), les chariots ne peuvent pas se mouvoir pendant l'irradiation. Les champs
originaux sont alors fractionnés en sous-champs plus étroits que l'ELOC et un
algorithme Modulation d'Intensité Dynamique est exécuté séparément pour chacun
des sous-champs. Comme il est pratiquement impossible de connecter avec précision
les bordures acérées des sous-champs, ceux-ci incluent une zone de chevauchement.
Lorsque le rayonnement est arrêté pendant le déplacement d'un chariot, toutes les
paires de lames sont requises pour former une fenêtre à l'intérieur de la zone de
chevauchement. Une stratégie d'optimisation a été implémentée pour rechercher :
■ le nombre de sous-champs requis ;
■ l'endroit où les champs doivent être fractionnés.

Chapitre 12 Algorithmes de modélisation d'irradiation de fluences 271


Prenez un plan de lame identique au Tableau 42 à la page 268, mais avec une largeur
de champ de 16 cm. Une option pour la zone de chevauchement pour une coupe se
présenterait alors comme dans la figure. Toff est l'équivalent en intensité de la durée
d'irradiation à partir de laquelle le faisceau est arrêté pour déplacer le chariot. À ce
moment, pour cette coupe, la largeur de la fenêtre est incluse dans les limites
physiques du chariot. Les groupes de chariot seraient de l'ordre de −8,0 cm à +4,5 cm
et de −4,2 cm à +8,0 cm, étant de plus conformes à l'ELOC, à un maximum de 14,5 cm.
Pour réduire la sensibilité aux aléas du patient et du positionnement de lame MLC, la
largeur de la fenêtre devrait être aussi grande que possible.
Le champ supérieur à l'ELOC est fractionné en deux ou trois sous-champs, chacun
étant inférieur à l'ELOC. Le fractionnement en trois champs est réalisé à des
emplacements fixés de telle façon que la distance maximale du chariot à la mâchoire
ne soit pas dépassée. Le fractionnement en deux champs minimise la somme des
facteurs T en sélectionnant la position et la largeur de la transition.
La fuite supplémentaire occasionnée par les marges X du collimateur est modélisée et
réduite à partir des fluences optimales. Lorsque la fluence réelle est calculée pour le
premier champ, elle est soustraite de la fluence optimale initiale, le résultat étant la
fluence optimale pour le groupe de chariots suivant.

3
1.45

1
1

0.5

-8 -4 0 4 8

1. Niveau d'intensité
2. Position
3. Zone de chevauchement

Figure 43 Zone de chevauchement

L'algorithme doit s'assurer que la zone de chevauchement est correctement choisie


pour toutes les coupes en même temps.

272 Manuel de référence des algorithmes de photonthérapie et


d'électronthérapie Eclipse
La largeur maximale de fluence théorique pouvant être traitée avec un seul groupe
de chariots est basée sur la portée maximale des lames du MLC, réduite de 0,5 cm en
raison de la nécessité de parquer les lames fermées sous les mâchoires. Par exemple,
si la portée maximale des lames d'un MLC est de 15 cm, la fluence théorique est
réduite à 14,5 cm.
Lorsque des positions de mâchoires fixes définies par l'utilisateur sont utilisées, la
fluence théorique d'origine est modifiée avant de déterminer s'il est nécessaire
d'utiliser plusieurs groupes de chariots. Si la fluence s'étend derrière les mâchoires
(vue depuis la BEV), les pixels de la fluence théorique d'origine situés entièrement
derrière les mâchoires sont effacés. Le pixel se trouvant à la position de la mâchoire
ne l'est pas. Le pixel extérieur suivant l'est s'il est entièrement situé à plus d'une
demi-largeur de pixel de la position de la mâchoire.

Calcul de la fluence réelle


Lors du calcul de la distribution de dose finale d'un traitement modulé, le clinicien
veut connaître aussi précisément que possible la dose qui sera délivrée au patient. Si
le calcul de dose finale est fondé sur une carte de fluence générée par les modèles
physiques et d'irradiation simplifiés incorporés dans l'algorithme PO, la distribution
de dose calculée peut différer significativement de celle obtenue par des mesures.
Pour pouvoir consulter la fluence réelle, vous devez calculer la dose après l'exécution
du LMC.

Calcul du facteur UM
Dans le LMC, l'équivalent en intensité de la durée d'activation du faisceau, le facteur
UM, est donné comme suit :

Équation 72

MUFactor = w ⋅ smin + C
C = max j ∑j

Σj = somme des deltas d'intensité positifs dans la coupe j

C = max j Σ j = maximum de ces sommes pour toutes les coupes, complexité cons-
tante pour une certaine matrice de fluence, dépendant seulement des
valeurs d'intensité (relative) de la matrice.

w = largeur du champ en cm, également constant pour une matrice


donnée

Chapitre 12 Algorithmes de modélisation d'irradiation de fluences 273


Smin = pente minimale de la trajectoire de lame en cm-1, en fonction de la vi-
tesse de lame, du débit de dose et de l'UM maximale du champ dé-
terminée par :
Smin = R/(60 × D × v)

R = débit de dose en UM/min

D = maximum de champ en UM

v = vitesse maximale des lames en cm/s

LMC doit connaître R , D et v pour produire des résultats corrects.


Bien que le contrôleur du MLC puisse ajuster le débit de dose ( R ), la valeur exacte
du MUFactor (facteur UM) doit être connue pour la correction de transmission. Elle
dépend de Smin qui est un rapport entre R , D et v . Si la correction précise de
transmission doit être obtenue, ce rapport doit être au moins le même pour le calcul
du mouvement des lames et pour l'irradiation du plan calculé. Lorsqu'un plan de
lames a été calculé, le MUFactor y est implicitement contenu.
Si, par exemple, pour l'irradiation, D est modifié en spécifiant un nombre différent
d'unités moniteur O , ( D = O/MUFactor ), le contrôleur du MLC ajustera les
paramètres de la machine et la distribution de dose sera correcte, mais l'irradiation ne
sera pas optimale en termes de durée minimale.

Calcul du facteur UM pour Smart LMC


Les facteurs UM pour Smart LMC sont calculés à partir de la fluence réelle comme
suit :

Équation 73

1
MUFactor = max f i, j
j, i

f (i, j) = Une cellule dans la matrice ratio de la séquence de lames calculée à


partir de la séquence de lames finale, avec la même taille de pixel que
dans la fluence optimale. On prend la plus grande valeur d'une ma-
trice qui décrit la transmission relative, comparée à la transmission
totale du champ ouvert ( (0 ≤ f (i, j) ≤ 1) ).

274 Manuel de référence des algorithmes de photonthérapie et


d'électronthérapie Eclipse
Méthode Modulation d'Intensité Statique pour les dispositifs MLC
Varian
La méthode Modulation d'Intensité Statique (MSS) est une alternative à la méthode
Modulation d'Intensité Dynamique. La méthode MSS est intégrée dans exactement la
même infrastructure que la méthode Modulation d'Intensité Dynamique et utilise les
mêmes données en entrée et restitue le même type de données en sortie. La méthode
MSS peut également être couplée avec l'imagerie portale. Les méthodes MSS et
Modulation d'Intensité Dynamique utilisent le même modèle physique pour le MLC.
Dans la méthode MSS, la plus petite entité construisant le profil de fluence est une
forme MLC statique. Le champ MSS est constitué de plusieurs formes MLC statiques.

Vue d'ensemble de l'algorithme


L'algorithme Modulation d'Intensité Dynamique est d'abord appliqué à la fluence.
Les trajectoires de lames sont échantillonnées en un plus petit nombre de segments.
Le nombre de segments à échantillonner est MU Factor×IntensityLevels . Par exemple,
avec un espacement d'intensité de 10 et un facteur UM de 1,6, il y a 16 formes MLC
statiques dans le champ MSS.
Ces formes sont ensuite affinées par l'ajustement itératif d'une « fluence de travail ».
Ce processus tient compte des effets de transmission.

Calcul du facteur UM
Le facteur UM est calculé de la même manière que dans la méthode Modulation
d'Intensité Dynamique. Cependant, pour le calcul du facteur UM, on considère que la
vitesse de lame est infinie car le faisceau n'est jamais activé pendant le mouvement
des lames. Cela conduit à une équation plus simple, dans laquelle le facteur UM est
directement obtenu à partir de la constante de complexité :
Équation 74

MUFactor = C

Σj = somme des deltas d'intensité positifs dans la coupe j

C = max j Σ j = maximum de ces sommes pour toutes les coupes, complexité cons-
tante pour une certaine matrice de fluence, dépendant seulement des
valeurs d'intensité (relative) de la matrice.

Le facteur UM est modifié itérativement à l'aide de l'optimisation de la « fluence de


travail » pour compenser la transmission des lames.

Chapitre 12 Algorithmes de modélisation d'irradiation de fluences 275


Méthode Modulation d'Intensité Statique dans Smart LMC
La méthode Modulation d'Intensité Statique (MSS) est une alternative à la méthode
Modulation d'Intensité Dynamique. La méthode d'optimisation utilisée dans la
méthode MSS de Smart LMC, pour minimiser les écarts de fluence, n'est pas basée
sur la méthode Modulation d'Intensité Dynamique. Au lieu de cela, l'ensemble
optimal d'ouvertures est obtenu en corrigeant par itération les positions des lames et
la pondération des segments, afin de minimiser la différence entre la fluence réelle et
optimale. L'optimisation débute à partir d'une estimation initiale formée à l'aide de la
méthode Close-In. L'optimisation empêche la création d'ouvertures uniques de très
petite taille, mais n'élimine pas explicitement les segments du seul fait de leur faible
pondération.

Méthode Modulation d'intensité statique pour les dispositifs MLC


Siemens et Elekta
La méthode Modulation d'intensité statique (MSS) est une alternative à la méthode
Modulation d'Intensité Dynamique. La méthode MSS, pour les machines Siemens et
Elekta, utilise une méthode d'optimisation pour minimiser les écarts de fluence. Cette
méthode peut respecter les restrictions fixées par le matériel MLC, par exemple, la
contrainte d'interdigitation s'appliquant à certains MLC. Le nombre d'itérations est
personnalisable et les progrès de la fonction objectif peuvent être surveillés pendant
le calcul. La méthode d'optimisation peut également traiter les UM inégales par
ouverture, ce qui procure de meilleurs résultats mais requiert plus de temps que
l'algorithme traditionnel MSS de calcul des déplacements de lames utilisé pour les
collimateurs multilames Varian.
On peut également utiliser des dispositifs MLC avec une portée des lames plus
courte que la largeur totale du champ. Dans ce cas, toutes les ouvertures de la
séquence finale du MLC seront plus étroites que la portée des lames.
Pour les champs IMRT utilisant la technique step-and-shoot, deux paramètres
peuvent être utilisés pour mieux contrôler les séquences de lames générées par
l'algorithme LMCMSS :
■ Minimum Segment MU (UM de segment minimal) : définit le nombre minimal
d'UM que doit administrer chaque segment du champ IMRT. Les valeurs
autorisées s'étendent de 0,0 à 12,0 UM.
■ Minimum Aperture Area (Zone d'ouverture minimale) : définit la taille minimale
de l'ouverture du MLC que doit respecter chaque segment du champ IMRT. Les
valeurs autorisées s'étendent de 0,0 à 4,0 cm2.

276 Manuel de référence des algorithmes de photonthérapie et


d'électronthérapie Eclipse
Ces paramètres peuvent être définis dans les options de calcul de l'algorithme
LMCMSS. Lorsqu'ils sont utilisés, les limites définies dans les Operating Limits
(Limites des paramètres) de RT Administration sont outrepassées pour les champs
IMRT utilisant la technique step-and-shoot. Ces paramètres ne sont pas disponibles
pour Elekta Agility.

Capacité de suivi des mâchoires de Smart LMC


Le suivi des mâchoires déplace les mâchoires du collimateur de manière dynamique
pendant l'irradiation afin de les maintenir le plus près possible de la projection du
volume cible. Cela permet de réduire les fuites entre les lames du MLC.
Smart LMC peut générer des séquences de lames au cours desquelles les mâchoires
sont en mouvement, ou autrement dit, des changements de position des mâchoires
lorsque le faisceau est allumé. Si l'option Jaw Tracking (Suivi de mâchoire) est
choisie, les mâchoires sont fixées à chaque point de contrôle pour attacher l'ouverture
MLC, sans avoir recours aux rectifications de la mâchoire. La position de la mâchoire
et les limites de vitesse sont prises en compte. Comme la vitesse maximale des
mâchoires est en général légèrement plus lente que la vitesse maximale des lames,
dans certains cas, il est possible que les mâchoires ne suivent pas toujours l'ouverture
du MLC. On prend cependant en compte l'exposition de la queue de la lame.
Pour Smart LMC, la vitesse du collimateur pendant le suivi des mâchoires est
configurée en définissant la vitesse maximale de chaque collimateur (X1, X2, Y1, Y2
CEI) dans les limites des paramètres d'une machine de traitement dans RT
Administration.
Si l'option Jaw Tracking (Suivi de mâchoire) est utilisée avec l'option Fixed Field
Borders (Bordure de champ fixe), les positions de la mâchoire sont toujours fixées de
manière dynamique, à chaque point de contrôle, cependant les positions de
mâchoire, définies par l'utilisateur, sont considérées comme une zone de délimitation
des positions possibles de la mâchoire.

Calcul d'UM dans le LMC


Le facteur d'étalonnage d'UM en dose MUGy(x, y) est défini comme le nombre
d'unités moniteur requis pour obtenir 1 Gy sur l'axe central du champ à 10 cm de
profondeur pour un champ rectangulaire avec une ouverture de collimateur de
X × Y cm2 dans un milieu équivalent eau, la DSP (distance source-peau) étant la
même que pendant les mesures de profil de faisceau (DSF, distance source-fantôme).
Spécifiquement, la valeur de MUGy pour un champ de 10 × 10 cm2, MUGy(10,10) ,
sert de point d'étalonnage de fluence absolue pour le système de calcul d'UM dans la
planification IMRT. En plus du niveau de référence fourni par MUGy(10,10) , il doit
être possible de calculer la diffusion due au patient et la rétrodiffusion due au
collimateur pour la dosimétrie absolue.

Chapitre 12 Algorithmes de modélisation d'irradiation de fluences 277


Le facteur de rétrodiffusion due au collimateur CBSF(x, y) est calculé à partir de la
table UM en soustrayant la part de diffusion due au fantôme PSF(x, y) des mesures
aux différentes ouvertures. Plus d'informations sur le calcul du CBSF :
Chapitre 3 Implémentation des algorithmes AAA et Acuros XB dans Eclipse à la
page 24, Équation 1 à la page 25.
En plus du facteur de rétrodiffusion due au collimateur et du MUGy(10,10) , la valeur
UM est également influencée par la normalisation du plan et le pourcentage de
prescription de dose. Le facteur de normalisation NF est calculé comme suit :

Équation 75

Dtotal PlanNORM% 100


NF = N fraction 100 DPresc%

Enfin, les unités moniteur totales MU total sont calculées conformément à l'équation
suivante. La fluence utilisée pour le traitement du patient fournit deux valeurs pour
l'optimisation : la valeur maximale de la fluence théorique OFmax et le facteur de
modulation d'intensité MUFactor qui dépend de la forme de la fluence, qui sont
multipliés dans le nombre total d'UM :

Équation 76

MUTotal = MUGy 10,10 × NF × MUFactor × OFmax × CBSF(x, y)

Exemple :
Lorsque la normalisation du plan est définie sur 100 %, le pourcentage de
prescription de dose sur 100 %, la dose de fraction sur 1,0 et que l'unité de fluence est
de 10 × 10, c'est-à-dire lorsque tous les éléments sont définis sur la valeur 1,0, la dose
obtenue doit être de 1,0 Gy dans la géométrie de mesure quand la contribution UM
du champ est égale à MUGy(10,10) .

278 Manuel de référence des algorithmes de photonthérapie et


d'électronthérapie Eclipse
Calcul du total des UM dans Smart LMC
Comme Smart LMC peut gérer le déplacement des positions des mâchoires, les
unités moniteur ne peuvent pas être calculées directement à l'aide de l'équation
(Équation 76 à la page 278), qui suppose que le CBSF est le même pour tous les points
de contrôle. Dans ce cas, le total des UM MUtotal est donné par :

Équation 77

MUtotal = MUGy 10,10 × NF × MUFactor × OFmax × CBSFeff

où wi
CBSFeff = sum(i) CBSF(xi,yi)

sum i = Somme prise sur tous les points de contrôle, i .

xi, yi = L'ouverture au niveau du point de contrôle i .

wi = Courbe de poids non-cumulative de points de contrôle individuels.

Normalisation de la fluence
La normalisation de la fluence est telle qu'une fluence constante de 10 × 10 cm2 avec
la valeur 1,0 fournit la dose mesurée à 10 cm de profondeur avec la DSF spécifiée
pour un fantôme d'eau semi-infini et la quantité d'UM donnée. La DSF (distance
source-fantôme) de la géométrie de normalisation est la même que celle utilisée dans
la configuration de l'unité de traitement. La normalisation est basée sur la
superposition, c'est-à-dire qu'un champ de 20 × 20 cm2 avec une fluence constante de
1,0 entraîne une dose environ 1,1 fois supérieure (+10 % de la dose) à la profondeur
de 10 cm, alors qu'un champ de 5 × 5 cm2 ne donne qu'environ 0,9. Les valeurs des
doses sont obtenues en multipliant les valeurs par NF (Équation 75 à la page 278).
Les valeurs de fluence ne compensent pas l'effet CBSF. Seul le calcul d'UM peut
réaliser cela.

Chapitre 12 Algorithmes de modélisation d'irradiation de fluences 279


Champs d'arcthérapie dans l'irradiation de fluences
Les champs d'arcthérapie sont modélisés comme une somme de sous-champs avec
un angle de bras statique. Chacun de ces sous-champs représente une plage de
valeurs d'angles du bras dans le champ d'arcthérapie. Les positions de lames et le
débit de dose de chaque plage de valeurs angulaire sont interpolées et la fluence
moyenne est calculée. Elle est alors prise en compte pour être délivrée à partir de
l'angle de bras statique pour chaque sous-champ contributif. La dose pour le champ
d'arcthérapie total est la somme des doses des sous-champs d'angle de bras statique.

Configuration du système pour la modélisation


d'irradiation de fluences
Remarque : Lors de la configuration des algorithmes d'irradiation de fluences, veuillez noter
les points suivants :
■ Il est important de configurer le système de sorte qu'il corresponde aux caractéristiques de
la machine de traitement.
■ Effectuez régulièrement des mesures de suivi et comparez-les aux données faisceaux
dosimétriques utilisées pour la configuration du faisceau. Si les fluctuations sont
importantes et que les données faisceaux configurées ne représentent plus le faisceau
moyen produit par la machine, reconfigurez les données faisceaux à l'aide des données
faisceaux dosimétriques plus récentes.
■ Mesurez toutes les données faisceaux dosimétriques dans les conditions de stabilité les plus
favorables possible.
■ Utilisez les mêmes conventions de dénomination de fichier dans les mesures de données
faisceaux (fichiers d'entrée) et dans Beam Configuration (nom de la machine de
traitement), et renommez les fichiers d'entrée afin de faciliter la mise en correspondance des
données faisceaux et de la machine de traitement lors du processus de configuration.

Configuration de la technique par défaut du LMC


Le LMC prend en charge deux techniques d'irradiation de fluences :
■ Technique Modulation d'Intensité Dynamique (SW, pour Sliding Window)
(dispositifs MLC Varian et BrainLab)
■ Technique Modulation d'Intensité Statique (MSS, pour Multiple Static Segments)
(dispositifs MLC Varian, BrainLab, Siemens et Elekta)

280 Manuel de référence des algorithmes de photonthérapie et


d'électronthérapie Eclipse
La technique par défaut peut être définie dans l'onglet Default LMC (LMC par
défaut) de la boîte de dialogue Task Configuration (Configuration de la tâche). Le
choix de la technique d'irradiation est valable sur l'ensemble du domaine clinique. Y
apporter des modifications affecte toutes les machines de traitement utilisant le
même modèle MLC.
La technique LMC par défaut et les paramètres associés (par exemple, le nombre de
points de contrôle) sont utilisés dans tous les nouveaux plans. Toutefois, si vous
modifiez la technique LMC par défaut ou les paramètres pour un plan précis lors du
calcul de déplacements de lames (Planning > Calculate Leaf Motions > Edit
Options > Calculation Options [Planification > Calculer des déplacements de
lames > Modifier les options > Options de calcul]), les modifications sont enregistrées
avec le plan. Chaque fois que vous calculez des déplacements de lames pour ce
même plan, les paramètres spécifiques à celui-ci sont utilisés à la place de ceux
définis dans Task Configuration (Configuration de la tâche).

Remarque : Les versions 11.0 ou supérieures des algorithmes de calcul de dose AAA et
Acuros XB nécessitent les versions 11.0 ou supérieures des LMC.

Configurer la technique LMC par défaut


1. Dans External Beam Planning, choisissez Tools > Task Configuration (Outils >
Configuration de la tâche).
2. Sélectionnez l'onglet Default LMC (LMC par défaut).
3. Pour sélectionner la version d'algorithme LMC que vous souhaitez configurer,
cliquez sur la cellule de la colonne Algorithm Name And Version (Nom et
version de l'algorithme), puis sélectionnez la version d'algorithme dans la liste
déroulante qui s'ouvre.
4. Effectuez l'une des opérations suivantes :
■ Si vous avez sélectionné MSS Leaf Motion Calculator (Séquenceur LMC MSS)
à l'étape précédente : cliquez sur OK pour fermer la boîte de dialogue Task
Configuration (Configuration de la tâche), ou poursuivez en configurant le
mode d'irradiation MSS (Configuration du mode Modulation d'Intensité
Statique à la page 285).
■ Si vous avez sélectionné Varian Leaf Motion Calculator (Séquenceur Varian
LMCV) ou Smart LMC : poursuivez à partir de l'étape suivante.
5. Cliquez sur Edit (Modifier).
6. Dans le volet gauche, sélectionnez LMCV calculation options (Options de calcul
LMCV) ou Smart LMC options (Options Smart LMC) (uniquement pour les
machines de traitement proposant le suivi des mâchoires).
7. Dans la liste déroulante de méthode d'irradiation par défaut , sélectionnez la
technique par défaut (Sliding window, Multiple Static Segments ou None)
(Modulation d'Intensité Dynamique, Modulation d'Intensité Statique ou aucune).

Chapitre 12 Algorithmes de modélisation d'irradiation de fluences 281


8. Cliquez sur OK.
Poursuivez en configurant le mode de modulation d'intensité dynamique
(Configuration du mode Modulation d'Intensité Dynamique à la page 282).
Le choix de la technique d'irradiation est valable sur l'ensemble du domaine
clinique. Y apporter des modifications affecte toutes les machines de traitement
utilisant le même modèle MLC.

Configuration du mode Modulation d'Intensité Dynamique


La technique d'irradiation Modulation d'Intensité Dynamique utilise le DMLC pour
produire des distributions de dose modulées en intensité complexe pour le volume
cible. Dans Eclipse, le mouvement linéaire du DMLC est divisé en segments de
champs. Plus le nombre de segments utilisés pour le traitement est élevé, plus la
distribution de dose réelle est proche de celle produite avec la fluence optimale pré-
calculée.
Les données des segments dans la technique d'irradiation Modulation d'Intensité
Dynamique sont transférées d'Eclipse à la machine de traitement via 4D Integrated
Treatment Console ou TrueBeam Treatment Console. Pour les fluences complexes,
cela peut prendre un certain temps. De plus, les anciennes machines de traitement ne
peuvent pas travailler avec un trop grand nombre de segments. La lenteur du
matériel et des connexions réseau peuvent aussi ralentir le calcul pour des
traitements complexes.
Afin d'éviter ces retards intempestifs, Eclipse vous permet de limiter le nombre de
segments dans la technique d'irradiation Modulation d'Intensité Dynamique.
Cependant, utiliser moins de segments peut nuire à la qualité du traitement et la
modification du nombre de segments dans la technique d'irradiation Modulation
d'Intensité Dynamique constitue un compromis entre la rapidité et la qualité du
traitement.
Vous pouvez définir le nombre de segments dans la technique d'irradiation
Modulation d'Intensité Dynamique en :
■ Laissant Eclipse choisir le nombre nécessaire de segments, plafonné au niveau
maximal défini (mode Normal). Le nombre de segments dans la technique
d'irradiation Modulation d'Intensité Dynamique est déterminé dynamiquement
par sous-champ, selon les niveaux d'intensité et la complexité du champ (facteur
UM : Calcul du facteur UM à la page 273). Pour garantir la qualité de tous les
traitements, Eclipse utilise une constante interne du nombre minimal de segments
(64).
■ Définissant un nombre de segments constant (mode Fixed [Fixé]).

282 Manuel de référence des algorithmes de photonthérapie et


d'électronthérapie Eclipse
Remarque : Lorsque vous modifiez les paramètres de la technique d'irradiation Modulation
d'Intensité Dynamique, veuillez noter les points suivants :
■ Les paramètres Sliding Window (Modulation d'Intensité Dynamique) s'appliquent à
l'ensemble du domaine clinique. Y apporter des modifications affecte toutes les machines de
traitement utilisant le même modèle MLC.
■ Pour obtenir des résultats optimaux, il est recommandé d'utiliser le mode Normal avec les
paramètres par défaut.
■ Les modifications des paramètres des segments ne sont prises en compte que par les
fluences qui n'ont pas encore été calculées.
■ Vous pouvez également modifier les options Sliding Window (Modulation d'Intensité
Dynamique) dans External Beam Planning lorsque vous lancez le calcul des
déplacements de lames (plus d'informations : Manuel de référence de photonthérapie et
d'électronthérapie Eclipse).

Modulation d'intensité dynamique en mode Normal


Les plages de valeurs et valeurs par défaut suivantes sont utilisées en mode Normal :
■ Number of intensity levels (Nombre de niveaux d'intensité) : de 30 jusqu'au
nombre maximal de points de contrôle ; valeur par défaut = 70.
■ Maximum number of control points (Nombre max de points de contrôle) (par
sous-champ) : plage de valeurs : 64-320 ; valeur par défaut = 166.
■ La valeur Maximum number of control points (Nombre max de points de
contrôle) définie est d'abord multipliée par le nombre de sous-champs, puis
répartie de manière optimale entre les groupes de chariots selon la complexité du
sous-champ (définie par le facteur UM, plus d'informations : Calcul du facteur
UM à la page 273). Le résultat du nombre de segments par sous-champ est
toujours relatif au facteur UM par sous-champ.
■ Si la valeur Maximum number of control points (Nombre max de points de
contrôle) définie pour le MLC est inférieure au nombre maximal de points de
contrôle défini pour le LMC, le paramètre MLC outrepasse le paramètre LMC. Le
paramètre MLC est défini dans RT Administration (onglet Radiation & Imaging
Devices > MLC > MLC Configuration Properties > MLC [Systèmes d'irradiation
et d'imagerie > MLC > Propriétés de configuration MLC > MLC]).
■ Grands champs IMRT : si le nombre total de points de contrôle (de l'ensemble des
sous-champs) dépasse le niveau maximal du MLC, la façon dont les points de
contrôle sont gérés dépend de la machine de traitement.
Si la machine de traitement prend en charge les grands champs IMRT, le nombre
maximal de points de contrôle est réparti uniformément entre les groupes de
chariots, ce qui signifie que le nombre réel de points de contrôle par sous-champ
peut devenir inférieur à la valeur définie dans le champ Maximum number of
control points (Nombre max de points de contrôle). Après le calcul des modèles
de déplacement des lames du DMLC, vous pouvez vérifier le nombre réel de
points de contrôle utilisés dans la boîte de dialogue Field Properties (Propriétés

Chapitre 12 Algorithmes de modélisation d'irradiation de fluences 283


de champ) (onglet Calculation [Calcul]).
Si la machine de traitement ne prend pas en charge les grands champs IMRT, le
nombre total de points de contrôle de l'ensemble des sous-champs peut dépasser
le maximum, car les champs sont toujours fractionnés.

Modulation d'intensité dynamique en mode Fixed


La plage de valeurs et la valeur par défaut suivantes sont utilisées en mode Fixed
(Fixé) :
■ Number of control points (Nombre de points de contrôle) (par sous-champ) :
plage de valeurs : 64-320 ; valeur par défaut = 166
■ La valeur Number of control points (Nombre de points de contrôle) définie est
d'abord multipliée par le nombre de sous-champs, puis répartie uniformément
entre les groupes de chariots.
■ Si la valeur Maximum number of control points (Nombre max de points de
contrôle) définie pour le MLC est inférieure au nombre de points de contrôle
défini pour le LMC, le paramètre MLC outrepasse le paramètre LMC. Le
paramètre MLC est défini dans RT Administration (onglet Radiation & Imaging
Devices > MLC > MLC Configuration Properties > MLC [Systèmes d'irradiation
et d'imagerie > MLC > Propriétés de configuration MLC > MLC]).
■ Grands champs IMRT : si le nombre total de points de contrôle (de l'ensemble des
sous-champs) dépasse le niveau maximal du MLC, la façon dont les points de
contrôle sont gérés dépend de la machine de traitement.
Si la machine de traitement prend en charge les grands champs IMRT, le nombre
maximal de points de contrôle est réparti uniformément entre les groupes de
chariots, ce qui signifie que le nombre réel de points de contrôle par sous-champ
peut devenir inférieur à la valeur définie dans le champ Number of control
points (Nombre de points de contrôle). Après le calcul des modèles de
déplacement des lames du DMLC, vous pouvez vérifier le nombre réel de points
de contrôle utilisés dans la boîte de dialogue Field Properties (Propriétés de
champ) (onglet Calculation [Calcul]).
Si la machine de traitement ne prend pas en charge les grands champs IMRT, le
nombre total de points de contrôle de l'ensemble des sous-champs peut dépasser
le maximum, car les champs sont toujours fractionnés.

Configurer le mode Modulation d'Intensité Dynamique


1. Dans External Beam Planning, choisissez Tools > Task Configuration (Outils >
Configuration de la tâche).
2. Sélectionnez l'onglet Default LMC (LMC par défaut).
3. Pour sélectionner la version d'algorithme LMC que vous souhaitez configurer,
cliquez sur la cellule de la colonne Algorithm Name And Version (Nom et

284 Manuel de référence des algorithmes de photonthérapie et


d'électronthérapie Eclipse
version de l'algorithme), puis sélectionnez la version d'algorithme dans la liste
déroulante qui s'ouvre.
4. Cliquez sur Edit (Modifier).
5. Dans le volet gauche, sélectionnez LMCV calculation options (Options de calcul
LMCV).
6. Dans la liste déroulante Default delivery method (Méthode d'irradiation par
défaut), choisissez Sliding Window (SW) (Modulation d'Intensité Dynamique).
7. Sélectionnez Sliding window options (Options d'irradiation Modulation
d'Intensité Dynamique) dans le volet gauche, puis sélectionnez le mode désiré
depuis la liste déroulante Mode.
■ Pour permettre à Eclipse de définir le nombre de segments Modulation
d'Intensité Dynamique de façon dynamique :
■ Dans la liste déroulante Mode, choisissez Normal.
■ Sélectionnez Normal mode options (Options mode normal) dans le volet
de gauche, puis définissez le nombre de niveaux d'intensité voulu, ainsi
que le nombre maximum de points de contrôle dans les zones de texte.
■ Pour utiliser un nombre constant de segments Modulation d'Intensité
Dynamique :
■ Dans la liste déroulante Mode, choisissez Fixed (Fixe).
■ Sélectionnez Fixed mode options (Options mode fixe) dans le volet de
gauche, et définissez le nombre de segments.
8. Cliquez sur OK.
Les paramètres Sliding Window (Modulation d'Intensité Dynamique)
s'appliquent à l'ensemble du domaine clinique. Y apporter des modifications
affecte toutes les machines de traitement utilisant le même modèle MLC.

Configuration du mode Modulation d'Intensité Statique


Le nombre désiré de niveaux d'intensité (séquenceur Varian LMCV [Leaf Motion
Calculator Varian]) ou de segments statiques (MSS Leaf Motion Calculator, Smart
LMC) doit toujours être configuré dans la technique Modulation d'Intensité Statique.
La signification détaillée de ce paramètre dépend de l'algorithme LMC sélectionné :
■ Lorsque le séquenceur LMCV (Leaf Motion Calculator Varian) est utilisé (MLC
Varian ou BrainLab), le nombre final de segments de chaque champ correspond à
la multiplication de la complexité de la fluence théorique (facteur UM), du
nombre désiré de niveaux d'intensité et du nombre de groupes de chariots dans le
champ.
■ Lorsque le séquenceur MSS Leaf Motion Calculator est utilisé (Siemens, Elekta), le
nombre total de segments est redistribué entre les champs en fonction de leur
complexité : un champ plus complexe obtient une valeur suggérée plus
importante. Ces valeurs suggérées peuvent être modifiées dans la boîte de

Chapitre 12 Algorithmes de modélisation d'irradiation de fluences 285


dialogue MSS Leaf Motion Calculator (LMSMSS) Delivery Options (Options
d'irradiation MSS Leaf Motion Calculator [LMSMSS]) de façon à mieux contrôler
le calcul LMC (plus d'informations : Manuel de référence de photonthérapie et
d'électronthérapie Eclipse).
■ Lorsque Smart LMC est utilisé, le nombre final de segments de chaque champ
correspond au nombre désiré de segments et au nombre de groupes de chariots
dans le champ.
Dans tous les cas, le nombre final de segments statiques peut légèrement différer du
nombre désiré.

Configurer le mode Modulation d'Intensité Statique


1. Dans External Beam Planning, choisissez Tools > Task Configuration (Outils >
Configuration de la tâche).
2. Sélectionnez l'onglet Default LMC (LMC par défaut).
3. Pour sélectionner la version d'algorithme LMC que vous souhaitez configurer,
cliquez sur la cellule de la colonne Algorithm Name And Version (Nom et
version de l'algorithme), puis choisissez la version de l'algorithme dans la liste
déroulante qui s'ouvre.
4. Cliquez sur Edit (Modifier).
5. Effectuez l'une des opérations suivantes :
■ Pour le séquenceur LMCV (Leaf Motion Calculator Varian) :
■ Dans la liste déroulante Default delivery method (Méthode d'irradiation
par défaut), choisissez Multiple Static Segments (MSS) (Modulation
d'Intensité Statique MSS).
■ Spécifiez le nombre de niveaux d'intensité par défaut dans la zone de texte.
■ Pour le séquenceur MSS Leaf Motion Calculator, spécifiez le nombre de
segments statiques par défaut dans la zone de texte.
6. Cliquez sur OK.
Les paramètres de modulation d'intensité statique s'appliquent à l'ensemble du
domaine clinique. Y apporter des modifications affecte toutes les machines de
traitement utilisant le même modèle MLC.

Configuration des modes Modulation d'Intensité Dynamique et


Modulation d'Intensité Statique pour Smart LMC
Le mode Modulation d'Intensité Dynamique pour Smart LMC est identique au mode
fixe dans LMCV (Configuration du mode Modulation d'Intensité Dynamique à la
page 282). C'est à dire que vous définissez un nombre constant de segments
Modulation d'Intensité Dynamique.

286 Manuel de référence des algorithmes de photonthérapie et


d'électronthérapie Eclipse
Les plages de valeurs et valeurs par défaut suivantes sont utilisées en mode
Modulation d'Intensité Dynamique pour Smart LMC :
■ Nombre de points de contrôle : plage de valeurs : 64-500 ; valeur par défaut = 166.
■ La valeur du nombre de points de contrôle défini est divisée entre les groupes de
chariot. Dans le cas de groupes de chariot multiples, le nombre total de points de
contrôle peut différer légèrement du nombre défini. C'est par exemple le cas
lorsque le nombre défini ne peut être divisé de façon égale entre les sous-champs,
ou si l'on a besoin de points de contrôle supplémentaires en raison des
modifications de position du chariot.
Si la valeur Maximum Number of Control Points (Nombre max de points de
contrôle) définie pour la machine de traitement dans RT Administration (onglet
Radiation & Imaging Devices > MLC > MLC Configuration Properties > MLC
tab [Systèmes d'irradiation et d'imagerie > MLC > Propriétés de configuration
MLC > MLC]) est inférieure au nombre de points de contrôle défini pour le LMC,
la valeur de RT Administration outrepasse le paramètre LMC.
■ Default jaw tracking (Suivi des mâchoires par défaut) : On / Off (Activé /
Désactivé). Lorsque le Suivi des mâchoires est sur Off (Désactivé), les mâchoires
ne sont pas en mouvement lorsque le faisceau est allumé.
Le mode Modulation d'Intensité Statique pour Smart LMC est géré de la même
manière que celui de modularité d'intensité dynamique, hormis le fait que le nombre
de points de contrôle statiques équivaut aux points de contrôle requis pour produire
le nombre voulu de segments statiques.

Configurer le mode Modulation d'Intensité Dynamique pour Smart LMC


1. Choisissez Tools > Task Configuration (Outils > Configuration de la tâche).
2. Sélectionnez l'onglet Default LMC (LMC par défaut).
3. Pour sélectionner la version d'algorithme LMC que vous souhaitez configurer,
cliquez sur la cellule de la colonne Algorithm Name And Version (Nom et
version de l'algorithme), puis choisissez la version de l'algorithme dans la liste
déroulante qui s'ouvre.
4. Cliquez sur Edit (Modifier).
5. Dans le volet gauche, sélectionnez Smart LMC options (Options Smart LMC).
6. Dans la liste déroulante Default delivery method (Méthode d'irradiation par
défaut), choisissez Sliding Window (SW) (Modulation d'Intensité Dynamique).
7. Sélectionnez Sliding window options (Options d'irradiation Modulation
d'Intensité Dynamique) dans le volet de gauche et procédez de la façon suivante :
■ Définissez le nombre de segments dans la zone de texte.
■ Sélectionnez le suivi des mâchoires, dans la liste déroulante Default jaw
tracking (Suivi des mâchoires par défaut).

Chapitre 12 Algorithmes de modélisation d'irradiation de fluences 287


8. Cliquez sur OK.
Les paramètres Modulation d'Intensité Dynamique pour Smart LMC
s'appliquent à l'ensemble du domaine clinique. Y apporter des modifications
affecte toutes les machines de traitement utilisant le même modèle MLC.

Configurer le mode Modulation d'Intensité Statique pour Smart LMC


1. Choisissez Tools > Task Configuration (Outils > Configuration de la tâche).
2. Sélectionnez l'onglet Default LMC (LMC par défaut).
3. Pour sélectionner la version d'algorithme LMC que vous souhaitez configurer,
cliquez sur la cellule de la colonne Algorithm Name And Version (Nom et
version de l'algorithme), puis choisissez la version de l'algorithme dans la liste
déroulante qui s'ouvre.
4. Cliquez sur Edit (Modifier).
5. Dans le volet gauche, sélectionnez Smart LMC calculation options (Options de
calcul Smart LMC).
6. Dans la liste déroulante Default delivery method (Méthode d'irradiation par
défaut), choisissez Multiple Static Segments (MSS) (Modulation d'Intensité
Statique MSS).
7. Sélectionnez MSS options (Options MSS) dans le volet de gauche et procédez de
la façon suivante :
■ Définissez le nombre de points de contrôle dans la zone de texte Number of
static segments (Nombre de segments statiques).
■ Sélectionnez le suivi des mâchoires, dans la liste déroulante Default jaw
tracking (Suivi des mâchoires par défaut).
8. Cliquez sur OK.
Les paramètres de modulation d'intensité statique pour Smart LMC s'appliquent
à l'ensemble du domaine clinique. Ainsi y apporter des modifications affecte
toutes les machines de traitement utilisant le même modèle MLC.

Configuration des paramètres MLC


Pour que le calcul de la dose, l'algorithme PO et le LMC fonctionnent correctement,
les paramètres du MLC doivent être correctement définis dans RT Administration,
en portant une attention particulière aux éléments suivants :
■ Minimum dose dynamic leaf gap (Leaf Gap minimal en mode dynamique) :
définit l'écart minimal à maintenir en permanence entre les lames en mouvement
du DMLC pendant le traitement. Les valeurs recommandées sont 0,05 – 0,10 cm.
■ Maximum number of control points (Nombre max de points de contrôle) : si le
nombre maximal de points de contrôle défini pour la machine de traitement dans
RT Administration (onglet Radiation & Imaging Devices > MLC > MLC

288 Manuel de référence des algorithmes de photonthérapie et


d'électronthérapie Eclipse
Configuration Properties > MLC tab [Systèmes d'irradiation et d'imagerie >
MLC > Propriétés de configuration MLC > MLC]) est inférieur au nombre de
points de contrôle défini pour le LMC, la valeur de RT Administration outrepasse
le paramètre LMC.
■ Dose dynamic leaf tolerance (Tolérance pour les lames en mode dynamique) :
définit l'imprécision tolérée dans les déplacements des lames du DMLC. La valeur
par défaut est 0,2. Elle permet un certain jeu dans les mouvements de lames.
■ Dosimetric leaf gap (Leaf Gap dosimétrique) : tient compte de la transmission de
dose à travers les lames arrondies du MLC. La valeur exacte de ce paramètre
dépend du dispositif MLC et du spectre d'énergie de l'accélérateur (Leaf Gap
dosimétrique dans les algorithmes de modélisation d'irradiation de fluences à la
page 263). Le Leaf Gap dosimétrique doit être mesuré pour chaque MLC et
revérifié dans le cadre de l'assurance qualité de la machine de traitement, en
particulier lors de la réalisation d'un étalonnage du MLC.
Le Leaf Gap dosimétrique inclut la contribution de la pénombre. Le paramètre
Spot size (Taille du spot) a une influence sur la forme de la pénombre (Réglage
des paramètres de la taille effective du spot à la page 55).
■ MLC transmission factor (Facteur de transmission du MLC) : pour définir le
facteur de transmission du MLC, définissez le matériau utilisé pour chaque MLC,
associez le MLC des données faisceaux au MLC de la machine de traitement pour
chaque MLC configuré dans RT Administration, et définissez le facteur de
transmission du MLC.

Remarque : Le facteur de transmission MLC et l'écart interlame dosimétrique peuvent


également être configurés pour des données de faisceaux de modèle de calcul AAA et
Acuros XB individuel. Pour ce faire, l'utilisateur doit créer un nouvel accessoire de type MLC
dans Beam Configuration. Informations supplémentaires : Paramètres de MLC à la
page 84.

Configurer le Leaf Gap dosimétrique


1. Dans RT Administration, créez le matériel des accessoires du MLC à utiliser
pour les traitements DMLC.
2. Affectez les énergies de faisceau au matériau MLC.
3. Définissez le matériau utilisé pour le MLC et le Leaf Gap dosimétrique dans les
données dosimétriques du matériau MLC.
Autres informations : Manuel de référence RT Administration.

Chapitre 12 Algorithmes de modélisation d'irradiation de fluences 289


Mesure du facteur de transmission des lames
Afin de faire correspondre la dose d'un champ IMRT aux mesures, il faut étalonner le
facteur de transmission des lames MLC (LTF) et le Leaf Gap dosimétrique (DLG). Le
facteur de transmission des lames peut être estimé comme étant le rapport entre la
dose mesurée, dans un champ ouvert, et la dose mesurée en utilisant la même taille
de champ pour toutes les lames du MLC fermées derrière les mâchoires. Le facteur
de transmission des lames est un paramètre réel qui décrit la transmission moyenne
et ne tient pas compte des variations locales de largeur de lame, ni du spectre
d'énergie du faisceau.
Étant donné qu'une transmission des lames efficace dépend légèrement de la taille du
champ et de la profondeur de la mesure, la mesure géométrique devrait être similaire
aux géométries applicables au domaine clinique. Dans la direction Y, le champ doit
être suffisamment large pour permettre l'exposition des différents types de lames
MLC. Par exemple, pour le MLC Millennium 120, cela signifie des demi-lames et
lames entières. Pour le MLC Varian HD-120, la taille de champ recommandée est de
10 cm × 15 cm (X, Y), et pour le MLC Millennium 120, la taille de champ
recommandée est de 10 cm × 25 cm (X, Y). Dans tous les cas, on doit utiliser des
positions de mâchoire symétriques. Les mesures doivent s'effectuer dans un fantôme
homogène de 10 à 15 cm de profondeur au niveau du plan d'isocentre (DSP 85 à
90 cm ; la profondeur de mesure devant être plus importante que dmax ). Il faut
procéder à une mesure différente pour chacune des bancs de lames.
La figure présente la définition de la mesure pour le banc de lames A du
MLC HD-120 à l'aide de la taille de champ recommandée de 10 × 15 cm. Exception
faite de la première paire de lames, toutes les lames sont fermées à 9 cm de l'axe
central, juste derrière la mâchoire X1 (position : −9 cm). La première paire de lames
est placée à 6 cm de l'axe central dans la direction opposée, juste derrière la mâchoire
X2 (position : +6 cm). À noter que les positions sont choisies de façon à ce que
l'écartement maximal de la lame soit juste atteint. L'objectif de la première position
de la paire de lames est de forcer le cadre de chariot du banc A, derrière la mâchoire
X2. Il convient également de vérifier que la première paire de lames est placée
complètement derrière la mâchoire Y1.

290 Manuel de référence des algorithmes de photonthérapie et


d'électronthérapie Eclipse
1
2

3 4

1. Banc de lames A
2. Banc de lames B
3. Les lames se referment derrière la mâchoire X1, à 9 cm de l'axe central.
4. La première paire de lames force le cadre de chariot du banc A, complètement derrière la mâchoire X2.

Figure 44 Positions de lames en champ statique pour la mesure de transmission des lames avec
MLC Varian HD-120

La procédure de mesure exacte dépend des dispositifs de mesure utilisés. La mesure


de la transmission des lames peut être réalisée en utilisant une grande variété
d'appareils de mesure, tels qu'une chambre d'ionisation, un film ou un imageur
portal. Il est très important que les mesures soient effectuées dans plusieurs positions
et que la moyenne des valeurs soit utilisée. Cela garantit que le facteur de
transmission des lames comporte les effets de la fuite interlame et prenne bien en
compte les petites variations d'épaisseur de lame. La mesure doit être répétée pour le
banc de lames B, en utilisant une image miroir des positions de lames, décrites ci-
dessus.

Mesurer le facteur de transmission des lames


1. Mesurez la transmission du banc de lames A à l'aide des positions de lames
décrites dans la Figure 44 à la page 291.
2. Mesurez la transmission du banc de lames B, en utilisant une image miroir des
positions de lames, décrites ci-dessus.
3. Faites ces mesures pour un champ ouvert.
4. Pour chacune des mesures ci-dessus, calculez une moyenne sur une zone
d'espace représentative. La moyenne doit être faite de la même manière pour les
trois mesures.

Chapitre 12 Algorithmes de modélisation d'irradiation de fluences 291


5. Calculez la moyenne totale du banc de lames A + transmission du banc B.
6. Comparez la moyenne totale du banc A + banc B, avec la moyenne du champ
ouvert.

Mesurer le Leaf Gap dosimétrique


Vous pouvez mesurer l'écart interlame dosimétrique (DLG) avec une série de
mesures DMLC à l'aide de la procédure décrite par LoSasso et al.54 et Arnfield et al55.
1. Mesurez le facteur de transmission des lames (Mesurer le facteur de transmission
des lames à la page 291).
2. Mesurez la dose délivrée par le DMLC balayant une fente, avec différentes
largeurs de fentes, par exemple 0,5 ; 0,7 ; 1,0 ; 2,0 et 5,0 mm.
3. Retranchez la contribution de la transmission des lames aux mesures du balayage
de fente.
4. Tracez les mesures de balayage de fente corrigées par rapport à une largeur
d'écart nominale et faites passer une ligne de régression par les points de mesure.
5. Obtenez le Leaf Gap dosimétrique en extrapolant la ligne de régression au point
0 et en relevant la largeur d'écart correspondante. Cette valeur doit être négative
et DLG correspond à sa valeur absolue (voir la figure 7 de LoSasso et al.).

Remarque : Lors de la création de fichiers de déplacements DMLC pour diverses largeurs


d'écart, veillez à fractionner le déplacement des lames en plusieurs points de contrôle pour
que les lames ne se déplacent pas de plus d'1 cm entre deux points de contrôle consécutifs.
Cela est nécessaire car la correction de la position des lames (pour prendre en compte la
manière dont l'extrémité arrondie de la lame interrompt le faisceau) est appliquée uniquement
aux emplacements des points de contrôle.

54 T. LoSasso, C.-S. Chui, and C. C. Ling: Physical and dosimetric aspects of a multileaf collimation system
used in the dynamic mode for implementing intensity modulated radiotherapy. Medical Physics 25,
1919-1927 (1998).
55 M. R: Arnfield, J. V. Siebers, J. O. Kim, Q. Wu, P. J. Keal, and R. Mohan: A method for determining
multileaf collimator transmission and scatter for dynamic intensity modulated radiotherapy. Medical
Physics 27, 2231-2241 (2000).

292 Manuel de référence des algorithmes de photonthérapie et


d'électronthérapie Eclipse
Chapitre 13 Algorithmes de dose portale

Algorithmes de dose portale


La fonctionnalité de calcul de dose portale permet de calculer les images de dose
portale des champs contenant des fluences dans le cadre de la vérification de
prétraitement pour la planification IMRT. La vérification de prétraitement est réalisée
à l'aide d'un imageur portal afin de contrôler la précision de la fluence planifiée
produite par le système de planification de traitement en la comparant à la fluence
délivrée par les déplacements du DMLC. Cette comparaison est réalisée dans le
mode absolu de Portal Dosimetry. La prédiction par dosimétrie portale permet de
comparer la fluence planifiée à la mesure de la fluence délivrée.
Deux algorithmes permettent calculer la dose portale : Portal Dose Image Prediction
(PDIP) et Anisotropic Analytical Algorithm (AAA). PDIP est un algorithme
autonome configuré indépendamment des autres algorithmes. AAA est un
algorithme de calcul des photons polyvalent, et les données faisceaux configurées
utilisées pour les calculs de dose patient peuvent également l'être pour le calcul de
dose portale.
Les algorithmes de dose portale peuvent également être utilisés pour les champs
VMAT et d'arcthérapie conformationnelle. Pour ces champs, Eclipse calcule la fluence
planifiée en additionnant les différentes fluences d'ouverture à partir des points de
contrôle du champ. Le débit de dose dynamique est pris en compte dans la somme,
et la fluence accumulée entre les points de contrôle est aussi prise en considération.

Remarque : Lorsque la fluence réelle est mentionnée dans ce chapitre, elle se rapporte aussi aux
fluences additionnées à partir des différentes fluences d'ouverture pour les champs
d'arcthérapie.

Workflow de Portal Dosimetry pour IMRT et VMAT


Portal Dosimetry est utilisé pour acquérir des images de la fluence, alors qu'Eclipse
est utilisé pour calculer une image de dose correspondante. Les deux images peuvent
être vues et comparées quantitativement dans Portal Dosimetry.
La figure décrit le processus d'utilisation d'images portales calculées et mesurées
pour la vérification des plans IMRT et VMAT.

Chapitre 13 Algorithmes de dose portale 293


3

1
2

ECLIPSE
5

8
6
7

9
PORTAL
CLINAC DOSIMETRY

1. Plan de traitement contenant une fluence réelle et des déplacements calculés des lames du DMLC
2. Créer le plan de vérification
3. Plan de vérification contenant l'image portale calculée (encerclée)
4. Générer l'image portale calculée
5. Transférer le plan de traitement au Clinac
6. Image portale mesurée acquise de la dose délivrée
7. Acquérir l'image portale
8. Comparer les images de dose portale mesurées et calculées
9. Images portales mesurées et calculées

Figure 45 Vérification des plans au moyen d'images portales calculées et mesurées

Le tableau décrit le processus d'utilisation d'images portales calculées et mesurées


pour la vérification des plans IMRT et VMAT.

Tableau 44 Workflow de Portal Dosimetry

Étape Application/Module

Créer un plan IMRT ou VMAT

Créer le plan et optimiser la dose. External Beam Planning

Créer un plan de vérification du plan IMRT External Beam Planning


ou VMAT optimisé

Créer plus de fractions pour le plan. External Beam Planning

294 Manuel de référence des algorithmes de photonthérapie et


d'électronthérapie Eclipse
Étape Application/Module

Approuver la planification du plan de vérifi- External Beam Planning


cation.

Préparer le plan pour le traitement

Vérifier le plan et l'image portale calculée. Plan Parameters

Mettre à jour si nécessaire les limites des Reference Points


points de référence.

Programmer le plan et définir la méthode Scheduling


d'acquisition de l'image pour chaque champ
du plan (image intégrée).

Approuver le traitement du plan. Treatment Preparation

Délivrer la dose à la machine de traitement

Créer un rendez-vous pour le Clinac.

Délivrer la dose de vérification au Clinac. Clinac

Évaluer la dosimétrie dans Portal Dosimetry

Examiner les images calculées et délivrées Portal Dosimetry


juxtaposées.

Aligner les images pour corriger les petits dé- Portal Dosimetry
fauts dans l'étalonnage de la position de
l'imageur.

Comparer les images avec différents outils Portal Dosimetry


d'analyse.

Algorithme PDIP
L'image de dose portale prédite est déterminée au niveau de la plaque du détecteur
de l'imageur portal, en ignorant la table de traitement ou le patient. L'algorithme
PDIP produit une image basée sur l'unité d'étalonnage (CU). PDIP tient toujours
compte de la distance source-détecteur (DSD) de la mesure. La résolution d'image est
ensuite projetée à la distance source-axe (DSA), et une rotation appropriée du
collimateur est appliquée.

Chapitre 13 Algorithmes de dose portale 295


Bien que la prédiction par dosimétrie portale et les mesures de dose portale puissent
être réalisées à toute DSD, la précision maximale est atteinte en travaillant à une DSD
unique, à savoir la distance utilisée pour l'étalonnage du détecteur. Il est
recommandé de réaliser l'étalonnage, la configuration et l'acquisition PortalVision à
une distance fixe, aussi près que possible de l'isocentre (DSD = 100 cm pour le bras
Exact Arm, DSD = 105 cm pour le bras R en mode Clinique). L'IAS2 peut montrer des
effets de saturation significatifs dans les modes de débit de dose élevé à la DSD la
plus courte. Le début précis de la saturation dépend de l'étalonnage de la machine
locale (UM/Gy dans les conditions de référence), mais en général il convient de ne
pas dépasser un débit de dose de 400 UM/min à une DSD de 100 cm.
L'algorithme PDIP calcule l'image de dose portale en convoluant la fluence avec des
noyaux gaussiens comme suit :

Équation 78

SAD 2 OF fsx, fsy


P = f′ × k ⋅ SDD PSF fsx, fsy

P = Image calculée de dose portale en termes de CU

f′ = Fluence d'entrée corrigée par le profil d'intensité et mise à l'échelle


par la distance au détecteur

× = Opérateur de convolution

k = Noyau de dose de l'imageur portal

SDD = Distance Source-détecteur de la mesure d'image portale

SAD = Distance Source-axe de la machine de traitement

f sx = Taille de champ à la DSA (distance source-axe) dans la direction FX

f sy = Taille de champ à la DSA (distance source-axe) dans la direction FY

PSF( f sx, f sy) = Facteur de diffusion due au fantôme pour la taille de champ f sx, f sy ,
défini à la DSA (distance source-axe)

OF( f sx, f sy) = Facteur d'ouverture du collimateur pour la taille de champ f sx, f sy ,
défini à la DSA et normalisé en CU à une taille de champ de
10×10 cm

296 Manuel de référence des algorithmes de photonthérapie et


d'électronthérapie Eclipse
La résolution du calcul de la fluence dépend de l'algorithme de calcul de la dose dans
le volume sélectionné et de la résolution du calcul de la dose. Avant la version 13.5.15
de l'algorithme PDIP, la résolution de calcul interne était de 0,78 mm ; depuis la
version 13.5.15, elle est de 0,39 mm. PDIP rééchantillonne la fluence entrante dans sa
résolution de calcul interne. De plus, la sortie, à savoir l'image prédite, s'inscrit dans
la résolution de calcul interne de PDIP. La résolution de la fluence entrante avant la
version 11.0 de l'algorithme PDIP était de 2,5 mm. Pour les champs VMAT calculés
avec AAA ou Acuros XB et la résolution de la fluence VMAT définie sur High
(Haute), la résolution était de 0,3125 mm. Depuis la version 11.0 de PDIP (avec AAA
et Acuros XB, versions 11.0 et ultérieures), la résolution de la fluence entrante est :
■ AAA : résolution de calcul
■ Acuros XB : 0,5 × résolution de calcul

Paramètres de l'algorithme PDIP


L'algorithme PDIP utilise des données d'entrée issues de la configuration de
l'algorithme PDIP réalisée dans Beam Configuration et du plan de vérification créé
dans External Beam Planning. Les données d'entrée qui suivent sont issues de la
configuration de l'algorithme PDIP :
■ Facteurs d'ouverture du collimateur du mode ou de l'énergie sélectionné(e)
(mesurés sur l'axe central pour chaque taille de champ)
■ Noyaux du mode ou de l'énergie sélectionné(e)
■ Profil d'intensité décrivant la dépendance hors axe de la fluence
■ DSA (distance source-axe DSA de la machine de traitement configurée, qui est
copiée dans Beam Configuration)
Les données d'entrée qui suivent sont issues du plan de vérification :
■ Fluence réelle et facteur UM correspondant
■ Distance Source-détecteur (DSD) de l'image portale pendant la mesure (les
meilleurs résultats sont obtenus à une distance proche de l'isocentre)
■ Rotation du collimateur (peut différer de la rotation réelle du collimateur)

Chapitre 13 Algorithmes de dose portale 297


Correction avec profil d'intensité et facteur UM
La sortie de fluence de champ ouvert, sur un dispositif d'irradiation, n'est
généralement pas uniforme dans l'ensemble du champ. L'algorithme PDIP compense
ce manque d'uniformité de la fluence de champ ouvert en modifiant chaque pixel
comme suit :

Équation 79

f x, y v r x, y
f′ x, y = MUfactorOFmax

f′ = Fluence réelle corrigée

f = Fluence réelle du système de planification (image de dose)

x, y = Coordonnées d'un point dans le faisceau

v(r) = Valeur d'intensité radialement symétrique

r x, y = Distance radiale depuis l'axe du faisceau

MU f actor = Facteur UM du calcul de la dose, utilisé pour mettre la fluence à l'échelle

OFmax = Valeur maximale de la fluence optimale, utilisée pour mettre la fluence à


l'échelle

Facteur de diffusion due au fantôme


Le facteur de diffusion du fantôme est calculé en construisant une image d'intensité
plane pour un champ rectangulaire, dont l'intensité est égale à 1,0 à l'intérieur du
champ, et égale à 0,0 à l'extérieur du champ. Ensuite, la fluence est convoluée avec le
noyau. La valeur du pixel central est utilisée comme valeur de PSF (Facteur de
diffusion du fantôme). Ce calcul est effectué à la DSA.

298 Manuel de référence des algorithmes de photonthérapie et


d'électronthérapie Eclipse
Calcul des données faisceaux configurées pour l'algorithme PDIP
Les données faisceaux configurées (le noyau) sont calculées pour le modèle PDIP en
exécutant une déconvolution avec la régularisation de Tikhonov. Une fluence de test
particulière est utilisée afin de s'assurer de la précision des noyaux (Vue d'ensemble
de la fluence de test à la page 310). Le noyau dérivé de la mesure est radialement
symétrique et consiste en une somme de composants gaussiens de différentes
amplitudes ai et tailles σi :

Équation 80

−r2 /2σ2i
kr = ∑ ai 1
2πσi
e
i

où r = distance à l'origine

Le nombre de composants du noyau (composants gaussiens) est réglé sur 9 dans la


configuration.
Les données d'entrée obligatoires suivantes sont utilisées dans Beam Configuration
pour calculer les noyaux pour l'algorithme PDIP :
■ Facteurs d'ouverture du collimateur du mode ou de l'énergie sélectionné(e) (dose
mesurée sur l'axe central pour chaque taille de champ). Mesure les facteurs
d'ouverture du collimateur pour une grille de points clairsemés, et Beam
Configuration interpole les valeurs restantes.
■ Profil d'intensité décrivant le comportement hors axe de la fluence. Le format du
profil d'intensité est une courbe symétrique circulaire unidimensionnelle. La
valeur au centre doit être égale à 1,0 et la mise à l'échelle est à l'isocentre.
■ Fluence réelle et facteur UM correspondant du plan test
■ Images portales du plan test
■ Quantité d'UM utilisée pour générer l'image
■ Rotation du collimateur
■ DSA
■ Valeur des unités moniteur (UM) correspondant à 100 unités étalonnées (CU) à
DSD = DSA (généralement : 100 UM)

Chapitre 13 Algorithmes de dose portale 299


L'algorithme PDIP requiert la mesure de l'image de dose portale acquise à une
distance spécifiée par l'utilisateur. Pour calculer un facteur de correction de la DSD, il
convient d'acquérir une seconde image de dose portale à une DSD différente. La
première image doit être acquise, de préférence, à la DSD par défaut d'acquisition de
dose portale (généralement, DSD = 100 cm). La seconde image acquise à une DSD
différente n'est pas obligatoire mais permet une meilleure configuration du noyau
lorsque les mesures sont effectuées à des DSD variables.

Précision de l'algorithme PDIP


À titre de référence, après un alignement précis, une évaluation Gamma de la
prédiction par dosimétrie portale et de la mesure doit être comprise dans les limites
du critère d'acceptance pour > 95 % de l'image portale pour un critère d'analyse de
Gamma de 4 %, 4 mm.
Dans les cas où la taille de champ définie par les mâchoires est beaucoup plus large
que l'ouverture définie par un MLC, la différence entre les valeurs prédite et mesurée
peut excéder 4 %. Cet écart peut être compensé par la remise à l'échelle de la table
des facteurs d'ouverture du collimateur dans les données faisceaux de l'algorithme
PDIP.

Modules préconfigurés de l'algorithme PDIP


Pour pouvoir utiliser la dosimétrie IMRT, VMAT ou de stéréotaxie et garantir le bon
fonctionnement de l'algorithme PDIP, vous devez configurer correctement le
système. Suivez la procédure de configuration spécifique au système, ou utilisez un
ensemble préconfiguré de fichiers d'étalonnage (module de préconfiguration de
Portal Dosimetry [PDPC]).
Le module de préconfiguration de Portal Dosimetry comprend :
■ Les données faisceaux préconfigurées pour le modèle de calcul « Portal Dose
Image Prediction » (Prédiction par dosimétrie portal