REGISTROS DE RESISTIVIDAD
♦También son más adecuados para la
¿QUE ES LA RESISTIVIDAD?
•La resistividad (resistencia específica), es
resistencia medida entre lados opuestos
de un cubo unitario de una sustancia y a
una temperatura específica.
•La unidad de resistencia eléctrica es el
ohmio. R = r A/L
Dónde:
R = Resistividad en ohmio – metros
r = Resistencia en ohmios
A = Área en metros cuadrados
L = Longitud en metros
RESISTIVIDAD DE UNA FORMACIÓN
♦La resistividad de la formación es un
parámetro clave para determinar la
saturación de hidrocarburos.
♦La electricidad puede pasar a través de
una formación sólo debido al agua
conductiva que contenga dicha
formación.
♦La conductividad metálica es
prácticamente despreciable.
♦Las rocas perfectamente secas rara vez
se encuentran, por lo tanto, las
formaciones subterráneas tienen
resistividades mensurables y finitas
debido al agua que se encuentra dentro
de los poros o al agua intersticial
absorbida por una arcilla.
♦La resistividad de una formación
depende de:
-Tipo de formación
-La resistividad del agua de formación.
-La cantidad de agua presente
-La geometría estructural de los poros.
♦Las resistividades de formación por lo
general varían de 0.2 a 1000 ohm-m.
Resistividades superiores a 1000 ohm.m
son poco comunes en formaciones
permeables pero se observan en
formaciones impermeables de muy baja
porosidad (evaporitas).
♦La resistividad de formación se mide ya
sea al mandar corriente a la formación y
medir la facilidad con que fluye la
electricidad, o al inducir una corriente
eléctrica en la formación y medir que
tan grande es.
REGISTROS DE RESISTIVIDAD
1.Registros Eléctricos Convencionales
2.Registros de Corriente Enfocada o
Lateroperfiles
3.Registros de Inducción
1.REGISTROS ELÉCTRICOS
CONVENCIONALES
BREVE HISTORIA
El registro eléctrico convencional (ES)
consistía, por lo general, de un SP y
dispositivos normales de 16 pulgadas,
normal de 64 pulgadas, y lateral de 18
pies 8 pulgadas. Durante los primeros 25
años del perfilaje de pozos, estos
registros, fueron los únicos registros de
resistividad disponibles. Cada año se
llevaron a cabo miles de ellos todo el
mundo. Desde entonces, se han
desarrollado métodos de medición de
resistividad más sofisticados a fin de
medir la resistividad de la zona lavada,
Rxo, y la resistividad real de la zona
virgen, Rt.
PRINCIO DE MEDICIÓN
•Se introducían corrientes en la
formación, por medio de electrodos, y se
medían los voltajes entre los electrodos
de medición. Estos voltajes
proporcionaban la resistividad para
cada dispositivo.
•En una formación homogénea e
isotrópica de extensión infinita, las
superficies equipotenciales que rodean
un solo electrodo emisor de corriente (A),
son esferas.
•El voltaje entre un electrodo (M)
situado en una de esas esferas y uno en
el infinito es proporcional a la resistividad
de la formación homogénea y el voltaje
medido puede graduarse en una escala
en unidades de resistividad.
DISPOSITIVOS DE RESISTIVIDAD
-Dispositivo Normal
-Dispositivo Lateral
DISPOSITIVO NORMAL
♦En el dispositivo normal, se pasa una
corriente de intensidad constante entre
dos electrodos, A y B.
♦La diferencia de potencial resultante se
mide entre los electrodos, M y N.
♦Los electrodos A y M se encuentran en
la sonda.
-Factores pseudogeométricos
♦En teoría, B y N se localizan a una
distancia infinita. En la practica, B es el
blindaje del cable, y N es un electrodo en
la brida (el extremo inferior del cable
que esta cubierto de aislante) y están
lejos de A y M.
♦La distancia AM se conoce como el
espaciamiento (16
pulgadas,espaciamiento para el normal
corto, 64 pulgadas, para el normal
largo), y el punto de la medición esta en
O, la mitad de la distancia entre A y M.
DISPOSITIVO LATERAL
♦En el dispositivo lateral básico, se pasa
una corriente constante entre A y B, se
mide la diferencia de potencial entre M y
N, localizados en dos superficies
equipotenciales, esféricas y concéntricas,
que se centran en A. De este modo, el
voltaje medido es proporcional al
gradiente de potencial entre M y N.
♦El punto de medición está en O, a la
mitad de la distancia entre M y N. El
espaciamiento AO es de 18 pies 8
pulgadas.
♦En general, cuanto mayor sea el
espaciamiento, mayor es la investigación
dentro de la formación. Así, de los
registros de resistividad ES, el lateral de
18 pies 8 pulgadas tiene la mayor
profundidad de investigación y el normal
de 16 pulgadas la más somera.
♦Sin embargo, en la práctica, la
resistividad aparente, que registra cada
dispositivo, se ve afectada por las
resistividades y dimensiones geométricas
de todos los medios alrededor del
dispositivo (agujero, zonas invadida y no
contaminada y capas adyacentes).
2. REGISTROS ELECTRICOS DE
CORRIENTE ENFOCADA:
LATEROPERFILES
PRINCIPIO DE MEDICIÓN
•Inducen la corriente a la formación en
forma de una delgada hoja de corriente
que fluye en forma radial.
•Para tal efecto, el sistema considera por
lo general un electrodo central (Ao), un
par de electrodos compensadores (A1 y
A2) y dos pares de electrodos monitores
(M1 – M2 y M´1 – M´2). Los electrodos de
cada par están colocados
simétricamente con respecto a Ao y
están conectados entre si por un cable
cortocircuito.
•Se envía una corriente constante (Io)
por el electrodo Ao. Por los electrodos
compensadores se envía una corriente
ajustable. La intensidad de esta corriente
compensadora se ajusta
automáticamente de forma tal que los
electrodos monitores son llevados al
mismo potencial.
•Como la diferencia de potencial entre
los electrodos monitores es mantenida en
cero, ninguna corriente fluye desde Ao
en el pozo entre los electrodos monitores,
por lo tanto, la corriente de Ao debe
penetrar horizontalmente en las
formaciones.
•El espesor de la corriente (Io) es de 32´´
(81 cm) y el largo entre los electrodos
compensadores de la sonda es de 80´´
(203 cm).
•Cuando la sonda está en un medio
homogéneo; la «hoja» de corriente (Io)
mantiene un espesor bastante constante
hasta una distancia del pozo algo mayor
que la longitud total entre los electrodos
compensadores de la sonda.
•La caída de potencial es medida entre
uno de los electrodos monitores y otro
electrodo en superficie (infinito). Con una
corriente (Io) constante este potencial
varia directamente con la resistividad de
la formación.
DISPOSITIVOS DE MEDIDA
-Las herramientas con electrodos de
enfoque incluyen:
♦El Laterolog
♦El registro de enfoque esférico SFL.
-Estas herramientas son muy superiores a
las herramientas ES, en los siguientes
casos:
♦Valores grandes de Rt/Rm (lodos salinos
y/o formaciones de alta resistividad)
♦En contrastes de la alta resistividad con
capas (Rt/Rs o Rs/Rt).
resolución de capas con espesor delgado.
-Existen sistemas disponibles con
electrodos de enfoque con
profundidades de investigación somera,
media y profunda.
-Los instrumentos de lectura profunda
incluyen:
♦El Laterolog 3,
♦El Laterolog 7
-El Laterolog Profundo del registro
Doble Laterolog DLL.
-Los instrumentos de medición media a
somera están integrados con
herramientas de combinación y son:
♦El Laterolog 8 de la herramienta Doble
Inducción – Laterolog DIL
♦El Laterolog Poco Profundo de la
herramienta DLL.
-El SFL de las combinaciones ISF, DIL –
SFL.
-Los Laterolog 3, 7 y 8 son obsoletos en la
actualidad.
DUAL (DOBLE) LATEROLOG (DLL)
Proporciona dos mediciones con la
mayor profundidad de investigación
para determinar la resistividad de la
zona virgen (Rt), a estas se les conocen
como Lateral Somera (Lls) y Lateral
Profunda (Lld).
REGISTRO ESFÉRICO ENFOCADO
•La herramienta SFL mide la
conductividad de la formación cerca del
pozo y proporciona la investigación a un
nivel relativamente poco profunda, que
es requerida para evaluar los efectos de
la invasión en mediciones de resistividad
de mayor profundidad.
•El sistema SFL difiere de anteriores
instrumentos con electrodos de enfoque.
Mientras los sistemas LL7 y LL8 intentan
enfocar la corriente en discos planos, el
sistema SFL establece en esencia esferas
de potencial constante alrededor del
electrodo de corriente.
•El SFL puede preservar la distribución
de potencial esférico en la formación a
pesar de una gran cantidad de variables
de pozo.
•Para lograr lo anterior, el instrumento
SFL se compone de dos sistemas de
corriente separado y más o menos
independiente:
♦El sistema de corriente compensadora:
sirve para «tapar» el agujero y
establecer las esferas equipotenciales.
♦El sistema de rastreo de corriente (io):
provoca que una corriente de rastreo
independiente fluya a través del
«volumen de investigació. La intensidad
de dicha corriente es proporcional a la
conductividad de la formación.
•El instrumento SFL consiste de
electrodos de emisión de corriente: unos
para regreso de corriente y otros de
medición.
•Se establecen dos esferas
equipotenciales que aproximadamente
son iguales a la fuente de corriente de la
herramienta:
♦La primera esfera se encuentra más o
menos a 9 pulgadas del electrodo de
registro de corriente.
♦La otra está cerca de 50 pulgadas de
distancia. Se mantiene un potencial
constante de 2.5 mV entre las dos
superficies esféricas.
USOS DE LOS REGISTROS DE
CORRIENTE ENFOCADA
•En formaciones altamente resistivas, por
arriba de los 500 ohms (formaciones con
fluidos de baja conductividad o no
conductivos, formaciones de baja
porosidad, duras o compactas).
•En lodos conductivos para transmitir al
corriente eléctrica a la formación. No se
corren en lodos a base de aceite, gas o
aire.
•Cuantificación de la resistividad en la
zona virgen (Rt) y en la zona lavada
(Rxo).
•Perfiles de invasión
•Correlación
•Detección de vista rápida de
hidrocarburos.
•Control de profundidad.
•Indicador de hidrocarburos móviles.
CORRECCIONES
-Efecto de pozo
-Efecto de capas adyacentes
-Corrección de invasión
3. REGISTRO ELÉCTRICO DE
INDUCCIÓN
PRINCIPIO DE MEDIDA
•Se hace circular una corriente alterna It
por la bobina transmisora.
•La corriente It induce un campo
magnético alterno Bt en la formación.
•El campo magnético alterno Bt induce
una corriente alterna J en la formación.
•La corriente J origina un campo
magnético secundario en la formación
B2 que a su vez induce un voltaje Vrcvr
en la bobina receptora.
•Vrcvr es proporcional a la resistividad
de la formación
EQUIPO
•La herramienta de registro inductivo-
eléctrico (IES) 6FF40
•El sistema DIL-LL8 incluye un
dispositivo de inducción profunda (el ID
similar al 6FF40), un dispositivo de
inducción media (el IM), un dispositivo
LL8 y un electrodo SP.
•La herramienta de inducción-SFL (ISF)
incluye un dispositivo de inducción
profunda similar al 6FF40, el dispositivo
SFL y un electrodo SP. Esta herramienta
se combina con el registro sónico
compensado y un dispositivo de rayos
Gamma (GR).
•La herramienta DIL-SFL es parecida a
la DIL-LL8 excepto que el SFL ha
reemplazado al LL8 como instrumento
de investigación poco profunda.
•La herramienta de Inducción Phasor
incluye un dispositivo de inducción
profunda (IDPH), otro de Inducción
media (IMPH), un dispositivo SFL y un
electrodo SP. Cuenta con transmisión
digital y sistema de procesamiento
continuo de calibración.
•La herramienta 6FF28 IES (2 5/8
pulgada de diámetro) es una versión
reducida del dispositivo 6FF40. Se usa
para registros en agujeros pequeños y a
través de tubería.
REGISTRO DOBLE INDUCCION
FASORIAL
-Proporciona valores de Rt a tres
profundidades diferentes de
investigación: zona virgen, zona lavada
y de transición. Con esta información se
pueden obtener datos de saturación y
movilidad de fluidos (complementada
con información de otros registros).
-Permite obtener datos más exactos
para diferentes valores de resistividad.
Cuenta con un sistema de
autocalibración que mejora la precisión
de la respuesta y reduce el efecto de las
condiciones ambientales.
-El sistema de trasmisión de datos en
forma digital permite una mayor
capacidad de señales libres de ruidos.
USOS DE LOS REGISTROS DE
INDUCCIÓN
♦En formaciones cuya resistividades son
bajas del orden de 500 ohms.
♦En lodos conductivos y no conductivos
♦Funciona bien en lodos conductivos, a
menos que este se demasiado salado, o
el diámetro del hueco sea muy grande.
♦Funciona mejor en lodos no conductivos
(lodos a base de aceite) o cuando los
pozos han sido perforados
neumáticamente (aire o gas)
♦Particularmente el registro de
Inducción Fasorial se aplica:
-Interpretaciones de formaciones con
diámetros grandes de invasión.
-Formaciones con contraste medio-alto
de resistividades.
-Gráficos de invasión.
CORRECIONES AMBIENTALES
•Corrección del efecto de agujero
•Corrección del efecto de capa
adyacente
•Corrección de la invasión.
•Formaciones de alta resistividad
•Efecto de capas inclinadas
•Anillo
•Lodos salinos