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11ième Rencontre Nationale du Réseau des Mécaniciens – 2010 « A la frontière du vide et du solide »
Plan
Introduction
Conclusions
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11ième Rencontre Nationale du Réseau des Mécaniciens – 2010 « A la frontière du vide et du solide »
Plan
Introduction
Conclusions
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11ième Rencontre Nationale du Réseau des Mécaniciens – 2010 « A la frontière du vide et du solide »
Dureté élevée et
Haute température de coupe durcissement en travail
(faible conductivité thermique) (Matrice austénitique) Présence de particules
dures dans l’alliage
Formation d’un bourrelet
Collage du matériau frontal en cours de coupe
usiné sur la face de Usure abrasive très
coupe de l’outil importante
Entaille à la profondeur
de passe
Formation d’une
Usure abrasive
arête rapportée et
en dépouille
usure par diffusion
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Plan
Introduction
Conclusions
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11ième Rencontre Nationale du Réseau des Mécaniciens – 2010 « A la frontière du vide et du solide »
Principe…
Condensation de la vapeur
-Forte polarisation des substrats avant dépôt
3 (décapage ionique - adhérence)
-Polarisation des substrats pendant la croissance
(densité du film, contrôle des structure, réactivité)
Obtention de la vapeur
-Évaporation thermique
1 -Évaporation par faisceau d’électrons (EBPVD)
-Pulvérisation cathodique magnétron
-Évaporation par arc cathodique
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11ième Rencontre Nationale du Réseau des Mécaniciens – 2010 « A la frontière du vide et du solide »
macroparticules
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A
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Dispositif expérimental
2 dispositifs arc Porte substrat
cathodique Échantillons en 3 rotations
Injection
de gaz
réactifs
2 dispositifs arc
cathodique
A
POMPAGE
Porte substrat :
échantillons en 3 rotations
3ème
rotation
Injection de gaz
Polarisation Porte- substrat
Alimentation DC
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11ième Rencontre Nationale du Réseau des Mécaniciens – 2010 « A la frontière du vide et du solide »
Architecture des revêtements
≈3µm
4 ARCHITECTURES
Nanocouche EXEMPLE pour WC-Co WC-Co WC-Co WC-Co
la composition CrN-TiN
Multicouche Nanocouche
Monocouche Bicouche Période > 100nm Période < 100nm
Calotest sur différentes
architectures CrN-
CrN-TiN
CrN--TiN
CrN Couches de TiN AlTiN AlTiN
surface
TiN-
TiN-AlTiN
3 COMPOSITIONS
CrN-TiN TiN-AlTiN CrN-AlTiN
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Conclusions
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Nanoindentation
60 700
58
56 H (GPa)
52
50
48 600
46
44
42 550
40
38
36 500
34
32
30 450
Multicouche Multicouche Multicouche Nanocouche Nanocouche Nanocouche
CrN-TiN CrN-AlTiN TiN-AlTiN CrN-TiN CrN-AlTiN TiN-AlTiN
Λ=230nm Λ=190nm Λ=225nm Λ=8,8nm Λ=8,5nm Λ=7,5nm
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u TiN
4µm
Nanocouches CrN/TiN
CrN
WC-Co
n : vitesse de rotation
constante
Profondeur d'usure: u
Volume d’usure
V+
Taux d’usure τ
(mm3.N-1.m-1) V
τ=
(volume d’usure par FN . L
V-
unité de force et de
longueur de frottement) Force Longueur de
Volume d’usure V = (V-) - (V+) normale frottement
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Taux d'usure (x10-5 mm3/N.m)
11ième Rencontre Nationale du Réseau des3,5
Mécaniciens – 2010 « A la frontière du vide et du solide »
Propriétés 3
dépôts CrN-TiN 2
1,5
Une bonne résistance aux déformations
plastiques des dépôts nanocouches 1
0,5
Un comportement tribochimique favorable
avec formation d’une couche de transfert 0
TiN
multicouche
multicouche
CrN
nanocouche
nanocouche
nanocouche
nanocouche
(230nm)
(110nm)
1
(34nm)
(13nm)
(9nm)
(7nm)
TiN
0,9
coefficient de frottement
0,8
0,7
CrN
multicouche CrN-TiN (Λ=230nm)
0,6
Dureté élevée des
0,5
nanocouches : faible
0,4 taux d’usure
0,3
0,2
Λ=32nm Λ=9nm Λ=6,5nm
0,1
Nanocouches CrN-TiN
0
0 20000 40000 60000 80000 100000
nombre de cycles
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Plaquette de tournage
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ap
Méthode du ramping
890 : Finition
240
Diminution des efforts de coupe
200
TiN
180 Multicouche CrN
CrN-AlTiN Comportement
160 Nanocouche optimum pour le dépôt nanocouche
CrN-TiN Multicouche
140
Multicouche
CrN-TiN TiN-AlTiN de période 7,5 nm
TiN-AlTiN
Nanocouche
120 Nanocouche CrN-AlTiN
TiN-AlTiN
100
450 500 550 600 650 700 750
usure VB en mm
Conditions d’ébauche:
usure Vbb en mm 0,5
0,5 Vc = 42 m/min
f = 0,3mm/tr
0,4
0,4 ap = 1,5 mm rayon
0,3
0,3
0,2
0,2
0,1
0,1
00
00 100
100 200
200 300
300 400
400 500
500 600
600 700
700 800
800 900
900
temps
tempsen secondes
en secondes
Pour une usure en dépouille critique de 0,2mm, le temps de coupe passe de 250s avec
H13A à 750s avec le même outil revêtu nanocouche TiN-AlTiN
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Collage
Effort de coupe matière limité
abaissé
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