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RESUMEN—A continuación, se muestran los resultados en el canal N (NMOS) y MOSFET de canal P (PMOS). En la
estudio del MOSFET y las diversas aplicaciones que se ejecutaron figura 1 se ve la estructura fı́sica NMOS, la puerta, cuya
en el laboratorio. Primero, se muestra una caracterización del dimensión es W·L, está separado del substrato por un
BSS138 con el cual se trabajó, de esta forma se pueden analizar
las caracterı́sticas internas del transistor. Después, se muestran dieléctrico dioxido de silicio principalmente, formando una
algunas aplicaciones, como el espejo de corriente, el amplificador estructura similar a las placas de un condensador. Al aplicar
inversor y las compuertas lógicas; para estas se usó el circuito una tensión positiva en la puerta se induce cargas negativas
integrado CD4007. (capa de inversión) en la superficie del substrato y se crea un
PALABRAS CLAVE—MOSFET, drenaje, fuente, compuerta, camino de conducción entre los terminales drenaje y fuente.
trı́odo, saturación, corte.
ABSTRACT—In this report, we find the results in the MOS-
FET study and the various applications that were run in the
laboratory. First, a characterization of the BSS138 is shown with
any one worked, in this way the internal characteristics of the
transistor can be analyzed. Then, some applications are shown,
such as the current mirror, the inverting amplifier and the logic
gates; For these the CD4007 integrated circuit was used.
KEYWORDS—MOSFET, drain, source, gate, triode, satura-
tion, cut.
Fig. 1: Esquema Mosfet [1]
I. INTRODUCCI ÓN
Omo se observó en el manejo de diodos, la unión
C de materiales de diferentes propiedades eléctricas, nos
permite generar distintos fenómenos en el flujo de cargas
La tensión mı́nima para crear ese capa de inversión se
denomina tensión umbral o tensión de threshold (VT H ) y es
un parámetro caracterı́stico del transistor. Si la VGS ¡ VT H , la
a través de un conductor. Para una configuración diferente corriente de drenador-fuente (VDS ) es nula (corriente ID ).
como es la del transistor, se tienen nuevos comportamientos Según los valores que tome la tensión VGS, se pueden
y caracterı́sticas, que han sido de gran importancia para el considerar tres casos:
avance de la electrónica en los últimos años. Un MOSFET es • VGS = 0. Esta condición implica que VGS = 0, puesto
un dispositivo semiconductor utilizado para la conmutación y que VS = 0. En estas condiciones, no existe efecto
amplificación de señales. campo y no se crea el canal de e–, debajo de la Puerta.
Ası́, podremos observar más adelante que podemos crear Las dos estructuras PN se encuentran cortadas y aisladas.
circuitos donde se mantenga una corriente constante sin im- IDS = 0 aproximadamente, pues se alimenta de las
portar la carga, o generar una ganancia en una señal dada. intensidades inversa s de saturación.
Las propiedades de los semiconductores permiten generar tres
comportamientos diferentes en el transistor; corte, saturación • La tensión VGS ¿0, se crea la zona de empobrecimiento
y trı́odo donde cada uno tiene aplicaciones en el manejo de la o deplexión en el canal. Se genera una carga eléctrica
información por medio de señales. negativa e– en el canal, debido a los iones negativos de
la red cristalina (similar al de una unión PN polarizada
II. MARCO TE ÓRICO en la región inversa), dando lugar a la situación de
Los transistores MOSFET o Metal-Oxido-Semiconductor, inversión débil anteriormente citada. La aplicación de un
son dispositivos de efecto de campo que utilizan un campo campo eléctrico lateral VDS ¿0, no puede generar corriente
eléctrico para crear una canal de conducción. eléctrica IDS .
• La tensión VGS ¿¿0, da lugar a la inversión del canal y
Existen dos tipos de transistores MOS: MOSFET de genera una población de e– libres, debajo del oxido de
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Puerta y p+ al fondo del substrato. Se forma el CANAL Cuando un MOSFET está polarizado en la región óhmica,
N o canal de electrones, entre el Drenaje y la Fuente (tipo el valor de RDS(on) viene dado por la expresión [2]:
n+) que, modifica las caracterı́stica eléctricas originales VDS = ID(on) x RDS(on)
del sustrato. Estos electrones, son cargas libres, de modo 3) Región de saturación: El transistor MOSFET entra en
que, en presencia de un campo eléctrico lateral, podrı́an esta zona de funcionamiento cuando la tensión entre el Drenaje
verse acelerados hacia Drenaje. Sin embargo, existe un y source (fuente) (VDS ) supera un valor fijo denominado
valor mı́nimo de VGS para que el número de electrones, tensión de saturación (Vds.sat ) D-S; este valor viene deter-
sea suficiente para alimentar esa corriente, es VT H . minado en las hojas caracterı́sticas proporcionadas por el
fabricante. En esta zona, el MOSFET mantiene constante su
A. Regiones de operación del MOSFET corriente de Drenaje (ID ), independientemente del valor de
Cuando ya existe canal inducido y VDS va aumentando, tensión que haya entre el Drenaje y source (fuente) (VDS ).
el canal se contrae en el lado del Drenaje, ya que la Por lo tanto, el transistor equivale a un generador de corriente
diferencia de potencial Puerta-canal es en ese punto, continua de valor ID .
más baja y la zona de transición más ancha. Es decir, Es decir; el MOSFET estará en esta región, cuando VGS ¿
siempre que exista canal estaremos en región óhmica y VT H y VDS ¿ ( VGS GS – VT H ) [2].
el dispositivo presentará baja resistencia.
La operación de un transistor MOSFET se puede dividir
en tres regiones de operación diferentes, dependiendo III. SIMULACIONES Y CALCULOS
de las tensiones en sus terminales. Para un transistor
MOSFET de enriquecimiento se tienen las siguientes
regiones: región de corte, región óhmica y región de
saturación.
En la figura 2 Se puede ver la gráfica IDS vs VDS donde
se puede ver las diferentes zonas de trabajo del diodo, en
la zona óhmica tiene un comportamiento lineal, mientras
en la zona de saturación se estabiliza la corriente.
C. Espejo de corriente
A B Q1 Q2 Q3 Q4 salida
0 0 S S C C 1
0 1 S C C S 0
1 0 C S S C 0
1 1 C c S S 0
S: Saturado (conduce)
C: Cortado
En la figura 16 se puede ver que los transistores PMOS 1: VDD ver figura 17
conectados en serie forman el camino de baja impedancia 0: tierra ver figura 18 En la figura 17 y 18 se el estado 1 es
hacia VDD cuando ambos conducen y los dos transistores decir VDD y el estado 0 es decir tierra respectivamente, este
NMOS en paralelo forman el camino de baja impedancia hacia tipo de configuraciones son muy útiles sobre todo cuando se
tierra cuando uno de ellos o ambos conducen. trata de electrónica digital.
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V. CONCLUSIONES
• Los transistores mosfet al trabajar en varias zonas debido
a su estructura fı́sica semiconductora y con una parte
aislada, permite que según el voltaje aplicado trabaje
en de forma diferente lo cual tiene muchas aplicaciones
como el espejo de corriente o la conmutación.
• Los Mosfet depende del modo como son fabricados y los
materiales según esto se comportan de forma diferente es
por esto que son sensibles a cambios en la temperatura,
etc. Ya que esto afecta los compuestos con los cuales
están hechos y cambia por completo su funcionamiento
• En el caso del Mosfet B138 al ser de efecto de campo
es muy sensible a que si se toca por la electrostática del
cuerpo puede dejar de funcionar adecuadamente ademas
con el calor al soldarlo también se puede afectar.
• Los Mosfet tiene gran utilidad tanto en electrónica
análoga como digital ya que se pueden comportar como
una fuente dependiente de corriente o de voltaje y de
igual manera se pueden comportar como un interruptor
arrojando estados de conducción y no conducción.
R EFERENCIAS
[1] R. Boylestad, Boylestad and Nashelsky’s electronic devices and circuit
theory, 1st ed. Toronto: Prentice Hall, 2001, pp. 77-114.