Conception d’une coucheuse de matériaux (par Déposition Physique en phase

Vapeur à Arc Cathodique) CA-PVD

L'invention concerne un appareil ( ) permettant d’établir un procédé de déposition revêtement PVD
(dépôt physique en phase vapeur) adoptant un procédé d'évaporation à l'arc cathodique , qui
comprend une enceinte (14), une pompe à vide (16), deux cathodes (1 8), contacteur (20), des
moyens (24) pour maintenir sélectivement un arc d'énergie électrique entre la cathode et une anode
(26), et actionneur (22). La cathode et le contacteur sont positionnés à l'intérieur de la cuve et le
contacteur est connecté électriquement aux moyens permettant de maintenir sélectivement un arc
d'énergie électrique. L'actionneur actionne sélectivement le contacteur en contact électrique avec la
cathode et connecte ainsi électriquement la cathode aux moyens permettant de maintenir un arc
d'énergie électrique.

« la préparation du collage au TiN La couche inférieure; le revêtement multicouche TiCNO et TiCN; le

revêtement protecteur peut être un revêtement TiAlZr / TiAlZrCr, un revêtement TiAlZr / CrN, un
revêtement TiAlZr / ZrN, un revêtement TiAl / CrN ou un revêtement TiAl / TiAlCr. Dans l'invention,
une pluralité d'éléments d'alliage sont ajoutés au revêtement de l'outil pour former un système de
revêtement à plusieurs composants, ce qui améliore la dureté du revêtement, améliore la résistance à
l'usure et la ténacité du revêtement et réduit la tendance de liaison et le frottement avec l'alliage de
titane. Coefficient En même temps, l'outil a un impact anti-mécanique, une bonne stabilité thermique
et de bonnes performances globales, ce qui prolonge efficacement la durée de vie des outils de coupe

en alliage de titane. »

Description
1/ La présente invention concerne un appareil de dépôt en phase vapeur en général, et un appareil
de dépôt en phase vapeur à l'arc cathodique en particulier.

2/ Le dépôt en phase vapeur en tant que moyen pour appliquer un revêtement sur un substrat est un
art connu qui comprend des processus tels que le dépôt chimique en phase vapeur, le dépôt
physique en phase vapeur et le dépôt en phase vapeur par arc cathodique. Le dépôt chimique en
phase vapeur implique l'introduction des éléments gazeux réactifs dans une chambre de dépôt
contenant un ou plusieurs substrats à revêtir. Le dépôt physique en phase vapeur implique de fournir
un matériau source et un substrat à revêtir dans une chambre de dépôt sous vide. Le matériau
source est converti en vapeur par un apport d'énergie , tel qu'un chauffage par des moyens résistifs,
inductifs ou par faisceau d'électrons.

3/ Le dépôt en phase vapeur à l'arc cathodique implique un matériau source et un substrat à revêtir
placé dans une chambre de dépôt sous vide. La chambre ne contient qu'une quantité relativement
faible de gaz. Le fil négatif d'une alimentation en courant continu (CC) est fixé au matériau source (ci-
après dénommé "la cathode") et le fil positif est relié à un élément anodique. Dans de nombreux cas,
le fil positif est attaché à la chambre de dépôt, ce qui fait de la chambre l'anode. Un déclencheur
déclenchant un arc, situé au même potentiel que l'anode ou presque, entre en contact avec la
cathode et s'éloigne de celle-ci. Lorsque la gâchette est à proximité immédiate de la cathode, la
différence de potentiel entre la gâchette et la cathode provoque la formation d'un arc électrique
entre elles. À mesure que la gâchette s'éloigne, l'arc saute entre la cathode et la chambre anodique.
Le point exact, ou les points, où un arc touche la surface de la cathode est appelé un point de
cathode. En l'absence d'un mécanisme de guidage, un point cathodique se déplace de manière
aléatoire sur la surface de la cathode ;

4/ L'énergie déposée par l'arc au niveau d'un point cathodique est intense; de l'ordre de 105 à 107
ampères par centimètre carré avec une durée de quelques à plusieurs 40 microsecondes. L'intensité
de l'énergie élève la température locale du point de la cathode à environ égale à celle du point
d'ébullition du matériau de la cathode (à la pression de la chambre évacuée). En conséquence, le
matériau de la cathode au niveau de la tache de la cathode se vaporise dans un plasma 45 contenant
des atomes, des molécules, des ions, des électrons et des particules. Les ions chargés positivement
libérés de la cathode sont attirés vers tout objet situé dans la chambre de dépôt ayant un potentiel
électrique négatif par rapport à l'ion chargé positivement. Certains procédés de dépôt maintiennent
donc le substrat à revêtir au même potentiel électrique que l'anode. D'autres procédés utilisent une
source de polarisation pour réduire le potentiel du substrat et ainsi rendre le substrat relativement
plus attrayant pour les ions chargés positivement. Dans les deux cas, le substrat devient recouvert du
matériau vaporisé libéré de la cathode. La vitesse de dépôt, la densité de revêtement et l'épaisseur
peuvent être ajustés pour répondre aux besoins de l'application.

5/ une cathode refroidie fixée en place dans la couche. Un schéma de refroidissement fournit un
collecteur attaché à la cathode qui permet le passage de l'agent de refroidissement entre la cathode
et le collecteur. Un autre schéma utilise une tuyauterie de liquide de refroidissement connectée à
une cathode creuse. Un problème avec l'un ou l'autre schéma est que la cathode doit être fabriquée
pour accepter le collecteur ou la tuyauterie. Tous les matériaux de cathode ne se prêtent pas à
l’usinage. Même dans la mesure du possible, l’usinage alourdit considérablement le coût de la
cathode consommable. Un autre problème lié au refroidissement direct de la cathode est la main-
d’œuvre nécessaire pour remplacer la cathode à l’expiration de sa durée de vie. Dans l'exemple
précédent où un collecteur (ou une tuyauterie) est attaché mécaniquement à la cathode, le
collecteur (ou la tuyauterie) doit être détaché de l'ancienne cathode et attaché à une nouvelle, et la
chambre de dépôt est ensuite nettoyée du liquide de refroidissement. Pour les applications
nécessitant le remplacement de la cathode après chaque couche de revêtement, les coûts de main-
d'œuvre et les temps d'arrêt peuvent être considérables. Un autre problème avec le refroidissement
direct de la cathode est la fuite ; Les fuites de liquide de refroidissement pendant le dépôt peuvent
contaminer les substrats en cours de revêtement et nécessitent un nettoyage approfondi dans la
chambre de dépôt. Les surfaces portantes des moteurs à turbine à gaz sont un exemple de substrat
coûteux à revêtir; une où il serait un avantage distinct de minimiser ou d’éliminer les pertes dues à la
contamination.

6/ En bref, ce qu'il faut, c'est un appareil de dépôt de matériau en phase vapeur à l'arc cathodique
sur un substrat qui fonctionne efficacement, capable de fournir de manière répétée des revêtements
de haute qualité sur un substrat et un système qui fonctionne de manière rentable.

7/ Selon la présente invention, un appareil pour appliquer un matériau par dépôt cathodique en
phase vapeur à un arc est fourni sur un substrat qui comprend un récipient, un moyen pour
maintenir un vide dans le récipient, une cathode, un contacteur, un moyen pour maintenir un arc
d'énergie électrique entre la cathode et une anode et un actionneur. La cathode et le contacteur sont
positionnés à l'intérieur du récipient et le contacteur est connecté électriquement aux moyens
permettant de maintenir sélectivement un arc d'énergie électrique. L'actionneur actionne
sélectivement le contacteur en contact électrique avec la cathode et connecte ainsi électriquement
la cathode aux moyens permettant de maintenir un arc d'énergie électrique. L'arc d'énergie
électrique qui s'étend entre la cathode et l'anode libère le matériau de la cathode, qui est ensuite
déposé sur le substrat situé à l'intérieur du récipient.

8/ Un avantage des modes de réalisation préférés de la présente invention est que l'appareil pour le
dépôt en phase vapeur à l'arc cathodique de matériau sur un substrat est conçu pour fonctionner de
manière rentable. Une caractéristique rentable est la cathode. La cathode de la présente invention
est de préférence en forme de disque et peut être coupée, par exemple, dans une pièce moulée
cylindrique. La cathode simplement formée nécessite un usinage très coûteux, réduisant ainsi le coût
de la cathode et du processus de revêtement global. Une autre caractéristique rentable est que la
cathode est refroidie indirectement. Les enduits à arc cathodique actuellement disponibles qui font
passer le réfrigérant en contact direct avec la cathode (c'est-à-dire, le refroidissement direct)
nécessitent généralement un usinage pour recevoir un collecteur ou une tuyauterie. L'usinage
augmente considérablement le coût de la cathode consommable. Une autre caractéristique rentable
est que la cathode est facilement insérée dans le vaisseau. Certains enduits à l'arc cathodique de l'art
antérieur ont des cathodes qui sont fixées en place avec la chambre de dépôt et / ou ont un appareil
de refroidissement fixé. Dans les deux cas, le travail nécessaire pour installer et retirer la cathode
augmente de manière indésirable le coût du processus de revêtement. Une autre caractéristique
rentable de la présente invention dans ses modes de réalisation préférés au moins est que la forme
de la cathode utilisée facilite le recyclage. La cathode utilisée est faite de matériaux de haute qualité
qui ont été exposés à peu de contaminants, voire aucun. Par conséquent, les cathodes ont une valeur
de rebut considérable qui réduit le coût du processus de revêtement.

9/ Un autre avantage des modes de réalisation préférés de la présente invention est que des
revêtements de haute qualité peuvent être produits de manière constante. Un plateau assure la
rotation des substrats pour favoriser un dépôt uniforme, et le refroidissement indirect de la cathode
via le contacteur minimise les risques de contamination par le liquide de refroidissement. Par
conséquent, des revêtements de haute qualité peuvent être déposés de manière cohérente sur des
substrats.
10/ Un mode de réalisation préféré de l'invention va maintenant être décrit, à titre d'exemple
uniquement, et avec référence aux dessins annexés, dans lesquels:

11/ FIG. 1 est une vue schématique du dispositif de dépôt en phase vapeur à arc cathodique de la
présente invention.

12/ FlG.2 est une vue schématique de dessus du plateau de la présente invention.

13/ FIG. 3 est une vue latérale du plateau représenté sur la Fig. 2

14/ FIG. 4 est une vue schématique en coupe d'un contacteur.

Appareil
15/ En se référant à la Fig. 1, un appareil 10 pour le dépôt en phase vapeur à l'arc cathodique sur un
substrat 1 2, appelé ci-après "coucheuse à arc cathodique", est pourvu d'un récipient 1 4, de moyens
1 6 pour maintenir un vide dans le récipient 1 4, une cathode 1 8, un contacteur 20, un actionneur 22
pour actionner sélectivement le contacteur 20 en contact électrique avec la cathode 1 8 et des
moyens 24 pour maintenir un arc d'énergie électrique entre la cathode 1 8 et un anode 26. Une
alimentation en fluide de refroidissement 28 maintient la machine à enduire 1 0 à des températures
acceptables en faisant passer le fluide de refroidissement par des passages 30, 32 à l'intérieur de la
cuve 14 et du contacteur 20, respectivement. Dans le mode de réalisation préféré, le moyen 16
destiné à maintenir le vide dans la cuve 14 comprend une pompe à vide grossière mécanique 34 et
une pompe à vide de type à diffusion volumineuse 36 raccordée à l'intérieur de la cuve 14. D'autres
moyens de vide peuvent être utilisés.

16/ En se référant à la Fig. 2, la cathode 18 est un disque sensiblement cylindrique ayant une
première surface d'extrémité 38, 5 une seconde surface d'extrémité 40 et une surface d'évaporation
42 s'étendant entre celles-ci. Les surfaces d'extrémité 38, 40 sont sensiblement parallèles les unes
aux autres. La composition en matériau de la cathode 1 8 dépendra du matériau à déposer et, dans la
plupart des cas, la cathode 1 8 10 peut être découpée dans une tige moulée. La longueur axiale 44 de
la surface évaporative 42 est de préférence plus longue que la longueur axiale finale prévue 46 du
motif d'érosion 48 le long de la surface évaporative 42. Maintenir le motif d'érosion 48 entre les
surfaces d'extrémité 38, 40 minimise la possibilité que le arc quittera la surface évaporative 42 de la
cathode 18.

17/ En se référant aux figures. 1, 3 et 4, dans le mode de réalisation préféré, la cathode 18 est
positionnée sur un plateau amovible 50. Le plateau 50 comprend un plateau 52, une pluralité de
socles 54 et des moyens 56 pour faire tourner les socles 54. La cathode 18 est monté au centre du
plateau 50, au-dessus d'une pluralité d'entretoises 58 (voir également la figure 2) séparées par des
isolateurs électriques 60. Des adaptateurs 62 fixés aux socles 54 peuvent être utilisés pour aligner les
substrats 12 de manière radiale. en dehors de la cathode 18.

18/ Le moyen 56 pour faire tourner les socles 54 comprend un engrenage central 64 en prise avec
une pluralité d'engrenages de socle 66. Chaque engrenage de socle 66 est fixé à un socle 54, et les
engrenages central et de socle 64,66 sont pivotants. fixé au plateau 52. L'engrenage central 64 est
entraîné par un engrenage 68 placé à l'intérieur du récipient 14. Un arbre s'étendant à travers la
paroi du récipient relie l'engrenage 68 à une unité d'entraînement 70.

19/ En se référant aux figures. 1 et 2, le contacteur 20 comprend une tête 72 fixée à un arbre 74 et
des moyens 76 pour refroidir le contacteur 20. La tête 72 est positionnée à l'intérieur du récipient 14
et l'arbre 74 s'étend de la tête 72 à l'extérieur du récipient. 1 4. Un disque isolant 78 (Fig. 1) isole
électriquement le contacteur 20 de la cuve 14. Le moyen 76 de refroidissement du contacteur 20
comprend un tube de refroidissement 80 positionné coaxialement dans l'arbre 74, un orifice d'entrée
82 de réfrigérant connecté au tube de refroidissement 80 et à un orifice de sortie de liquide de
refroidissement 84 relié au passage 32 formé entre le tube de réfrigérant coaxial 80 et l’arbre 74.
L’agencement coaxial entre le tube de refroidissement 80 et l’arbre 74 permet au fluide de
refroidissement de s’écouler dans le tube de refroidissement 80 et sortir par le passage 32 entre
l’arbre 74 et le tube de refroidissement 80, ou inversement. La tête 72 comprend une coupelle 86 et
une bride d'arbre 88. La bride d'arbre 88 est fixée à l'arbre 74 et la coupelle 86 à la bride d'arbre 88.
La coupelle 86, la bride d'arbre 88 et l'arbre 74 sont fabriqués à partir d'un matériau électriquement
conducteur tel qu'un alliage de cuivre. Le mode de réalisation préféré de la tête 72 comprend en
outre un générateur de champ magnétique 90.

20/ En se référant à la Fig. 1, l'actionneur 22 pour actionner sélectivement le contacteur 20 en

contact électrique avec la cathode 1 8 comprend une paire de cylindres d'actionnement à deux voies
92 (hydrauliques ou pneumatiques) pour agir entre le récipient 1 4 et une bride d'arbre 94 fixée au
con - arbre tactor 74. Des appareils mécaniques (non représentés) peuvent être utilisés à la place des
vérins de commande 92. Un contrôleur disponible dans le commerce peut être utilisé pour contrôler
la position et la force des vérins (ou de l'appareil mécanique).

21/ Dans le mode de réalisation préféré, la coucheuse à arc cathodique comprend une source de
polarisation 96 pour polariser électriquement les substrats 12. Un commutateur à contact 98
connecte électriquement la source de polarisation 96 et le plateau 50. Les substrats 1, 2, qui sont
mécaniquement et électriquement attachés au plateau 50, sont par conséquent connectés
électriquement à la source de polarisation 96. D'autres moyens pour connecter électriquement les
substrats 1 2 à la source de polarisation 96 peuvent être utilisés en variante.

22/ Des boucliers déflecteurs 98 sont utilisés dans toute la coucheuse à arc cathodique 1 0 pour
confiner les matériaux de cathode vaporisés dans la zone des substrats 12. Les boucliers 98 fixés au
récipient 1 4, au plateau 50, aux entretoises 58 et au contacteur aident à minimiser la formation de
matériaux indésirables. - en haut sur ces surfaces. Dans le mode de réalisation préféré, les écrans
déflecteurs 98 fixés au récipient 1 4 sont connectés électriquement au récipient 14 et sont réalisés en
un matériau électriquement conducteur tel que de l'acier inoxydable.

23/ Le moyen 24 pour maintenir un arc d'énergie électrique entre la cathode 18 et une anode 26
comprend une alimentation en courant continu (CC) 100. Dans le mode de réalisation préféré, le fil
positif 1 06 de l'alimentation en puissance 100 est connecté. à la cuve 14, faisant ainsi la cuve 14 agir
comme une anode. Le fil négatif 1 08 de l'alimentation 1 00 est connecté électriquement au
contacteur 20. D'autres modes de réalisation peuvent utiliser une anode (non représentée) disposée
à l'intérieur de la cuve 14. Un initiateur d'arc 102, au niveau ou à proximité du potentiel électrique du
le vaisseau 14 est utilisé pour initier l'arc.

Fonctionnement de l'appareil
24/ En se référant à la figure 1, dans le fonctionnement de la présente invention concernant une
coucheuse à arc cathodique 10, une pluralité de substrats 1 2 et une cathode 1 8 sont fixés à un
plateau 50 et le plateau 50 est chargé dans le récipient 14. Pendant le chargement, le L'engrenage
central du plateau 64 est en prise avec l'engrenage 68 disposé à l'intérieur du récipient 1 4 et la
source de polarisation 96 est connectée électriquement au plateau 50. À ce stade, les substrats 12
ont été dégraissés et nettoyés de manière substantielle, bien que chacun contienne probablement
un contaminant moléculaire et une oxydation restants. sur sa surface extérieure. Les vérins
d'actionnement 92 actionnent ensuite le contacteur 20 en contact électrique avec la cathode 18 et le
récipient 14 est fermé.

25/ La pompe à vide approximative mécanique 34 est utilisée pour évacuer le récipient 14 à une
pression prédéterminée. Une fois que cette pression est atteinte, la pompe à vide par diffusion à
volume élevé 36 évacue en outre le récipient 1 4 dans des conditions proches du vide. Les substrats 1
2 sont ensuite nettoyés de tout contaminant et / ou oxydation restant par un procédé tel que le
"nettoyage par pulvérisation". Le nettoyage par pulvérisation est un processus bien connu dans la
technique et ne sera pas décrit en détail ici. D'autres méthodes de nettoyage peuvent être utilisées
alternativement. Une fois les substrats 12 nettoyés, les contaminants sont purgés typiquement à
l'aide d'un gaz inerte.

26/ Avant de commencer un arc, plusieurs étapes sont terminées, y compris: (1) les substrats 1 et 2
sont placés dans une polarisation particulière via la source de polarisation 96, les rendant
électriquement attractifs pour les ions positifs émis par la cathode 18; (2) les substrats 12 sont mis en
mouvement à une vitesse de rotation particulière; (3) l'alimentation 100 est réglée pour établir un
arc ayant une magnitude particulière de courant et de tension, mais aucun arc n'est initié; (4) les
pompes à vide 34,36 établissent et maintiennent une pression de vide particulière de gaz à l'intérieur
du récipient 14; et (5) les flux de fluide de refroidissement sont établis par les passes de
refroidissement 30 fixées au récipient 1 4 et par les passages de refroidissement 32 à l'intérieur du
contacteur 20. Les paramètres de processus spécifiques dépendront de facteurs tels que le matériau
du substrat, le matériau à être revêtu et les caractéristiques souhaitées du revêtement, etc.

27/ Une fois les étapes susmentionnées terminées, l'initiateur d'arc 102 est amené en contact et hors
de contact avec la surface évaporative 42 de la cathode 1 8, provoquant un saut d'arc entre
l'initiateur d'arc 1 02 et la surface évaporative 42. L'initiateur d'arc 102 est ensuite éloigné de la
cathode 18, de préférence radialement à l'extérieur des substrats 12. Une fois que l'initiateur d'arc
102 n'est plus à proximité de la cathode 1 8, l'arc saute entre la cathode 1 8 et les déflecteurs 98
connectés électriquement à le navire 14 (ou le navire 14 s’il n’ya pas de bouclier déflecteur 98). Le
générateur de champ magnétique 90 placé dans le contacteur 20 produit un champ magnétique
parallèle à la surface évaporative 42 de la cathode 18, qui entraîne l'arc le long d'un trajet d'arc 104
autour de la surface évaporative 42 de la cathode 18.

28/ L'énergie délivrée par l'arc provoque la vaporisation du matériau au niveau de la tache de
cathode, libérant ainsi des atomes, des molécules, des ions, des électrons et des particules de la
cathode 18. 4 montre une cathode érodée 18 en fantôme. L'érosion est sensiblement symétrique par
rapport au chemin d'arc 104. Les substrats polarisés 12 attirent les ions, ce qui les accélère vers les
substrats 1 2. Les ions frappent la surface extérieure des substrats 12, se fixent et forment
collectivement un revêtement de la cathode. Matériel. La rotation des substrats 12 par rapport à la
cathode 18 favorise un dépôt uniforme du revêtement sur le substrat 12. Le liquide de
refroidissement traverse et refroidit directement le contacteur 20 et indirectement la cathode 18.

29/ Lorsqu'un revêtement d'épaisseur suffisante a été déposé sur les substrats 12, l'alimentation 100
est coupée et l'arc est éteint. Le récipient 1 4 est purgé avec un gaz inerte et amené à la pression
ambiante. Le contacteur 20 est actionné sans contact avec la cathode 18 et le plateau 50 est retiré du
récipient 14. Les substrats 12 (et la cathode 18 si nécessaire) sont ensuite retirés et de nouveaux
substrats 1 2 (et la cathode 1 8) sont fixés. . Le plateau chargé 50 est ensuite réinséré dans le
récipient 1 4 de la manière décrite précédemment et le processus est répété.
30/ On peut donc voir que, au moins dans ses modes de réalisation préférés, la présente invention
propose un appareil pour le dépôt de matériau par arc cathodique en phase vapeur sur un substrat
qui fonctionne de manière efficace et rentable.

31/ Il fournit en outre un appareil pour le dépôt en phase cathodique en phase vapeur d'un matériau
sur un substrat qui fournit de manière répétable un revêtement de haute qualité sur un substrat.

32/ Bien que cette invention ait été montrée et décrite en ce qui concerne ses modes de réalisation
détaillés, l'homme du métier comprendra que divers changements de forme et de détail peuvent
être apportés sans sortir du cadre de l'invention. Par exemple, le moyen 76 de refroidissement du
contacteur 20 est décrit comme ayant un tube de refroidissement 80 positionné coaxialement à
l'intérieur de l'arbre de contacteur 74. Un autre moyen de fourniture de fluide de refroidissement à
la tête 72 du contacteur 20 peut être utilisé. Un autre mode de réalisation en variante de la présente
invention comprend un second contacteur (non représenté) qui s'active par le plateau 50. Le second
contacteur peut également comprendre un moyen de refroidissement pour un refroidissement
amélioré de la cathode.

Revendications
1 Appareil (1 0) pour appliquer un matériau par dépôt en phase vapeur à l'arc cathodique sur un
substrat (12), comprenant:

un vaisseau (14); des moyens (16) pour maintenir un vide dans ledit récipient; une cathode (18),
positionnée à l'intérieur dudit récipient; un contacteur (20) placé à l'intérieur dudit récipient; des
moyens (24) pour maintenir sélectivement un arc d'énergie électrique entre ladite cathode et une
anode (26), dans lequel lesdits moyens pour maintenir un arc d'énergie électrique sont connectés
électriquement audit contacteur; et un actionneur (22), dans lequel ledit actionneur actionne de
manière sélective ledit contacteur en contact électrique avec ladite cathode et connecte ainsi
électriquement ladite cathode auxdits moyens pour maintenir un arc d'énergie électrique; dans
lequel ledit arc d'énergie électrique s'étendant entre ladite cathode et ladite anode libère une
partie de ladite cathode qui est ensuite déposée sur le substrat situé à l'intérieur dudit récipient.

2 Appareil (10) selon la revendication 1, dans lequel ledit moyen (74) pour maintenir sélectivement
un arc d'énergie électrique entre ladite cathode (18) et ladite anode (26) comprend:

une alimentation (100) ayant un fil positif (106) et un fil négatif (108); dans lequel ledit fil négatif
de ladite alimentation est connecté électriquement audit contacteur (20), et ledit fil positif est
électriquement connecté à ladite cuve (14), rendant ainsi ledit vaisseau, et tout élément connecté
électriquement audit vaisseau, agir comme ladite anode; et dans lequel ladite cathode est isolée
électriquement dudit vaisseau.

3 Appareil (10) selon la revendication 1 ou 2, dans lequel ledit contacteur (20) comprend:

une tête (72), positionnée à l'intérieur dudit récipient (14); et un arbre (74), comportant un
alésage, fixé à ladite tête, ledit arbre s'étendant de ladite tête à l'extérieur dudit récipient.

4 Appareil (10) selon la revendication 3, dans lequel ledit contacteur (20) comprend en outre un
moyen (76) pour refroidir ledit contacteur.

5 Appareil (10) selon la revendication 4, dans lequel ledit moyen de refroidissement (76) comprend:

un tube de refroidissement (80), positionné à l'intérieur dudit alésage dudit arbre de contacteur,
dans lequel un passage (32) est formé entre ledit tube de refroidissement et ledit arbre; une
 alimentation en fluide de refroidissement (28), connectée audit tube de refroidissement et audit
passage, pour fournir un fluide de refroidissement à l'intérieur dudit contacteur (20).

6 Appareil (10) selon l'une quelconque des revendications précédentes, dans lequel ladite cathode
(18) est en forme de disque et comporte une paire de surfaces d'extrémité (38, 40) reliées par une
surface à évaporation (42), ledit actionneur (22) actionnant ledit contacteur. en contact avec l'une
desdites surfaces d'extrémité de ladite cathode.

7 Appareil (1 0) selon la revendication 6, comprenant en outre:

un plateau (50) pour maintenir les substrats (12) et ladite cathode (18); dans lequel ladite cathode
est isolée électriquement dudit plateau; et dans lequel ledit plateau peut être retiré
sélectivement dudit récipient (14).

8 Appareil (10) selon la revendication 7, dans lequel ledit plateau (50) comprend en outre:

une pluralité de socles (54), fixés de manière pivotante audit plateau, dans lesquels les
substrats (12) sont fixés auxdits socles.

9 Appareil (10) selon la revendication 8, dans lequel ledit plateau (50) comprend en outre un moyen
(56) pour faire tourner lesdits socles (54), dans lequel la rotation desdits socles et des substrats fixés
(12) modifie l'orientation des substrats. par rapport à ladite cathode (18).

10 Appareil (10) selon la revendication 9, dans lequel ledit moyen (56) pour faire tourner lesdits
socles (54) comprend:

un engrenage central (64), fixé de manière pivotante sur ledit plateau (50); une pluralité
d'engrenages de socle (66), chacun fixé à l'un desdits socles et attaché de manière pivotante
audit plateau, et chacun desdits engrenages de socle en prise avec ledit engrenage central; dans
lequel la rotation dudit engrenage central provoque la rotation desdits engrenages de socle.

11 Appareil (10) selon la revendication 10, comprenant en outre:

un engrenage d'entraînement (68), disposé à l'intérieur dudit navire (14), ledit engrenage
d'entraînement étant fixé à un arbre qui s'étend à l'extérieur dudit navire; dans lequel ledit
pignon d'entraînement peut être engagé sélectivement avec ledit pignon central (64); dans
lequel la rotation dudit engrenage d'entraînement, lorsqu'elle est en prise avec ledit engrenage
central, entraîne la rotation dudit engrenage central et des engrenages de socle (66).

12 Appareil (10) selon l'une quelconque des revendications 7 à 11, comprenant en outre:

une source de polarisation (96), pour polariser électriquement les substrats (12); des moyens
(98) pour connecter électriquement ladite source de liaison aux substrats.

13 Appareil (10) selon la revendication 12, dans lequel ledit moyen (98) pour connecter
électriquement ladite source de bismotage (96) aux substrats (12) connecte électriquement ladite
source de polarisation audit plateau (50), et ledit plateau est électriquement connecté aux substrats.

14 Appareil selon l'une quelconque des revendications 7 à 13, comprenant en outre:

une pluralité d'entretoises (58); un tampon isolant (60), disposé entre lesdites entretoises, ledit
tampon isolant isolant électriquement lesdites entretoises les unes des autres; dans lequel
lesdites pièces d'espacement et ledit patin sont disposés entre ladite cathode (18) et ledit
plateau (50), isolant ainsi électriquement ladite cathode dudit plateau.
15 Appareil (10) selon l'une quelconque des revendications précédentes, dans lequel ledit actionneur
(22) comprend un cylindre d'actionnement sélectif (92) connecté à un arbre de contacteur à
l'extérieur dudit récipient, dans lequel ledit cylindre d'actionnement actionne sélectivement ledit
contacteur. établir un contact électrique avec ladite cathode (18) en déplaçant ledit contacteur dans
et hors du contact physique avec ladite cathode.