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INTRODUÇÃO
Este trabalho trata do assunto sobre microscopia óptica como uma técnica para
caracterização e inspeção de padrões em microeletrônica.
Apesar desta ser uma das mais antigas técnicas, o microscópio representa uma grande
ajuda na verificação de microcircuitos, já que a visão humana tem suas limitações.
O Microscópio vem de duas palavras gregas e quer dizer "pequeno" e "observar". Não se
sabe exatamente quem o inventou. Dizem que o microscópio foi inventado por Zacarias Janssen,
óptico holandês; é certo porém que ele deu um ao arquiduque da Áustria de presente, em 1590.
Depois deste, muitos outros modelos foram aperfeiçoados para as mais variadas
aplicações, que vão desde a biologia até, mais recentemente, a microeletrônica e a astronomia (em
observação minuciosa de fotos tiradas com telescópios potentes). O avanço da eletrônica e
engenharia em si, tem permitido hoje em dia que se produzam instrumentos ópticos de grande
precisão e comodidade para quem os utiliza. Vale citar como exemplo, um microscópio que faz uso
de uma tela de cristal líquido colorido de alta resolução para visualização das amostras, e cujo
sistema óptico fica restrito a uma espécie de caneta óptica ligada por um cabo óptico (fibra óptica)
ao sistema de processamento digital da imagem.
As dimensões geométricas de estruturas implementadas por processos de microeletrônica
estão diretamente ligadas ao desempenho do circuito integrado. Assim, no controle da fabricação
de circuitos integrados e dispositivos microeletrônicos, é necessário verificar e medir a geometria
das estruturas construídas na superfície dos wafers. Devido à alta integração, esse controle
torna-se impossível de ser feito a olho nu ou mesmo com uma lupa simples.
Assim na verificação de produtos, o microscópio ajuda à visão humana a inspecionar os
padrões das lâminas de semicondutores, na fabricação dos circuitos integrados e dispositivos de
microeletrônica de todos os tipos, o microscópio é necessário para verificar e medir as estruturas
que são produzidas na superfície das lâminas e que constituem os dispositivos.
Com o aumento da integração desses circuitos necessita-se de uma maior atenção para
controlar o processo. O que pode não ser óbvio é o contexto em que se inserem os microscópios
ópticos nesse controle. Contudo, esta classe de instrumentos de medidas diretas tem
continuamente experimentado sua própria forma de evolução, de modo a permanecer em muitas
áreas do processamento de lâminas.
Pode-se citar também os testes elétricos que são de difícil realização, além da possibilidade
de destruição do dispositivo. Mesmo a alocação das pontas de prova exige precisão ou em padrões
de resistes em circuitos integrados; às soldas das juntas é o mais importante, também em alguns
casos é o único meio para observação, envolvendo o olho humano, é através de um microscópio
óptico. É nesse contexto que se inserem as técnicas de microscopia óptica.
Muitos fabricantes de produtos eletrônicos têm produzido sistemas ópticos, parcial ou
totalmente automatizados que superam a capacidade humana com auxílio de um microscópio em
algumas tarefas. Entretanto, o microscópio óptico permanece.
Com os recursos das ferramentas de CAD os fabricantes de microscópios são capazes de
projetar sistemas de lentes que têm ampliações ou resoluções que atingem o limite do comprimento
de onda da luz. Além do mais, maiores esforços têm sido feitos com relação ao aprimoramento das
características de estabilidade e ergonomia(conjunto de estudo, que visam a organização metódica
do trabalho em função do fim do proposto e das relações entre homem e máquina).
Diante da importância da microscopia óptica na caracterização de microeletrônica, esse
trabalho vem apresentar as técnicas e construção dos mais variados tipos de microscópios, cujo
emprego em microeletrônica vai desde o controle de fabricação até mesmo à caracterização,
análise de falhas e engenharia reversa.
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O microscópio é um dos instrumentos mais versáteis e utilizados no laboratório de
semicondutores.
Para tamanhos característicos menores que submicrons seu uso se torna inviável.
A utilização do microscópio ótico não se restringe apenas a análise de características dos
circuitos integrados, é também usado para analisar partículas encontradas nos circuitos, e ainda
freqüentemente usado para olhar e medir o tamanho, o tipo e a densidade de defeitos em circuitos
semicondutores.
A identificação e análise de partículas requer uma certa prática e habilidade por parte do
microscopista. A técnica é mais usada para partículas maiores de 1 micrômetro e as análises
dependem da combinação entre o desconhecimentos dos dados e o que se sabe sobre as
partículas.
O microscópio apresenta dois sistemas de lentes convergentes; a objetiva e a ocular. A
objetiva é um conjunto de lentes que apresenta pequena distância focal e que fornece uma imagem
real e aumentada do objeto que é observado. A ocular, também formada por lentes convergentes,
funciona como uma lupa, que nos dá uma imagem virtual e aumentada da imagem real que se
formou em pela objetiva.
A objetiva e a ocular são dispostas nas extremidades de um cilindro oco, constituindo a
coluna do microscópio e que possui a capacidade de se aproximar ou afastar da amostra para que
se tenha a focalização perfeita. Isto é realizado por intermédio de uma cremalheira que se acha
associada a uma roda dentada.
A potência do microscópio é resultado do produto da ampliação linear da objetiva pela
potência da ocular; seu valor será elevado quando as distâncias focais da objetiva e ocular forem
pequenas.
O poder separador, ou distância mínima distinguível entre dois pontos é limitado pela
difração da luz. Assim, se o feixe de luz incidente tive uma abertura angular grande e utilizarmos
lentes de inversão, o poder separador será melhorado, pois elimina-se difração das bordas da lente.
A figura-1 , se mostra uma representação simplificada dos componentes essenciais do
microscópio ótico, para começar a se ter uma idéia sobre ele.
3-Componentes de um microscópio
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Um microscópio em sua constituição simples é formado por três elementos: Um sistema
óptico de ampliação; uma fonte de luz; e um estágio de visualização. A figura 2 ilustra esses
elementos separadamente, referentes a um microscópio estéreo "zoom" (o qual permite um efeito
de aproximação da imagem focalizada sem que se necessite trocar a objetiva). A complexidade
total do sistema é aumentada dramaticamente quando se tenta aumentar a capacidade de
ampliação e a qualidade de imagem.
3.1-Sistemas de lentes
A ocular representada na figura 1 é geralmente a mais usada e é referenciada como do tipo
de Huygens [Ref. 1]. Suas principais características são a simplicidade de construção, baixo custo e
de desempenho adequado para muitas aplicações. Contudo ela possui uma cobertura de campo
limitada e uma pequena tensão de relaxamento, que é a propriedade que a lente possui de evitar o
cansaço da visão em observações muito longas.
Temos ainda outros quatro tipos de oculares usadas nos microscópios e que estão
ilustradas na figura 2. São elas a Hi-Point, Widefield, Hyperplane Compensating e Ultraplane.
A Hi-Point oferece a vantagem de uma tensão de relaxamento maior (isto é bom para
pessoas que usam óculos) e possui a desvantagem de ter uma cobertura de campo limitada.
A Widefield oferece a maior cobertura de campo do que qualquer outra ocular e oferece
uma tensão de relaxamento igual ao da Hi-Point.
A ocular Hyperplane Compensating é idêntica ao modelo de Huygens exceto que, por uma
diferença na construção, ela evita a aberração cromática lateral, isto é, distorções das cores na
parte periférica do campo de observação, que é comum nas outras oculares.
A ocular Ultraplane é projetada especificamente para aplicações fotográficas. Possui uma
correção óptica excelente exceto pela distorção que está presente em alguns graus.
3.2- Resolução
A luz pode ser obtida tanto na forma de ondas bem como na forma de partículas.
Para fins de explicação dos resultados experimentais usa-se o conceito de ondas para
outros o conceito de partículas.
Segundo Raleigh dois objetos podem ser distinguidos quando o máximo central de um
coincide com o primeiro mínimo do outro, a intensidade entre dois picos descreve de 80% do pico
inicial, a figura-2 mostra este critério para o microscópio.
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Equação-1
0.61. λ 0.61. λ
δ δ
n . sin( θ ) ou NA
A abertura numérica que aparece na equação acima expressa o poder de resolução das
lentes e o brilho da imagem formada, quando maior a abertura numérica melhor a qualidade da
resolução, em compensação há um comprimento da profundidade de foco definida na equação-2.
Equação-2
λ
Dfocus
2
4. ( NA )
As lentes objetivas, são responsáveis pela ampliação da amostra. Para uma alta ampliação
e uma alta resolução necessita-se de lentes objetivas com uma grande abertura numérica (NA).
Esse parâmetro determina o poder separador do microscópio e é dado na equação-3
Equação-3
NA n . sin( θ )
onde: n é o índice de refração do meio em que está imersa a lente frontal da objetiva.
a é o ângulo do cone de luz que penetra na objetiva.
NA
P
061. I
3.3-Sistema de Ampliação
Consiste de um certo número de componentes individuais, os quais comentaremos a
seguir:
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a) LENTES OBJETIVAS - Cuja função é dar uma imagem aumentada da amostra. Essas lentes são
consideradas a parte mais importante do sistema de ampliação. São classificadas como:
• Acromáticas: Ajustadas para duas cores, geralmente o vermelho e o verde (ou seja, permite
que apenas algumas cores sejam observadas, selecionando a freqüência de luz visível de
interesse por meio de seu índice de refração durante a fase de fabricação da lente).
• Apocromáticas: Ajustadas para três cores, normalmente o vermelho, o verde e o violeta.
• Não-acromática: Não ajustada para cor alguma. Possui a característica de formar halos
coloridos ao redor da imagem.
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3.4-Profundidade do foco
Há duas profundidades de foco, uma do lado da imagem outra do plano do objeto. Do lado
da imagem, é o comprimento ao longo do eixo óptico para uma posição constante de focalização da
objetiva, o nível da imagem é variada sem causar distúrbios na nitidez da imagem no centro do
campo. Do lado do objeto, é oo comprimento ao longo do eixo óptico do microscópio para um nível
constante da imagem, a posição de focalização da objetiva é variada sem causar distúrbios na
nitidez da imagem em um ponto no centro do campo definida pela equação-6
Equação-6
1000 I
DF
7 ( N A . obj ) . m
. .
2. ( NAobj )
2
onde:
DF - Profundidade de foco;
I - Comprimento de onda;
M - fator de magnificação total;
Naobj - Abertura numérica da objetiva.
Quando observado por recursos de fotometria, é possível obter fatores de magnificação três
vezes acima do limite.
w . 250
D( mm) 2. tan
2 MNocl
onde:
w/2 – Metade do ângulo de campo;
Mnocl – Número de magnificação da ocular;
D – Diâmetro;
Para w=50º isto é a 235/Mnocl.
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3.6- Sistema Mecânico
Um microscópio para ser realmente útil deve ter uma boa estabilidade mecânica. Em
particular, qualquer vibração entre a lâmina e o corpo do microscópio deve ser reduzida ao mínimo
absoluto, uma vez que tal vibração pode ser aumentada pelo próprio fator de ampliação do
microscópio. Em outros instrumentos uma vibração de milésimos de milímetro entre as partes pode
ser completamente desprezível, mas em um microscópio isto poderia se tornar uma característica
muito indesejável. Assim, a base e o braço de um microscópio devem fornecer uma rígida estrutura
de suporte para a plataforma de amostra (ou platina) e o corpo como um todo e que seja suficiente
para resistir às vibrações normais presentes num laboratório.
As plataformas de observação se dividem em dois tipos principais, que são o regular e o
inversor. Estágios inversores são freqüentemente usados em trabalhos metalográficos, onde a área
da amostra de interesse pode estar localizada na face inferior de uma superfície. Estágios regulares
são mais comuns em trabalhos de análise de falhas em geral, onde pode não se possível ou
impraticável colocar a amostra na posição invertida, pois partículas apoiadas na superfície
certamente cairiam e não seriam detectadas se fosse utilizado o modo invertido.
Quando ao movimento, existem estágios imóveis, outros com movimentos nas direções x e
y e ainda aquele que possuem movimentos rotacionais além do movimento nas direções x e y.
As considerações mecânicas são especialmente importantes para aplicações em
fotomicrografia. Os principais requisitos do sistema mecânico da platina são:
• Carga e descarga fácil (com o mínimo de manipulação ou dano).
• Movimentos ortogonais precisos nos eixos x e y.
• Folga mínima entre engrenagens.
• Necessidade de acoplamento entre os movimentos nas direções x e y.
Além da estabilidade mecânica, o microscópio deve levar em conta os padrões de
ergonomia preestabelecidos para que o usuário desse equipamento se sinta confortável ao fazer
suas observações, principalmente aquelas que exigem um tempo maior.
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A maioria dos microscópios disponíveis para a indústria de semicondutores utilizam os
sistemas de iluminação de campo claro (brigthfield), campo escuro (darkfield) e de interferência
diferencial. Alguns microscópios também possuem sistemas de iluminação de fluorescência.
No modo de iluminação de campo claro a luz viaja ao longo do eixo óptico, através da
objetiva em direção à amostra que está sendo observada. A amostra então é vista pela luz que ela
reflete.
Filtros especiais são utilizados para abrandar a luz e aumentar o contraste.
A microscopia de campo claro é a técnica mais utilizada nas aplicações de semicondutores,
fornecendo a melhor imagem e informação de toda a amostra. É considerado um excelente modo
para se examinar uma superfície polida.
No modo de iluminação de campo escuro a luz é direcionada para o exterior do cone que a
objetiva compreende para iluminar a lâmina obliquamente. Somente a luz que é refletida ou
difratada pelas características da amostra entra na objetiva. Assim, a amostra aparece como um
fundo preto com as características refletidas ou difratadas aparecendo com brilho.
A iluminação de campo escuro aumenta a visibilidade de detalhes que são freqüentemente
ignorados pela iluminação de campo claro. Mesmo detalhes estruturais pequenos, que se
encontram abaixo do limite de resolução da objetiva, são visíveis com campo escuro (esta maior
visibilidade, que é mais parecida com a observação das estrelas mais distantes à noite, não é um
aumento na resolução).
A microscopia de campo escuro é uma técnica excelente para uma varredura rápida, com
um amplo campo de visão, para partículas, ranhuras ou resíduos químicos.
No sistema de iluminação um fator importante é o contraste, que está diretamente ligado
com a qualidade da imagem e depende de vários fatores importantes.
Oculares:
• Eyepiece ou objetivas sujas degradam a qualidade da imagem;
• O contraste pode ser reduzido por um clarão, especialmente se a amostra e altamente
refletora;
• O mais sério dos problemas acontece se a amostra é vista com um pequeno contraste.
A microscopia que utiliza o contraste por interferência diferencial revela diferenças nos
feixes refletidos de luz polarizada separada por um prisma. Pode ser visto um efeito tridimensional
sobre a reflexão da amostra. Em adição, devido à diferença nos caminhos ópticos, uma amostra
vista com microscopia de interferência freqüentemente aparece colorida pelo sistema óptico.
Em outras palavras, a diferença de fase dos feixes de luz estão usualmente associados
com a topologia da lâmina. Assim, a microscopia de interferência revela, em uma visão parecida
com a tridimensional, detalhes na superfície da lâmina tais como buracos, fissuras e falhas, que são
comumente invisíveis na iluminação comum de luz refletida.
Na microscopia de fluorescência, luz ultravioleta causa aos materiais orgânicos e
inorgânicos a emissão de radiações características de luz visível. Substâncias orgânicas, as
maiores contaminadoras de microcircuitos, fluorescem de modo mais brilhante do que os materiais
inorgânicos que compõem o semicondutor.
A área de aplicação da microscopia de fluorescência de luz incidente inclui adetecção do
fotoresiste ou outros resíduos orgânicos e de diferenças da espessura (ou estrias) nas camadas de
fotoresiste.
As opções de campo escuro e claro, geralmente combinadas com os modos de
interferência diferencial ou fluorescência, são usualmente disponíveis no mesmo microscópio e um
operador pode facilmente trocar um pelo outro. Além disso, tem-se a possibilidade de escolha entre
luz incidente ou transmitida.
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muitos microscópios. Porém muitos são equipados com partes extras, ópticas e mecânicas para
medidas de propriedades ópticas e geométricas em vários estágios do objeto.
O plano do objeto é geralmente iluminado através de diferentes arranjos ópticos, porém
aqui somente iremos utilizar o arranjo chamado Köhler ilumination , para exemplificar. As
considerações feitas a seguir são as seguintes:
1. A de superfície luminosa da lâmpada, é projetada no plano do diafragma de abertura do
condensador, e seu controle ajuste do ângulo de abertura é reduzido até um pouco
antes do máximo;
2. O diafragma de campo luminoso é colocado no plano onde a imagem do plano objeto é
formada e seus limites de ajuste é a área iluminada no plano;
3.
4. As considerações destas duas condições, é que não é possível o plano do objeto fora
da área de iluminação seja afetado por aquecimento. Portanto a área de campo é
uniformemente iluminada e a luz espalhada dentro da montagem opto-mecânica é
reduzida ao mínimo.
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Figura.4-Luz com iluminação oblíquoa.
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Figura.6-Luz refletida com iluminação oblíqua e refletor
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Figura.8-Sistema de imagem com iluminação oblíqua.
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Figura.10-Sistema de imagem mostrando o efeito da lente de Bertrend.
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Figura.12-Sistema de imagem mostrando o efeito da lente de Bertrand.
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Figura.14-Luz refletida com iluminador a 45º.
Lentes:
AUX - Lente auxiliar;
BI - Lente de Bertrand;
Col - Coletor;
Com - Condensador;
Obj - Objetiva;
Ocl - Ocular;
PI - Lente do fotossensor incluindo a lente do olho;
TI(+/-) - Lente do tubo, +(positivo)/-(negativo).
Elementos Ópticos:
EPM - Pupila de saída do microscópio;
L - Superfície luminosa da Lâmpada;
P - Camada fotossensível (retina do olho, fotocatodo e filme fotográfico);
St - Plano objeto (stage object).
Diafragmas:
BD - Diafragma de Bertrand;
CAD - Diafragma de abertura do condensador;
OAD - Diafragma de abertura da objetiva;
LFD - Diafragma do campo luminoso;
OFD - Diafragma de ocular (campo);
PFD - Diafragma de campo do fotômetro.
5. Microscopia e Microeletrônica
A seguir, apresentamos alguns requisitos importantes exigidos quando da escolha de um
microscópio para a inspeção de lâminas bem como a caracterização desses instrumentos e as
técnicas de medição.
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5.1 Requisitos de um Microscópio
Caso se queira inspecionar soldas feitas por um soldador automático, o campo de visão
deve ser pequeno. A planaridade da amostra também é importante: se a superfície possui um alto
relevo, então um sistema óptico com uma grande profundidade de campo será necessário.
Diferentes exemplos de materiais apresentam problemas especiais e o que conta para o contraste
da imagem são as variações das propriedades ópticas, tais como reflexibilidade, cor, polimento e
índice de refração.
Outro importante fator é a natureza dos defeitos que se deseja encontrar. Diferentes tipos
de defeitos ditam diferentes requisitos para medidas e objetivos. Por exemplo, o principal requisito
quando da medida da largura das linhas de polisilício em uma pastilha é a sua alta precisão. Para
alcançá-la, necessita-se de uma iluminação própria para fazer com que os lados das linhas
apareçam claramente. Se faz necessário também um conjunto padrão de calibração de largura de
linha. A profundidade de campo terá que ser pequena para limitar os erros causados pelas
variações de distância entre as superfícies da amostra e as lentes objetivas.
Outros parâmetros que são afetados compreendem a abertura numérica das objetivas e o
tipo de contraste usado na iluminação.
Na produção, a faixa de ampliação largamente aplicável para a inspeção de lâminas e
máscaras está entre 20X a 1000X. A maioria dos fabricantes de microscópios fornecem
combinações de oculares de 10X a 20X com objetivas na faixa de 2X a 50X.
Para a maioria das aplicações com microscópios na fabricação de semicondutores, a
qualidade do sistema óptico de ampliação relativamente baixa é mais importante. Uma lente bem
corrigida (evitando aberrações), de potência relativamente baixa e da mesma resolução de uma
lente de grande ampliação, pode ser mais útil no processamento de lâminas porque seu campo de
visão torna-se até 10 vezes maior.
Microscópios compostos
Constituem o tipo mais comum de microscópios e são utilizados para as mais diversas
finalidades. Distinguem-se pelas seguintes características:
• Ampliações na faixa de 25X até 1800X.
• Imagem reversa e invertida.
• Campo visual pequeno (entre 8.0 a 0.15mm).
• Distância de trabalho na faixa de 10 a 0.3mm.
• Iluminação incidente ou transmitida.
Estereomicroscópios
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Quando uma amostra é examinada sob um microscópio binocular comum, variações na
altura ou espessura da amostra podem ser aparentes ao observador se essas variações excederem
a profundidade de foco da objetiva que está sendo usada. Entretanto, a sensação de características
tridimensionais da amostra não serão transmitidas ao observador. Para alcançar a visão
estereoscópica verdadeira, é necessário que cada um dos olhos do observador veja a amostra de
um pequeno ângulo diferente. As duas imagens dissimilares são então unidas pelo cérebro em uma
única reconstrução tridimensional do objeto original. A figura 7 mostra o esquema óptico de um
estereomicroscópio.
Este estereomicroscópio é feito de dois microscópios completos que estão inclinados um
em relação ao outro de um ângulo de 8 a 12 graus dependendo do fabricante. Cada microscópio
inclui uma objetiva, uma ocular e um sistema de construção, sendo este último tanto do tipo
reflexivo ou refrativo. Nota-se na figura 7, que os lados interiores das duas lentes objetivas quase se
tocam. Esta justaposição impõe um limite no diâmetro destas lentes e isso limita sua abertura
numérica, que por sua vez restringe a faixa de grandes ampliações que está substancialmente
abaixo daquela dos microscópios não estéreo. A seguir relacionamos as características principais
dos estéreo microscópios:
• Distâncias de trabalho longas, variando entre 75 e 100mm.
• Imagem não reversa e direita (também tridimensional).
• Escala de ampliação macro (2.5X) a micro (250X-300X).
• Campo visual amplo, tipicamente 0.8mm.
• Iluminação refletida ou incidente.
Figura.15-Exemplo de Estereomicroscópios
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75-12923 Estereomicroscópio Microview MV-2
Binocular Estéreo
Totalmente metálico
Estativa de modelo clássico
Aumentos: 20x, 30x, 40x e 60x
2 Oculares: 10x e 15x
2 Objetivas: 2x e 4x
Preço: R$ 832,00
6.Exemplos de microscópios
Aqui apenas alguns exemplos de microscópios, utilizados em várias áreas fora da
microeletrônica.
Figura.16-microscópio Monocular.
Especificações:
18
2 Oculares: 10x e 15x
3 Objetivas: 4x, 10x e 40x
Condensador Abbe
Diafragma Iris
Iluminador com espelho
Preço: R$ 288,00
Figura.17-microscópio multifuncional.
Especificações:
19
Figura.18-microscópio de operação para oftalmologia.
Especificações:
20
Figura.19-microscópio Binocular biológico
Especificações:
MARCA: MICRONAL
MODELO: CBA 213
Com estativa de máxima estabilidade com controles coaxiais de focalização macro e micro
ambos com percurso vertical de 30 mm composto de :
botão micrométrico graduado em intervalos de 2,5 mm
trava mecânica para pré focalização e proteção da lâmina
base larga com transformador universal com lâmpada de halogênio de no mínimo
12V/20W, seletor para 110 ou 220 V
Tubo de observação binocular, inclinado em 45º, movimento giratório de 360º
Charriot mecânico, com comandos coaxiais baixos no lado direito
Condensador de campo claro, tipo ABBE, abertura numérica 1,25, com diafragma Íris com
filtro azul de aproximadamente 32,5 mm de diâmetro
Anel de campo escuro para objetivas de 10x e 40x para ser acoplado na base do
condensador
Revólver porta objetivas para quatro objetivas
Par de oculares de campo amplo de ponto focal alto, número do campo F.N.18
Quatro objetivas acromáticas, LONG BARREL, de alta resolução, 4x/0,10, 10x/0,25,
40x/0,65 com mola e 100x/RO 1,25 com mola e imersão à óleo
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Figura.20-Exemplo do possível formato de um dos primeiros
microscópios.
7.Aplicação
Na aplicação abaixo mostro a foto de um microscópio da marca Nikon, no qual fiz algumas
fotos das várias objetivas, de um transistor fabricado no laboratório do CCS(cento de componentes
semicondutores) da Unicamp.
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Figura.22-Va’rias objetivas do microscópio nikon do CCS da unicamp.
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Figura.23-Microscópio utilizado para fotografar dispositivos.
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Figura.25-microscópio utilizado para efetuar medidas nos dispositivos
prontos.
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Figura.27-Esquemas de lentes de um monocular.
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Fabricante: Unitron
Modelo: Hisomet
Características: Projetado especificamente para medidas de espessura ou profundidade
usando um Indicador de Foco Preciso (PFI). A resolução é confiável a 1 mícron (para mais
ou para menos). Possui objetivas de 10X, 20X e 40X e uma platina de 2 X 2 polegadas com
ajuste micrométrico por tambores. Aceita uma larga faixa de acessórios como mostrador
digital X-Y e câmera de TV.
9. CONCLUSÃO
De acordo com o que foi descrito, podemos concluir que a microscopia óptica continua
sendo e será ainda por um longo tempo uma técnica bastante utilizada na indústria de
microeletrônica.
Apesar do microscópio tornar a inspeção humana de lâminas tediosa e subjetiva devido às
geometrias cada vez maisreduzidas, a automação crescente vem, por outro lado, resolver esse
problema.
Os microscópios tradicionais possuem como vantagens a sua disponibilidade, custo
relativamente baixo se comparados aos equipamentos de outras técnicas, proporciona uma medida
não destrutiva da amostra e é possível se analisar toda a lâmina. A desvantagem está na sua
resolução e precisão limitadas pelos sistemas ópticos tradicionais. Contudo, ainda é o meio mais
prático para medidas qualitativas.
10. REFERÊNCIAS
[1] Rudolf Kingslake (ed.), "Applied Optics and Optical Engineering", Volume IV, Parte I, Pág. 31-93,
1967.
27
[2] Pieter Burggraaf, "Guidelines for Optical Microscopy", Semiconductor International, Volume 8,
No. 2, Pág. 54-62, 1985.
[3] Jim Dey, "In-Process Wafer Test and Measurement", Semiconductor International, Volume 11,
No. 1, Pág. 52-55, 1988.
[4] David A.Toy, "Confocal Microscopy: The Ups and Downs of 3-D Profiling", Semiconductor
International, Volume 13, No. 5, Pág. 120-123, 1990.
[5] Rob Piercy, "Small Spot Surface Analysis Techniques", Microeletronic Manufacturing and
Testing, Volume 12, No. 11, 1989.
[6] C. G. Masi, "Selecting an Optical Microscope", Test & Measurement World, Volume 8, No. 2,
Pág. 47-67, 1988.
[7]Peter H. Singer, "Life on the Edge: Measuring Critical Dimensions", Semiconductor International,
Volume 11, No. 12, Pág. 84-87, 1988.
[8] Dennis F. Paul and John S. Hammond, "Interface Characterization of Thin Film Structures",
Microeletronic Manufacturing and Testing, Volume 13, No. 5, 1990.
[10] Pieter Burggraaf, "Wafer Inspection for Defects", Semiconductor International, Volume 8, No. 7,
Pág. 54-65, 1985.
28
Microscópio Óptico
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