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A influência das
lâmpadas na gravação
Uma boa gravação garante a qualidade da impressão
e a durabilidade da matriz. Veja como as lâmpadas
influenciam esse processo
Por Márcio Moraes dos Santos, da Vision-Cure UV & IR Technology
Emissões UV e o positivo bloquearão a luz e as transparentes per- cujo objetivo é dispersar o calor infra-
mitirão sua passagem. vermelho gerado pela lâmpada em
Outro aspecto a ser controlado no funcionamento. Apesar de cumprir este
processo de gravação é a qualidade Sistema ótico de projeção objetivo, tais sistemas acabam disper-
da sombra. Quando exposto à emissão dos raios UV sando os raios UV, de modo que eles
UV, o positivo irá criar uma sombra so- não atravessam o tecido de forma per-
bre a emulsão. Tão importante quanto a lâmpada é o sis- pendicular, causando sombras indese-
Os raios da emissão UV não po- tema ótico de projeção dos raios UV. Esse jadas e, conseqüente, baixa qualidade
dem ser difusos, devendo ser o mais sistema, normalmente, contém: na impressão.
paralelos possíveis e sempre perpen- Os refletores devem ser limpos pe-
diculares à superfície emulsionada. - Refletor: composto por material riodicamente, para que se evite depósi-
Somente assim é possível garantir que reflete de forma eficiente os raios to de poeira ou outros contaminantes.
boa qualidade e resolução na grava- UV. É responsável por 80% da emissão Uma vez ao ano, devem ser substitu-
ção que se deseja fazer. projetada sobre a emulsão. Deve ser ídas as lâminas refletoras, pois perdem
A opacidade do positivo também é elaborado de modo que os raios man- sua capacidade de refletir a emissão UV.
um fator relevante, pois ela garantirá o tenham o maior paralelismo possível. A inspeção visual não garante a quali-
bloqueio da emissão UV que polimeriza Eventualmente, alguns equipamentos dade da reflexão dos raios UV, pois o olho
a emulsão. As áreas escuras do positivo utilizam lâminas refletivas dicróicas, humano apenas consegue inspecionar
luz visível. A melhor forma de avaliar a
emissão de um sistema UV é com o uso
do radiômetro.
Lâmpada Halógena
O tempo adequado de exposição é ob- - Potência da lâmpada para garantir a temperatura, decorrente do arco elétri-
tido mediante sucessivos testes, pois pode polimerização completa da emulsão; co da lâmpada, danificar o tecido. Além
variar segundo o tipo de emulsão e em vir- - Tempo de exposição sugerido pelo fa- disso, a temperatura excessiva tende a
tude da espessura da camada. bricante da emulsão. queimar superficialmente a emulsão,
A consideração desses fatores aponta- comprometendo a penetração dos raios
Fatores para a escolha correta rá para o tipo de fonte de luz mais ade- UV e, conseqüentemente, sua polimeri-
da lâmpada quado, uma vez que a seleção incorreta zação completa.
do tipo de lâmpada, por exemplo, pode Como mencionado anteriormente,
Não se pode falar em um único fator essen- causar má qualidade na gravação da ma- é o sistema óptico, que determinará
cial da lâmpada em um sistema de gravação triz e, conseqüentemente, na impressão. o tipo de projeção dos raios UV. Eles
de matrizes, pois são vários os aspectos que Ou, ainda, baixa durabilidade da emulsão devem ser sempre paralelos entre si e
influenciam na qualidade final da revelação. depois de polimerizada. perpendiculares em relação à emulsão.
Ainda assim, alguns fatores devem ser consi- Sabe-se, contudo, que muitas fontes de
derados no momento de escolher a lâmpada: Distância da lâmpada luz não respeitam essa orientação e aca-
em relação à matriz bam efetuando projeções difusas com
- Tipo de radiação que a emulsão precisa o objetivo de alcançar matrizes serigrá-
(UVA, UVC, UVV); Nos processos de gravação, é importante ficas de diversos tamanhos. A escolha
- Tipo de lâmpada que apresenta melhor ficar atento à distância da fonte de luz em adequada da distância só é obtida pela
desempenho para esta emulsão; relação à matriz. medida de temperatura e radiação, da-
- Dosagem e intensidade mínimas ne- Cada fabricante de fonte de luz irá dos que são facilmente apontados em
cessárias para a polimerização comple- mencionar a distância mínima a ser res- um radiômetro multibanda.
ta da emulsão; peitada, sob o risco da presença de alta Fala-se atualmente no uso de pren-
sas de contato para gravação de matri-
zes serigráficas com sistemas a vácuo. A
vantagem de tal recurso é a quase total
eliminação do espaçamento entre a tela
e o positivo, incrementando-se a reso-
lução das imagens posteriormente im-
pressas pelo aumento da qualidade dos
traços e retículas.
Fontes de luz
As fontes de luz utilizadas nos processos de exposição podem sensibilizar matrizes dos mais diversos tipos: desde as pe-
quenas telas serigráficas – por meio de mesas de gravação –, até telas para impressões em grandes formatos, em que são
utilizadas salas de exposição.
Nas fontes de luz, diversos tipos de lâmpadas podem ser utilizados:
Tipo de bulbo Bulbo de boro-silicato, Bulbo de quartzo, com Bulbo de quartzo, com Bulbo de quartzo, com
com amálgama de mercúrio, aditivos mercúrio, haletos mercúrio e gás
mercúrio sob baixa metálicos e gás metálicos e gás argônio em média
pressão de argônio xenônio em alta argônio em média pressão
pressão pressão
Radiação Emite picos intensos Emite picos intensos Emite picos intensos Emite picos intensos
e persistentes de e persistentes acima e persistentes acima e persistentes na faixa
radiação UV em torno da faixa UVV (415nm) da faixa UVV (415nm) UVA (365nm)
da faixa UVA (365nm) e na faixa UVA (365nm)
ou UVC (254nm),
dependendo do
modelo
Tipo de processo É um processo frio, É um processo com É indicada para É um processo com
indicado para situações média temperatura, sensibilização de alta temperatura.
em que a alta indicada para emulsões emulsões espessas É indicada para
temperatura é mais finas, utilizadas É um processo com sensibilização de
indesejável para se obter alta altíssima temperatura emulsões em que a
resolução qualidade da
gravação é
média ou baixa
Obs: Apesar das desvantagens que apresenta em comparação às lâmpadas halógenas, por exemplo, as lâmpadas de vapor
de mercúrio são as mais utilizadas pelos serígrafos devido ao menor custo de aquisição.