SISTEMA DE AUTOMAO APLICADO A UMA PLANTA DE INERTIZAO A PLASMA ALEXANDRE M. F. GUIMARES, THIAGO Q. DE MEDEIROS, JADER F. SOUSA, JURANDIR DE O.

NETO, ANTNIO H. F. DE MORAIS, ANDRS O. SALAZAR, ANDR L. MAITELLI Laboratrio LAMP, Departamento de Engenharia de Computao e Automao, Universidade Federal do Rio Grande do Norte - Campus Universitrio, s/n Lagoa Nova - CEP: 59.072-970, Natal, RN Brasil E-mails: alexandre@crn.inpe.br, thiago@crn.inpe.br, jadersousa@crn.inpe.br, juradirneto@gmail.com, andres@dca.ufrn.br, maitelli@dca.ufrn.br, higormorais@crn.inpe.br JEAN P. DUBUT Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais INPE/CRN - Rua Carlos Serrano, 2073 Lagoa Nova - CEP: 59.001-970, Natal, RN Brasil E-mail: jean@crn.inpe.br
Abstract This article describes an automation system for using in a residues inertization plant based on thermal plasma. A compact PLC is being using for the activations of the several subsystems, as well as to control the inner temperature of the main reactor using Fuzzy logic. A human-machine interface allows the monitoring of the variables and the activations of the system devices. An OPC communication is used to link the computer and the PLC. Keywords PLC, human-machine interface, Fuzzy logic, thermal plasma. Resumo Este artigo descreve um sistema de automao para uma planta de inertizao de resduos por plasma trmico. Um CLP compacto est sendo empregando para os acionamentos dos diversos subsistemas, bem como o controle da temperatura interna do reator usando lgica Fuzzy. Uma interface homem-mquina permite o monitoramento das variveis e o acionamento de dispositivos do sistema. Uma comunicao OPC usada no link entre o computador e o CLP. Palavras-chave CLP, interface homem-mquina, lgica Fuzzy, plasma trmico.

1 Introduo Os resduos ou lixo como tambm so conhecidos - encerram um potencial extremamente comprometedor do meio ambiente. Sabe-se que a sua alterao, por via qumica, fsica ou pelas intempries, pode produzir produtos, os quais, infiltrando-se no solo, chegam aos depsitos de guas subterrneas ou superficiais, comprometendo o que so as fontes de gua para o abastecimento pblico, da agricultura, das indstrias, enfim, de toda a populao [Menezes, 1999]. Sua disseminao pela atmosfera tambm considervel. Podem estar portanto na origem de um grande nmero de doenas. imperioso impedir que isto acontea, ou pelo menos, que essa possibilidade caia ao mnimo possvel. Como faz-lo? Alguns pases conseguiram, ao longo dos ltimos 30 anos, atingir um patamar muito satisfatrio quanto gesto dos resduos. Para isto, desenvolveram uma poltica de resduos. Esta poltica concilia, basicamente, a necessidade de desenvolvimento com aes destinadas minimizar a j referida potencialidade poluidora dos resduos, aes essas que se baseiam principalmente na tecnologia. Associada a uma matriz regulamentadora e jurdica,

alm da conscientizao da sociedade esta muito importante atualmente. A poltica em questo, nos pases desenvolvidos impulsionada pelos governos nacionais, porm no caso da Europa tem fortes componentes supranacionais, ditados pela Unio Europia [Prieto, 2002]. No Brasil, a poltica de resduos comea a ser delineada. J possumos leis, decretos, normas regulamentadoras, mas falta-nos ainda o amlgama da poltica citada. Com relao ao tipo de resduo, especificamente no estado do Rio Grande do Norte, os resduos petroqumicos so um grande problema devido a produo relativamente grande de petrleo. O uso de plasma trmico aplicado a essa categoria de resduo bastante apropriado uma vez que se busca uma destinao final menos agressiva ao meio ambiente em relao aos mtodos convencionais de incinerao. O uso de tochas industriais baseadas em plasma trmico proporciona uma eficiente converso de energia, com descargas estveis, estrutura durvel da tocha, alm de outros benefcios [Sites, 1994]. Recentes desenvolvimentos dos semicondutores de chaveamento e microprocessadores permitem o uso de fontes de potncia em altas freqncias para produo de plasma e aquecimento indutivo em faixas de freqncia de at megahertz, com grande confia-

2471 of 2476

bilidade e custo reduzido, resultando em alto desempenho. A eficincia do inversor RF (RdioFreqncia) de aproximadamente 90%, o que relativamente alto se comparado a inversores RF convencionais de fontes de alimentao lineares [Cheng, 2002]. Este trabalho trata-se do desenvolvimento de um sistema de automao e controle de uma planta de processamento de efluentes e resduos petroqumicos usando plasma trmico, sendo parte de um trabalho maior. O sistema de tratamento composto basicamente por uma tocha de plasma, um reator, uma cmara de incinerao, sistemas de refrigerao e uma fonte de alimentao RF de 50kW. O todo o sistema ser supervisionado por um computador dedicado baseado em uma interface homem-mquina, onde o operador ter as principais informaes, como tambm poder configurar o sistema. Para o controle geral do processo e da temperatura utilizado um CLP (Controlador Lgico Programvel) compacto. 2 Planta de inertizao de resduos por plasma A Fig. 1 apresenta o diagrama ilustrativo da planta de tratamento de resduos industriais, a fonte de alimentao com seu controle associado, e os diversos subsistemas perifricos. Primeiramente o equipamento foi projetado para um processamento de cerca de 250kg de resduos plsticos ou 750kg de efluentes petroqumicos, com poder calorfico de 30kJ/kg e 10kJ/kg [Johnson,2002][Fauchais, 1997], respectivamente, resultando em uma potncia requerida de 50kW. O tempo inicial de processamento foi estipulado em 8 horas por dia. Nessa primeira etapa no est prevista a recuperao energtica, no entanto este recurso ser usado futuramente.
Fonte de alimentao RF e sistema de controle Entrada de resduos

material. Essas condies se daro da seguinte forma: Primeiramente atravs da introduo dos gases fornecidos pelo compressor de ar e, simultaneamente, o acionamento do sistema de exausto. Em seguida so acionados os sistemas de refrigerao, a ignio e a fonte de alimentao. Os resduos e/ou efluentes petroqumicos so inseridos passo-a-passo no alimentador atravs de uma porta pneumtica e direcionados para o reator principal para serem inertizados pela tocha de plasma. A parte inorgnica dos resduos transformada em uma escria vtrea chamada obsidiana que, por sua vez, destinada a um recipiente adequado atravs de uma outra porta pneumtica. A parte orgnica produz gases que so queimados no reator secundrio na presena de oxignio. Os gases queimados so lavados no lavador para eliminao de pequenas partculas e, finalmente, liberados para a atmosfera. Com isso, esperada uma reduo de aproximadamente 95% dos resduos [Fauchais, 1997][Sotelo, 1999]. De acordo com a Fig. 1, existem diversos subsistemas a serem acionados. Os subcontroles ficaro a cargo do mdulo CLP compacto produzido pela Moller e mdulos DSPs (Digital Signal Processor) de alto desempenho TMS320F2812 da Texas Instruments, alm de um computador de processo responsvel por todo o gerenciamento do sistema. necessrio que seja mantida a temperatura interna do reator principal de acordo com o tipo de resduo; para isso o sistema ser provido dos controles de tenso de alimentao da tocha e do fluxo de gases para formao do plasma. A seqncia de acionamentos adequada, bem como as protees so necessrias para segurana do operador e do sistema como um todo [Natale, 2000)]. A fonte RF composta pelos conversores

Porta pneumtica Sada de gases gua

Alimentador Reator secundrio Lavador de gases Exaustor

Corrente RF Queimador Reator principal Compressor de ar Ar . P. pneumt. Escria Tocha RF

Sistema de

Bomba

Ignio resfriamento
da tocha

Sistema de resfriamento e lav. de gases

Figura 1. Planta de inertizao de resduos por plasma Inicialmente o sistema dever ser preparado para atingir as condies favorveis ao processamento do CA/CC (boost) e CC/CA (inversor de alta freqncia), que iro fornecer a energia externa necessria

2472 of 2476

ao funcionamento da tocha de plasma, com a aplicao de uma tenso RF de 450kHz. 3 Sistema de automao O sistema de controle provido de um microcomputador PC equipado com uma interface homemmquina (IHM) capaz de gerir todas as funcionalidades da planta de inertizao de resduos por plasma. A interface foi construda em ambiente grfico Labview, e direcionada para melhor informar ao usurio o status do sistema em um determinado momento, alm da liberdade na modificao de parmetros e acionamentos de dispositivos. Um mdulo compacto CLP PS4-341-MM1 [Albreccht, 1999][Moeller, 2004] produzido pela Moeller executar o controle de temperatura no reator principal em malha fechada, bem como os diversos acionamentos. A programao do CLP est sendo feita em linguagem Ladder. O sistema est sendo provido de diversas protees no sentido de evitar acidentes e danos aos equipamentos. A Fig. 2 ilustra o sistema de controle completo e seus subsistemas. Pelo fato da planta a ser controlada apresentar uma difcil modelagem, neste trabalho foi definido a apli-

de controle de temperatura. O CLP utilizado possui blocos Fuzzy e PID que podem ser programados, uma malha externa executar o controle de temperatura atravs de lgica Fuzzy, resultando nas referncias (set points) de tenso CC e do fluxo do gs plasmtico. A lgica Fuzzy uma tcnica que incorpora a forma humana de pensar em um sistema de controle. Um controlador Fuzzy tpico pode ser projetado para comportar-se conforme o raciocnio dedutivo, isto , o processo que as pessoas utilizam para inferir concluses baseadas em informaes que elas j conhecem. Por exemplo, operadores humanos podem controlar processos industriais e plantas com caractersticas no-lineares e at com comportamento dinmico pouco conhecido, atravs de experincia e inferncia de relaes entre as variveis do processo. A lgica Fuzzy pode capturar esse conhecimento em um controlador Fuzzy, possibilitando a implementao de um controlador computacional com desempenho equivalente ao operador humano [Zang, 1997][Altrock, 1996][Graham, 2000][Wegmann, 1994]. O valor de tenso CC do conversor CA/CC ser mantido constante a partir de um controle baseado em um DSP (DSP secundrio) e referenciado pelo
Sistema de ignio Alimentador Resfriam. tocha

Fonte de Alimentao RF
Rede 380V/60Hz 3 Transformador adaptador de impedncia

Conversor CA/CC

Conversor CC/CA

Tocha plasma

gases

p/ Reator secundrio

F. tica DSP secundrio RS-232 F. tica

F. tica DSP principal Temperatura/ fluxo gs F. tica Computador (IHM) Compressor de ar

p/ Alimentador Portas pneumticas

RS-232

RS-232 /OPC

CLP compacto

p/ Sist. de ignio p/ Resfriam. tocha p/ Motor de passo

Resfriamento de gases gua Reator secundrio gases Lavador de gases

gases

Exaustor

gases

Chamin

Figura 2. Diagrama de blocos do sistema de controle. cao de lgica Fuzzy cascateada com um controlador PID e baseada em testes experimentais [Tenhagen, 1999][Shaw, 1999]. A Fig. 3 mostra o diagrama controlador Fuzzy do CLP, podendo sofrer alteraes na referncia de acordo com o resduo a ser inertizado que varia de 650V a 800V. O DSP secun-

2473 of 2476

drio executa um algoritmo de modulao vetorial. O conversor CC/CA formado por mdulos inversores srie-ressonante e estar configurado para fornecer uma tenso alternada em torno 450kHz. No DSP principal estar operando um PLL digital no sentido de manter a freqncia de chaveamento dos inversores o mais prximo possvel da freqncia de oscilao da corrente de carga (tocha) [Adachi, 1998][Bayindir, 2003]. Ambos os conversores so temas de outros trabalhos. O fluxo de gases ser ajustado pelo controle atravs de uma vlvula para que seja mantida a temperatura previamente configurada pelo usurio. Uma malha interna controlar o fluxo do gs plasmtico atravs um controle PID. A temperatura estar de acordo com o tipo e quantidade de resduo a ser inertizado, e baseada em testes previamente realizados em malha aberta. Para completa dissociao molecular dos resduos orgnicos e a vitrificao dos resduos metlicos e/ou cermicos, a faixa de temperatura no reator principal ser de aproximadamente 1500C e 1600C.

Referncia de temperatura e

Referncia de fluxo Controle Fuzzy

d/dt

Controle PID

Vlvula

Reator principal

Referncia de tenso CC (p/ o DSP Secundrio)

bas. Os prprios drivers dos IGBTs j disponibilizam entradas para fibra tica. A IHM est sendo elaborada em ambiente Labview [National Instruments, 2003][Wells, 2001] e tem a funo de supervisionar todas principais aes do sistema de inertizao por plasma, alm de oferecer uma interface o mais amigvel possvel para que o usurio tenha todas as informaes necessrias ao perfeito funcionamento do processo. A Fig. 5 ilustra essa interface. A Fig. 5a mostra a tela onde esto presentes os botes de acionamento do controle que acionam as bombas, exaustor, compressor de gs, etc. Os botes de potncia so responsveis pelo acionamento do sistema de ignio e fonte RF. Por fim, os botes para acionamento das portas pneumticas de alimentao dos resduos e eliminao da escria vtrea. Esses botes (botoeiras) tambm esto presentes fisicamente no rack onde esto alojados a fonte e o sistema de controle. O operador ter a sua disposio a opo de acionamento desses dispositivos tanto localmente, quanto remotamente. Para cada par de botes (acionamento/desacionamento) existem leds virtuais que monitoram os status das botoeiras fsicas, alertando o usurio quando essas estiverem sido acionadas. E ainda, na rea status dos motores, pode-se observar se os dispositivos foram realmente acionados. Na rea dados monitorados possvel visualizar as variveis analgicas.
RS-232

Fluxo de gs

Temperatura

CLP compacto

Figura 3. Controle de temperatura do reator principal. Por razes econmicas ser utilizado o ar como gs plasmtico. A comunicao entre o CLP e o DSP secundrio se dar atravs de uma interface RS-232. A comunicao entre o CLP e o computador utiliza o protocolo OPC (OLE for Process Control) que disponibiliza as variveis que sero capturadas pelo CLP para uso na IHM. Uma das principais vantagens na utilizao da comunicao OPC, diz respeito ao fato de no se utilizar drivers proprietrios. Os drivers proprietrios podem representar um problema quando se tenta fazer a comunicao entre diferentes fontes de dados, seja ele um dispositivo de campo ou o prprio computador, ou at mesmo, dispositivos/equipamentos de fornecedores diferentes que se utilizam de drivers especficos [Hermes, 2001]. A comunicao OPC est se tornando um "padro de fato" para a comunicao com dispositivos de cho de fbrica. Cada vez mais os profissionais de automao industrial e tecnologia da informao so levados a decidir sobre a melhor forma de utilizao da comunicao OPC. A Fig. 4 mostra a representao dos links entre os dispositivos. A fibra tica um excelente meio de transmisso de sinais e imune a interferncias eletromagnticas geradas pela prpria fonte RF e bomComputador (IHM)

Fibra tica

2
RS-485 Fibra tica

Conversores: RS-485/RS232t (1) RS-232/F. tica (2) Pulsos/F. tica (3)

1
F. tica

DSP Princ. 3 Conversor CC/CA

DSP Secundrio 3

F. tica

Conversor CA/CC

F. tica

Drivers

Drivers

IGBTs

IGBTs

Figura 4. Links entre dispositivos. Em princpio, o usurio ter a sua disposio os seguintes dados: Tenso CC de sada do conversor CA/CC; Corrente eficaz de alimentao da tocha de plasma; Temperatura no reator principal; Temperatura no reator secundrio; Fluxo dos gases aplicados ao reator principal para formao do plasma; Sinalizaes diversas.

2474 of 2476

Na Fig. 5b tem-se a visualizao das variveis na prpria planta com o auxlio de uma gravura. O usurio poder a qualquer momento alternar as duas telas para melhor visualizar a varivel de seu interesse. Uma outra opo de visualizao de parmetros bem como no acionamento de dispositivos atravs da Internet. O usurio poder usar um browser para acessar uma pgina especfica que tambm disponibilizar algumas dessas opes.

pal na execuo do controle de temperatura usando lgica Fuzzy e um controlador PID, alm de prov a seqncia de acionamentos do processo e protees. Agradecimentos O grupo responsvel pelo desenvolvimento desse projeto agradece ao suporte financeiro fornecido pela FINEP e o CNPq sem o qual no seria possvel essa realizao. O agradecimento se estende ao INPE/CRN pelo espao fsico fornecido. Referncias Bibliogrficas Adachi, T., Kondo, K., Uesugi, Y., Takagi, M. e Takamura, S. (1998). Performance of Induction Thermal Plasmas Generated by SIT Inverter Power Supply, Nagoya University. Albrecht, W. (1999). Hardware and Engineering PS4-300, Manual do usurio, Moeller GmbH, Bonn, Alemanha. Altrock, C. V. (1996). Recent successful Fuzzy logic applications in industrial automation, INFORM Germany, Alemanha. Bayindir, N. S., Kkrer, O. e Yakup, M. (2003). DSP-based PLL-controlled 50-100kHz 20kW high-frequency induction heating system for surface hardening and welding applications, IEEE Proc._Electronic Power Applications, vol. 150. Cheng, T. W, Chu, J. P, Tzeng, C. C. e Chen, Y. S. (2002). Treatment and recycling of incinerated ash using thermal plasma technology, Waste Management. Fauchais, P. e Vardelle, A. (1997). Thermal Plasmas, IEEE Transactions on Plasma Science, vol. 25. Graham, A. M. e Etezad-Amoli, M. (2000). Design, implementation and simulation of a PLC based speed controller using Fuzzy logic, The University of Nevada-Reno, Reno. Hermes, Klaus-Peter. (2001). S40 OPC Server User Interface, Moeller GmbH, Bonn, Alemanha. Johnson, M. C.(2002). On vitrifying wastes using a plasma arc torch, Army Environmental Policy Institute. Menezes, R. A. A. (1999). Atuao do Grupo Kompac em sistemas de tratamento de resduos slidos, IV Workshop Brasil Alemanha para o Intercmbio em Cincias e Tecnologias Ambientais, Rio de Janeiro. Moeller GmbH. (2004). Main Catalogue Automation Systems 2004/2005, Alemanha, 2004. Natale F. (2000). Automao Industrial, Ed. rica. National Instrument. (2003). LabVIEW 7.0 User Manual. Prieto, G., Prieto, O., Gay, C. R. e Yamamoto, T. (2002). Destruction of residual fumigant using a

(a)

(b) Figura 5. Interface homem-mquina. (a) Parmetros e status da planta; (b) Visualizao grfica.

4 Concluso Este trabalho prope o desenvolvimento de um sistema de controle de uma planta de inertizao a plasma e tenta contribuir com o tratamento de resduos. O sistema basicamente composto por um computador equipado com uma interface homem mquina para monitoramento e sinalizao de todo o processo, um CLP compacto como elemento princi-

2475 of 2476

plasma reactor, IEEE Transactions on Plasma Science, vol. 30. Shaw, I. S. e Simes, M. G. (1999). Controle e Modelagem Fuzzy, FAPESP, Ed. Edgar Blcher Ltda. Sites, G. A. (1994). Plasma Arc Heating - an overview, Industrial Heating. Sotelo, J. P., Eguiluz, R. P, Eguiluz, L. P, de Los Rios, A. S. e Sanchez, G. C. (1999). Plasma torch ignition by a half bridge resonant converter, National Institute for Nuclear Research. Tenhagen, R. (1999). Sucosoft S 40 Application Software - Closed-Loop Control Toolbox Reference Manual for Function Blocks, Moeller GmbH, Alemanha. Wegmann, H. (1994). Fuzzy control and neural networks industrial applications in the world of PLCs, Siemens AG, Industrial Automation Systems Division, Nrnberg. Wells, L. K. e Travis, J. (2001). LabVIEW for Everyone Graphical programming made even easier, Prentice Hall. Zhang, Z., Rayner, J., Cheetham, A. e Lund, T. (1997) A simplified Fuzzy model to mimic a nonlinear system, applied to a plasma source, IEEE Transactions on Plasma Science, vol. 25.

2476 of 2476