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GESSOS ODONTOLGICOS
EMPREGO
GESSO PARA MODELOS;
REVESTIMENTOS PARA FUNDIO;
CALCINAO (REAO 1)
SULFATO DE CLCIO DIIDRATADO (GIPSITA)
TRITURA E
110 A 130C
GIPSITA CaSO4.2H2O
GESSO (CaSO4)4.H2O
ANIDRITA SOLVEL
CaSO4
ANIDRITA NATURAL
CaSO4
110 - 130C 130 - 200C 200 - 1000C sulfato de clcio sulfato de clcio cristais cristais di-hidratado hemi-hidratado hexagonais ortorrmbicos cristais cristais (S/GUA) (DESAGREGA) monoclnicos ortorrmbicos
COMPOSIO
GIPSITA; MATERIAIS ATIVOS - goma arbica associada cal - reduzir a gua para mistura; IMPUREZAS - anidritas hexagonal ou ortorrmbica no-convertidas; SAIS - controlar tempo de presa e expanso.
CLASSIFICAO:
ADA, especificao n25. TIPO I - gesso para moldagem TIPO II - gesso comum TIPO III - gesso-pedra TIPO IV - gesso-pedra de alta resistncia TIPO V - gesso-pedra de alta resistncia e alta expanso GESSO SINTTICO.
GESSO PEDRA-ESPECIAL
Gesso tipo IV
-HEMIIDRATO MODIFICADO Calcinao em autoclave numa soluo de cloreto de clcio a 30% (120 a 130C); Formas e densidade mais regulares; Cristais pequenos e menos porosos, mais lisos e densos; Utilizado na confeco de troquis ou modelos que requerem grande resistncia.
Gesso
GESSO TIPO V
produzido pelo processo de calcinao em autoclave e com uma complexa aditivao para atingir elevada resistncia compresso, flexo, ... Maior resistncia compresso aps 1 hora = 48 MPa (diminuio da relao A/P = 0,18-0,22). Maior expanso de presa - de 0,10% para 0,30% aps 2 horas (fundio). Tempo de presa - 124 minutos.
GESSO SINTTICO
possvel fazer o (alfa) hemiidratado e o (beta) hemiidratado de subprodutos ou de produtos perdidos durante a fabricao do cido fosfrico. Propriedades iguais ou melhores que os gessos tradicionais.
INDICAO:
GESSO TIPO II Modelo de estudo, montagem em articulador; GESSO TIPO III Modelo de trabalho (prtese total e ortodontia); GESSO TIPO IV Troquel e modelo PPR; GESSO TIPO V Troquel;
REAO 1
SULFATO DE CLCIO DIIDRATADO + (CALOR)
REAO 2
SULFATO DE CLCIO
HEMIIDRATADO + GUA
+ CALOR
GIPSITA
GESSO
DIIDRATADO (insolvel )
gua
HEMIIDRATADO (solvel)
ESTGIOS DA REAO
1 - Quando o hemiidrato misturado em gua, forma-se uma suspenso fluida e manipulvel; 2 - O hemiidrato dissolve-se at formar uma soluo saturada de ons de sulfato de clcio; 3 - Estes ons difundem-se e precipitam-se (cristalizam-se) sobre ncleos de cristalizao prexistentes.
SEQUNCIA TCNICA:
PROPORCIONAR A/P MEDIR E PESAR; POR PRIMEIRO A GUA E DEPOIS O P NA CUBETA;
ESPATULAR POR 1 MINUTO; USAR A MISTURA; (VASAR O MOLDE SOB VIBRAO) AGUARDAR A CRISTALIZAO DO GESSO; DESTACAR O MODELO.
MISTURA
TEMPO DE PRESA (TP) - o tempo transcorrido do incio da mistura at que o material endurea. TEMPO DE PERDA DE BRILHO (TPB) do incio da mistura at a perda do brilho
(momento mximo em que podemos usar a mistura).
TEMPO DE PRESA INICIAL (TPI) - do incio da mistura at o momento em que a agulha de Gillmore menor (113,5g e ponta ativa 2,1mm de dimetro) no deixe impresses na superfcie (indica quando se pode
trabalhar no modelo).
TEMPO DE PRESA FINAL (TPF) do incio da mistura at o momento em que a agulha de Gillmore maior (454g e ponta ativa 1,05mm de dimetro) no deixe mais impresso na superfcie ou marcas ligeiramente perceptveis (indica que o modelo est rgido).
TEMPO DE HIDRATAO
o tempo transcorrido do incio da mistura at que atinja a temperatura mxima.
TEMPO DE PRESA
*ACELERADORES:
- Cloreto de sdio (-5%) - Sulfato de sdio (-3,4%) - Sulfato de potssio (+2%) - P de gesso (diidratado).
*RETARDADORES:
- Cloreto de sdio (+20%) - Sulfato de sdio (+12%) - Brax (2%) - Colides - Citratos, acetatos e boratos - Sangue seco.
TESTE DE ESCOAMENTO
EXPANSO NORMAL
Gesso comum (II) - 0,2 - 0,3%
EXPANSO DE PRESA
EXPANSO NORMAL - 0,06 a 0,5%.
EXPANSO HIGROSCPICA 2(duas) vezes maior.
* Ocorre um crescimento adicional dos cristais, o qual permite o crescimento livre, em vez de serem submetidos ao confinamento por teno superficial.
RESISTNCIA
MIDA
(OU VERDE)
OU SECA
POROS OU CAVIDADES
DESINFECO:
Solues desinfetantes podem ser usadas sem afetar a qualidade dos modelos de gipsita. Tcnica de escolha atravs de borrifadores.
CONTROLE DE INFECES
IMPORTANTE:
O modelo de gesso ligeiramente solvel em gua.
Recomenda-se imergir em um recipiente com gua, onde esteja presente detritos de gesso no fundo para promover a saturao da soluo de sulfato de clcio.