DISEO DE UN SUSTRATO PARA DEPOSICION DE

PELICULA DELGADA MEDIANTE EVAPORACION

TERMICA Y HAZ DE ELECTRONES
PRESENTA:
CESAR RAUL MENDOZA SAENZ

Definicin del problema

Anterior mente el laboratorio del nanomil se tenia el problema en

depositar mediante la tcnica de evaporacin trmica y haz de
electrones por lo que la deposicin no era posible en shania por lo que
se tenia una perdida econmica ya que en estos mtodos los materiales
para la deposicin son bastante caros adems de retasar las
investigaciones

Justificacin

En el siguiente trabajo se muestra la investigacin y elaboracin de un

sustrato para la elaboracin de pelculas delgadas mediante
evaporacin trmica y haz de electrones, en el presente las pelculas
delgadas son consideradas como el primer estado de la materia,
establecido por la asociacin de tecnologa para pelculas delgadas
growth-Kinetics (Chopra, K. L. Dec. 2001).

Objetivos

Objetivo general

obtener un sustrato para la elaboracin de pelculas delgadas mediante el

mtodo de evaporacin trmica y haz de electrones

Objetivos especficos

obtener pelculas delgadas por el mtodo de evaporacin trmica y haz de

electrones
Obtener una deposicin uniforme en las pelculas delgadas

Pelcula delgada

El trmino pelcula delgada no tiene

una definicin precisa

En general se refiere a pelculas cuando su espesor va de 0.1 nm hasta

unos 300 nm, Para que una pelcula delgada sea til, debe poseer todas
o casi todas las propiedades siguientes:

debe ser qumicamente estable en el entorno en el que se usar; debe

adherirse bien a la superficie que cubre (el sustrato)

debe tener un espesor uniforme

debe ser qumicamente puro o tener una composicin qumica

controlada

debe tener una baja densidad de imperfecciones. Adems de estas

caractersticas, como Por ejemplo, la pelcula podra tener que ser
aislante o semiconductora, o poseer propiedades pticas o magnticas
especiales

Tcnicas de deposicin

Deposicin Fsica de Vapor (PVD)-la pelcula Est formada por tomos

directamente transportados desde la fuente hasta el sustrato a travs
de fase gaseosa

E-beam

Sputtering (DC y RF sputtering)

PVD reactiva

Deposicin de vapor qumico (CVD)-la pelcula Se forma por reaccin

qumica en la superficie del sustrato

Cvd y pvd

Deposicin qumica en fase vapor se basa en el desplazamiento de un

equilibrio qumico entre una fase gaseosa y una fuente solida, la cual
formara la pelcula depositada .

Deposicin Fsica de Vapor (PVD)

-la pelcula Est formada por tomos directamente transportados desde

la fuente hasta el sustrato a travs de fase gaseosa

E-beam
El procedimiento consiste en la fusin por lser de un polvo
metlico sobre un substrato tambin metlico formndose una
cara en la que ambos estn mezclados. El aporte de material
puede llevarse a cabo a la par que la aplicacin del lser o como
deposicin previa. Si se pre deposita el material antes de fundir,
al aplicar el lser, el material fundido ms superficial se
deslizar sobre el no fundido hasta llegar al substrato que se
funde actuando como disipador trmico permitiendo un
endurecimiento rpido del recubrimiento.

Definicin del problema

No se logra una deposicin por el mtodo

de evaporacin trmica y haz de electrones

Por que no logramos una deposicin

por evaporacin trmica

por una fuga en la cmara de vaco

una fuga en una conexin o manguera

Mal funcionamiento de la bomba

Presin no alcanzada

Falta de energa

Modelo matemtico

F=

rf - Dw

r(Pw)= - Pw

DISEO DEL SUSTRATO

conclusin

Con la elaboracin de este proyecto se logro una mejor deposicin

uniforme en las pelculas delgadas mediante evaporacin trmica y haz
de electrones, teniendo una mejor deposicin para su caracterizacin
obteniendo mejores resultados en forma cientfica y econmicamente