Académique Documents
Professionnel Documents
Culture Documents
Estructura cristalina
Arreglo Atmico
Todos los materiales estn integrados por tomos los que se organizan de
diferentes maneras, dependiendo del material que se trate y el estado en el que
se encuentra
Estructura cristalina
Sin orden
Estructura cristalina
Xenn
Argn
Estructura cristalina
Estructura cristalina
Arreglo Atmico
Grafito
Diamante
Cobre
Microestructura
Estructura cristalina
Estructura amorfa
Sistemas cristalinos
14 Redes de Bravais
Redes de Bravais
Cbico
Centrado en las
caras
Simple
Centrado en el cuerpo
Tetragonal
Simple
Centrada
Ortorrmbico
Centrada en
las bases
Centrada en el
cuerpo
Centrada en
las caras
Simple
Hexagonal
Rombodrica
Monoclnica
Simple
Centrada en las
bases
Triclnico
Estructura cristalina
Elemento
Hexagonal compacta
Cbica compacta
Cbica-primitiva
Po
Ejercicio
Calcule la cantidad de tomos por celda en los sistemas cristalinos
cbicos.
Cbico simple
(CS)
a 2r
4r
a
3
4r
a
2
Ejercicio:
Calcular el volumen de la celda unidad del cobre FCC.
radio atmico = 1,278
Ejercicio:
Un metal cristaliza en la red cbica centrada en el cuerpo. Si su radio
atmico es 1.24 manmetros. Cuntos tomos existirn en 1 cm3?
Nmero de coordinacin
El nmero de coordinacin es la cantidad de tomos que tocan a
determinado tomo (cantidad de vecinos ms cercanos a un tomo en
particular)
N coordinacin CS = 6
N coordinacin BCC = 8
N coordinacin FCC = 12
Factor de empaquetamiento
Es la fraccin de espacio ocupado por tomos, suponiendo que son
esferas duran que tocan a su vecino ms cercano
Ejercicio:
Calcular el factor de empaquetamiento de la celda CS, BCC y FCC
Estructura
Cbica simple
(CS)
a (r)
a = 2r
Nmero de
coordinacin
Factor de
empaquetamiento
0,52
Po
Ejemplos
Cbica
centrada en el
cuerpo (CC)
a = 4r/3
0,68
Cbica
centrada en
las caras
(CCC)
a = 4r/2
12
0,74
Hexagonal
compacta
(HC)
a = 2r
c/a = 1,633 a
12
0,74
Ejercicio
El molibdeno posee una estructura cbica centrada en el cuerpo y una
densidad de 10.2 gr/cm3. Se pide:
a)
Calcular el nmero de coordinacin y el nmero de tomos de
cada celda elemental
b)
Su radio atmico.
c)
Densidad
La densidad terica de un material se puede calcular con las
propiedades de su estructura cristalina
Densidad
Ejercicio:
Determinar la densidad del hierro BCC, cuyo parmetro de red es 0,2866
nm
Masa atmica: 55,847 g/mol
Ejercicio
La densidad del potasio, que tiene una estructura BCC y un tomo
por punto de red, es 0,855 g/cm3. El peso atmico de potasio es
39,09 g/mol. Calcular:
a) El parmetro de red
b) El radio atmico del potasio
Ejercicio
Una aleacin cristaliza cbico simple, como se muestra en figura,
calcule:
a) El factor de empaquetamiento
b) La densidad terica
rA = 4,83
rB = 5,21
Ejercicio
Se tiene un metal A que cristaliza cbico simple, cuyo radio atmico es de
1,55 A.
a) Calcule el radio de un tomo que podra ubicarse en el centro de la
celda sin producir deformacin.
b) Cul el la variacin porcentual del factor de empaquetamiento de
la celda al ingresar el nuevo tomo
Ejercicio
Un metal A de radio atmico 3.78 cristaliza cbico cara centrada
a) Calcule el radio de un tomo que puede ingresar al centro de la celda
provocando que el parmetro de red aumente un 8%.
b) Calcule el nuevo factor de empaquetamiento de esta celda al ingresar
el nuevo tomo.
POLIMORFISMO Y ALOTROPA
Muchos elementos y compuestos existen en ms de una forma cristalina:
un fenmeno conocido como alotropa y polimorfismo.
Si este fenmeno ocurre en elemento puro se denomina alotropa.
En los compuesto, este fenmeno se llama polimorfismo
La existencia de una u otra estructura cristalina depende de la presin y
de la temperatura exterior.
1.539
1.394
Hierro lquido
Hierro delta () BCC
Temperatura (C)
912
- 273
Monoclnica
1170 C 2.370 C
Tetragonal
2.370 C 2.680 C
Cbica
Ejercicio
Ejemplos:
Dimensin
Tipo de imperfeccin
Lineal: dislocaciones
Defectos puntuales:
Defectos puntuales
- Son interrupciones localizadas en los arreglos atmicos
- La alteracin afecta una regin donde intervienen varios tomos
- Se producen durante la solidificacin del material o durante el
procesamiento, debido al aumento de la energa almacenada, o bien, por
introduccin de impurezas o por dopado.
- Normalmente, las impurezas son elementos o compuestos presentes
en las materias primas, su presencia tiene efectos nocivos para las
propiedades.
- Los dopantes son elementos o compuestos que se agregan en
concentraciones conocidas, en lugares especficos de la microestructura
para beneficiar las propiedades o el procesamiento.
Defecto de Vacancias
Se produce cuando falta un tomo en la estructura cristalina
Cuando faltan tomos, es decir cuando hay vacancias, aumenta el
desorden (o la entropa) del material
Todos los materiales cristalinos tienen defectos de vacancia.
Las vacancias pueden producirse durante la solidificacin como
resultado de perturbaciones locales durante el crecimiento de los
cristales.
En los metales se pueden introducir vacancias durante la deformacin
plstica, por enfriamiento rpido desde altas a bajas temperaturas, o
como consecuencia de daos por radiacin.
Las vacancias son importantes cuando se desean mover los tomos en
un material slido (difusin).
Qv
n v n exp
RT
Ejercicio
Calcule la concentracin de vacancias en hierro a temperatura
ambiente (24 C)
A qu temperatura ser necesario calentar el hierro para que la
concentracin de vacancias obtenidas sea 2000 veces mayor que la
concentracin a temperatura ambiente?
Suponga que se requiere 18.000 cal para producir un mol de vacancias
en el hierro.
Defectos Intersticiales
Se produce cuando se inserta un tomo en una estructura cristalina en
una posicin normalmente desocupada.
Los tomos intersticiales son de mayor tamao que los sitios
intersticiales, por lo cual la regin cristalina vecina esta comprimida y
distorsionada.
Los tomos intersticiales, como el hidrogeno, estn siempre presente
como impurezas, mientras que los tomos de carbono se agregan en
forma intersticial al hierro para producir acero.
El aumento de sitios intersticiales ocupados produce un aumento de la
resistencia de los materiales metlicos
es
Microestructura y propiedades
Microestructura y propiedades
Defecto Sustitucional
Se introduce un defecto sustitucional cuando un tomo es sustituido
con un tipo distinto de tomo.
Un tomo sustitucional ocupa un sitio normal en la red.
Estos tomos cuando son de mayor tamao, causa una reduccin de
los espacios interatmicos vecinos.
Cuando son de menor tamao, causando que los tomos vecinos
tengan distancia interatmicas mayores.
Los defectos sustitucionales se pueden introducir en forma de
impurezas o adicionar de manera deliberada en la aleacin.
Una vez introducidos, la cantidad de defectos no varia con la
temperatura.
Defectos puntuales
en una red metlica
de empaquetamiento
compacto
Defecto de Schottky
Es un defecto exclusivo de los materiales inicos y suele encontrarse
en muchos materiales cermicos.
Dislocacin de borde
Una dislocacin de borde se crea en un cristal por la interseccin de
un semiplano extra de tomos
Dislocacin mixta
La lnea de dislocacin puede presentar partes de carcter de borde y
otras de carcter de tornillo. El desorden atmico varia a lo largo de la
curva AB
Dislocacin de tornillo
Dislocacin mixta
Deslizamiento en un
monocristal de zinc
Defectos de superficie
Son los lmites o los planos que separan un material en regiones, cada
regin tiene la misma estructura cristalina, pero distinta orientacin
Las dimensiones exteriores del material representan superficies en
donde termina el cristal. Cada tomo en la superficie ya no tiene el
nmero adecuado de coordinacin y se interrumpe el enlazamiento
atmico
El lmite de grano, que es la superficie que separa los granos
individuales, es una zona angosta donde los tomos no tienen la
distancia correcta entre s, existen zonas de compresin y otras de
traccin.
Material policristalino
Microestructura y propiedades
Importancia de los defectos
Al incrementar el nmero de
dislocaciones, se aumenta la
resistencia del material
Se
requieren
esfuerzos
mayores para mover una
dislocacin
cuando
se
encuentra
con
otra
dislocacin
Metal ms resistente
Se
requiere
de
mayor
esfuerzo para que una
dislocacin se deslice
El
movimiento
de
las
dislocaciones se bloquea en
los bordes de grano
Gases
Difusin
Lquidos
Slidos
Tratamiento trmico
Difusin
Mecanismos de difusin
- Autodifusin
- Difusin por vacancias
- Difusin intersticial
(c)
(a y b) Difusin por vacancias en cristales FCC
(c) Difusin intersticial en el plano (100) de la red FCC
Autodifusin
En los materiales puros,
los tomos se mueven o
saltan de una posicin a
otra en la red (se detecta
mediante
trazadores
radioactivos).
La autodifusin ocurre de
manera continua en todos
los materiales
No se aprecia su efecto
sobre el comportamiento
del material
Creacin de una
nueva vacancia
Flujo de tomos y
vacancias a
contracorriente
Difusin intersticial
- Movimiento de tomos intersticiales de un sitio a otro
- En este mecanismo no se requieren vacancias
- Difusin ms rpida
Los tomos son forzados o deformados al pasar entre otros tomos durante la
difusin, se requiere de una alta energa de activacin. Generalmente el
mecanismo de difusin sustitucional requiere de mayor energa que el
intersticial
Microestructura y propiedades
J D
C
x
J: flujo (tomos/cm2 s)
D: Difusividad o coeficiente
de difusin (cm2/s)
D D 0 exp
Q
RT
Donde:
Q : energa de activacin (cal/mol)
R : constante del gas ideal (1.987 cal/mol K)
T : temperatura absoluta (K).
Do : constante para un sistema de difusin dado.
Tipo de mecanismo de difusin
D
Temperatura
Tipo de estructura de la matriz
Tipo de defectos cristalinos
Concentracin de las especies que difunden
Ejercicio:
La purificacin del gas hidrgeno se realiza por difusin a travs de una
lamina de paladio. Calcular el nmero de kilogramos de hidrgeno que
pasa en una hora a travs de una lamina de 0,25 m2 de rea y 6 mm de
espesor a 600 C. Suponer un coeficiente de difusin de 1,7 x 10-8 m2/s,
que las concentraciones de hidrgeno son de 2,0 y 0,4 kg de hidrgeno por
metro cbico de paladio y que se ha alcanzado el estado estacionario.
2 ley de Fick:
C
C
x
t x
La solucin a la segunda ley de Fick permite calcular la concentracin de
muestras cercanas a la superficie del material como una funcin del tiempo
y la distancia, siempre y cuando el coeficiente de difusin D permanezca
constante, es decir que sea independiente del tiempo
a) Difusin de un gas
A en un slido B
b) Perfiles de
concentracin del
elemento A
Cs C x , t
erf
Cs Co
2 Dt
La funcin de error
Ejercicio
a) Determinar el tiempo necesario para alcanzar una concentracin de
0,3% de carbono a 4 mm de la superficie de una aleacin hierrocarbono que inicialmente contena 0,1% C. La concentracin en la
superficie se mantiene a 0,9 %C y la probeta se calienta a 1000 C
b) El nitrgeno difunde en hierro puro a 675 C. Si la concentracin
superficial se mantiene a 0,2% N en peso cul ser la
concentracin a 2 mm de la superficie despus de 25 h?
c) Los coeficientes de difusin del cobre en el aluminio a 500 y a 600
C son 4,8 x 10-14 y 5,3 x 10-13 m2/s, respectivamente. Determinar el
tiempo aproximado necesario para conseguir, a 500 C, la misma
difusin del Cu en Al en un punto determinado, que un tratamiento
de 10 h a 600 C
Bordes de grano
Difusin
Dislocaciones
Superficies libres
Crecimiento de grano
Pasos en la soldadura por difusin (a) unin del material a soldar (b)
aplicacin de presin para deformar la superficie (c) difusin en
bordes de grano (d) la eliminacin de huecos requiere difusin
volumtrica.
Ejercicios:
1) Una forma de fabricar transistores, dispositivos que amplifican las
seales elctricas, es la de difundir tomos como impurezas en un material
semiconductor como el silicio. Supngase una oblea de silicio de 0,1 cm.
de espesor, que contienen originalmente un tomo de fsforo por cada
10.000.000 de tomos de Si, es tratada de manera de aumentar a 400
tomos de P por cada 10.000.000 de tomos de Si en la superficie.
Calcular el gradiente de concentracin
a) En porcentaje atmico por centmetro
b) En tomos/cm3 - cm
El parmetro de red del silicio es 5.4307 A y su estructura es cbica de
diamante con 8 tomos equivalentes.