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MINISTÈRE DE LA DÉFENSE NATIONALE

ETAT-MAJOR DE L’ARMÉE NATIONALE POPULAIRE


ÉCOLE MILITAIRE POLYTECHNIQUE
CHAHID ABDERRAHMANE TALEB

GÉNIE CHIMIQUE

Les réactions chimiques dans le réacteur CVD

Réalisé par: Encadré par :


EOC: MENASRIA Abd Elmouiz Lt.Col MELOUKI
EOC: SLIMANI Zineb Yasmine

07/05/2023
Plan de travail

11 Introduction

2 Les étapes du CVD

3 Modélisation du CVD

4 Réacteur CVD tubulaire

5 Conclusion

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1 Introduction
 Introduction

Les techniques de fixation en phase vapeur PVD, CVD et notamment ALD sont
actuellement en développement compte tenu des meilleurs résultats d’adhérence et de
contrôle d’épaisseur de couche de catalyseur, en comparaison aux méthodes effectuées
en phase liquide ou la méthode sol-gel.

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 Définition de la CVD

Le procédé de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) consiste à mettre un composé volatil
du matériau à déposer en contact, soit avec un autre gaz au voisinage de la surface du substrat, soit
avec la surface elle-même.

3
 Réacteur CVD

4
 les techniques CVD

Les techniques CVD sont différenciées par le type d’énergie utilisée pour activer la réaction
chimique

La CVD thermique PECVD (Plasma Enhanced CVD)

5
 les techniques CVD

LCVD (Laser CVD)

OMCVD (Organo-Metallic CVD)

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Avantages et inconvénients

Avantages :

 Grande vitesse de dépôt : peut atteindre 0.1 à 100µm/min.

 Recouvrement uniforme de formes complexes et creuses.

 Obtention à températures relativement basses de composés réfractaires.

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 Avantages et inconvénients

Inconvénients :
 Agressivité toxicité et/ou instabilité à l’air des précurseurs d’où difficultés

de manipulation.

 Essentiellement un procédé d’équilibre : les phases métastables ne peuvent

généralement pas être reproduit par la CVD.

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 Applications de la CVD

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2 Les Etape de CVD
Les étapes de CVD

10
Les étapes de CVD

11
 Les étapes de CVD

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3 Modélisation du CVD
 Modélisation du CVD
La modélisation est un processus d’extraction des mécanismes et les paramètres qui
gèrent un système.

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 Modélisation du CVD

Les éléments essentiels pour modéliser un réacteur CVD :

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 Modélisation du CVD

Plusieurs configurations sont employées pour le dépôt CVD:

• Réacteur tubulaire

• Réacteur « tête de douche »

• Réacteur à pression atmosphérique …

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 Modélisation du CVD

Réacteur Tubulaire

16
 Modélisation du CVD
Réacteurs « Tête de douche »

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4 Réacteur tubulaire
 Réacteur tubulaire

18
Réacteur tubulaire

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 Réacteur tubulaire

La vitesse limitante


La constante de vitesse

La probabilité d’adhérence Ajuster le compromis:


Réaction en phase gazeuse VS réaction de surface

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 Réacteur tubulaire

Pour un réacteur tubulaire simple on détermine la vitesse limitante de phénomène

21
 Réacteur tubulaire

Influence de diamètre du réacteur

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 Réacteur tubulaire

Détermination de la constante de vitesse:


Difficulté du mesure de
dose directe

Développement des modèles


analytiques et statistiques
TG-43

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 Réacteur tubulaire

Etude en microcavité

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 Réacteur tubulaire :

Etude en macrocavité

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5 Conclusion
 Conclusion

La technique de dépôt CVD est utilisée pour augmenter les propriétés de surface.
Les techniques expérimentales tels que les méthodes de dépôt de paroi tubulaire, de
microcavité et de macrocavité, peuvent être utilisées pour extraire les paramètres importantes
qui gèrent la diposition par CVD

De tels modèles peuvent nous fournir des outils quantitatifs pour déterminer les
expériences appropriées pour améliorer les performances des processus CVD.

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Merci de votre attention

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