STAGE TECHNICIEN

effectué au sei d

Examinées par

Année universitaire: 2023-2024 1

PLAN

01 Presetation de la CRTEn

02 Renewable energy

Synthèse de nanofils de silicium pour applications

03 PV

04 Conclusions

1
01
Présentatio
n de la
CRTEn
1
 Les laboratoires
Aujourd'hui, le centre est divisé en quatre laboratoires

1 2 3 4
LPT LANSER LMEEVED LPV

1
Evaporation
thermique?
Ce processus est couramment utilisé en dépôt
physique en phase vapeur (PVD), également
connu sous le nom de dépôt sous vide

1
Evaporateur thermique 1
Exemple après déposition thermique 1
 PECVD ?
Dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma
implique plusieurs étapes et paramètres qui régissent
le dépôt de couches minces.

1
Les équipements de la technique PECVD 1
 02
Les
technologies
PV
1
1
What is
renewable
energy?
Renewable energies are those which derive
from natural, inexhaustible sources such as
the wind, sun or water

1
 Main characteristics

1 2 3
They are clean, almost Owing to their indigenous They promote
inexhaustible resources nature, they help to technological
provided to us reduce our countries’ development and
by the nature dependence on external job creation
supplies

1
 Types of renewable energy
The sources and types of renewable energy are mainly formed by:

Solar Hydraulic Sea energy

Eolic Biomass Geothermic

1
03
Synthèse de nanofils de
Silicium par RIE pour
applications PV

1
 1

Les étapes de 1 Nettoyage

fabrication des Oxydation thermique

nanofils de 2 par four RTP

silicium ? 3
Evaporation thermique
de la couche
métallique

Réduction de Bismuth
4 (Bi)

5 Gravure par RIE

1
Les résultats

1
Une couche de bismuth est déposée par évaporateur thermique. Une
image MEB en section et le voila en image reelle montre bien le dépôt
de Bi

1
La réduction sous plasma H2 dans la PECVD a permis
l’obtention des particules de bismuth

1
 Gravure par RIE

La technique de gravure ionique réactive RIE (en anglais Reactive Ion Etching) est une
technique communément utilisée en microélectronique pour la micro/nano fabrication des
structures semi-conductrices.

1
Voila une configuration typique d’une chambre RIE ,et un exemple de gravure
verticale en tranche par RIE
1
Gravure de loxyde de Si par RIE

1
Afin d’éliminer complètement le SiO2, on a gravé
l’échantillon pendant 1 heure et 30 minutes.

1
 Gravure de bismuth

Dans ce travail, on a essayé aussi d’optimiser la gravure d’une

couche de bismuth par RIE en appliquant un plasma de chlore
Cl2. La photographie montre bien la gravure et une diminution de
la quantité de bismuth pour une durée de 10 min comme le montre
la figure 1
 04
Conclusions:
Time for an energy change

1
 Conclusions
Change needs to be put forward for the present energy system to eliminate the major dependence on
fossil fuels and on the issues that they bring:

1 2 3
Unbalances Pollution Depletion of
resources

1
Merci pour
votre
attention