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Résumé : Depuis le début des années 1990, des recherches ont été menées au laboratoire Ampère (ex-
CEGELY) sur les composants de puissance grand gap (SiC, puis diamant depuis les années 2010 et plus
récemment GaN) avec un soutien exemplaire de la DGA. Ces actions ont permis d’initier des relations
avec le secteur industriel (Schneider-Electric, Ferraz-Shawmut, IBS, Safran, ST-Microelectronics) ou
institutionnel applicatif (SuperGrid Institute, Institut Saint-Louis). Cet article retrace cette aventure,
l’évolution des recherches et surtout les progrès significatifs réalisés que ce soit en termes de faisabilité
de composants de puissance, d’augmentation des tensions de claquage et aussi des moyens de
caractérisation de composants.
Figure 6.b
Figure 4 : Montage expérimental pour le déclenchement du Figure 6 : Résultats expérimentaux (figure 6a) et de
thyristor simulation en 3D (figure 6b), montrant l’impact du rayon de
courbure en périphérie des protections périphériques en
utilisant une combinaison de gravure et JTE
A noter enfin la création en 2014 d’une startup, Caly
Technologies, par deux maîtres de conférence de notre
équipe de recherche, entreprise en pleine réussite et
évolution (5 employés aujourd’hui).
En conclusion, les recherches menées en France (avec
les supports technologiques de partenaires européens)
sur les composants de puissance à large bande interdite
ont permis d’obtenir des résultats de premiers plans au
niveau international. L’industrialisation de masse des
Figure 5 : Caractéristique en commutation I(t) et V(t) du composants SiC est en cours (SiC-MOSFET).
thyristor
3. Perspectives
Par ailleurs, l’emploi de techniques innovantes a
permis d’atteindre de significatifs résultats : Commutation rapide des composants de puissance
- le dopage localisé de type P par VLS (diodes (jusqu’à 20 kV), caractérisation haute tension et haute
bipolaires et protection périphérique avec température sous vide (programme GD3E), packaging
couche cristalline de très grande qualité), haute tension (jusqu’à 15 kV)
- la caractérisation de diodes diamant (IV-
OBIC) et diodes GaN, 4. Remerciements
- la simulation et conception de composants par Les doctorants (Tony Abi-Tannous, Besar Asllani,
éléments finis (Synopsys) 3D. Pierre Brosselard, Florian Chevalier, Nicolas Daval,
Nicolas Dheilly, Hassan Hamad, Stanislas Hascoet,
Runhua Huang, Frédéric Lanois, Jean-François
Mogniotte, Franck Nallet, Minh-Duy Nguyen, Shiqin
Niu, Fabien Thion, Dominique Tournier, Heu Vang,
Teng Zhang)
Les permanents (Cyril Buttay, Mihai Lazar, Luong-
Viet Phung, Christophe Raynaud)
Les collaborations universitaires (LAAS, Laplace,
LSPM, GEMAC, LMI, Charles Coulomb, G2ELab).
5. Références bibliographiques
[1] W. Saito, I. Omura, T. Ogura, H. Ohashi
« Theroretical limit estimation of lateral wide band-gap
Figure 6.a semiconductor power-switching device » Solid-State
Electronics 48 1555-1562 (2004)
[2] P.-N. Volpe, P. Muret, J. Pernot, F. Omnes, T.
Teraji, Y. Koide, F. Jomard, D. Planson, P. Brosselard,
N. Dheilly, B. Vergne, S. Scharnholz « Extreme
dielectric strength in boron doped homoepitaxial
diamond » Appl. Phys. Lett. 97, 1 (2010)