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réactive
Préparé par: Oueslati Rania et Hedhili Imene
Plan :
Définition
Principe de la technique
Avantages et
inconvénients
Domaines d’application
Conclusion
Qu’est ce que le « SPRAY » ?
o La pulvérisation chimique réactive « SPRAY » c’est une modification de la méthode de dépôt chimique en phase
vapeur «CVD »; dépôt de matériau solide sur un substrat grâce à la décomposition d’un gaz sur ou près de la surface
du substrat.
o La méthode de pyrolyse par pulvérisation consiste à former un aérosol à partir de diverses solutions de
précurseurs, qui peuvent être une solution de sels métalliques ou une solution colloïdale.
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L’expérience peut être réalisée à l’air, et peut être
préparée dans une enceinte ou bien dans une chambre
de réaction) sous un vide, environ, de 50Torrs. Processus de dépôt
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Le processus de la formation des films par Spray pyrolyse peut être résumée
comme suit :
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●
L'aérosol est généré à partir des
La pulvérisation vibrations haute fréquence produites
ultrasonore au sein de la solution, et localisées
vers la surface libre du liquide.
Principe de la pulvérisation ultrasonore
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A La gouttelette atteint le substrat; le
solvant s'évapore en laissant un
précipité qui se décompose alors à
l'état solide. Pyrolyse
B
Le solvant s'évapore avant que la
gouttelette n'atteigne la surface à revêtir
et le précipité frappe le substrat en se
décomposant en phase solide.
https://www.youtube.com/watch?v=pAYsH7xnV6s&t=2s
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Le montage expérimental du
dispositif de SPRAY
Système de pulvérisation :
4. Chambre de pulvérisation
Système de chauffage: 5. Buse
1.Élément chauffant + 6. Générateur d’azote,
substrat 7.Cache substrat
2. Thermocouple, 8. Hotte
3. Multimètre
Source de solution :
9. Solution,
10. Seringue
11. Jet pulvérisé.
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La chambre de pulvérisation La buse Alimentation azote
Une enceinte cubique en plexiglas, qui La buse est conçue ,en plastique dur Ce gaz est chimiquement inerte
couvre le système , surmontée d’un relié à deux arrivées, l’une pour le gaz assurant un rendement élevé, il
système d’évacuation (Hotte) des gaz afin et l’autre pour la solution de précurseur permet donc d’effectuer le
d’assurer l’évacuation des gaz au cours du en forme de T, pour amener le liquide processus de pulvérisation sans
dépôt aux flux de gaz ou il est atomisé en un qu’il participe chimiquement à la
jet conique . composition du dépôt.
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Paramètres de dépôts:
Obtenir une bonne solubilité du
composé source dans le solvant Le substrat ne doit pas influe sur
Obtenir une compatibilité optimale la couche déposée :
solvant-soluté et une bonne stabilité Verre de microscope
de la solution à température et Verre ordinaire amorphe
pression ambiantes. Corning glass
Le composé source doit être le plus
volatile possible. Choix de la
solution Choix de
Utiliser des températures de substrat
précurseur
sublimation du composé et
d’évaporation du solvant
suffisamment basses devant la
température de la réaction.
11 AJOUTER UN PIED DE PAGE MM.DD.20XX
Paramètres expérimentaux influençant le dépôt
De nos jours elle est largement répandue pour synthétiser une variété d'oxydes, de métal
aussi bien que les chalcogènes binaires et ternaires dans différentes formes (ex : Les
couches minces).
La pyrolyse par pulvérisation est utilisée depuis plusieurs décennies dans l'industrie du
verre et dans la production de cellules solaires.
La fabrication de cellules solaires par spray rentre dans le cadre de fabrication de semi-
conducteurs à grande échelle tout en maintenant un coût de production assez bas on réduit
le nombre d’opérations technologiques ainsi que les matériaux obtenus par spray seront
plus utiles pour les applications large dans le domaine photovoltaïque, les dispositifs
optoélectroniques…
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Conclusion
Pour conclure on déduit que cette technique permet d'obtenir des films
d'épaisseur uniforme, de grande surface et adhérant de haute qualité. Ainsi elle
ne nécessite pas de substrats ou de produits chimiques de haute qualité.
Les propriétés du film peuvent être facilement contrôlées dans une large gamme
de conditions en modifiant les paramètres de pulvérisation, tels que la
température du substrat, la pression d'écoulement d'air et la molarité de la
solution de précurseur.
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