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R6sum6
S u mmar y
current densities are an increasing function of the charge passed during anodic
etching and also of temperature.
Electrode capacity measurements on aluminium electrodes after anodic
treatment, followed by anodic oxidation (10 V in a m m o n i u m tartrate solu-
tion) allow correlation of the slope of the intensity-tension plot in domain I
with the surface state of the electrode.
1. Introduction
2. Partie exp~rimentale
2.1. Electrode
L'aluminium utilis~ au cours de cette gtude est de l'aluminium poly-
cristallin super raffin~ (fourni par la Soci~t~ de Ventes de l'Aluminium
P~chiney) de composition Fe 0,002; Si 0,0025; Cu 0,004; Mg < 0,001; Zn
< 0,001; Ti < 0,001; A1 > 99,99.
La surface active de l'~lectrode est la section d'un barreau cylindrique
d'aluminium (4 = 11 mm). Elle est d~limit~e par un enrobage de r~sine. La
surface est pr~par~e de la mani~re suivante: polissage m~canique au papier
800 puis au feutre impr~gn~ d'alumine 1 pm, 0,5 pm, 0,2 pm, puis de pfite
diamant~e 1/10 ~m. L'~lectrode est ensuite rinc~e fi l'ac~tone et d~graiss~e
dans un bain d'alcool ~thylique absolu sous ultra-sons. On forme une cou-
che d ' o x y d e de nature et d'~paisseur reproductibles sur ~lectrode d'aluminium
par une oxydation anodique de 20 min dans une solution de tartrate d'am-
monium ~ 3% ~ 25 °C. La tension entre cette ~lectrode et une plaque d'alu-
minium utilis~e comme cathode est constante et ~.gale ~ 5 V pendant ce trai-
tement [ 1 ].
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2. 3. Matdriel ~lectrique
Nous avons utilis~ un potentiostat Tacussel PRT 20-2X ~quip~ d'un
tiroir TP PRT et d'un c o m m u t a t e u r attente travail, intensiostatique, poten-
tiostatique. Les courbes i = f(e) ont ~t~ enregistr~es sur un enregistreur ( X Y )
Sefram TGM 164, et les courbes i = f(t) sur un enregistreur Servotrace Sefram.
3. R~sultats exp~rimentaux
13
__ ? J I I
-1400 -1200 -1000 -800 TI~SION (mV/ECS)
10 20 30 ~ (min)
Fig. 2. E v o l u t i o n d e la d e n s i t 6 d e c o u r a n t i e n z o n e I (-- 9 0 0 m V / E C S ) a p r ~ s u n e a t t a q u e
a n o d i q u e e n z o n e II ~ 5 0 m A c m - 2 d u r a n t 1 0 rain.
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-F" I
I
J
oZ
r
-I100 -1000 -900
( i:lV/,~?S )
(
...42
15 30 Q
Fig. 4. Densit~ de courant i en zone I (-- 900 mV/ECS) apr~s attaque anodique en zone
II (50 mA cm-2; Q en coulombs): (a) 50 °C, (b) 70 °C.
3.2.3. E f f e t de la temperature
Nous avons relev~ la valeur de l'intensit~ o b t e n u e en z o n e I ~ la t e n s i o n
de -- 9 0 0 m V / E C S au cours d u balayage p o t e n t i o d y n a m i q u e ~ 3 V min -1 et
apr~s a t t a q u e s a n o d i q u e s i n t e n s i o s t a t i q u e s de dur~e variable ~ 50 m A c m -2.
La c o u r b e (a) (Fig. 4) c o r r e s p o n d ~ la t e m p e r a t u r e de 50 °C et la c o u r b e (b)
la t e m p e r a t u r e de 70 °C.
C h a c u n e de ces c o u r b e s t e n d vers une valeur limite; c e p e n d a n t c e t t e
limite est sept fois plus i m p o r t a n t e p o u r la t e m p e r a t u r e de 70 °C que p o u r
celle de 50 °C.
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E J I J I l I I l ~ /
0 15 30 Q
Fig. 5. (a) Capaeit~ de l'~leetrode et (b) densit~ de eourant i en zone I (-- 900 m V / E C S ) ,
apr~s attaque a n o d i q u e en zone II (50 m A era-2; Q en coulombs).
3. 3. Etalonnage de la mdthode
Nous r~alisons des attaques anodiques intensiostatiques ~ 50 mA cm -2
de l'~lectrode d'aluminium p e n d a n t des dur~es variables ~ 70 °C. Apr~s cha-
cune de ces attaques, nous r e f o r m o n s une couche d ' o x y d e sur la m~me ~lec-
tr o d e par anodisation sous tension constante de 10 V pendant 20 min en
milieu tartrate d ' a m m o n i u m ~ 3% et h t e m p e r a t u r e ordinaire. Nous contrS-
lons la qualit~ de cette f o r m a t i o n d ' o x y d e par la valeur du courant de fuite.
Ensuite, nous mesurons par une m~thode classique, ~ l'aide d'un pont , la
capacit~ de ces ~lectrodes.
La courbe (a) de la Fig. 5 repr~sente l'~volution de la capacit~ de l'~lec-
trode, en f o n c t i o n du h o m b r e de coulombs utilis~s p e n d a n t la dissolution
anodique en zone II. I1 est c o n n u [3] que la capacit~ est p r o p o r t i o n n e l l e ~ la
surface active o b t e n u e p e n d a n t la dissolution anodique:
eS
C-
4nd
off e repr~sente la constante di~lectrique de la couche d ' o x y d e , S la surface
r~elle et d l'~paisseur de la couche d ' o x y d e .
La courbe (b) de la Fig. 5 repr~sente l'~volution de l'intensit~ ~ la ten-
sion de -- 900 mV/ECS (zone I} ap;~s des attaques anodiques (en zone II) de
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4. Discussion et c o n c l u s i o n
L a c o u r b e i = f ( e ) en z o n e I o b t e n u e apr~s u n e a t t a q u e d ' u n e ~ l e c t r o d e
d ' a l u m i n i u m sert de t e s t ~ l e c t r o c h i m i q u e . Elle n o u s renseigne sur le degr~
d ' a v a n c e m e n t de la p i q f i r a t i o n d u m~tal. Elle n o u s p e r m e t d ' o b t e n i r l'~volu-
t i o n de l ' ~ t a t de la s u r f a c e active de l ' ~ l e c t r o d e car sa p e n t e est p r o p o r t i o n n e l l e
c e t t e surface.
N o u s travaillons a c t u e l l e m e n t sur la signification et l ' i n t e r p r ~ t a t i o n de
ces d e u x z o n e s de t e n s i o n s en e s p ~ r a n t o b t e n i r des i n f o r m a t i o n s sur les
cin~tiques c o r r e s p o n d a n t e s et la m o r p h o l o g i e de la p i q f i r a t i o n .
Remerciement
R~f~rences