Compte rendu

‘ jonction pn a base d’oxyde’

Jonction pn
 En juxtaposant une zone dopée P et une zone dopée N à l'intérieur d'un cristal
de semiconducteur, comme sur la figure ci-contre, on obtient une jonction PN.

La jonction PN polarisée en sens inverse

La jonction PN polarisée en sens direct

Oxyde de cuivre(cu o) 2

 L'oxyde de cuivre ou oxyde cuivreux (parfois, sous-oxyde de cuivre),

est un composé du cuivre et de L’oxygène , de formule chimique Cu2O.
 L'oxyde cuivreux existe forme naturelle : la cuprite.

identification Propriétés Propriétés Propriétés cristallographie

chimiques physiques électroniques
•Formule brute : Tfusion:1232 Eg=2ev Système cristallin
cu2o Masse volumique : cubique
Oxyde de •Masse molaire: 6g/cm^3
cuivre 143,091 ± 0,006
( cu2o) g/mol
Oxyde de zinc ( Zno)

 L’oxyde de zinc est un composé chimique d'oxygène et de zinc,

corps ionique de formule chimique ZnO.

identificati Propriétés Propriétés Propriétés cristallographi

on chimiques physiques électroniques e
Oxyde de Formule brute : Tfusion : 1975 Eg=3.437ev à Structure type :
ZnO C0
zinc Masse Masse
(1.6K) wurtzite
molaire:81.38 volumique: Eg=3.37 à (300K)
±0.02 g/mol 5.6g. Cm-3
hétérojonction p-Cu2O / ZnO-n solar cell fabricated by spark
plasma sintering

 Une méthode de synthèse simple de nano poudre a température ambiante sans

aucun agent organique et complexant a permis la préparation des nano
poudres cristallines cu2o et Zno par polycondensation inorganique.
 Ces céramiques ont également été caractérisées par DRXet microscopie
électronique à balayage (MEB), ainsi que par tomographie par rayons X
(XCT).Les résultats de diffraction des rayons x (DRX) montrent que les phases
d'oxyde formées sont pures et bien cristallisées. MEB et XCT ont montré que les
nanograins sont préservés après SPS dans les deux matériaux d'oxyde, tandis
qu'une plus petite couche (~ 20 µm) de phase d'oxyde pur avec des grains plus
gros est formée entre Cu2O et ZnO pendant le processus de frittage.
 La technique SPS se traduit par une densité élevée de matériaux avec absence
de porosité et de fissures , une bonne séparation de phases .
Fabrication and characterization of cu2o,zno and ITO thin films
toward oxide thin film solar cell by mist chemical vapor deposition
method
 Des films minces d'oxyde de zinc de type N (ZnO) et d'oxyde cuivreux de type p (Cu2O)
ont été fabriqués par une méthode de dépôt chimique en phase vapeur (brouillard CVD)
par brouillard à base de solution sans vide assisté par pulvérisation par ultrasons Les films
de ZnO conducteur transparent dopé au gallium (ZnO: Ga) et oxyde d'indium tin oxide
(ITO) ont également été formés par la même technique.

d'oxyde de zinc de type N d'oxyde cuivreux de type p

concentration en porteurs 3.6*10^19 3.3*10^15
(cm^-3)
Mobilite(cm/vs) 8.6 0.2

. Les couches minces de ZnO: Ga et ITO ont une transmittance élevée supérieure à
85% dans la région visible

ZNO:Ga ITO
Résistivité(Ω · cm) 2.3*10^-3 1.4*10^-4
 On the electrochemical synthesis and characterization of p-Cu2O
/n-ZnO heterojuntion
 Dans cet article ils ont montrer que l'hétérojonction de couches minces Cu20 /
Zno / FTO a été préparée par la méthode d’éléctodeposition . Des
concentrations élevées de porteurs ont été obtenues pour zno et cu2o par
analyse Mott-Schottky.(c-2=f(v))
ZnO Cu2O
9.5*10^19 cm-3 4.6*10^15cm-3

Le résultat DRX montre une cristallinité élevée de la couche de Cu20 et de ZnO suivant la
structure cubique (111).
Les images MEB en coupe transversale confirment la formation de gros grains cubiques
de Cu20 sur une couche de ZnO plate continue.
Les mesures de spectroscopie d'impédance électrochimique (EIS) montrent le transport
rapide des porteurs de charge sur la surface d'hétérojonction p-Cu20 / n-Zn0
le bord d'absorption de l'hétérojonction ZnO / Cu20 s'étend jusqu'à la zone visible
Les méthodes de fabrication une jonction pn
 Éléctrdeposition
 Spark plasma sintering (SPS) / frittage flash

 Chemical vapor deposition (CVD):est une méthode dans laquelle le ou les

constituants d’une phase gazeuse réagissent pour former un film solide dépose sur un substrat.

Toutes ces méthodes permettent la création des couches minces : non

toxicité , fort absorption optique et faible cout de production.