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b) Nombre de porteur de charges (ne ou nt) par unité de volume (cm ) de Si intrinsèque :
Dans le silicium intrinsèque, à chaque fois qu’un atome de Si est « ionisé » quand un de ses électrons
de liaison passe dans la bande de conduction, il y a simultanément création d’un trou (ou lacune électronique)
dans la bande de valence (fig. 9.25 du livre « Des Matériaux »). Les nombres de porteurs de charges ne et nt
sont donc égaux à ni et on peut écrire l’équation 9.57 de cette façon :
Remarque : à 20 °C, il n’y a donc que 1/3 de millionième de millionième d’atomes de Si qui assurent la
conduction intrinsèque !!!
-E
exp g
σ2
= 2kT2 ln
σ2 Eg 1 1
= -
σ1 2k T1 T2
Donc : (2)
σ1 -E
exp g
2kT1
Ici, T2 = 1673 K et T1 = 293 K et les autres grandeurs (Eg, k) sont connues. On obtient donc :
La conductivité extrinsèque σext à 20 °C doit être égale à la conductivité intrinsèque σint à 1400 °C. En
utilisant le résultat de la question (d), on peut donc écrire :
σext)20 °C = 6,027x107(σ
(σ σint)20 °C (3)
Dans le cas d’un semi-conducteur extrinsèque, la conductivité σext est assurée essentiellement par les
porteurs de charge introduits par le dopant (ici, des électrons) car le nombre nd de porteurs de charge
majoritaires est bien supérieur au nombre de porteurs de charge « intrinsèques » ne ou nt (nd >> ne = nt);
l’équation 9.57 appliquée à la conductivité extrinsèque s’écrit alors:
σext)20 °C = ndeµe
(σ (4)
En combinant les équations (3) et (4), on obtient le nombre nd de porteurs de charges majoritaires par
unité de volume :
Ce nombre nd est aussi égal au nombre d’atomes de phosphore qui a été ajouté par unité de volume de
silicium. La concentration atomique Cd requise pour le dopage est donc égale à :
Cd = nd/N = (1,107x1018)/(4,997x1022) = 2,215x10-5 = 22,15 ppm at.
Cd = 22,15 ppm at
Remarque : il suffit d’ajouter seulement 22 ppm at. de phosphore au silicium pour multiplier la conductivité de ce
dernier à 20 °C par 60 millions de fois !!!