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TD JFET Mosfet 2024
TD JFET Mosfet 2024
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Exercice 2 MOSFET canal N
Un transistor à effet de champ à enrichissement NMOS est constitué d’un
substrat P de densité NA=1015cm-3 ; d’un isolant d’oxyde de silicium d’épaisseur
50nm et d’une grille d’aluminium. Déterminer à température ambiante :
1) La capacité de l’oxyde
2) la valeur de la tension de seuil VT.
3) la valeur de VDsat pour une tension de commande VGS=5V
4) la valeur de IDsat pour une tension de commande VGS=5V
5) on mesure la résistance entre le drain et la source d'un MOSFET pour des
faibles tensions VDS (région Ohmique) on trouve : 1K pour VGS1 = 2V et
500 pour VGS2 = 5V. Calculer la tension d'inversion VT de ce transistor
on donne :
Travail de sortie de l'aluminium :qfm = 4.3 eV;
Hauteur de la BI de Si : Ec - Ev = 1.12 eV.
Affinité électronique de Si : q c s = 4.05eV.;
Longueur du canal L=2µm ; b=100µm
L’épaisseur de l’oxyde Wox=50nm ; ox = 0,33.10-12 F/cm
La mobilité de ê µn=1000cm2/Vs
G
+ + ++++ + + + + + + + + + + + + + + + + +
wox SiO2 b
N+ N+
S D
0 x x+dx x
L
2
3