See discussions, stats, and author profiles for this publication at: https://www.researchgate.

net/publication/329358794

Etude de refroidissement d’une cathode magnétron

Conference Paper · May 2016

CITATIONS READS

0 166

4 authors, including:

Salhi M'hamed Saddik El Hak Abaidia

University of Kashmir Laboratoire Revetement Materiaux Environnement, Boumerdes
19 PUBLICATIONS   29 CITATIONS    42 PUBLICATIONS   249 CITATIONS   

SEE PROFILE SEE PROFILE

Brahim Mohammedi
Nuclear Research Centre of Birine
42 PUBLICATIONS   81 CITATIONS   

SEE PROFILE

Some of the authors of this publication are also working on these related projects:

Magnetic films View project

Dft simulation View project

All content following this page was uploaded by Brahim Mohammedi on 09 December 2020.

The user has requested enhancement of the downloaded file.

CFD & Tech 2016 02 – 03 Mai 2016, CRND-Draria, Alger

ETUDE DE REFROIDISSEMENT D’UNE CATHODE

MAGNETRON

Salhi M’hamed1,*, Abaidia Seddik el Hak2, Mohamedi Brahim1 et Laouar

Soufiane1

1
Centre de Recherche Nucléaire de Birine (CRNB), BP 180 Ain-Oussera- Djelfa-
Algérie
2
Unité de Recherche-Matériaux Environnement et Procédés. Université
UMBBoumerdes (UR-MPE/UMBB).
e-mail : mn_salhi@yahoo.fr

Résumé : les cathodes magnétrons, dans les systèmes de dépôt de couche minces par
pulvérisation cathodique (PVD) magnétron, sont des composants clés qui influent sur la
qualité de dépôt si leur design n’est approprié. Sous l’effet des particules du plasma et la
puissance délivrée, les composants de la cathode magnétron s’échauffent et peuvent
atteindre des températures limites qui conduisent à un disfonctionnement. L’UR-MEP
de l’université UMBBoumerdes en collaboration avec le CRNB ont développés un
système PVD bi-cathodes magnétrons. Ce travail présente l’étude thermohydraulique,
par simulation numérique CFD, de la cathode développée. Les équations qui gouvernent
l'écoulement sont discrétisées avec la méthode des volumes finis et la solution est
obtenue en utilisant l'algorithme SIMPLEC (Semi-Implicit Method for Pressure Linked
Equations-Consistent). En outre, afin d'analyser l'écoulement turbulent, nous avons
utilisé le modèle standard k-. Pour plus de précision, il a été supposé des conditions
aux limites sans glissement pour la vitesse d’écoulement. Plusieurs vitesses
d’écoulements et puissances délivrées ont été considérées pour aboutir aux conditions
limites d’exploitation de la cathode développée.

Mots clés : Cathode magnétron, PVD, CFD, ANSYS FLUENT, Température de Curie.

I. INTRODUCTION

Les cathodes magnétrons sont des composants clés dans un système de dépôt de
couche mince par pulvérisation cathodique (PVD). Le design adéquat de ses
composants permet l’obtention de couche mince de qualité avec un taux de dépôt plus
meilleur. Ces cathodes sont sujettes à des températures élevées sous l’effet des
particules de plasma qui peuvent conduire à la détérioration des parties intégrantes
sensibles à savoir la cible et les aimants permanents. Les principaux facteurs limitant le
taux de dépôt sont la conductance thermique de la cible, l’efficience du refroidissement
de la cathode, le point de fusion de la cible et le rendement de pulvérisation.

Plusieurs investigations ont été conduites pour étudier l’influence du mauvais

refroidissement de la cathode magnétron sur la qualité du dépôt [Takatsuji 1999], pour
optimiser le design de point de vue évacuation de la chaleur [Kelly et Arnell 2000]
[Lake et Harding 1984] [Baik et Kim 2007]. Le présent travail est une contribution à
CFD & Tech 2016 02 – 03 Mai 2016, CRND-Draria, Alger

l’étude de performance de refroidissement d’une cathode magnétron plane conçue et

réalisée au niveau de l’UR-MPE de l’université UMBB en collaboration avec le CRNB
[Salhi et Abaidia 2014]. Ce calcul de refroidissement a été effectué par simulation
numérique CFD en utilisant le logiciel ANSYS FLUENT version 14.5. Pour effectuer
cette analyse, le modèle monophasique combiné avec le modèle turbulent standard k-
ont été utilisés, sous les conditions de trois vitesses d’écoulement du réfrigérant 0.01
m/s, 0.05 m/s et 0.1 m/s avec deux flux de chaleur de 12738 W/m2 et de 25476 W/m2
appliqués à deux cibles, Nickel et Titane, soit un total de 12 simulations.

II. CATHODE MAGENTRON, CONCEPTION ET PRINCIPE DE

FONTIONNEMENT

II.1 Conception de la cathode magnétron développée

La cathode magnétron développée est composée de deux aimants permanents en

NdFeB, voir Figure 1, qui gênèrent un champ magnétique de 400 mT, le premier de
forme géométrique cylindrique situé au centre de la cathode et le deuxième périphérique
de forme annulaire. Un yoke magnétique en acier doux est placée à la face arrière des
deux aimants pour boucler et orienter les lignes de champ, la cible est placée à la face
frontale des aimants constituant ainsi une cavité annulaire qui débouche vers deux
orifices d’entrée et de sortie du réfrigérant liquide. L’ensemble est placé dans un
container en acier inoxydable. La cible est alimentée en courant alternatif radio-
fréquentielle de 13.56 MHz à travers un conducteur connecté au container. L’isolation
électrique entre le container, le cache et le support de la cathode est assurée par un
matériau isolant en téflon. L’étanchéité de la cathode est assurée par des joins toriques.

Figure1 Schéma synoptique de la cathode magnétron étudiée

II.2 Principe de fonctionnement

La cathode magnétron est un composant principal dans un système de

pulvérisation cathodique, voir Figure 2. Lors de l’ionisation du gaz plasmagène qui
règne entre la cathode et l’anode (porte substrats), les atomes de gaz ionisés se dirigent
vers la cible pour arracher des atomes de la cible qui vont par la suite se condensés sur
l’anode.
CFD & Tech 2016 02 – 03 Mai 2016, CRND-Draria, Alger

Figure 2 : Principe de pulvérisation cathodique magnétron

(Angstrom science 2006)

Par bombardement de la surface de la cible il y’a création des électrons secondaires qui
sont nécessaires pour l’entretient de la décharge luminescente. La présence d’un champ
magnétique conjugué à un champ électrique permet de piéger les électrons (primaires et
secondaires) dans une zone limitrophe à la cible. De cette façon on aura un plasma
confiné et un meilleur rendement de pulvérisation. Sous les effets d’interaction des
différentes particules du plasma et l’alimentation électrique, les composants sensibles, à
savoir la cible et les aimants permanents, peuvent atteindre des températures au-dessus
des températures limites (température de curie) par voie de conséquence on se ramène à
une situation de disfonctionnement de la cathode d’où la nécessité d’évacuation de la
chaleur générée.

III. SIMULATION CFD DE LA CATHODE MAGNETRON

III.1 Modélisation mathématique de la cathode

L’écoulement du réfrigérant à l’intérieur de la cathode est régi par les trois équations de
conservation à savoir la conservation de la masse, la conservation de la quantité de
mouvement et la conservation de l’énergie et sont explicités par les équations (1), (2) et
(3) suivantes :

𝜕𝜌
+ 𝛻(𝜌𝜈⃗) = 𝑆𝑚 (1)
𝑑𝑡

𝜕
(𝜌𝜈⃗) + 𝛻(𝜌𝜈⃗𝜈⃗) = −𝛻𝑝 + 𝛻(𝜏̿) + 𝜌𝑔⃗ + 𝐹⃗ (2)
𝜕𝑡

𝛻(𝜈⃗(𝜌𝐸 + 𝑝)) = 𝛻 (𝑘𝑒𝑓𝑓 𝛻𝑇 − ∑ ℎ𝑗 𝐽⃗𝑗 + (𝜏̿𝑒𝑓𝑓 𝑣⃗)) + 𝑆ℎ (3)

𝑗
CFD & Tech 2016 02 – 03 Mai 2016, CRND-Draria, Alger

Le modèle turbulent simple k- est considéré dans cette étude pour avoir une idée
grossière sur le transfert thermique entre les différents composants de la cathode ainsi
que les lignes de courant du fluide caloporteur. Le problème est traité comme étant un
écoulement turbulent monophasique à l'état stationnaire, le changement de phase du
fluide caloporteur près de la paroi de la cible n’est pas pris en considération.

III.2 Maillage de la cathode

La création du modèle magnétron est générée sous le logiciel de CAO 3D SolidWorks

puis exporter vers la plate forme workbench du logiciel ANSYS FLUENT. Plusieurs
densités de maillage ont été testées pour avoir le maillage approprié qui assure une
meilleure précision de calcul possible. Une différence de 1% entre deux résultats
consécutifs est considérée comme critère de choix du maillage de la structure, voir
Figure 3.

Figure 3 : Maillage de l’écoulement du réfrigérant à l’intérieur de la cathode magnétron.

Vu la simplicité de la géométrie et afin d’économiser le nombre d’éléments de maillage

et de réduire le risque d’erreur, le choix s’est arrêté sur le type structuré avec 2405001
nœuds et 2301728 éléments.

Le tableau 1 présente les paramètres des données du modèle arrêté pour l'étude
numérique de la cathode.

Tableau 1 : Paramètres du modèle

Input Value
Solver
Time Steady
Type Pressure Based
Velocity Formulation Absolute
Gravity -9.81 m/s2 (Y-direction)
Models
Energy Active
Multiphase Off
Viscous Standard k-
Near Wall Treatment Standard
CFD & Tech 2016 02 – 03 Mai 2016, CRND-Draria, Alger

Solution Methods
Scheme SIMPLEC
Gradient Least Square Cell Based
Pressure Standard
Momentum Second Order Upwind
Turbulent Kinetic Energy First Order Upwind
Turbulent Dissipation Rate First Order Upwind
Energy Second Order Upwind

IV. RÉSULTATS ET DISCUSSIONS

Les profiles de température en 3D des principaux composants de la cathode magnétron

(les deux cibles de Nickel et de Titane et les aimants permanents) sont représentés
respectivement dans la figure 4. Les résultats obtenus montrent que pour les deux cibles,
Nickel et Titane, peuvent atteindre, à certains endroits, des températures au dessus de la
température de Curie des aimants utilisés.

Pour une vitesse d’écoulement d’entrée de 0.01 m/s et une densité de chaleur de 25476
w/m2, la cible de Titane peut atteindre une température maximale de 509 K dans la
région de l’orifice de sortie du fluide caloporteur, tandis que, la cible de Nickel atteint
une température maximale de 482 K au voisinage de la même région. Pour un débit de
refroidissement intermédiaire soit de 0.05 m/s sous une densité de chaleur maximale, les
cibles se retrouvent dans de bonnes conditions pour avoir un rendement élevé de
pulvérisation mais les températures des composants sensibles demeurent proches de la
température optimale de bon fonctionnement des aimants permanents. Pour un débit de

Figure 4 distributions de température 3D des composants sensibles de la cathode

 CFD & Tech 2016 02 – 03 Mai 2016, CRND-Draria, Alger

0.1 m/s on enregistre une nette amélioration dans la dissipation de chaleur pour les deux
cibles ainsi que pour les aimants permanents. Les deux cibles de Titane et de Nickel
atteignent respectivement des températures de 347 K et 338 K. Ces dernières
températures peuvent être réduites davantage si on tient en considération l’effet de
dissipation de chaleur par échange thermique entre les cathodes et la chambre de
pulvérisation.

Ce premier calcul, approximatif et conservatif, a montré que la conception développée

peut assurée un fonctionnement normal de la cathode pour une vitesse d’écoulement de
0.1 m/s et une de puissance de 50 W. Un calcul plus poussée est nécessaire pour arriver
aux conditions limites de fonctionnement de cette cathode. Cette conception peut être
amélioré en augmentant la cavité de circulation du liquide caloporteur ou par la création
d’autres poches de refroidissement.

V. REFERENCES

1. Takatsuji H, Tsuji S, Kuroda K et al, 1999, The influence of cooling water

flowing in the sputtering target on aluminum based thin film nanostructure
deposited on glass substrates, Thin Solid Films, 343-344: 465-468
2. Kelly P J and Arnell R D, 2000, Magnetron sputtering : a review of recent
developments and applications, Vacuum, 56(3) : 159-172.
3. Lake M R and Harding G L, 1984, Cathode cooling apparatus for a planar
magnetron sputtering system, J. Vac. Sci. Tech., A2(3) : 1391-93.
4. Baik J S and Kim Y J, 2007, A study of the heat transfer enhancement in
magnetron sputtering system, ASME 42746, ASME/JSME 2007 1 : 315-320.
5. Salhi M et Abaidia S E H, 2014, Système de pulvérisation bi-cathodes
magnétrons, Algeria patent 140171.

View publication stats