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Exercice N :° 1
1. Donner la configuration électronique du fluor (Z = 9), du néon (Z = 10), du sodium
(Z = 11), du magnésium (Z = 12) , de l’aluminium (Z = 13), vanadium (Z = 23) et du
cérium (Z = 58)
2. Donner les configurations électroniques des ions F-, Na+, Mg2+ et Al3+.
3. Quelles conclusions peut-on en tirer ?
Exercice N° :2
Soit un semi conducteur intrinsèque de gap Eg. Déterminer l’expression du niveau
de fermi Ef . Les électrons et les trous sont considérés comme des particules libres
de masse effectives me* et mp*.
Exercice N° :3
Calculer la concertation intrinsèque des porteurs de charges électriques pour le Si, à
T=300°K et T=500°K.
On donne:Eg=1.12 ev, me*=0.5m0, mp*=0.9m0, m0=9.31 .10-31kg( masse de l’électron
au repos)
Exercice N° : 4
- Quelle ddp électrique faut il appliquer à un morceau de germanium de 1 cm de long à
T=300K°, pour qu’il y’ait conduction électronique en sachant que la distance parcourue
par un électron entre deux chocs successifs dans un réseau cristallin est de 100A°.
- Conclure quant à la conductivité du germanium à T=0°K.
Exercice N° : 5
1. Donner la relation qui existe entre n et p pour un semi conducteur intrinsèque
2. En déduire une expression de n et p indépendante de Ef
3. Calculer l’écart en énergie Ef- (Ec+Ev)/2 à T=300°K puis à 1000°K, pour le Si
et Ge.
On donne pour le Si :Eg=1.12 ev, me*=1.05m0, mp*=0.61m0,
pour le Ge :Eg=0.72 ev, me*=0.2m0, mp*=0.37m0,
Soit n=3800 cm2/v.s et n=1800cm2/v.s les mobilités respectives des électrons et des
trous dans le Ge à 300°K.
4. Donner l’expression et calculer la résistivité du germanium intrinsèque
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Module Electronique Analogique -(302) Série de TD N° 2
2ème Année GTR
Faculté d’Electronique et d’Informatique, USTHB,
Exercice N° : 6
Un barreau de Si du type N a pour résistivité 15 cm à 27 °C. Sachant que la mobilité
des électrons est de 0.2 m2/v.s,
1. Déterminer la concentration en électron libres.
2. Calculer le champ électrique et la densité du courant si on lui applique une ddp
de 10V avec L=25 cm.
Exercice N° : 7
Le Germanium est caractérisé par : Masse atomique M = 72,6 g , Masse volumique d =
5,32 g/cm3 ; Energie de la bande interdite Eg = 0,67 eV ; Nombre d’Avogadro A =
6,023.1023 mol-1, k = 8,62.10-5 eV/K ; Densité effective d’états énergétiques à 300 K, Nc =
1,04.1019 atomes/cm3, Nv = 6.1018 atomes/cm3.
1. Déterminer le nombre d’atomes par cm3.
2. Donner l’expression de n puis celle de p puis en déduire l’expression du niveau de
Fermi (EF).
3. Calculer la concentration intrinsèque ni à 300 K.
4. Les mobilités des électrons et des trous dans le germanium sont respectivement de
0,4 m2/V.s et 0,19 m2/V.s. calculer sa résistivité.
5. Le germanium est dopé avec des impuretés d'arsonic(As :Z=33) de telle sorte qu'il y
ait un atome d'impureté pour 103 atomes de germanium. Le matériau dopé sera t-il
de type n ou de type p.
Exercice N° : 18
Déterminer dans chacun des cas suivants la concentration en électrons et trous ainsi que la
résistivité d'un échantillon de silicium :
Cas 1 : intrinsèque (non dopé intentionnellement),
Cas 2 : dopé au bore à 1015 cm−3,
Cas 3 : dopé au bore à 5 1015cm−3, au phosphore à 2 1019cm−3.
Conclure sur l'effet du dopage sur la résistivité du silicium.
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Module Electronique Analogique -(302) Série de TD N° 2
2ème Année GTR
Faculté d’Electronique et d’Informatique, USTHB,
Exercice N° : 13
Exercice N° : 14