Etude de la flexion d’un bilame

Le but de cet exercice est d’examiner la courbure d’une plaque circulaire constituée de deux couches sous l’effet d’un changement de température. La
plaque est composée de deux couches homogènes, le dépôt et le substrat qui ont respectivement des épaisseurs ed et es , des modules d’Young Ed et Es , et
des coefficients de Poisson νd et νs . L’épaisseur du dépôt est supposée très petite devant celle du substrat, ce qui est généralement le cas lorsqu’on traite
le cas des "wafers", supports en silicium sur lesquels on vient fabriquer les puces en microélectronique (il y a environ 3 ordres de grandeur d’écart). Les
coefficients de dilatation thermique sont respectivement αd et αs . On suppose que le champ de température initial est uniforme, et on applique au système
une variation de température T , supposée également uniforme. Comme la distribution des matériaux dans l’épaisseur n’est pas symétrique, il apparaît un
couplage "membrane–flexion", si bien que le simple changement de température va générer une courbure de la plaque, et des contraintes thermomécaniques
autoéquilibrées à l’intérieur des couches.

1. Indiquer comment est modifiée la loi de comportement d’une plaque U2,2 − θ1,2 x3 . Les termes linéaires en x3 , qui sont impairs, disparaissent
homogène en présence de dilatation thermique. On utilisera pour le comme d’habitude dans l’intégration entre −e/2 et e/2, mais il reste un
moment des notations sans indices, E, ν, e, α, et on supposera que le plan terme supplémentaire par comparaison avec la solution du cours :
moyen de la plaque est le plan (x1 ,x2 ), donc que −e/2 6 x3 6 e/2.
Ee EαTe
La loi de comportement comprend un terme de membrane, un terme de N11 = (U1,1 + νU2,2 ) −
1−ν 2 1−ν
flexion, et un terme de cisaillement transverse. La loi de comportement,
qui relie les termes caractérisant les efforts et ceux qui définissent la On a donc :
cinématique, est établie en postulant une forme de champ de contrainte dans  
N11 Ee

1 ν

U1,1
  
EαTe 1
la plaque. Le fait d’introduire un terme de dilatation thermique, ∼εth = αT ∼I , = −
N22 1 − ν2 ν 1 U2,2 1−ν 1
ne va pas modifier la partie cisaillement. Il faut par contre examiner son
influence sur les efforts axiaux et les moments. La loi de comportement L’estimation des termes M11 et M22 s’effectue en intégrant respectivement
restreinte aux composantes 11 et 22, avec σ33 = 0, s’écrit : x3 σ11 et x3 σ22 sur l’épaisseur de la plaque. Ceci donne par exemple pour
M11 :
σ11 1 ν ε11 − αT
    
E
=
σ22 1 − ν2 ν 1 ε22 − αT E
Z e/2
M11 = (x3 ε11 + νx3 ε22 − (1 + ν)αT x3 )dx3
L’estimation des termes N11 et N22 s’effectue en intégrant respectivement 1 − ν2 −e/2
σ11 et σ22 sur l’épaisseur de la plaque. Ceci donne par exemple pour N11 : Cette fois-ci, le terme provenant de la dilatation thermique est linéaire en
E
Z e/2 x3 , si bien qu’il disparaît dans l’intégration, et que la loi de comportement
N11 = (ε11 + νε22 − (1 + ν)αT )dx3
1 − ν2 −e/2
est inchangée par rapport à la solution isotherme :

Ee3 1 ν θ2,1
    
Les déformations s’expriment en fonction des composantes du déplacement M11
de membrane et des angles de rotation : ε11 = U1,1 + θ2,1 x3 et ε11 = =
M22 12(1 − ν2 ) ν 1 −θ1,2
 que la couche de dépôt est d’épaisseur négligeable, la valeur de l’effort
normal dans le substrat est finalement :
2. On se préoccupe dans cette question des équations d’équilibre
Ed ed
résultant de l’assemblage des deux couches. Justifier le fait que le moment N s = −N d ≈ (αd − αs )T
de flexion dans le dépôt est négligeable devant le moment résultant sur le 1 − νd
substrat. On raisonne dans un premier temps en conditions axisymétriques, L’effort est donc d’autant plus grand que la différence entre les coefficients
si bien que les composantes 11 et 22 sont égales. En écrivant l’équilibre de dilatation thermique est importante, que le dépôt est épais et que son
des efforts pour une section droite de la plaque multicouche, déterminer module de Young est grand. Le moment dans le substrat se calcule en
l’effort normal N s = N11
s = N s et le moment de flexion M s = M s = M s
22 11 22 considérant l’effort appliqué par le dépôt sur le substrat, effort concentré
dans la couche de substrat en fonction de l’effort normal N d = N11 d = Nd
22 appliqué à une distance es /2 de la surface moyenne du substrat :
dans la couche de dépôt.
es
x3 Ms = N d
2
Nd

es E s νs α s Ns
3. Calculer la valeur de la courbure, en supposant que le substrat est
x1
Ms une plaque mince de Love-Kirchhoff
Figure 1 : Equilibre d’une section droite Si la plaque est mince, les dérivées des angles qui interviennent dans
l’expression des moments sont égales à la courbure :
La résultante des efforts normaux est nulle, puisqu’il n’y a pas d’efforts
extérieurs appliqués sur le système. On en déduit : 1
θ2,1 = −W,11 = −θ1,2 = −W,22 =
R
Ed ed E s es
Ns + Nd = (ε − αd T ) + (ε − αs T ) = 0
1 − νd 1 − νs La relation entre le moment et le rayon de courbure dans le substrat est
donc :
On a noté ε les termes U1,1 et U2,2 , qui sont supposés égaux dans les Es e3s 1
deux couches, ce qui signifie que l’extension est la même. On fait en effet Ms =
12(1 − νs ) R
l’hypothèse qu’il y a continuité du déplacement entre les couches. Il est
donc possible d’éliminer ε et de trouver l’expression de N d : En remplaçant M s par son expression en fonction de N d , il vient :
Ed ed Es es 1 6(1 − νs )N d
(αs − αd )T =
1 − νd 1 − νs R Es e2s
Nd =
E d ed Es es
+ Si on exprime maintenant N d :
1 − νd 1 − νs
Comme les valeurs des constantes du modèle élastique et des coefficients 1 6Ed0
de dilatation thermique sont du même ordre pour les deux matériaux, mais = (αd − αs )T
R es Es0
où on a posé : x3

E s es Ed ed E d
νd α d ed
Es0 = Ed0 =
1 − ν2s 1 − ν2d es + ed
E 2
s νs α s x1
Remarques : es
Le champ de contrainte dans le substrat se calcule en superposant la es + ed
contribution de l’effort de membrane et celle du moment de flexion. Le 2
premier fournit un champ de contrainte uniforme dans l’épaisseur, alors
que le second génère un champ impair en x3 . Le résultat est donc une
distribution affine ; la surface sur laquelle la contrainte s’annule est située Figure 2 : Géométrie de la plaque composite
au tiers de la plaque à partir du la face qui porte le substrat. On trouve en
effet : On résout cette fois-ci le problème d’une plaque composite chargée en
état de déformation plane selon la direction x2 . On considère la résultante
Ns Nd
 
12 x3 s 6x3 N11 et le moment M11 correspondant à l’ensemble des couches. Les
σ11 = σ22 = 11 + 2 M11 = −1 +
es es es es es dérivées partielles par rapport à x2 sont nulles, si bien que les équations
d’équilibre se réduisent à :

expression qui s’annule bien lorsque x3 = es /6. N11,1 = 0 M11,11 = 0

Avec les conditions aux limites de bords libres, il vient : N11 = 0, M11 = 0,
et les équations de comportement s’écrivent (en prenant ε22 nul dans
3. En fait, on observe que, sur de grandes plaques, de diamètre 200 l’expression des contraintes) :
à 300 mm, la flexion n’est pas axisymétrique, mais elle s’effectue selon  Z (ed +es )/2 Z (ed +es )/2 
une direction préférentielle. Cela conduit à reconsidérer les conditions E(x3 ) E(x3 )
 −(e +e )/2 1 − ν2 (x3 ) 3 dx x dx
3 3 
−(ed +es )/2 1 − ν (x3 )
  
N11 2
aux limites, et à utiliser à la place une hypothèse de déformation plane. s
=  Z (ed +es )/2
d  U,1
 θ2,1
 Z (ed +es )/2
M11 E(x3 ) E(x3 )
Recommencer les calculs précédents et donner la nouvelle expression du x3 dx3 x32 dx3
−(ed +es )/2 1 − ν (x3 ) −(ed +es )/2 1 − ν (x3 )
2 2
rayon de courbure. On réalisera ensuite l’application numérique pour une  Z (e +e )/2 
plaque de 30 cm de diamètre consstituée d’un substrat en silicium et d’un d s E(x3 )α(x3 )
dépôt de nickel, soumise à une diminution de température T=-300 ◦ C :  −(e +e )/2 1 − ν(x3 ) )dx3 
−T  d s
Es =112 GPa νs =0.28 αs = 3.10−6 ◦ C −1

es = 200 µm  Z (ed +es )/2 E(x3 )α(x3 )x3 
)dx3
Ed =207 GPa νd =0.31 αd = 13.10−6 ◦ C −1 ed = 50 nm −(ed +es )/2 1 − ν(x3 )
On peut réécrire les équations de comportement en introduisant une matrice En reprenant la notation de la question 3 et en introduisant
A et un vecteur B sous la forme :
E s es αs E d ed αd
Es00 = = αs (1 + νs )Es0 Ed00 = = αd (1 − νd )Ed0
1 − νs 1 + νd
      
N11 A11 A12 U,1 B
= − 1 T
M11 A21 A22 θ2,1 B2
il vient, en négligeant les termes de second et troisième degré en ed :
Les déformations généralisées sont calculées en inversant la matrice A et en
A11 = Es0 + Ed0
utilisant le fait que N11 et M11 sont nuls :
1
  A12 = A21 = (−Es0 ed + Ed0 es )
U,1 2
= A−1 BT
θ2,1 E0 E0
A22 = s (e2s + 6e2d ) + d (e2d + 6e2s )
12 12
Les composantes de la matrice A et du vecteur B sont calculées en 00
B1 = Es + Ed 00
remplaçant les intégrales par des sommes, le substrat étant situé entre
1
x3 = −(es + ed )/2 et x3 = (es − ed )/2, et le dépôt entre x3 = (es − ed )/2 B2 = (−Es00 ed + Ed00 es )
2
et x3 = (es + ed )/2 :
Le rayon de courbure s’exprime comme :
Es Ed
A11 = es + ed A11 B2 − A12 B1
1 − νs 2 1 − ν2d 1
= θ2,1 =
Es

(es − ed )2 (es + ed )2
 R A11 A22 − A212
A12 = A21 = −
2(1 − ν2s ) 4 4 En négligeant les termes de second et troisième degré en ed , on trouve :
2 (es − ed )2
 
Ed (es + ed ) es 0 00
+ − A11 B2 − A12 B1 ≈ Es Ed − Ed0 Es00


2(1 − ν2d ) 4 4 2
3 (es + ed )3 2E 02
 
Es (es − ed ) e
A22 = + A11 A22 − A212 ≈ s s
3(1 − ν2s ) 8 8 12
3 (es − ed )3
 
Ed (es + ed ) Ce qui donne finalement :
+ −
3(1 − ν3d ) 8 8
E s αs Ed αd 1 6 Es0 Ed00 − Ed0 Es00 6Ed0
B1 = es + ed = = ((1 + νd )αd − (1 + νs )αs )T
1 − νs 1 − νd R es Es0 2 es Es0
Es αs (es − ed )2 (es + ed )2
 
B2 = − La formule diffère de celle obtenue en conditions axisymétriques
2(1 − νs ) 4 4 uniquement par un terme en (1 + ν) dans chaque matériau.
E d αd 2 (es − ed )2
 
(es + ed ) Application numérique : On trouve R = 17, 543m. On trouve la flèche
+ −
2(1 − νd ) 4 4 correspondante en intégrant deux fois. Si on suppose que la plaque est
simplement posée, avec le dépôt vers le haut, les deux extrémités vont Le soulèvement maximal est donc de 0,641 mm.
se soulever. En supposant la flèche nulle au milieu, et -150 mm6 x1 6
150 mm, il vient successivement :
x1 x12
θ2 (x1 ) = W (x1 ) =
R 2R