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CUPRACID 200

Électrolyte pour Cuivrage Acide

CUPRACID 200 est un procédé de cuivrage électrolytique acide, qui permet d’obtenir des dépôts

très brillants, avec un excellent nivellement et un pouvoir pénétrant optimal.

Ses meilleures caractéristiques sont:

 Exceptionnel pouvoir nivellant, même à faible densité de courant;

 Dépôts très brillants avec un excellent pouvoir pénétrant, même si l’on travaille à 30° C;

 Les dépôts obtenus ne présentent pas de phénomène de micro-piqûres, même pour des

épaisseurs élevées;

 Il n’y a pas d’effets collatéraux négatifs dus à la décomposition des brillanteurs.

On peut l’employer aussi bien avec le procédé par insufflation d’air, qu’avec le procédé par barre

cathodique mobile.

L’électrolyte opère en présence des Ions Chlorures, dont la concentration peut varier dans un large

intervalle.

ÉQUIPEMENT

Nous conseillons d’utiliser des cuves revêtues intérieurement en PVC ou en polypropylène. La cuve

doit être muni d’un système à insufflation d’air, ou avec mouvement mécanique de la barre

cathodique.

Dans des ambiances particulièrement froides, il sera opportun de prévoir le chauffage de

l’électrolyte. (réchauffeurs en: porcelaine – verre pyrex – téflon)

ANODES

Utiliser exclusivement des anodes en cuivre contenant du phosphore (0,1%-0,3%), de forme plate,

cylindrique ou cubique. Il est possible d’utiliser des paniers anodiques en titane, équipés de sacs en

“méraklon” ou polypropylène.

La surface anodique doit être au moins deux fois supérieure à la surface cathodique.
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PRÉPARATION

Remplir au 2/3 environ la cuve avec de l’eau, de préférence déminéralisée, et chauffer à 40-50 °C,

afin de mieux dissoudre le Sulfate de Cuivre. Une fois complètement dissous, boucher la pompe filtre

avec du charbon actif végétal et la faire tourner pendant au moins 12 heures. Ajouter ensuite, en

agitant, l’acide sulfurique à 98% (faire attention).

Laisser refroidir à environ 25°C et ajouter, toujours en agitant, le chlorure de sodium (dissous dans

un peu d’eau) et les additifs.

Compléter pour atteindre le volume final et le bain est prêt à être employé.

FORMATION
OPT

Sulfate de cuivre pentahydrate: 175-250 gr/l 220 gr/lt

Acide Sulfurique à 98% 50-70 gr/lt 60 gr/lt

Ions Chlorures 70-140 ppm 100 ppm

CUPRACID 200 BASE 5,0-8,0 cc/lt 6,5 cc/lt

CUPRACID 200 NIVELLANT 0,4-0,7 cc/lt 0,5 cc/lt

CUPRACID 200 BRILLANTEUR 0,4-0,7 cc/lt 0,6 cc/lt

CONDITIONS POUR L’EXPLOITATION

a) Température: 20 - 35° C

b) Densité de courant cathodique: jusqu’à 8 A/dm2 par insufflation d’air;

jusqu’à 4 A/dm2 par mouvement cathodique

c) Densité de courant anodique: 1 - 3 A/dm2

d) Agitation : air, environ 200 l/mn par m2 de surface

e) Mouvement cathodique: 4 - 6 m/mn

f) Vitesse de dépôt à 4,5 A/ dm2: 1 micron/minute.

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MAINTENANCE ET CORRECTIONS

TEMPÉRATURE: en cas d’abaissement de la valeur en dessous de 20°C, il est nécessaire de

chauffer le bain. Au dessus de 35°C le brillant diminue aux basses densités de courant et la

consommation des additifs augmente.

DENSITÉ DE COURANT CATHODIQUE ET TENSION: la valeur pour l’exploitation dépendra de

la forme des objets, de la distance à l’anode et de la vitesse de dépôt requise. La valeur de la

tension pourra cependant osciller entre 1 et 4 Volts.

CONTENUS SALINS: si le contenu en cuivre passe en dessous des valeurs minimales prescrites, le

bain doit être renforcé en ajoutant du sulfate de cuivre neige. Un abaissement de la concentration

entraîne la diminution de la vitesse de dépôt ainsi qu’une moindre possibilité d’utiliser de hautes

intensités de courant. L’acide sulfurique garantit, avec la conductibilité, une meilleure pénétration et

une meilleure distribution du dépôt; Sa consommation dépend de l’entraînement. Le contenu en

chlorures revêt une importance particulière dans la mesure où ils sont responsables de la corrosion

anodique et de la distribution correcte du dépôt, surtout dans les zones de haute densité.

CONSOMMATIONS

CUPRACID 200 BASE se consomme exclusivement par drag-out,

pour chaque Kg de Sulfate de cuivre ajouté, ajouter 65 cc de CUPRACID 200 BASE.

CUPRACID 200 NIVELLANT 800-1200 cc chaque 10.000 A/h

CUPRACID 200 BRILLANTEUR 250-350 cc chaque 10.000 A/h

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L’absence de CUPRACID 200 NIVELLANT se caractérise par une diminution du pouvoir nivellant

et du brillant aux basses intensités de courant. Un excès provoque un effet évident de recul du

nivellement.

Un défaut de CUPRACID 200 BRILLANTEUR se manifeste par l’apparition de brûlures aux hautes

intensités de courant. Un excès provoque la formation de dépôts opaques aux basses densités de

courant.

L’additif de formation CUPRACID 200 BASE est responsable de la bonne dispersion du système,

en facilitant l’évolution de l’hydrogène et de l’air autour des objets. Un excès entraîne des dépôts

opaques aux basses densités de courant. En cas de formation de micro-piqûres dans le dépôt,

ajouter 1 ml/l de CUPRACID 200 BASE.

Tous les additifs peuvent être ajoutés directement à l’électrolyte en agitant fortement.

AGITATION: l’agitation de l’électrolyte par insufflation d’air est préférable. Le volume d’air doit être

tel qu’il provoque une agitation de la surface assimilable à une forte ébullition. L’air ne doit

absolument pas contenir d’huile ou de particules sales. Une insufflation d’air régulière et continue,

même quand le bain n’est pas utilisé, prolonge l’efficacité des substances brillantes et diminue par

conséquent leur consommation.

FILTRATION: la solution CUPRACID 200 doit être constamment maintenue propre, car les

particules en suspension comme les poussières, les résidus d’huile et de graisses peuvent créer des

rugosités, des porosités , des voilages et des opacités dans le dépôt de cuivre.. Prévoir une filtration

continue à l’aide de co-adjuvants de filtration. Nous ne conseillons pas l’utilisation du charbon actif

de manière continue.

Celui-ci sera utilisé au moment où une dépuration à l’eau oxygénée sera réalisée.
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POLLUTIONS: nous recommandons d’éviter au maximum les pollutions de quelque nature et

provenance que ce soit. L’électrolyte est relativement plus sensible aux pollutions organiques qu’aux

pollutions inorganiques.