Académique Documents
Professionnel Documents
Culture Documents
Pascal Kleimann
Pascal.Kleimann@univ-lyon1.fr
Année 2023-2024
Chapitre III : Conduction électrique dans les matériaux. Théorie des bandes. Cas des Semiconducteurs.
Energie
Energie Mécanique Energie électrique Energie thermique
Electromagnétique
Effets Joule, Peltier, thermoélectriques …
Génératrices, moteurs, piézoélectricité, actionnement capacitif, …
LED, cellules photovoltaïques, …
Energie lumineuse
(évidemment de nature électromagnétique)
https://www.sudouest.fr/sciences-et-technologie/qui-etait-thomas-edison-mort-il-y-a-90-ans-6614609.php
https://www.turbosquid.com/it/3d-models/barlows-wheel-model-1825468 https://myhero.com/samuel-morse
https://en.wikipedia.org/wiki/Alessandro_Volta https://johnstonsunrise.net/stories/risorgimento-and-telephones,63338 https://www.baesystems.com/en/marconi-company-page-part-1
https://www.alamy.com/deviation-of-the-magnetic-needle-by-current-of-battery-hans-christian-rsted-august-14-1777image246611864.html
Aire de l’électronique
https://dailygeekshow.com/eniac-premier-ordinateur/ https://www.inneance.fr/il-y-a-50-ans-lordinateur-qui-emmena-lhomme-sur-la-lune/
http://labodingo.free.fr/1947.php https://www.researchgate.net/figure/23-Schema-dun-Transistor-MOS-a-canal-N_fig6_277045717
• A propos des propriétés uniques des matériaux semiconducteurs : Quelques réflexions !!!
On considère un électrolyte. On plonge dans cet électrolyte deux électrodes métalliques que l’on polarise avec
un générateur de tension ou de courant. Décrire ce que se produit :
L’électrolyte est parcouru par un courant de 100 mA. Qu’est ce que cela signifie ?
On considère maintenant un matériau solide (métal, isolant, …), que l’on peut schématiser de la manière
suivante:
Quelle est la nature de la force entre les électrons et les noyaux atomiques ?
On considère un matériau isolant (par exemple du verre). On polarise ce matériau avec un générateur de
tension ou de courant. Décrire ce qui se produit :
On considère maintenant un métal. On polarise ce métal avec un générateur de tension ou de courant. Décrire
ce qui se produit :
Pour cela, on considérera les cas du Cuivre et du Platine pour lesquels on donne :
Cuivre : Masse volumique ρ=8.96 g.cm-3 et Masse atomique Ma=63.5 g/mole
Platine : Masse volumique ρ=21.5 g.cm-3 et Masse atomique Ma=195 g/mole
Quel est l’ordre de grandeur de la vitesse de déplacement des électrons causée par le champ électrique
On considère un conducteur de cuivre, cylindrique, de diamètre 1mm, parcouru par un courant de 100mA. Déterminez l’ordre de grandeur de la
vitesse de dérive du nuage d’électrons. Expliquez en quoi les signaux électriques permettent de communiquer quasiment en temps réel…
Certains matériaux, que l’on appelle semiconducteurs, se comportent comme les isolants à 0 K. Ils ne sont donc
pas conducteurs d’électricité. Par contre, lorsqu’on leur fourni de l’énergie (en augmentant par exemple la
température, ou bien en les illuminant), certains électrons vont être libérés…. Ces matériaux vont donc devenir
conducteurs électriques. Nous étudierons l’effet de la température et de l’illumination sur les semiconducteurs.
La densité d’électrons libres que l’on aura dans un matériau semiconducteur, sera toujours bien inférieure à
celles des métaux.
• Objectifs du cours
Comprendre et saisir:
Pour cela :
Afin d’être plus complet, nous commencerons par rappeler l’intérêt des composants élémentaires dans les montages
électriques.
- Les circuits électriques/électroniques sont formés de composants élémentaires (R, L, C, diode, transistors, …)
- Il est le siège d’un transfert d’énergie avec l’extérieur (électrique ↔ thermique, électromagnétique, …).
Il est défini par une fonction énergétique (P = R.I2, W = ½.C.U2, …)
- Les composants élémentaires sont combinés (connectés) entre eux de manière à réaliser la fonction
électronique désirée, aussi complexe soit elle.
I.1.a) La résistance
● Constituée d’un conducteur électrique (métal ou semiconducteur), caractérisé par sa conductivité σ ou sa
résistivité ρ = 1/ σ. La conductivité est d’autant plus grande que le conducteur possède des charges libres mobiles
(voir chapitre II).
● Rôle
-
-
● Associations
- Association série
- Association parallèle
- Equivalence triangle-étoile
● Applications électriques
𝐿𝐿
● Applications capteurs: 𝑅𝑅 = 𝜌𝜌.
𝑆𝑆
Mesurande Matériaux
Température Métaux, Semiconducteurs
Flux lumineux Semiconducteurs
Déformation Mat. Piézorésistif
Champ d’induction Mat. Magnétorésistifs
Humidité Chlorure de Lithium
Thermistance
(http://www.e44.com)
Photo-résistance
Sonde Pt100 (https://www.jalankatak.com)
(https://fr.rs-online.com)
Jauge de contrainte
(https://www.hbm.com)
I.1.b) Le condensateur
● Constitué d’un isolant (diélectrique) caractérisé par sa permittivité ε, séparant 2 armatures conductrices. La
permittivité d’un isolant décrit sa réponse à une polarisation électrique. Pour une même charge électrique, plus la
permittivité ε est importante, et moins le champs électrique créé dans le diélectrique le sera.
https://fr.wikibooks.org/wiki/%C3%89lectricit%C3%A9/Le_condensateur
Condensateur planaire Condensateur cylindrique Condensateur sphérique
𝐴𝐴 2. 𝜋𝜋. 𝐿𝐿 4. 𝜋𝜋. 𝑅𝑅1 . 𝑅𝑅2
𝐶𝐶 = 𝜀𝜀. 𝐶𝐶 = 𝜀𝜀. 𝐶𝐶 = 𝜀𝜀.
𝑑𝑑 𝑙𝑙𝑙𝑙 𝑅𝑅2 ⁄𝑅𝑅1 𝑅𝑅2 − 𝑅𝑅1
● Rôle
-
-
-
● Fonction énergétique
● Associations
- Association série
- Association parallèle
● Applications électriques
𝐴𝐴
● Applications capteurs 𝐶𝐶 = 𝜀𝜀.
𝑑𝑑
https://fr.wikipedia.org/wiki/Inductance
𝑆𝑆. 𝑛𝑛2
𝐿𝐿 = µ.
𝑙𝑙
𝑙𝑙
● Rôle
- Siège des phénomènes d’induction magnétique (transformateur, charge par induction, …) Lenz-Faraday
- Générer un champ magnétique.
- Emmagasiner de l’énergie sous forme électromagnétique.
- S’opposer aux variations de courant (self-induction).
● Fonction électrique
● Fonction énergétique
● Associations
- Association série
- Association parallèle
● Applications électriques
- Le transformateur.
- L’électroaimant.
- Le hacheur, …
● Applications capteurs
- Capteur de position et de déplacement
https://www.celeramotion.com/zettlex/fr/assistance/documents-techniques/capteurs-inductifs/
La jonction à semiconducteurs la plus courante est la jonction PN. Elle est constituée d’un matériau
semiconducteur de type P et d’un matériau semiconducteur de type N. Son étude complète sera effectuée en TD.
Les matériaux semiconducteurs de type P et N seront présentés au chapitre III.
𝑞𝑞. 𝑉𝑉
𝐼𝐼 = 𝐼𝐼𝑠𝑠 . 𝑒𝑒𝑒𝑒𝑒𝑒 −1
η. 𝑘𝑘. 𝑇𝑇
Dans toute la suite du cours, nous considérerons la diode idéale. Ainsi nous prendrons un facteur d’idéalité de 1.
I I0 i
= +
e
V Eth V0 e v rd
Eth
En dynamique la diode se comporte comme une résistance rd en parallèle à une capacité CD.
I I0 i
= +
e
V Eth V0 e v rd CD
Eth
● Applications électriques
● Applications capteurs
E E
Transistor NPN Transistor PNP
● L’effet transistor bipolaire, contrairement au transistors à effet de champ, a été découvert par hasard lors de
l’étude de la conductivité des matériaux semiconducteurs (Laboratoire Bell, 1947). Dans ce type de transistor, le
courant électrique entre l’émetteur et le collecteur est modulé par une barrière de potentiel. Cette barrière de
potentiel, constituée par la base, peut être contrôlée en appliquant un potentiel électrique sur cette dernière
(polarisation de la jonction BE).
● Le fait de polariser la jonction BE, fait circuler un courant IB dans cette dernière. Dans certaines conditions
(jonction BE polarisée en direct et jonction CB polarisée en inverse), on obtient l’effet d’amplification du courant
(Chapitre 5).
« Transistor Man »
P. Horowitz, W. Hill, The art of electronics
https://slideplayer.fr/slide/11231119
● Applications électriques : En mode bloqué saturé (équivalent à un interrupteur piloté par VB).
● Applications capteurs
Remarque: Les chaînes de mesure font systématiquement appel à des montages électroniques pour la mise en forme des
signaux (amplification, décalages, linéarisation, conversions …), qui font intervenir les Amplificateurs Opérationnels.
Oxyde de grille
N N P P
P N
Bulk Bulk
G G
S D S D
B B
● Le cœur du transistor MOS est la capacité MOS (Métal-Oxyde-Semiconducteur). En polarisant cette capacité
(entre la Grille et le Bulk), des charges apparaissent dans la grille et dans le semiconducteur (sous l’oxyde de grille).
Dans le semiconducteur, ces charges peuvent modifier la conduction électrique entre la source et le drain. La
conductance entre le Drain et la Source est donc pilotée par la tension VGS aux bornes de la capacité MOS (puisque
bulk et source sont reliés)
https://www.crowdsupply.com/open-music-labs/mosfet-girl
L’oxyde étant un isolant supposé idéal, il n’y a pas de courant au niveau de la grille. La caractéristique électrique du
transistor MOS est donc plus simple que pour un transistor bipolaire. N’apparaissent que IDS, VGS et VDS. Il existe 3
régimes : bloqué, actif linéaire, actif saturé.
« Mosfet Girl »
linéaire VGS4 > VGS3
VT VGS VDS
Caractéristique idéale d’un transistor n-MOS à enrichissement
http://icn13.alwaysdata.net/processeurs.html
Activité 1.19 : Technologie CMOS, brique de base de l’électronique numérique et logique
● Applications capteurs
Les semiconducteurs, de par leurs propriétés intrinsèques (voir partie 2) et la possibilité d’intégrer l’électronique
de traitement de l’information, sont particulièrement utilisés dans le domaine de l’instrumentation .
Mais finalement, pourquoi développer différents capteurs de même type (exemples concernant les capteurs
de température : thermocouple, thermojonction, thermistance, sonde Pt100, …) ?
Un capteur est défini par des caractéristiques métrologiques (sensibilité, étendue de mesure, rapidité, grandeurs d’influences…). Tous les capteurs n’ont pas les
mêmes caractéristiques.
Les choix du capteur pour une application donnée sera guidé par le coût, la simplicité de mise en œuvre, mais surtout par le cahier des charges qui va
définir des conditions sur les paramètres métrologiques.
Exemple : Vous souhaitez étudier l’élévation de température d’un gaz lors d’une explosion. Il est évident que le capteur devra avoir un faible temps de réponse,
et une plage de mesure importante. Vous souhaitez réaliser un thermomètre médical, il devra être précis, mais l’étendue de mesure n’est pas un critère
fondamental.
Notes : L’intérêt des capteurs semiconducteurs sera traité en TDs capteurs. Le domaine de l’instrumentation a été
introduit en L2 (UE GEP2013L Capteurs et Chaînes Instrumentales), et fera l’objet de cours complets au niveau
Master. Dans le cadre de ce cours de L3 nous utiliserons principalement les notions de sensibilité, d’étendue de
mesure et d’incertitude de mesure. L’étude des montages fait appel aux lois de l’électrocinétique que vous devez
maitriser et L3.
Q1) De quelle chaîne de mesure s’agit-il et quel est son principe de fonctionnement?
Q2) Exprimez l’étendue de mesure [0,ΦM] et la sensibilité s=∆Vs/∆∅ du montage en fonction de E, R et k.
Q3) On réalise le montage en utilisant une alimentation E = 5 volts et une résistance R = 1kΩ.
Φ
Le montage est étalonné pour 2 valeurs calibrées du flux Φ :
IΦ
Φ0 = 0 : Vs0 = 0,000 V ± 1 mV
Φ1 = 5 mW Vs1 = 0,500 V ± 1 mV
E R Vs
Q4) Calculez la sensibilité s et l’étendue de mesure.
Q5) Déterminez l’incertitude et l’incertitude relative sur s.
Q6) Déterminez k et l’incertitude sur k. On supposera que les erreurs de mesure du E et R sont respectivement de
1mV et de 1Ω.
Soit une grandeur calculée à partir de deux autres 𝒚𝒚 = 𝒇𝒇(𝒂𝒂, 𝒃𝒃). Une variation da sur a et db sur b induit bien
évidemment une variation dy sur y.
𝜕𝜕𝑓𝑓 𝜕𝜕𝑓𝑓
Le calcul différentiel permet de poser : 𝑑𝑑𝑑𝑑 = . 𝑑𝑑𝑑𝑑 + . 𝑑𝑑𝑑𝑑
𝜕𝜕𝑎𝑎 𝜕𝜕𝑏𝑏
𝑦𝑦 = 𝑎𝑎 + 𝑏𝑏
𝑦𝑦 = 𝑎𝑎. 𝑏𝑏
𝑦𝑦 = 𝑎𝑎/𝑏𝑏
Chapitre III : Conduction électrique dans les matériaux. Théorie des bandes. Cas des Semiconducteurs.
Au début du 20ième siècle, il est connu que certains matériaux conduisent bien l’électricité et d’autres non. Les
semiconducteurs ne sont pas encore connus. Suite à la découverte de l’électron (Joseph John Thomson – 1897), Paul
Drude a adapté la théorie cinétique des gaz aux électrons dans la matière de manière a expliquer les propriétés de
conductivités électriques et thermiques des métaux. Dans ce modèle l’électron libre est considéré comme une
particule classique soumis à l’agitation thermique.
Les matériaux conducteurs possèdent des électrons libres contrairement aux isolants.
- Les électrons libres se comportent comme un gaz de particules classiques soumises à l’agitation thermique.
- Les électrons rentrent en collision avec les noyaux atomiques du réseau, qui sont eux même soumis à l’agitation
thermique (notion de phonon) il y a à chaque instant un transfert d’énergie entre les électrons et les atomes et
entre les atomes et les électrons : Notion d’équilibre thermodynamique
1
𝑚𝑚 3/2 . 𝑚𝑚. 𝑣𝑣 2 Constante de Boltzmann k = 1,38.10-23 J/K
𝑓𝑓 𝑣𝑣 = 4. 𝜋𝜋. 𝑣𝑣 2 . . exp − 2
2. 𝜋𝜋. 𝑘𝑘. 𝑇𝑇 𝑘𝑘. 𝑇𝑇 Masse de l’électron m = 9,1.10-31 Kg
Energie thermique
1.0x10-5 2. 𝑘𝑘. 𝑇𝑇
𝑣𝑣𝑝𝑝 = Vitesse de probabilité maximum
0°C 𝑚𝑚
8.0x10-6
6.0x10-6 400°C
f(v) (s/m)
1000°C
2.0x10-6
0.0 𝑣𝑣2
0 1x105 2x105 3x105 4x105
Que représente � 𝑓𝑓 𝑣𝑣 . 𝑑𝑑𝑑𝑑
v(m/s) 𝑣𝑣1
∞
On peut montrer que : � 𝑓𝑓 𝑣𝑣 . 𝑑𝑑𝑑𝑑 = 1 Commentez.
0
∞
8. 𝑘𝑘. 𝑇𝑇
• Vitesse moyenne des électrons 𝑣𝑣 = � 𝑣𝑣. 𝑓𝑓 𝑣𝑣 . 𝑑𝑑𝑑𝑑 = → 𝝉𝝉 ∝ 𝑻𝑻−𝟏𝟏/𝟐𝟐
0 𝜋𝜋. 𝑚𝑚
Par la suite nous ne considèrerons que l’effet du champ électrique (ainsi nous tiendrons compte que de la force de
Coulomb).
Le gaz d’électrons libres se déplace dans la direction opposée du champ électrique. Sa vitesse moyenne devient non
nulle. On peut définir une vitesse de dérive 𝒗𝒗𝑫𝑫 du gaz d’électrons.
En considérant les électrons comme des particules de masse m, non soumis à l’agitation thermique (pour
simplifier), et soumis à un champ électrique 𝝃𝝃, représentez l’évolution de leur vitesse au cours du temps.
En déduire que l’on peut définir une vitesse moyenne, qui correspond à la vitesse de dérive 𝒗𝒗𝑫𝑫 définie
précédemment.
𝑞𝑞. 𝜏𝜏
𝑣𝑣𝐷𝐷 = . 𝜉𝜉
2. 𝑚𝑚
Remarque: Le même raisonnement pourrait être fait en considérant l’agitation thermique. Notons que : 𝑣𝑣𝐷𝐷 ≪ 𝑣𝑣
Montrez que la densité de courant traversant une section de conducteur est donnée par la relation:
• Notion de mobilité
𝑞𝑞. 𝜏𝜏 𝑞𝑞. 𝜏𝜏
𝑣𝑣𝐷𝐷 = . 𝜉𝜉 = µ. 𝜉𝜉 → µ= [I.1]
2. 𝑚𝑚 2. 𝑚𝑚
𝐽𝐽 = 𝑛𝑛. 𝑞𝑞. 𝑣𝑣𝐷𝐷 = 𝑛𝑛. 𝑞𝑞. 𝜇𝜇. 𝜉𝜉 = 𝜎𝜎. 𝜉𝜉 𝜎𝜎 = 𝑛𝑛. 𝑞𝑞. µ [I.2]
𝑑𝑑𝑑𝑑(𝑥𝑥) 𝑘𝑘. 𝑇𝑇
𝐽𝐽 = 𝑛𝑛. 𝑞𝑞. 𝜇𝜇. 𝜉𝜉 + 𝑞𝑞. 𝐷𝐷. 𝐷𝐷 = .µ [I.3]
𝑑𝑑𝑑𝑑 𝑞𝑞
• Effet Joule
Montrer que la puissance dissipée par effet Joule dans une résistance électrique R parcourue par une courant I
est 𝑃𝑃 = 𝑅𝑅. 𝐼𝐼 2 = 𝑈𝑈. 𝐼𝐼. On considéra pour simplifier que les électrons ne sont pas soumis à l’agitation thermique. Le
raisonnement aboutirait cependant au même résultat en considérant l’agitation thermique.
D’après les équations précédentes, comment devrait évoluer la conductivité d’un métal avec la température ?
On considère le cas du platine. Le fabricant d’une sonde Pt100 donne la fonction de transfert suivante:
𝑅𝑅𝑐𝑐 𝜃𝜃 = 100. 1 + 3,85. 10−3 . 𝜃𝜃
En déduire comment évolue la conductivité électrique en fonction de la température absolue. Conclure.
Ainsi le modèle de Drude ne peut rendre compte correctement de l’évolution de la conductivité électrique des
métaux avec la température. Pour aller plus loin il est important de prendre en compte le comportement particuliers
des électrons. L’électrons ne peut être vu comme une particule classique. Son comportement ne peut être décrit que
dans le cadre de la mécanique quantique … Enfin le modèle de Drude a été développé pour les métaux, et ne permet
pas de modéliser le comportement particulier des matériaux semiconducteurs.
Dans l’étude des circuits électriques, nous parlons cependant rarement de champ électrostatique. Les circuits sont
étudiés en faisant appel à la notion de différence de potentiel aux bornes d’un élément.
En effet, nous savons tous qu’une résistance électrique R, soumise à une différence de potentiel V, est parcoure par
un courant I, donné par la loi d’Ohm 𝑉𝑉 = 𝑅𝑅. 𝐼𝐼
En mécanique, lorsque l’on désire étudier la trajectoire d’un élément de masse m, deux approches sont possibles:
- L’approche par les forces et la relation fondamentale de la dynamique.
1
- L’approche énergétique et de conservation de l’énergie. On définit pour cela l’énergie cinétique ( . 𝒎𝒎. 𝑣𝑣 2 ) et
2
l’énergie potentielle de l’élément (𝒎𝒎. 𝑔𝑔. ℎ).
Il en est en fait de même pour l’étude du déplacement de charges électriques. En électrostatique on montre que
l’énergie potentielle d’une charge q placée dans une région où règne un champ électrostatique ξ est donnée par la
relation 𝐸𝐸𝑝𝑝 = 𝒒𝒒. 𝑉𝑉 , où V représente le potentiel électrostatique ou électrique. Le potentiel électrique est défini
mathématiquement par la relation: ξ = − 𝐺𝐺𝐺𝐺𝐺𝐺𝐺𝐺(𝑉𝑉)
Ainsi la notion de potentiel électrique est intimement liée à la notion d’énergie. C’est ce que nous allons utiliser
dans l’étude des propriétés de conduction électrique des matériaux. Ceci apparaîtra aussi de manière intuitive dans
l’étude des matériaux semiconducteurs, dans la théorie des bandes d’énergie.
Chapitre III : Conduction électrique dans les solides – Théorie des Bandes - SC
Depuis la découverte de l’électrons et des premières études de l’énergie des électrons dans les atomes (début
du XXème siècle), il apparait clairement que leur comportement ne peut être décrit dans le cadre de la mécanique
classique. Dans certaines expériences, l’électron (comme le photon) se comporte comme une particule (pour le
photon: effet photoélectrique, …). Dans d’autres il se comporte comme une onde (pour le photon: diffraction par les
fentes d’Young). On parle de dualité onde-corpuscule.
https://thequantumphysics.wordpress.com/interpretation-de-lexperience-des-fentes-de-young/
C’est Louis de Broglie en 1923 qui découvre la nature ondulatoire de l’électron. En 1926, Erwin Schrödinger publia
plusieurs articles sur la mécanique ondulatoire, qui ont abouti à la célèbre équation de Schrödinger qui décrit « le
comportement » de l’onde associée à l’électron.
Le comportement « particulier » de l’électron est décrit dans le cadre de la mécanique quantique (nous n’irons pas
plus loin dans le cadre de ce cours de licence).
Dès qu’il est « contraint » (par exemple piégé dans un petit volume comme dans
l’atome, se propageant dans un réseau cristallin, ou traversant des fentes (expérience
des fentes d’Young avec un faisceau d’électrons), …) son comportement ne peut plus
être expliqué dans le cadre de la mécanique classique.
https://www.youtube.com/watch?v=JlsPC2BW_UI
https://www.researchgate.net/figure/The-electronic-band-
notamment un cristal, peut être vue comme un agencement périodique de
structure-derived-from-the-Kronig-Penney-model-E-is-
charge positives (les noyaux des atomes) dans lequel « baignent » les
électrons. En partant de l’équation de Schrödinger, il est possible de montrer
que, dans ce cas, les électrons ne peuvent avoir toutes les énergies (Modèle
de Kronig-Penney). Il y a des bandes d’énergies permises et des bandes
electron-energy_fig5_319278856
d’énergies interdites. C’est à partir de cette théorie des bandes que l’on peut
expliquer pourquoi certains matériaux sont conducteurs, d’autres isolants, et
enfin d’autres semiconducteurs.
https://nuclearsafety.gc.ca/fra/resources/radiation/introduction-to-radiation/atoms-nuclides-radioisotopes.cfm
→ Les niveaux d’énergie permis pour les électrons correspondent au modèle de Bohr.
→ Sur chaque niveau d’énergie, il y a au maximum 2.n2 électrons.
Cas de deux atomes isolés de silicium
3d 3d
3p 3p
3s 3s
Energie
2p 2p
2s 2s
1s 1s
Distance d
𝑞𝑞. 𝑉𝑉 x
• Théorie des bandes simplifiée : 2 cas sont possibles à 0 K, selon le remplissage de la dernière bande
Cas des métaux Cas des semiconducteurs et isolants
La théorie des bandes permet de comprendre très simplement les propriétés électriques, optiques, et électro-
chimique des matériaux. Ces propriétés dépendent des électrons présents dans la dernière couche.
Pourquoi les électrons des bandes plus profondes n’interviennent pas dans ces propriétés ?
• Quelle est la principale différence entre le diagramme de bande d’un métal et d’un isolant à 0K ?
Dans ce modèle comment peut-on expliquer simplement que les métaux possèdent des électrons libres
contrairement aux isolants ?
Pourquoi la dernière bande remplie d’un matériau isolant s’appelle-t-elle la bande de valence ?
Quelle est la différence entre un matériau isolant et un matériau semiconducteur ? Faire un rapprochement
avec le modèle simplifié présenté page 17 de ce cours…
Bande de Conduction
𝐸𝐸𝑐𝑐
𝐸𝐸𝑔𝑔
𝐸𝐸𝑣𝑣
Bande de Valence
La propriété principale d’un matériau semiconducteur est son gap. Rappeler à quoi correspond le gap ?
• En augmentant la température, des électrons de la bande de valence peuvent passer dans la bande de
conduction. Il y a en effet un transfert permanent d’énergie entre le réseau cristallin et les électrons et
réciproquement. Le semiconducteur devient conducteur.
Bande de Conduction
Eg
Bande de Valence
• Inversement, lorsqu’un électron passe de la bande de conduction à la bande de valence il y a émission d’un
photon de longueur d’onde E=hν=Eg.
h.ν Eg h.ν
D’après le tableau suivant donnant le gap des matériaux semiconducteurs, déduire si le silicium peut être utilisé
comme capteur de lumière visible ( 380nm – 780 nm). Quels sont les matériaux semiconducteurs pouvant être
utilisés pour réaliser des émetteurs de lumière dans le bleu ?
Jn
Jn
Jp
Dans la bande de valence, il sera plus simple de parler de déplacement « des places disponibles », qui vont en sens
inverse des électrons. Ainsi, tout se passe comme s’il existait un courant d’électrons dans la bande de conduction et
un courant de trous (charges positives) dans la bande de valence.
1
𝜎𝜎 = = 𝑛𝑛. 𝑞𝑞. µ𝑛𝑛 + 𝑝𝑝. 𝑞𝑞. µ𝑝𝑝 [III.2]
𝜌𝜌
Remarque : Dans le cas d’un métal, il y a uniquement un courant d’électrons
Définissez n, p, µn et µp.
• Un semiconducteur intrinsèque n’existe pas. Dans la pratique il y a toujours des impuretés. Dans le cadre du
développement de composants électroniques des technologies ont été mises en place pour purifier au mieux le
silicium On parle de silicium de qualité électronique.
La pureté du silicium de qualité électronique est de 12 N : 99.999 999 999 9%
Calculez la densité d’impureté du silicium de qualité électronique (en impureté par cm3). On donne pour le
silicium : Masse atomique 28.05 g.mol-1, Masse volumique 2.33 g.cm-3.
Bande de
Conduction
n
𝐸𝐸𝑐𝑐 𝐸𝐸𝑐𝑐
𝐸𝐸𝑔𝑔
𝐸𝐸𝑣𝑣 𝐸𝐸𝑣𝑣
p
Bande de
Valence
Donnez une expression « intuitive » (sans la démontrer) de la densité d’électrons qui passent de la bande de
conduction à la bande de valence par seconde (en cm-3.s-1) . Faire la même chose pour la densité d’électrons
passant de la bande de valence à la bande de conduction. Que peut on en déduire sur le produit n.p à l’équilibre
thermodynamique.
1
0 ≤ 𝑓𝑓 𝐸𝐸 = ≤1 [III.3]
𝐸𝐸 − 𝐸𝐸𝐹𝐹
Bande de conduction 1 + 𝑒𝑒𝑒𝑒𝑒𝑒
𝑘𝑘. 𝑇𝑇
dE
N(E).F(E).dE électrons présents dans la bande d’énergie dE
EF
Bande de valence
𝑬𝑬𝑭𝑭 − 𝑬𝑬𝑪𝑪
𝑛𝑛 = � 𝑁𝑁 𝐸𝐸 . 𝑓𝑓 𝐸𝐸 . 𝑑𝑑𝑑𝑑 = ⋯ = 𝑵𝑵𝑪𝑪 . 𝒆𝒆𝒆𝒆𝒆𝒆 [III.4]
𝒌𝒌. 𝑻𝑻
𝐵𝐵𝐶𝐶
𝑬𝑬𝑽𝑽 − 𝑬𝑬𝑭𝑭
𝑝𝑝 = � 𝑁𝑁 𝐸𝐸 . 1 − 𝑓𝑓 𝐸𝐸 . 𝑑𝑑𝑑𝑑 = ⋯ = 𝑵𝑵𝑽𝑽 . 𝒆𝒆𝒆𝒆𝒆𝒆 [III.5]
𝒌𝒌. 𝑻𝑻
𝐵𝐵𝑉𝑉
• Interprétation physique
Que pouvez-vous dire de l’énergie des électrons et sur le digramme simplifié suivant. Même question
pour les trous et .
Bande de
Conduction
n
𝐸𝐸𝑐𝑐 𝐸𝐸𝑐𝑐
𝐸𝐸𝑔𝑔
𝐸𝐸𝑣𝑣 𝐸𝐸𝑣𝑣
p
Bande de
Valence
E E E
𝑛𝑛 𝐸𝐸 = 𝑁𝑁𝑐𝑐 𝐸𝐸 . 𝑓𝑓(𝐸𝐸)
EC
N c (E) = Cc . (E − E c )
EF
EV N v (E) = C v . (E v − E)
p 𝐸𝐸 = 𝑁𝑁𝑉𝑉 𝐸𝐸 . 1 − 𝑓𝑓(𝐸𝐸)
𝐸𝐸𝐹𝐹 − 𝐸𝐸𝐶𝐶
𝑛𝑛 𝑁𝑁𝐶𝐶 . 𝑒𝑒𝑒𝑒𝑒𝑒 𝑘𝑘. 𝑇𝑇 𝐸𝐸𝐶𝐶 + 𝐸𝐸𝑉𝑉 𝑘𝑘. 𝑇𝑇 𝑁𝑁𝑉𝑉 𝑘𝑘. 𝑇𝑇 𝑛𝑛
= 𝐸𝐸𝐹𝐹 = + . 𝑙𝑙𝑙𝑙 + . 𝑙𝑙𝑙𝑙 [III.8]
𝑝𝑝 𝑁𝑁 . 𝑒𝑒𝑒𝑒𝑒𝑒 𝐸𝐸𝑉𝑉 − 𝐸𝐸𝐹𝐹 2 2 𝑁𝑁𝐶𝐶 2 𝑝𝑝
𝑉𝑉 𝑘𝑘. 𝑇𝑇
𝐸𝐸𝐶𝐶 + 𝐸𝐸𝑉𝑉 𝑘𝑘. 𝑇𝑇 𝑁𝑁𝑉𝑉
III.6 𝐸𝐸𝐹𝐹𝐹𝐹 = + . 𝑙𝑙𝑙𝑙 [III.9]
n 2 2 𝑁𝑁𝐶𝐶
𝐸𝐸𝑐𝑐
𝐸𝐸𝐹𝐹𝐹𝐹
𝐸𝐸𝑣𝑣
p
Déterminez la conductivité électrique du silicium intrinsèque à 300 K. Vous comparerez cette conductivité à celle
du cuivre : 𝜎𝜎𝑐𝑐𝑐𝑐 = 60. 106 𝑆𝑆. 𝑚𝑚−1 .
h.ν
n
𝐸𝐸𝑐𝑐
𝐸𝐸𝑣𝑣
p
Ainsi n et p sont supérieurs aux valeurs hors illumination. On dit que le semiconducteur est hors équilibre
thermodynamique. On appelle:
On illumine un barreau (1mm de longueur et 1mm² de section) de silicium avec un rayonnement continue de
puissance P = 1mW. On considère, pour simplifier, que tous les photons ont une énergie de 2.5eV, que chaque
photon donne naissance à une paire électron-trou, et que les photons sont absorbés d’une manière homogène.
Représenter qualitativement l’évolution de n et p en fonction du temps. Commentez:
• Régime d’équilibre
n
𝐸𝐸𝑐𝑐 𝐸𝐸𝐹𝐹𝐹𝐹
𝐸𝐸𝑣𝑣 𝐸𝐸𝐹𝐹𝐹𝐹
p
Au regard de cette notion de recombinaison, reprendre le problème précédent. Calculez n et p sous illumination
(on considère un temps de recombinaison τ de 1µs pour les électrons comme pour les trous). En déduire la
conductivité du silicium sous illumination. Comparer cette conductivité à celle du silicium non illuminé. Conclure.
Dans le cas d’un semiconducteur pur, c’est la température (ou l’illumination) qui « fixe » la conduction
électrique. Impossible dans ces conditions de faire des composants électroniques, car pour cela il faut maitriser la
conduction électrique. Les composants électroniques doivent fonctionner indépendamment de la température (nous
rediscuterons de ce point).
La maîtrise de la conductivité va être réalisé par le dopage qui consiste à rajouter dans le semiconducteur une faible
quantité d’impuretés. On remplace en effet typiquement 1 atome de semiconducteur / 106 par des impuretés. Dans
le cas de forts dopages on remplacera 1 atome/1000.
Il est déjà important de noter que nous ne sommes donc pas dans les conditions d’un alliage. Le dopage est
suffisamment faible pour que le matériau semiconducteur dopé conserve ses propriétés électroniques.
Pour mémoire, rappeler ici la densité d’électrons libres dans les métaux. La conduction est elle aussi assurée par
les trous ?
● Le dopage de type n, pour lequel on rajoute des impuretés pentavalentes (5 atomes sur la couche périphérique).
Nous allons montrer que cela permet de contrôler la densité d’électrons libres dans la bande de conduction. On
appelle ND la densité d’impuretés pentavalentes (ou Donneur d’électrons) rajoutées dans le semiconducteur (en
nombre d’impuretés par cm3).
Dans la pratique ND est comprise entre 1012 et 1019 cm-3
● Le dopage de type p, pour lequel on rajoute des impuretés trivalentes (3 atomes sur la couche périphérique). Nous
allons montrer que cela permet dans ce cas de contrôler la densité de trous libres dans la bande de valence. On
appelle NA la densité d’impuretés trivalentes (ou Accepteurs d’électrons) rajoutées dans le semiconducteur (en
nombre d’impuretés par cm3).
Dans la pratique NA est comprise entre 1012 et 1019 cm-3
Au-delà d’un dopage de 1019 cm-3 , le semiconducteur commencera a avoir les mêmes propriétés de conduction
qu’un métal… On parlera de semiconducteur dégénéré (hors programme de licence).
E E E
Si Si Si
n(E)
EC
ED ND ND
Si P Si EF
EV
p(E)
Si Si Si
Neutralité électrique
1
𝒏𝒏 = 𝒑𝒑 + 𝑵𝑵+
𝑫𝑫
+
ND = N D .1 −
1 + 1 . exp E D − E F
2 k.T
Pour obtenir du silicium de type p on remplace, dans le cristal, quelques atomes de silicium par des atomes trivalents
(Bore). Le niveau de dopage (NA) correspond à la quantité d’impuretés rajoutée par unité de volume.
E E E
Si Si Si
EC n(E)
Si B Si EF
EA NA NA
EV
p(E)
Si Si Si
Neutralité électrique
− 1
𝒏𝒏 + 𝑵𝑵−
𝑨𝑨 = 𝒑𝒑
NA = NA.
E − EF
1 + 4. exp A
k.T
III.4.d) Effet de la température sur la densité de porteurs libres : cas du silicium de type n → TD SC n°2
𝐸𝐸𝑔𝑔
𝑛𝑛 = 𝑛𝑛𝑖𝑖 = 𝑁𝑁𝐶𝐶 . 𝑁𝑁𝑉𝑉 . 𝑒𝑒𝑒𝑒𝑒𝑒 −
2. 𝑘𝑘. 𝑇𝑇
Régime d’épuisement
ND
𝑛𝑛 = 𝑁𝑁𝐷𝐷
𝐸𝐸𝐷𝐷 − 𝐸𝐸𝐶𝐶
𝑛𝑛 = 𝑁𝑁𝐶𝐶 . 𝑁𝑁𝐷𝐷 . 𝑒𝑒𝑒𝑒𝑒𝑒
2. 𝑘𝑘. 𝑇𝑇
𝑇𝑇1 𝑇𝑇2 T
Les composants électroniques fonctionnent dans le régime d’épuisement, là où la concentration des porteurs
majoritaires est fixée par le dopage.
A partir des expressions de n dans les trois régions, déterminez la plage de température [T1 , T2] correspondant
au régime d’épuisement.
Calculer T1 et T2 dans le cas d’un silicium de type n, pour ND=1015 cm-3, EC-ED=0.05 eV, NC = 3,2.1019 cm-3,
NV =1,8.1019 cm-3; Eg = 1.1 eV
Tracer l’évolution de ln(n) en fonction de 1/T. En déduire une méthode permettant de déterminer le gap du
semiconducteur ainsi que la position du niveau ED.
La plage de dopages utiles du silicium va de 1012 à 1019 impuretés par cm3. Serait-il intéressant d’envisager des
dopages plus fort ou plus faibles ?
1
𝜎𝜎 = = 𝑛𝑛. 𝑞𝑞. µ𝑛𝑛 + 𝑝𝑝. 𝑞𝑞. µ𝑝𝑝 [III.13]
𝜌𝜌
Silicium de type n Silicium de type p
𝑛𝑛𝑖𝑖2 𝑛𝑛𝑖𝑖2
Porteurs minoritaires 𝑝𝑝 = ≪ 𝑛𝑛 𝑛𝑛 = ≪ 𝑝𝑝 [III.15]
𝑛𝑛 𝑝𝑝
1 1
Conductivité 𝜎𝜎 = ≈ 𝑛𝑛. 𝑞𝑞. µ𝑛𝑛 𝜎𝜎 = ≈ 𝑝𝑝. 𝑞𝑞. µ𝑝𝑝 [III.17]
𝜌𝜌 𝜌𝜌
Calculez pour chaque matériau n, p et la position du niveau de Fermi. Représentez leur diagramme de bande à
l’équilibre thermodynamique.
On prendra les valeurs suivantes pour les mobilités : µn = 1400 cm2.V-1.s-1 et µp = 500 cm2.V-1.s-1
https://www.tomshardware.fr/pour-le-3-nm-tsmc-vise-une-production-de-100-000-wafers-par-mois-des-2023/
http://smartwebsite.info/hostsimage-semiconductor-wafer-fabrication.htm
http://www.semiconductorchiller.com/manufacturing-of-semiconductor/
https://perso.esiee.fr/~francaio/intromems/html_techno/sld005.htm
Les technologies de la microélectronique seront étudiées dans le cadre du Master EI² (UE MEMS/NEMS).
Consiste à rajouter des impuretés (trivalentes ou pentavalentes) dans le creuset contenant le silicium lors du
tirage du lingot. La quantité d’impuretés est déterminée en fonction du dopage désiré.
On désire réaliser un lingot de silicium de type n, avec un dopage ND= 1015 cm-3.
Calculer la masse de phosphore a rajouter par kilogramme de Silicium.
On donne :
Pour le silicium : Masse atomique = 28.05 g.mol-1 Masse volumique = 2.33 g.cm-3
Pour le phosphore : Masse atomique = 30.97 g.mol-1 Masse volumique = 1.82 g.cm-3
https://www.sciencephoto.com/media/482610/view/czochralski-silicon-crystal-growth
Consiste à créer un faisceau d’ions (correspondant aux impuretés que l’on désire implanter), et de bombarder le
wafer que l’on désire doper. En contrôlant l’accélération des ions on définit la profondeur d’implantation. En
contrôlant le courant, on définit la quantité d’impuretés implantées.
http://www.zeitoun.net/articles/implantatio
n-ionique-par-immersion-plasma/start
https://airliquidebodycote.files.wordpress.com/2018/07
/prc3a9sentation-sc3a9minaire-a-liquide-10-12-yvan-
corre-ppt.pdf
On dispose d’une plaquette de silicium 4 pouces de type n (dopé au Phosphore), de dopage ND = 1015 cm-3.
On désire doper la face supérieure, de manière à réaliser une zone de type n de 1 µm d’épaisseur avec un dopage
NA= 5.1016 cm-3. Pour cela on utilise l’implantation ionique, en utilisant un faisceau d’ions Bore. On considèrera,
pour simplifier, que l’énergie des ions est telle qu’ils s’implantent d’une manière homogène sur le premier
micron.
Calculer la quantité totale d’ions Bore à implanter. Sachant que le courant électrique correspondant au faisceau
d’ions est de 10 µA, calculer la durée d’implantation.
Méthode haute température qui consiste à mettre en contact une source dopante (solide, liquide ou gazeuse)
avec l’échantillon à doper, de manière à permettre aux impureté de diffuser dans l’échantillon. Le niveau de dopage
atteint dépend de la température et du temps du procédé. Ceci est parfaitement connu, mais sort du cadre de ce
cours.
https://microelectronique.univ-rennes1.fr/fr/chap5d.htm https://www.crystec.com/klldifff.htm
https://docplayer.fr/47727817-Partie-1-techniques-de-dopage-i-introduction-ii-
diffusion-iii-implantation-ionique-iv-conclusion.html
- Hétérojonction : Jonction entre deux matériaux différents (M/SC ; SC/SC ; M/I, I/SC…)
- Homojonction : Jonction entre deux matériaux semiconducteurs identiques (l’un de type n, l’autre de type p).
Les jonctions semiconductrices (faisant intervenir au moins un semiconducteur ex: SC/SC, M/SC et M/I/SC) sont
à la base du fonctionnement de tous les composants électroniques. Les « perturbations » créés par les jonctions sur
le transport électrique vont en effet permettre de réaliser des diodes, des transistors, des LED, des diodes lasers, des
cellules photovoltaïques, … Les jonctions ont aussi un fort intérêt dans le domaine des capteurs (photodiodes,
thermojonctions, phototransistors, ISFET, …).
Transistor MOS
LEDs Laser Semiconductor Transistor bipolaire
Il est fondamental de comprendre que lorsque deux matériaux de nature différente sont mis en contact, il y a un
échange de charges entre ces matériaux (pour les solides ce sont des électrons qui s’échangent). Ceci n’est pas une
propriété propre des matériaux semiconducteurs, mais de tous les matériaux. Un matériau se charge donc
positivement et l’autre négativement. Il apparaît donc une différence de potentiel entre les matériaux, et un champ
électrostatique à l’interface.
Comme énoncé plus haut, lorsque l’un des matériaux est un semiconducteur, la barrière de potentiel à l’interface va
perturber significativement le transport des électrons. Ceci est à la base du fonctionnement des diodes et des
transistors bipolaires. Comme nous le verrons, les phénomènes électriques aux interfaces sont aussi à la base du
fonctionnement des transistors MOS.
Nous nous intéresserons cette année aux jonctions silicium pn. Il est aussi possible de réaliser des jonctions
métal/semiconducteur (diode Schottky), ou des jonctions entre matériaux semiconducteurs de nature différente
(exemple GaAlAs/GaAs ou InGaP/GaAs), qui permettent de réaliser des dispositifs électroniques aux performances
améliorées (ceci sera abordé au niveau Master).
Conseil : Avant le raccordement, comparer les diagrammes de bande en égalisant les niveaux du vide (ou de Ec et Ev
dans le cas d’une homojonction) Cela permet de comprendre l’échange de charges entre les matériaux sachant
que les électrons occupent les niveaux de plus faibles énergies.
Lors du raccordement :
- Echange de charges entre les matériaux, mais la jonction reste globalement neutre électriquement.
- Un matériau se charge positivement (son diagramme de bande « descend »). A justifier
- Un matériau se charge négativement (son diagramme de bande « monte »). A justifier
- Echange de charges jusqu’à égalisation des Niveaux de Fermi (Admis en L3).
- Les charges localisées proches de l’interface « déforment » les potentiels et donc les niveaux d’énergie (sauf
le niveau de Fermi qui est un niveau mathématique) La déformation doit satisfaire l’équation de Poisson.
- Raccordement sans discontinuité du niveau du Vide (ou de Ec et Ev dans le cas d’une homojonction). Tous les
autres niveaux se déforment parallèlement.
Que peut-on dire sur le transfert de charges lorsque les deux matériaux sont mis en contact ?
2.ε.VD N D + N A
w = wn + wp = .
q N D .N A
𝜉𝜉
2.ε.VD ND 2.ε.VD NA
wp = . wn = .
q N A .( N D + N A ) q N D .( N D + N A )
• Notion de zones neutres (du côté p et du côté n) non affectées par le transfert de charge entre les matériaux p
et n.
• Le potentiel de diffusion VD
𝐿𝐿𝑛𝑛 Jn
Jp
𝑞𝑞. 𝑉𝑉𝑎𝑎
𝐿𝐿𝑝𝑝 𝑞𝑞. 𝑉𝑉𝑎𝑎
𝑛𝑛𝑝𝑝 0 = 𝑛𝑛𝑝𝑝𝑝 . 𝑒𝑒𝑒𝑒𝑒𝑒 𝑝𝑝𝑛𝑛 0 = 𝑝𝑝𝑛𝑛𝑛 . 𝑒𝑒𝑒𝑒𝑒𝑒
𝑘𝑘. 𝑇𝑇 𝑘𝑘. 𝑇𝑇
pn(x)
np(x)
𝑥𝑥 𝑥𝑥
• Effet de la polarisation
• Polarisation directe : Cas d’une jonction longue des deux côtés 𝐿𝐿𝑛𝑛 ≪ 𝑑𝑑𝑝𝑝 𝐿𝐿𝑝𝑝 ≪ 𝑑𝑑𝑛𝑛
𝑞𝑞. 𝑉𝑉𝑎𝑎
𝐽𝐽 = 𝐽𝐽𝑛𝑛 + 𝐽𝐽𝑝𝑝 = 𝐽𝐽𝑠𝑠 . 𝑒𝑒𝑒𝑒𝑒𝑒 −1
𝑘𝑘. 𝑇𝑇 [IV.2]
• Polarisation directe : Cas d’une jonction courte des deux côtés 𝐿𝐿𝑛𝑛 ≫ 𝑑𝑑𝑝𝑝 𝐿𝐿𝑝𝑝 ≫ 𝑑𝑑𝑛𝑛
𝑞𝑞. 𝑉𝑉𝑎𝑎
𝐽𝐽 = 𝐽𝐽𝑠𝑠 . 𝑒𝑒𝑒𝑒𝑒𝑒 −1
𝑘𝑘. 𝑇𝑇
• Polarisation directe : Cas d’une jonction courte côté p longue côté n 𝐿𝐿𝑛𝑛 ≫ 𝑑𝑑𝑝𝑝 𝐿𝐿𝑝𝑝 ≪ 𝑑𝑑𝑛𝑛
𝑞𝑞. 𝑉𝑉𝑎𝑎
𝐽𝐽 = 𝐽𝐽𝑠𝑠 . 𝑒𝑒𝑒𝑒𝑒𝑒 −1
𝑘𝑘. 𝑇𝑇
Une homojonction pn est réalisée à partir d’un wafer de silicium de type n (ND = 1015 cm-3) de 500 µm
d’épaisseur, sur lequel est formée une couche de 1 µm dopée type p (NA = 5.1016 cm-3).
D’après ce diagramme de bande, quelle est la signification physique du travail de sortie d’un métal.
On considère une jonction Schottky réalisée par une couche d’or déposée sur un wafer de silicium de type n,
dopé avec ND = 1015 cm-3.
Tracer le digramme de bande des matériaux avant contact, puis tracez le diagramme de bande de la jonction à
l’équilibre thermodynamique. Sans le démontrer, que pourriez-vous dire du comportement de la jonction sous
polarisation.
• Décrire le cas du contact ohmique. Quel est l’intérêt d’un contact ohmique ?
A l’équilibre thermodynamique :
q.φB
J thermoionique.Sc / M = A*.T 2 . exp(− ) = J thermoionique.M / Sc
k.T
Constant de Richardson = 250 A/cm²/K² pour le Si-n
Sous polarisation :
φB − Va
J thermoionique.Sc / M = A*.T 2 . exp(−q. )
k.T φB q.V
J = A*.T 2 . exp(−q. ).exp( a ) − 1
φB k.T k.T
J thermoionique.M / Sc = A*.T 2 . exp(−q. )
k.T