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Compte-rendu du TP 4 :
Traitement d’une eau usée par électrodéposition
II. Introduction :
• Définition de l’électrodéposition : L'électrodéposition est un processus
électrochimique qui consiste à déposer des ions d'un métal à partir d'une solution
sur une électrode, généralement en métal, en appliquant une différence de potentiel
électrique. Ce processus est couramment utilisé dans l'industrie pour la fabrication
de revêtements métalliques sur divers substrats. L'électrodéposition est également
connue sous le nom de galvanoplastie ou électroplacage.
• Limites de l'électrodéposition :
Coût opérationnel : Bien que les équipements initiaux puissent être relativement
abordables, les coûts opérationnels, tels que la consommation d'énergie et les coûts liés
aux produits chimiques, peuvent être significatifs.
Déchets chimiques : Le processus d'électrodéposition génère des déchets chimiques qui
nécessitent une gestion appropriée pour éviter des impacts environnementaux négatifs.
Limites de taille : Pour de grandes pièces, l'électrodéposition peut devenir moins pratique
en raison de problèmes tels que l'uniformité du revêtement sur des surfaces étendues.
Complexité des bains électrolytiques : Certains bains électrolytiques nécessitent des
compositions chimiques complexes, et la gestion de ces bains peut être délicate.
Sensibilité aux impuretés : La qualité du revêtement peut être affectée par la présence
d'impuretés dans le bain électrolytique ou sur la surface de la pièce à revêtir.
Processus sélectif : Certains métaux peuvent être plus difficiles à électrodéposer que
d'autres, limitant la gamme de métaux utilisables.
III. Mode opératoire :
• Matériels :
générateur de Agitateur
Bécher
courant magnétique
Spectrophotomètre Pipette
• Méthodes :
Préparation des solutions :
- Préparer trois solutions identiques en utilisant 250 ml d'eau de robinet.
- Dissoudre 3,5 mg de chlorure de cuivre (CuCl2) dans chaque solution pour obtenir
une concentration uniforme.
Immersion des électrodes :
- Placer des électrodes appropriées (par exemple, en cuivre) dans chaque solution
préparée.
- Assurer un contact complet entre les électrodes et la solution.
Réglage des intensités de courant :
- Allumer les générateurs électriques.
- Travailler avec différentes intensités de courant pour chaque solution : I = 0,03A pour
une solution, I = 0,05A pour une autre.
Mesure des paramètres physico-chimiques :
- Mesurer le pH de chaque solution à intervalles de 10 minutes pendant une période
totale de 40 minutes en utilisant un pH-mètre.
- Mesurer la conductivité de chaque solution à ces mêmes intervalles de temps en
utilisant un conductimètre.
- Mesurer l'absorbance de chaque solution à intervalles de 10 minutes pendant 40
minutes en utilisant un spectrophotomètre, en tenant compte des caractéristiques de la
solution.
Résultats et discussions :
Courbe d’étalonnage :
C(mg/l) 20 15 10 8 5 2
Abs 1,54 1,3 0,8231 0,661 0,417 0,2
1,8
1,6
1,4
1,2
1
Abs
0,8
0,6
0,4
0,2
0
0 5 10 15 20 25
C
pH :
t(min) 0 10 20 30 40
I=0,03A 5,5 5,22 5,16 4,89 4,8
I=0,05A 5,5 5,22 5,02 4,9 4,36
f(t)=pH
6
0
0 5 10 15 20 25 30 35 40 45
I=0,03 I=0,05
L’absorbance et concentration :
0.03A
t(min) 0 10 20 30 40
Abs 1,64 0,845 0,788 0,762 0,713
C(mg/l) 20,25 10,43 9,73 9,41 8,80
R(%) 59,5 79,14 80,54 81,18 82,4
0.05A
t(min) 0 10 20 30 40
Abs(I=0,05A) 1,64 1 0,863 0,738 0,682
C(mg/l) 20,25 12,34 10,65 9,11 8,42
R(%) 59,5 75,32 78,7 81,78 83,16
f(t)=R%
90
80
70
60
50
40
30
20
10
0
0 5 10 15 20 25 30 35 40 45
I=0,03 I=0,05
Calculs :
La concentration du cuivre :
L'équation de la courbe d'étalonnage se présente comme ci:
𝒀 = 𝒂𝒙 + 𝒃
D’où : Abs = a × C
𝒂 = 𝟎, 𝟎𝟏𝟎𝟔
𝑨𝒃𝒔𝟏
𝑪𝟏 =
𝒂
𝟎, 𝟏𝟔𝟒
𝑨𝒍𝒐𝒓𝒔 →
𝟎, 𝟎𝟖𝟏
𝑪𝟏 = 𝟐, 𝟎𝟐𝟓 𝒎𝒈/𝒍
Le rendement d’abattement de la pollution :
𝒎𝒈
𝒔𝒂𝒄𝒉𝒂𝒏𝒕 𝒒𝒖𝒆 ∶ 𝑪𝒊 = 𝟓𝟎
𝑳
𝟓𝟎 − 𝟐𝟎, 𝟐𝟓
𝒅𝒐𝒏𝒄 ∶ 𝑹𝟏 (%) = × 𝟏𝟎𝟎
𝟓𝟎
𝑹𝟏 (%) = 𝟓𝟗, 𝟓
Discussion :
PH :
L'évolution du pH au fil du temps montre une stabilité relative, indiquant que les processus
d'électrodéposition n'ont qu'un impact limité sur l'acidité ou la basicité de la solution.
Absorbance :
L'observation d'une diminution continue de l'absorbance indique une réduction de la
concentration du cuivre dans la solution. Cela suggère que le cuivre est en cours de dépôt sur
l'électrode, ce qui pourrait être lié aux processus d'électrodéposition.
Concentration :
La diminution progressive de la concentration au fil du temps confirme la réduction de la
teneur en cuivre dans la solution. Cela renforce l'idée que le cuivre se dépose sur l'électrode,
soutenant ainsi le processus d'électrodéposition.
Rendement :
L'analyse du rendement révèle une augmentation proportionnelle à l'intensité du courant
électrique, avec une efficacité maximale observée à I=0,05A. Cela suggère que des intensités
plus élevées favorisent davantage les processus d'électrodéposition du cuivre, conduisant à un
rendement plus élevé dans la conversion des ions en dépôts métalliques.
IV. Conclusion :
D'après les observations effectuées au cours de cette expérience, il est évident que plusieurs
paramètres peuvent influencer l'efficacité du procédé d'électrodéposition étudié. Parmi ces
paramètres, nous identifions le pH, la température, la conductivité, et l'intensité du courant
comme des facteurs cruciaux qui jouent un rôle dans les résultats obtenus.
De manière significative, les résultats démontrent que travailler avec une intensité de courant
de 0,05A présente une rentabilité supérieure, avec une efficacité accrue dans le processus
d'électrodéposition du cuivre. Cette constatation souligne l'importance de sélectionner
judicieusement les conditions expérimentales, en particulier l'intensité du courant, pour
optimiser les performances du procédé.